JP3366130B2 - Semiconductor laser control method and device - Google Patents

Semiconductor laser control method and device

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JP3366130B2
JP3366130B2 JP24321194A JP24321194A JP3366130B2 JP 3366130 B2 JP3366130 B2 JP 3366130B2 JP 24321194 A JP24321194 A JP 24321194A JP 24321194 A JP24321194 A JP 24321194A JP 3366130 B2 JP3366130 B2 JP 3366130B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ制御方法
及び装置に関し、より詳細には、半導体レーザを駆動す
るために必要なバイアス電流を制御するための半導体レ
ーザ制御方法及び装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser control method and apparatus, and more particularly to a semiconductor laser control method and apparatus for controlling a bias current required to drive a semiconductor laser.

【0002】現在、光通信技術が広く応用されており、
さらに加入者系への光通信の導入、光交換、光接続など
様々な分野への光技術の発展が期待されている。光通信
技術において、電気信号である入力ディジタル信号を光
信号に変換するためには、一般に半導体レーザが用いら
れる。光伝送の高速化においては、この半導体レーザの
高速化が非常に重要であるので、入力信号に対して更に
高速に応答可能な半導体レーザの開発が要望されてい
る。
At present, optical communication technology is widely applied,
Further, the development of optical technology in various fields such as introduction of optical communication to subscriber systems, optical switching, and optical connection is expected. In the optical communication technology, a semiconductor laser is generally used to convert an input digital signal which is an electric signal into an optical signal. Since speeding up of this semiconductor laser is very important in speeding up optical transmission, there is a demand for development of a semiconductor laser capable of responding to an input signal at a higher speed.

【0003】[0003]

【従来の技術】半導体レーザに対して高速動作を実行さ
せるためには、半導体レーザに印加されるバイアス電流
を、そのしきい値電流と等しくするか又はしきい値電流
よりも少ない電流値で、なるべくしきい値電流に近い電
流値に制御することが重要である。そうすれば、入力デ
ィジタル信号に対応して変化する駆動電流が流れた際
に、直ちに半導体レーザが発振状態となり、半導体レー
ザの入力ディジタル信号に対する高速応答性が実現でき
る。換言すれば、バイアス電流を上述の値に制御するこ
とは、レーザ発振遅延時間を最小にするための条件でも
ある。
2. Description of the Related Art In order to perform a high speed operation on a semiconductor laser, the bias current applied to the semiconductor laser is made equal to its threshold current or at a current value smaller than the threshold current. It is important to control the current value as close to the threshold current as possible. By doing so, when the drive current that changes corresponding to the input digital signal flows, the semiconductor laser immediately enters the oscillation state, and high-speed response of the semiconductor laser to the input digital signal can be realized. In other words, controlling the bias current to the above value is also a condition for minimizing the laser oscillation delay time.

【0004】ところで、光ファイバを用いた光通信にお
いては、光ファイバにおける伝送損失の小さい1.3μ
m〜1.6μmの波長の光を発振する半導体レーザであ
る、InGaAsP/InP 系半導体レーザが広く用いられてい
る。しかし、この半導体レーザでは、そのしきい値電流
の温度依存性が大きいので、高速応答性を確保するため
には、温度によって変化するしきい値電流に対応して追
随するようにバイアス電流を制御することが重要であ
る。
By the way, in optical communication using an optical fiber, the transmission loss in the optical fiber is 1.3 μ, which is small.
InGaAsP / InP semiconductor lasers, which are semiconductor lasers that oscillate light with a wavelength of m to 1.6 μm, are widely used. However, in this semiconductor laser, the temperature dependence of the threshold current is large, so in order to ensure high-speed response, the bias current is controlled so as to follow the threshold current that changes with temperature. It is important to.

【0005】従来技術のバイアス電流制御について、図
7乃至図9を用いて説明する。はじめに、図7を用い
て、第1の従来技術であるペルチェ素子を用いたバイア
ス電流の制御について説明する。
Bias current control of the prior art will be described with reference to FIGS. 7 to 9. First, the control of the bias current using the Peltier device, which is the first conventional technique, will be described with reference to FIG.

【0006】第1の従来技術によるバイアス電流の制御
では、ペルチェ素子を用いて半導体レーザを常に一定の
温度に保ち、そのしきい値電流を一定に保持して対応す
るバイアス電流も一定にするものである。
In the control of the bias current according to the first conventional technique, the Peltier element is used to keep the semiconductor laser at a constant temperature, the threshold current thereof is kept constant, and the corresponding bias current is also kept constant. Is.

【0007】図7に示す半導体レーザ100のバイアス
電流を制御するバイアス電流制御装置において、駆動回
路101は、入力ディジタル信号に対応して半導体レー
ザ100を駆動する駆動電流Id を生成し半導体レーザ
100に出力するとともに、所定のバイアス電流Ib1
生成し、半導体レーザ100に出力する。ペルチェ素子
102は、半導体レーザ100とヒートシンク103の
間に配置され、ペルチェ素子駆動電流IP により駆動さ
れて半導体レーザ100の温度を所定の一定温度に保
つ。温度センサ104は、ペルチェ素子102の半導体
レーザ100が配置されている面の温度を検出し、セン
サ信号SS を温度制御回路105に出力する。温度制御
回路105は、温度センサ104からのセンサ信号SS
に基づき半導体レーザ100の温度を検出し、半導体レ
ーザ100が所定の一定温度になるようにペルチェ素子
102を制御するためのペルチェ素子駆動電流IP をペ
ルチェ素子102に出力する。
In the bias current control device for controlling the bias current of the semiconductor laser 100 shown in FIG. 7, the drive circuit 101 generates a drive current I d for driving the semiconductor laser 100 in response to an input digital signal, and the semiconductor laser 100. And a predetermined bias current I b1 is generated and output to the semiconductor laser 100. The Peltier element 102 is arranged between the semiconductor laser 100 and the heat sink 103, and is driven by the Peltier element drive current I P to keep the temperature of the semiconductor laser 100 at a predetermined constant temperature. The temperature sensor 104 detects the temperature of the surface of the Peltier element 102 on which the semiconductor laser 100 is arranged, and outputs a sensor signal S S to the temperature control circuit 105. The temperature control circuit 105 receives the sensor signal S S from the temperature sensor 104.
Based on the above, the temperature of the semiconductor laser 100 is detected, and a Peltier element drive current I P for controlling the Peltier element 102 so that the semiconductor laser 100 reaches a predetermined constant temperature is output to the Peltier element 102.

【0008】第1の従来技術によるバイアス電流制御装
置によれば、ペルチェ素子102の動作により半導体レ
ーザ100が常に一定温度に制御されるため、半導体レ
ーザ100のしきい値電流もほぼ一定値となり、この一
定のしきい値電流に対して予め設定された所定のバイア
ス電流を流すことにより、最適なバイアス電流Ib1を得
ることができる。
According to the bias current control device of the first prior art, the semiconductor laser 100 is always controlled to a constant temperature by the operation of the Peltier element 102, so that the threshold current of the semiconductor laser 100 also becomes a substantially constant value. An optimum bias current I b1 can be obtained by causing a predetermined bias current set in advance to flow against this constant threshold current.

【0009】次に、図8を用いて、第2の従来技術を用
いたバイアス電流の制御について説明する。第2の従来
技術によるバイアス電流の制御においては、半導体レー
ザの温度が検出され、その温度に対応して予め設定され
ているバイアス電流になるように制御される。
Next, the bias current control using the second conventional technique will be described with reference to FIG. In the control of the bias current according to the second conventional technique, the temperature of the semiconductor laser is detected, and the bias current is set to a preset bias current corresponding to the temperature.

【0010】図8に示す半導体レーザ100のバイアス
電流を制御するバイアス電流制御装置において、温度セ
ンサ104は、ヒートシンク103の半導体レーザ10
0が配置されている面の温度を検出し、センサ信号SS
を温度モニタ回路106に出力する。温度モニタ回路1
06は、温度センサ104からのセンサ信号SS に基づ
き半導体レーザ100の温度を検出し、その温度に対応
して予め設定されたバイアス電流となるようにバイアス
制御信号SB を駆動回路101に出力する。駆動回路1
01は、バイアス制御信号SB に基づき、予め設定され
た値のバイアス電流Ib2を生成し出力すると共に入力デ
ィジタル信号SINに基づいた駆動電流I d を生成し、バ
イアス電流Ib2に重畳して半導体レーザ100に出力す
る。
Bias of the semiconductor laser 100 shown in FIG.
In the bias current controller that controls the current, the temperature
The sensor 104 is the semiconductor laser 10 of the heat sink 103.
0 detects the temperature of the surface on which the sensor signal SS
Is output to the temperature monitor circuit 106. Temperature monitor circuit 1
06 is a sensor signal S from the temperature sensor 104.SBased on
Detects the temperature of the semiconductor laser 100 and responds to that temperature
The bias current to a preset bias current.
Control signal SBIs output to the drive circuit 101. Drive circuit 1
01 is the bias control signal SBBased on
Bias current Ib2To generate and output
Digital signal SINDrive current I based on dTo generate
Ias current Ib2And output to the semiconductor laser 100.
It

【0011】第2の従来技術によるバイアス電流制御装
置によれば、半導体レーザ100の温度を検出して、そ
の温度に対応して予め設定されたバイアス電流Ib2が流
れるので、温度の変化に伴って、半導体レーザ100の
しきい値電流が変化しても、それに対応したバイアス電
流Ib2を流すことができる。
According to the bias current control device of the second prior art, the temperature of the semiconductor laser 100 is detected, and the bias current I b2 preset corresponding to the temperature flows, so that the temperature changes as the temperature changes. Therefore, even if the threshold current of the semiconductor laser 100 changes, the bias current I b2 corresponding thereto can be passed.

【0012】次に、図9を用いて、第3の従来技術を用
いたバイアス電流の制御について説明する。第3の従来
技術によるバイアス電流の制御においては、半導体レー
ザの出力するレーザ光の一部が光検出器により検出さ
れ、その検出出力に基づいてバイアス電流が制御され
る、いわゆるAPC(Auto Power Control)が行われ
る。
Next, the control of the bias current using the third conventional technique will be described with reference to FIG. In the control of the bias current according to the third conventional technique, a part of the laser light output from the semiconductor laser is detected by a photodetector, and the bias current is controlled based on the detected output, so-called APC (Auto Power Control). ) Is done.

【0013】図9に示す半導体レーザ100のバイアス
電流を制御するバイアス電流制御装置において、光検出
器107は、半導体レーザ100が出力するレーザ光L
の一部を受光し、検出器出力SL を光出力検出回路10
8に出力する。光出力検出回路108は、検出器出力S
L に基づき半導体レーザ100の出力の平均値が一定と
なるようにバイアス電流を制御するためのバイアス制御
信号SB を駆動回路101に出力する。駆動回路101
は、バイアス制御信号SB に基づき、バイアス電流Ib3
を生成し出力すると共に入力ディジタル信号SINに基づ
いた駆動電流I d を生成し、バイアス電流Ib3に重畳し
て半導体レーザ100に出力する。
Bias of the semiconductor laser 100 shown in FIG.
In the bias current control device that controls the current, the light detection
The laser 107 outputs the laser light L output from the semiconductor laser 100.
Part of the light is received and the detector output SLOptical output detection circuit 10
Output to 8. The optical output detection circuit 108 has a detector output S
LBased on that, the average value of the output of the semiconductor laser 100 is constant.
Control to control the bias current so that
Signal SBIs output to the drive circuit 101. Drive circuit 101
Is the bias control signal SBBased on the bias current Ib3
Generates and outputs the input digital signal SINBased on
Drive current I dTo generate the bias current Ib3Superimposed on
Output to the semiconductor laser 100.

【0014】第3の従来技術によるバイアス電流制御装
置によれば、光検出器107の検出器出力SL に基づ
き、半導体レーザ100の出力の平均値が一定になるよ
うにバイアス電流Ib3が制御されるので、温度によって
変化するしきい値電流に対応したバイアス電流Ib3を流
すことができる。
According to the bias current control device of the third prior art, the bias current I b3 is controlled based on the detector output S L of the photodetector 107 so that the average value of the output of the semiconductor laser 100 becomes constant. Therefore, the bias current I b3 corresponding to the threshold current that changes depending on the temperature can be passed.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示す第1の従来技術によれば、ペルチェ素子102の温
度を制御するための温度制御回路105等の回路が必要
となるために、装置全体が高価になり、回路の実装規模
が大きくなるという問題点があった。さらに、半導体レ
ーザ100が劣化することによりしきい値電流が増大し
た場合に、同じ温度におけるしきい値電流が変化してく
ることから、しきい値電流とバイアス電流がずれてくる
という問題点もあった。
However, according to the first conventional technique shown in FIG. 7, since a circuit such as the temperature control circuit 105 for controlling the temperature of the Peltier element 102 is required, the entire apparatus is required. However, there is a problem in that it becomes expensive and the circuit mounting scale becomes large. Further, when the threshold current increases due to the deterioration of the semiconductor laser 100, the threshold current at the same temperature changes, so that the threshold current and the bias current deviate. there were.

【0016】また、図8に示す第2の従来技術によれ
ば、半導体レーザ100が劣化することによりしきい値
電流が増大した場合に、同じ温度におけるしきい値電流
が変化してくることから、しきい値電流とバイアス電流
がずれてくるという問題点があった。
Further, according to the second conventional technique shown in FIG. 8, when the threshold current increases due to deterioration of the semiconductor laser 100, the threshold current at the same temperature changes. However, there is a problem that the threshold current and the bias current deviate from each other.

【0017】さらに、図9に示す第3の従来技術によれ
ば、バイアス電流制御装置内に、光検出器及びその検出
回路を設ける必要があるので、回路の実装規模が大きく
なり、装置全体も高価になるという問題点があった。
Further, according to the third conventional technique shown in FIG. 9, since it is necessary to provide the photodetector and its detection circuit in the bias current control device, the circuit mounting scale becomes large, and the entire device becomes large. There was a problem that it became expensive.

【0018】そこで、上記の問題点に鑑み、本発明の目
的は、半導体レーザの劣化及び動作環境の変化によりそ
のしきい値電流が変化した場合でも、バイアス電流をし
きい値電流と等しくするか又はしきい値電流よりも低い
電流値で、なるべくしきい値電流に近い電流値に制御す
ることが可能な、小型、かつ、安価な半導体レーザ制御
方法及び装置を提供することにある。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to make the bias current equal to the threshold current even when the threshold current changes due to deterioration of the semiconductor laser and changes in the operating environment. Another object of the present invention is to provide a small-sized and inexpensive semiconductor laser control method and device capable of controlling the current value as close to the threshold current as possible with a current value lower than the threshold current.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、請求項1に記載の発明は、入力ディジタル信号
に対応する駆動電流にバイアス電流を重畳することによ
り得られ、かつ、半導体レーザに供給される動作電流に
基づいて変化する前記半導体レーザの微分抵抗値を検出
し、出力する微分抵抗値検出工程と、検出された前記微
分抵抗値と、所定の動作環境における前記半導体レーザ
のしきい値電流に対応して予め設定された所定の基準抵
抗値と、を比較して、比較信号を出力する比較工程と、
前記比較信号に基づき、前記微分抵抗値が前記基準抵抗
値と等しくなるように前記バイアス電流を制御するバイ
アス電流制御工程と、を備えて構成される。
In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 is obtained by superimposing a bias current on a drive current corresponding to an input digital signal, and a semiconductor. A differential resistance value detection step of detecting and outputting a differential resistance value of the semiconductor laser that changes based on an operating current supplied to the laser, the detected differential resistance value, and the differential resistance value of the semiconductor laser in a predetermined operating environment. A predetermined reference resistance value preset corresponding to the threshold current, and a comparison step of outputting a comparison signal,
A bias current control step of controlling the bias current so that the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value based on the comparison signal.

【0020】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の半導体レーザ制御方法であって、前記微分抵抗値検出
工程は、前記入力ディジタル信号のビットレートに比し
て十分に低い一定の周波数を持ち、前記入力ディジタル
信号電流に比して十分に小さい一定の電流振幅値を持つ
微小交流電流を前記動作電流に重畳する微小交流電流供
給工程と、前記半導体レーザに印加される電圧を測定す
る電圧測定工程と、前記測定した電圧から、前記微小交
流電流に対応する微小交流電圧を抽出し、当該微小交流
電圧を、その振幅に基づいて前記微分抵抗値に比例する
直流電圧に変換し出力する微小交流電圧抽出工程と、を
備えて構成され、前記比較工程は、前記基準抵抗値に対
応する基準電圧と前記直流電圧とを比較して比較信号を
出力する電圧比較工程であるように構成される。
A second aspect of the present invention is the semiconductor laser control method according to the first aspect, wherein the differential resistance value detecting step is a constant sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal. A step of supplying a minute alternating current having a frequency and a minute alternating current having a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current to the operating current, and measuring the voltage applied to the semiconductor laser. Voltage measuring step, and extracting a minute AC voltage corresponding to the minute AC current from the measured voltage, converting the minute AC voltage into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude, and outputting And a step of comparing the reference voltage corresponding to the reference resistance value with the DC voltage, and outputting a comparison signal. Configured to be a degree.

【0021】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の半導体レーザ制御方法であって、前記微分抵抗値検出
工程は、前記入力ディジタル信号のビットレートに比し
て十分に低い一定の周波数を持ち、前記入力ディジタル
信号電流に比して十分に小さい一定の電流振幅値を持つ
微小交流電流を前記動作電流に重畳する微小交流電流供
給工程と、前記半導体レーザに印加される電圧を測定す
る電圧測定工程と、前記測定した電圧から、前記微小交
流電流に対応する微小交流電圧を抽出し、当該微小交流
電圧を、その振幅に基づいて前記微分抵抗値に比例する
直流電圧に変換し出力する微小交流電圧抽出工程と、前
記入力ディジタル信号の所定期間の一方の論理のビット
数を前記所定期間内の全ビット数で除したビット比率を
検出するビット比率検出工程と、前記ビット比率の変化
に基づいて前記直流電圧を補正し、補正直流電圧を出力
する補正工程と、を備えて構成され、前記比較工程は、
前記基準抵抗値に対応する基準電圧と前記補正直流電圧
とを比較して比較信号を出力する電圧比較工程であるよ
うに構成される。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor laser control method according to the first aspect, wherein the differential resistance value detecting step has a constant value sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal. A step of supplying a minute alternating current having a frequency and a minute alternating current having a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current to the operating current, and measuring the voltage applied to the semiconductor laser. Voltage measuring step, and extracting a minute AC voltage corresponding to the minute AC current from the measured voltage, converting the minute AC voltage into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude, and outputting And a bit ratio for detecting a bit ratio obtained by dividing the bit number of one logic of the input digital signal in one of the predetermined periods by the total number of bits in the predetermined period. A detection step, the said DC voltage corrected based on the change of the bit ratio, it is configured to include a correction step of outputting a corrected DC voltage, the comparing step,
The voltage comparison step is configured to compare a reference voltage corresponding to the reference resistance value with the corrected DC voltage and output a comparison signal.

【0022】請求項4に記載の発明は、入力ディジタル
信号に対応する駆動電流を生成し、出力する駆動手段
と、バイアス電流制御信号に基づきバイアス電流を生成
し、出力するバイアス手段と、前記駆動電流に前記バイ
アス電流を重畳することにより得られ、かつ、前記半導
体レーザに供給される動作電流に基づき変化する前記半
導体レーザの微分抵抗値を検出し、出力する微分抵抗値
検出手段と、検出された前記微分抵抗値と、所定の動作
環境における前記半導体レーザのしきい値電流に対応し
て予め設定された所定の基準抵抗値と、を比較して、比
較信号を出力する比較手段と、前記比較信号に基づき、
前記微分抵抗値が前記基準抵抗値と等しくなるように前
記バイアス電流を制御する前記バイアス電流制御信号を
出力するバイアス電流制御手段と、を備えて構成され
る。
According to a fourth aspect of the present invention, a drive means for generating and outputting a drive current corresponding to an input digital signal, a bias means for generating and outputting a bias current based on a bias current control signal, and the drive means. A differential resistance value detection means for detecting and outputting a differential resistance value of the semiconductor laser, which is obtained by superimposing the bias current on a current and changes based on an operating current supplied to the semiconductor laser. Comparing means for comparing the differential resistance value with a predetermined reference resistance value preset corresponding to the threshold current of the semiconductor laser in a predetermined operating environment, and outputting a comparison signal; Based on the comparison signal,
Bias current control means for outputting the bias current control signal for controlling the bias current so that the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value.

【0023】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の半導体レーザ制御装置であって、前記微分抵抗値検出
手段は、前記入力ディジタル信号のビットレートに比し
て十分に低い一定の周波数を持ち、前記入力ディジタル
信号電流に比して十分に小さい一定の電流振幅値を持つ
微小交流電流を前記動作電流に重畳する微小交流電流供
給手段と、前記半導体レーザに印加される電圧を測定す
る電圧測定手段と、前記測定した電圧から、前記微小交
流電流に対応する微小交流電圧を抽出し、当該微小交流
電圧を、その振幅に基づいて前記微分抵抗値に比例する
直流電圧に変換し出力する微小交流電圧抽出手段と、を
備えて構成され、前記比較手段は、前記直流電圧と前記
基準抵抗値に対応する基準電圧とを比較して比較信号を
出力する電圧比較手段であるように構成される。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor laser control device according to the fourth aspect, the differential resistance value detecting means has a constant value that is sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal. A minute AC current supply means for superimposing a minute AC current having a frequency and a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current on the operating current, and measures the voltage applied to the semiconductor laser. Voltage measuring means for extracting a minute AC voltage corresponding to the minute AC current from the measured voltage, converting the minute AC voltage into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude, and outputting the DC voltage. And a comparing means for comparing the DC voltage with a reference voltage corresponding to the reference resistance value and outputting a comparison signal. Configured to be in the stage.

【0024】請求項6に記載の発明は、請求項4に記載
の半導体レーザ制御装置であって、前記微分抵抗値検出
手段は、前記入力ディジタル信号のビットレートに比し
て十分に低い一定の周波数を持ち、前記入力ディジタル
信号電流に比して十分に小さい一定の電流振幅値を持つ
微小交流電流を前記動作電流に重畳する微小交流電流供
給手段と、前記半導体レーザに印加される電圧を測定す
る電圧測定手段と、前記測定した電圧から、前記微小交
流電流に対応する微小交流電圧を抽出し、当該微小交流
電圧を、その振幅に基づいて前記微分抵抗値に比例する
直流電圧に変換し出力する微小交流電圧抽出手段と、前
記入力ディジタル信号の所定期間の一方の論理のビット
数を前記所定期間内の全ビット数で除したビット比率を
検出するビット比率検出手段と、前記ビット比率の変化
に基づいて前記直流電圧を補正し、補正直流電圧を出力
する補正手段と、を備えて構成され、前記比較手段は、
前記補正直流電圧と前記基準抵抗値に対応する基準電圧
とを比較して比較信号を出力する電圧比較手段であるよ
うに構成される。
According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor laser control device according to the fourth aspect, the differential resistance value detecting means has a constant value that is sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal. A minute AC current supply means for superimposing a minute AC current having a frequency and a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current on the operating current, and measures the voltage applied to the semiconductor laser. Voltage measuring means for extracting a minute AC voltage corresponding to the minute AC current from the measured voltage, converting the minute AC voltage into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude, and outputting the DC voltage. And a bit ratio for detecting a bit ratio obtained by dividing the number of bits of one logic in one of the predetermined periods of the input digital signal by the total number of bits in the predetermined period. Detection means, the said DC voltage corrected based on the change of the bit ratio, is configured to include a correction means for outputting a corrected DC voltage, said comparison means,
The voltage comparison means is configured to compare the corrected DC voltage with a reference voltage corresponding to the reference resistance value and output a comparison signal.

【0025】[0025]

【作用】請求項1に記載の発明によれば、微分抵抗値検
出工程において、動作電流に基づいて変化する半導体レ
ーザの微分抵抗値が検出され、出力される。
According to the invention described in claim 1, in the differential resistance value detecting step, the differential resistance value of the semiconductor laser, which changes based on the operating current, is detected and output.

【0026】比較工程において、微分抵抗値と、所定の
動作環境における半導体レーザのしきい値電流に対応し
て予め設定された所定の基準抵抗値とが比較され、比較
信号が出力される。
In the comparison step, the differential resistance value is compared with a predetermined reference resistance value preset corresponding to the threshold current of the semiconductor laser in a predetermined operating environment, and a comparison signal is output.

【0027】ところで、上記の微分抵抗値は、半導体レ
ーザにそのしきい値電流が流れたとき、基準抵抗値以上
の抵抗値から、当該半導体レーザの構造や材質等により
決定される直列抵抗値(基準抵抗値より低い抵抗値)ま
で不連続に変化し、かつ、駆動電流が流れていない場合
にバイアス電流の変化に対応して変化する。
By the way, the above-mentioned differential resistance value is a series resistance value (determined by the structure, material, etc. of the semiconductor laser from the resistance value equal to or higher than the reference resistance value when the threshold current flows through the semiconductor laser). It changes discontinuously up to a resistance value lower than the reference resistance value), and changes in response to a change in the bias current when the drive current does not flow.

【0028】そこで、バイアス電流制御工程において、
比較信号に基づき、微分抵抗値が基準抵抗値と等しくな
るようにバイアス電流を制御する。よって、微分抵抗値
が、その不連続点に対応する値又は当該不連続点に対応
する値のうち、高い方の値に近づくようにバイアス電流
が制御されるので、動作環境の変化等に対応して変化す
る半導体レーザのしきい値電流に対して、バイアス電流
が当該しきい値電流と等しくなるか、又は、当該しきい
値電流より少ない値であって、当該しきい値電流から、
設計上許容される半導体レーザの発振遅延時間に対応す
る所定の範囲内にある値になる。
Therefore, in the bias current control step,
Based on the comparison signal, the bias current is controlled so that the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value. Therefore, since the bias current is controlled so that the differential resistance value approaches the higher value of the value corresponding to the discontinuity point or the value corresponding to the discontinuity point, it is possible to respond to changes in the operating environment, etc. With respect to the threshold current of the semiconductor laser that changes by, the bias current becomes equal to the threshold current, or is a value less than the threshold current, from the threshold current,
The value is within a predetermined range corresponding to the oscillation delay time of the semiconductor laser allowed by design.

【0029】請求項2に記載の発明によれば、請求項1
に記載の発明の作用に加えて、微小交流電流供給工程に
おいては、入力ディジタル信号のビットレートに比して
十分に低い一定の周波数を持ち、入力ディジタル信号電
流に比して十分に小さい一定の電流振幅値を持つ微小交
流電流が動作電流に重畳される。
According to the invention described in claim 2, claim 1
In addition to the function of the invention described in (1), in the step of supplying a minute alternating current, the constant frequency is sufficiently lower than the bit rate of the input digital signal, and the constant frequency is sufficiently smaller than the input digital signal current. A small alternating current having a current amplitude value is superimposed on the operating current.

【0030】電圧測定工程においては、半導体レーザに
印加される電圧が測定される。微小交流電圧抽出工程に
おいては、当該測定した電圧から、微小交流電流に対応
する微小交流電圧が抽出され、当該微小交流電圧がその
振幅に基づいて前記微分抵抗値に比例する直流電圧に変
換され出力される。
In the voltage measuring step, the voltage applied to the semiconductor laser is measured. In the minute AC voltage extraction step, a minute AC voltage corresponding to the minute AC current is extracted from the measured voltage, and the minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude and output. To be done.

【0031】よって微分抵抗値の変化に対応して変化す
る微小交流電圧が抽出され、その振幅に比例する直流電
圧が出力されることから、当該微分抵抗値に比例する直
流電圧が得られ、これが電圧比較工程において、基準抵
抗値に対応する基準電圧と比較され、その比較結果に基
づき比較信号が出力される。
Therefore, a minute AC voltage that changes in response to a change in the differential resistance value is extracted, and a DC voltage proportional to its amplitude is output. Therefore, a DC voltage proportional to the differential resistance value is obtained, and this DC voltage is obtained. In the voltage comparison step, the reference voltage corresponding to the reference resistance value is compared, and a comparison signal is output based on the comparison result.

【0032】請求項3に記載の発明によれば、請求項1
に記載の発明の作用に加えて、微小交流電流供給工程に
おいては、入力ディジタル信号のビットレートに比して
十分に低い一定の周波数を持ち、入力ディジタル信号電
流に比して十分に小さい一定の電流振幅値を持つ微小交
流電流が動作電流に重畳される。
According to the invention of claim 3, claim 1
In addition to the function of the invention described in (1), in the step of supplying a minute alternating current, the constant frequency is sufficiently lower than the bit rate of the input digital signal, and the constant frequency is sufficiently smaller than the input digital signal current. A small alternating current having a current amplitude value is superimposed on the operating current.

【0033】電圧測定工程においては、半導体レーザに
印加される電圧が測定される。微小交流電圧抽出工程に
おいては、当該測定電圧から、微小交流電流に対応する
微小交流電圧が抽出され、当該微小交流電圧がその振幅
に基づいて前記微分抵抗値に比例する直流電圧に変換さ
れ出力される。
In the voltage measuring step, the voltage applied to the semiconductor laser is measured. In the minute AC voltage extraction step, a minute AC voltage corresponding to the minute AC current is extracted from the measured voltage, and the minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude and output. It

【0034】ビット比率検出工程においては、入力ディ
ジタル信号の所定期間の一方の論理のビット数を所定期
間内の全ビット数で除したビット比率が検出される。補
正工程においては、ビット比率の変化に基づいて直流電
圧が補正され、補正直流電圧が出力される。
In the bit ratio detecting step, the bit ratio obtained by dividing the number of bits of one logic in the predetermined period of the input digital signal by the total number of bits in the predetermined period is detected. In the correction step, the DC voltage is corrected based on the change in the bit ratio, and the corrected DC voltage is output.

【0035】よって微分抵抗値の変化に対応して変化す
る微小交流電圧が抽出され、その振幅に比例する直流電
圧が出力されることから、当該微分抵抗値に比例する直
流電圧が得られる。この直流電圧はビット比率の変化に
対応して変化するが、この変化が補正工程において補正
され、安定した補正直流電圧が得られる。その後、この
補正直流電圧が電圧比較工程において基準抵抗値に対応
する基準電圧と比較され、その比較結果に基づき比較信
号が出力される。
Therefore, the minute AC voltage that changes in accordance with the change in the differential resistance value is extracted, and the DC voltage proportional to the amplitude thereof is output, so that the DC voltage proportional to the differential resistance value is obtained. This DC voltage changes in accordance with the change in the bit ratio, but this change is corrected in the correction step, and a stable corrected DC voltage is obtained. Then, the corrected DC voltage is compared with the reference voltage corresponding to the reference resistance value in the voltage comparison step, and the comparison signal is output based on the comparison result.

【0036】請求項4に記載の発明によれば、駆動手段
は、駆動電流を生成し、半導体レーザ及び微分抵抗値検
出手段に出力する。また、バイアス手段は、バイアス電
流制御信号に基づきバイアス電流を生成し、半導体レー
ザ及び微分抵抗値検出手段に出力する。
According to the invention described in claim 4, the driving means generates the driving current and outputs it to the semiconductor laser and the differential resistance value detecting means. Further, the bias means generates a bias current based on the bias current control signal and outputs it to the semiconductor laser and the differential resistance value detecting means.

【0037】これらにより、半導体レーザ及び微分抵抗
値検出手段には動作電流として、駆動電流とバイアス電
流が重畳されて供給されることとなる。一方、微分抵抗
値検出手段は、動作電流の変化に基いて半導体レーザの
微分抵抗値を検出し、比較手段に出力する。
As a result, the driving current and the bias current are superposed and supplied as the operating current to the semiconductor laser and the differential resistance value detecting means. On the other hand, the differential resistance value detecting means detects the differential resistance value of the semiconductor laser based on the change of the operating current and outputs it to the comparing means.

【0038】比較手段は、微分抵抗値と、所定の動作環
境における半導体レーザのしきい値電流に対応して予め
設定された所定の基準抵抗値とを比較して、比較信号を
バイアス電流制御手段に出力する。
The comparing means compares the differential resistance value with a predetermined reference resistance value preset corresponding to the threshold current of the semiconductor laser in a predetermined operating environment, and outputs a comparison signal to the bias current control means. Output to.

【0039】ところで、上記の微分抵抗値は、半導体レ
ーザにそのしきい値電流が流れたとき、基準抵抗値以上
の抵抗値から、当該半導体レーザの構造や材質等により
決定される直列抵抗値(基準抵抗値より低い抵抗値)ま
で不連続に変化し、かつ、駆動電流が流れていない場合
にバイアス電流の変化に対応して変化する。
By the way, the above-mentioned differential resistance value is a series resistance value (determined by the structure, material, etc. of the semiconductor laser from the resistance value equal to or higher than the reference resistance value when the threshold current flows through the semiconductor laser). It changes discontinuously up to a resistance value lower than the reference resistance value), and changes in response to a change in the bias current when the drive current does not flow.

【0040】そこで、バイアス電流制御手段は、比較信
号に基づき、微分抵抗値が基準抵抗値と等しくなるよう
にバイアス電流を制御するバイアス電流制御信号をバイ
アス手段に出力する。
Therefore, the bias current control means outputs to the bias means a bias current control signal for controlling the bias current so that the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value based on the comparison signal.

【0041】よって、微分抵抗値がその不連続点に対応
する値又は当該不連続点に対応する値のうち、高い方の
値に近づくようにバイアス電流が制御されるので、動作
環境の変化等に対応して変化する半導体レーザのしきい
値電流に対して、バイアス電流が当該しきい値電流と等
しくなるか、又は、当該しきい値電流より少ない値であ
って、当該しきい値電流から、設計上許容される半導体
レーザの発振遅延時間に対応する所定の範囲内にある値
になる。
Therefore, since the bias current is controlled so that the differential resistance value approaches the higher value of the value corresponding to the discontinuity point or the value corresponding to the discontinuity point, changes in the operating environment, etc. The threshold current of the semiconductor laser that changes corresponding to, the bias current becomes equal to the threshold current, or is a value less than the threshold current, from the threshold current , A value within a predetermined range corresponding to the semiconductor laser oscillation delay time allowed by design.

【0042】請求項5に記載の発明によれば、請求項4
に記載の発明の作用に加えて、微小交流電流供給手段
は、入力ディジタル信号のビットレートに比して十分に
低い一定の周波数を持ち、入力ディジタル信号電流に比
して十分に小さい電流振幅値を持つ微小交流電流を動作
電流に重畳する。
According to the invention of claim 5, claim 4
In addition to the operation of the invention described in (1), the minute alternating current supply means has a constant frequency that is sufficiently lower than the bit rate of the input digital signal, and a current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current. Superimposing a small AC current on the operating current.

【0043】電圧測定手段は、半導体レーザに印加され
る電圧を測定する。微小交流電圧抽出手段は、測定電圧
から、微小交流電流に対応する微小交流電圧を抽出し、
当該微小交流電圧をその振幅に基づいて前記微分抵抗値
に比例する直流電圧に変換し出力する。
The voltage measuring means measures the voltage applied to the semiconductor laser. The minute AC voltage extracting means extracts a minute AC voltage corresponding to the minute AC current from the measured voltage,
The minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude and output.

【0044】よって微分抵抗値の変化に対応して変化す
る微小交流電圧が抽出され、その振幅に比例する直流電
圧が出力されることから、当該微分抵抗値に比例する直
流電圧が得られ、これが電圧比較工程において、基準抵
抗値に対応する基準電圧と比較され、その比較結果に基
づき比較信号が出力される。
Therefore, since the minute AC voltage that changes in response to the change in the differential resistance value is extracted and the DC voltage that is proportional to the amplitude thereof is output, the DC voltage that is proportional to the differential resistance value is obtained. In the voltage comparison step, the reference voltage corresponding to the reference resistance value is compared, and a comparison signal is output based on the comparison result.

【0045】請求項6に記載の発明は、請求項4に記載
の発明の作用に加えて、微小交流電流供給手段は、入力
ディジタル信号のビットレートに比して十分に低い一定
の周波数を持ち、入力ディジタル信号電流に比して十分
に小さい一定の電流振幅値を持つ微小交流電流を動作電
流に重畳する。
According to a sixth aspect of the invention, in addition to the operation of the fourth aspect of the invention, the minute alternating current supply means has a constant frequency sufficiently lower than the bit rate of the input digital signal. , A small alternating current having a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current is superimposed on the operating current.

【0046】電圧測定手段は、半導体レーザに印加され
る電圧を測定する。微小交流電圧抽出手段は、測定電圧
から、前記微笑交流電流に対応する微小交流電圧を抽出
し、当該微小交流電圧をその振幅に基づいて前記微分抵
抗値に比例する直流電圧に変換し出力する。
The voltage measuring means measures the voltage applied to the semiconductor laser. The minute AC voltage extracting means extracts a minute AC voltage corresponding to the smiling AC current from the measured voltage, converts the minute AC voltage into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on its amplitude, and outputs the DC voltage.

【0047】ビット比率検出手段は、入力ディジタル信
号の所定期間の一方の論理のビット数を所定期間内の全
ビット数で除したビット比率を検出する。補正手段は、
ビット比率に基づいて直流電圧を補正し、補正直流電圧
を出力する。
The bit ratio detecting means detects a bit ratio obtained by dividing the number of logical bits in one of the predetermined periods of the input digital signal by the total number of bits in the predetermined period. The correction means is
The DC voltage is corrected based on the bit ratio, and the corrected DC voltage is output.

【0048】よって、微分抵抗値の変化に対応して変化
する微小交流電圧が抽出され、その振幅に比例する直流
電圧が出力されることから、当該微分抵抗値に比例する
直流電圧が得られる。この直流電圧はビット比率の変化
に対応して変化するが、この変化が補正手段において補
正され、安定した補正直流電圧が得られる。その後、こ
の補正直流電圧が電圧比較工程において基準抵抗値に対
応する基準電圧と比較され、その比較結果に基づき比較
信号が出力される。
Therefore, the minute AC voltage that changes in accordance with the change in the differential resistance value is extracted, and the DC voltage proportional to the amplitude thereof is output, so that the DC voltage proportional to the differential resistance value is obtained. This DC voltage changes in accordance with the change in the bit ratio, but this change is corrected by the correction means, and a stable corrected DC voltage is obtained. Then, the corrected DC voltage is compared with the reference voltage corresponding to the reference resistance value in the voltage comparison step, and the comparison signal is output based on the comparison result.

【0049】[0049]

【実施例】次に、本発明に好適な実施例について、図1
乃至図6を用いて説明する。 (I)本発明の原理 はじめに、本発明の原理について、図1乃至図3を用い
て説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, referring to FIG.
It will be described with reference to FIGS. (I) in principle the beginning of the present invention, the principle of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0050】まず、一般的な半導体レーザにおける電流
Iと電圧Vの関係について図2(a)を用いて説明す
る。半導体レーザは、その電流Iがその半導体レーザ固
有の発振しきい値電流ITHより少ないときには、通常の
半導体ダイオードと同様の特性を示す。そのときの電流
Iと電圧Vの関係は、以下の通りである。
First, the relationship between the current I and the voltage V in a general semiconductor laser will be described with reference to FIG. When the current I of the semiconductor laser is smaller than the oscillation threshold current I TH peculiar to the semiconductor laser, the semiconductor laser exhibits characteristics similar to those of a normal semiconductor diode. The relationship between the current I and the voltage V at that time is as follows.

【0051】 I=I0 exp(q(V−RS I)/nkT) …(1) ここで、I0 は半導体レーザ(半導体ダイオード)の材
料物性及び構造等により決定される定数、qは電気素
量、nは半導体レーザ(半導体ダイオード)で決まる定
数(通常1から2の間の値)、kはボルツマン定数、T
は絶対温度、RSは半導体レーザの活性層以外の層によ
り決まる直列抵抗である。
I = I 0 exp (q (V−R S I) / nkT) (1) where I 0 is a constant determined by the material properties and structure of the semiconductor laser (semiconductor diode), and q is Electric charge, n is a constant (usually a value between 1 and 2) determined by a semiconductor laser (semiconductor diode), k is Boltzmann's constant, T
Is an absolute temperature, and R S is a series resistance determined by layers other than the active layer of the semiconductor laser.

【0052】(1)式の示す関係は、図2(a)に
「α」で示す範囲に相当する。次に、電流Iが発振しき
い値電流ITH以上になると、半導体レーザは発振し、レ
ーザ光Lを出射するが、レーザ発振時には活性層のキャ
リア密度が増加しないので、電圧がクランプされ、活性
層の電圧Vはほぼ一定となる。
The relationship represented by the equation (1) corresponds to the range indicated by "α" in FIG. Next, when the current I exceeds the oscillation threshold current I TH , the semiconductor laser oscillates and emits the laser light L, but since the carrier density of the active layer does not increase during laser oscillation, the voltage is clamped and the active The layer voltage V is approximately constant.

【0053】このときの電流Iと電圧Vの関係は、 V=VTH+RS (I−ITH) …(2) となり、図2(a)においては、「β」で示す範囲に相
当する。この範囲におけるグラフはほぼ直線であり、そ
の傾きはRS である。ここで、VTHは半導体レーザにし
きい電流が流れたときの半導体レーザの電圧である。
The relationship between the current I and the voltage V at this time is V = V TH + RS (I−I TH ) ... (2), which corresponds to the range indicated by “β” in FIG. . The graph in this range is almost linear and its slope is RS. Here, V TH is the voltage of the semiconductor laser when a threshold current flows in the semiconductor laser.

【0054】以上の説明により、半導体レーザの電流I
と電圧Vの関係を示すグラフは電流Iがしきい値電流I
THのときに不連続点を有する形となる。また、半導体レ
ーザの他の特性として、上述のしきい値電流ITHは、半
導体レーザの温度が高くなったり、半導体レーザそのも
のが劣化すると増大する特性を有している。
From the above description, the current I of the semiconductor laser I
In the graph showing the relationship between the voltage V and the voltage V, the current I is the threshold current I
The shape has discontinuities at TH . Further, as another characteristic of the semiconductor laser, the above-mentioned threshold current I TH has a characteristic of increasing when the temperature of the semiconductor laser rises or when the semiconductor laser itself deteriorates.

【0055】次に、上述の電流Iと電圧Vの関係に基づ
く半導体レーザの微分抵抗値と電流Iの関係について図
2(b)を用いて説明する。半導体レーザの微分抵抗値
d は、Rd =dV/dIで定義され、これと、図2
(a)に示す電流Iと電圧Vとの関係から、しきい値電
流の前後で不連続の値をとる。微分抵抗値Rd の値は、
電流Iがしきい電流ITHより少ないときには、 Rd =RS +(nkT)/(qI) …(3) となり、電流Iがしきい電流ITH以上のときには、 Rd =RS となる。したがって、電流Iがしきい値電流ITHのとき
には、微分抵抗値Rdは、 ΔRd =(nkT)/(qITH) …(4) の不連続を生じる。
Next, the relationship between the differential resistance value of the semiconductor laser and the current I based on the above-mentioned relationship between the current I and the voltage V will be described with reference to FIG. The differential resistance value R d of the semiconductor laser is defined by R d = dV / dI.
From the relationship between the current I and the voltage V shown in (a), a discontinuous value is taken before and after the threshold current. The value of the differential resistance value R d is
When the current I is smaller than the threshold current I TH , R d = RS + (nkT) / (qI) (3), and when the current I is equal to or more than the threshold current I TH , R d = RS. . Therefore, when the current I is the threshold current I TH , the differential resistance value R d has a discontinuity of ΔR d = (nkT) / (qI TH ) ... (4).

【0056】以上の微分抵抗値Rd の電流Iとの関係を
図2(b)に示す。ここで、微分抵抗値Rd の不連続点
は半導体レーザの温度が高くなると、電流Iの多い方向
へシフトする特性があり、図2(b)においては、3種
類の温度Ta、Tb及びTc(Ta<Tb<Tc)にお
ける電流Iと微分抵抗値Rd との関係を示している。図
2(b)に示すように、それぞれの温度に対応するしき
い値電流ITHa 、ITH b 及びITHc において、微分抵抗
値Rd はそれぞれ不連続となっている。
The relationship between the differential resistance value R d and the current I is shown in FIG. 2 (b). Here, the discontinuity point of the differential resistance value R d has a characteristic that it shifts to the direction in which the current I increases as the temperature of the semiconductor laser rises. In FIG. 2B, three types of temperatures Ta, Tb and Tc The relationship between the current I and the differential resistance value R d at (Ta <Tb <Tc) is shown. As shown in FIG. 2B, the differential resistance values R d are discontinuous at the threshold currents I THa , I TH b, and I THc corresponding to the respective temperatures.

【0057】ところで、半導体レーザを入力信号の変化
に対応して発振させ、レーザ光を出射させるためには、
予め所定のバイアス電流Ib を印加しておき、それに重
畳するように入力信号の変化に対応して変化する駆動電
流Id を加える必要がある。そして、バイアス電流Ib
と駆動電流Id を合わせた動作電流ID の値が上述のし
きい値電流ITHを越えた時に半導体レーザが発振し、レ
ーザ光が出射される。このとき、入力信号に対応して高
速に応答するように半導体レーザを発振させるために
は、先に述べたように、バイアス電流Ib をそのときの
温度におけるしきい値電流ITHと等しくするか、又は、
しきい値電流ITHより少ない値であって、しきい値電流
THにできるだけ近い値とするのがよい。本発明は、こ
のためのバイアス電流Ib の制御を、上述の微分抵抗値
を検出し、その変化に対応して行おうとするものであ
る。
By the way, in order to oscillate the semiconductor laser in response to a change in the input signal and emit the laser beam,
It is necessary to apply a predetermined bias current I b in advance and add a drive current I d that changes corresponding to a change in the input signal so as to be superposed on it. Then, the bias current I b
When the value of the operating current I D , which is the sum of the driving current I d and the driving current I d , exceeds the above-mentioned threshold current I TH , the semiconductor laser oscillates and laser light is emitted. At this time, in order to oscillate the semiconductor laser so as to respond to the input signal at a high speed, as described above, the bias current I b is made equal to the threshold current I TH at the temperature at that time. Or
A value less than the threshold current I TH, preferably set to as close as possible value to the threshold current I TH. The present invention, control of the bias current I b for this, detecting the differential resistance value mentioned above, it is an attempt to correspond to the change.

【0058】すなわち、図2(a)又は図2(b)にお
ける横軸の電流Iは、半導体レーザを駆動するための駆
動電流Id が印加されているときには、当該駆動電流I
d とバイアス電流Ib を合わせた動作電流ID であり、
駆動電流Id が印加されていないときには、バイアス電
流Ib そのものと考えることができる。よって、微分抵
抗値Rd はバイアス電流Ib によって変化すると考える
ことができる。
That is, the current I on the horizontal axis in FIG. 2A or FIG. 2B is the drive current I when the drive current I d for driving the semiconductor laser is applied.
is the operating current I D that is the sum of d and the bias current I b ,
When the drive current I d is not applied, it can be considered as the bias current I b itself. Therefore, it can be considered that the differential resistance value R d changes depending on the bias current I b .

【0059】ここで、図2(b)における温度TC を当
該半導体レーザの所定の動作環境としての実用温度の最
大値とし、その時の不連続点の微分抵抗値を基準抵抗値
Fとする。そして、微分抵抗値Rd をこの基準抵抗値
F に等しくなるようにバイアス電流Ib を制御すれ
ば、そのときのバイアス電流Ib をしきい値電流ITHC
と等しく制御できる。また、基準抵抗値RF を不連続点
の微分抵抗値より大きいある範囲の値とすれば、しきい
値電流ITHC より少ない値で、しきい値電流ITH C から
設計上許容される半導体レーザの発振遅延時間に対応す
る所定の範囲内にすることができる。
Here, the temperature T C in FIG. 2B is the maximum value of the practical temperature as the predetermined operating environment of the semiconductor laser, and the differential resistance value at the discontinuous point at that time is the reference resistance value R F. . Then, by controlling the bias current I b to equal the differential resistance value R d in the reference resistance value R F, threshold current bias current I b at that time I THC
Can be controlled equally. Further, if the reference resistance value R F is set to a value in a certain range larger than the differential resistance value at the discontinuity point, it is a value smaller than the threshold current I THC, and is a semiconductor allowed from the threshold current I TH C by design. It can be set within a predetermined range corresponding to the oscillation delay time of the laser.

【0060】つまり、温度TC の場合において、検出し
た微分抵抗値が基準抵抗値RF より小さい(具体的に
は、基準抵抗値RF を不連続点の微分抵抗値と設定すれ
ば、不連続点があるので、基準抵抗値RF より小さい場
合には、常にその値は直列抵抗RS となる。)ときに
は、バイアス電流Ib を減少させて、微分抵抗値が基準
抵抗値RF となるように制御する。
That is, in the case of temperature T C , the detected differential resistance value is smaller than the reference resistance value R F (specifically, if the reference resistance value R F is set as the differential resistance value at the discontinuity point, Since there are continuous points, when the resistance value is smaller than the reference resistance value R F , the value is always the series resistance R S. ) At that time, the bias current I b is decreased and the differential resistance value becomes the reference resistance value R F. Control to be.

【0061】また、検出した微分抵抗値が基準抵抗値R
F より大きいときには、バイアス電流Ib を増加させ
て、微分抵抗値が基準抵抗値RF となるように制御する
のである。
The detected differential resistance value is the reference resistance value R.
When it is larger than F , the bias current I b is increased so that the differential resistance value becomes the reference resistance value R F.

【0062】これらにより、基準抵抗値RF を不連続点
の微分抵抗値と直列抵抗RS の間もしくは不連続点の値
とすることによりバイアス電流Ib としきい値電流I
THC とを等しくでき、若しくは、基準抵抗値RF を不連
続点の微分抵抗値より大きいある範囲の値とすること
で、バイアス電流Ib をしきい値電流ITHC より少ない
値で、しきい値電流ITHC から所定の範囲内にすること
ができるのである。
As a result, by setting the reference resistance value R F to a value between the differential resistance value at the discontinuity point and the series resistance R S or at the discontinuity point, the bias current I b and the threshold current I
THC can be made equal to each other, or the reference resistance value R F can be set to a value in a certain range larger than the differential resistance value at the discontinuous point, so that the bias current I b can be a threshold value smaller than the threshold current I THC. The value current I THC can be set within a predetermined range.

【0063】また、この制御は、温度TC と異なる温度
b に対しても有効である。すなわち、図2(b)にお
いて、半導体レーザの温度がTC からTb に下がること
により、しきい値電流がITHC からITHb に変化した場
合に、上述のように微分抵抗値が基準抵抗値RF となる
ように制御することによりバイアス電流Ib をしきい値
電流ITHb と等しいか、若しくはしきい値電流ITHb
り少ない値で、しきい値電流ITHb から所定の範囲内に
することができる。
This control is also effective for a temperature T b different from the temperature T C. That is, in FIG. 2B , when the threshold current changes from I THC to I THb due to the temperature of the semiconductor laser dropping from T C to T b , the differential resistance value becomes the reference resistance as described above. or a bias current I b by controlling to a value R F is equal to the threshold current I THb, or with less than the threshold current I THb, within a predetermined range from the threshold current I THb can do.

【0064】つまり、温度Tb において、検出した微分
抵抗値が基準抵抗値RF より小さいときには、バイアス
電流Ib を減少させて、微分抵抗値を増加させ、基準抵
抗値RF になるようにする。また、検出した微分抵抗値
が基準抵抗値RF より大きいときには、バイアス電流I
b を増加させて、微分抵抗値を減少させ、基準抵抗値R
F になるように制御する。これにより、バイアス電流I
b をしきい値電流ITH b と等しいか、若しくはしきい値
電流ITHb より少ない値で、しきい値電流ITH b から所
定の範囲内にすることができる。
That is, at the temperature T b , when the detected differential resistance value is smaller than the reference resistance value R F , the bias current I b is decreased and the differential resistance value is increased so that the reference resistance value R F is reached. To do. When the detected differential resistance value is larger than the reference resistance value R F , the bias current I
b is increased, the differential resistance value is decreased, and the reference resistance value R
Control to become F. As a result, the bias current I
or equal to the threshold current I TH b a b, or with less than the threshold current I THb, it can be within a predetermined range from the threshold current I TH b.

【0065】半導体レーザの温度がTb からTa になっ
た場合にも同様に制御することにより、バイアス電流I
b をしきい値電流ITHa と等しいか、若しくはしきい値
電流ITHa より少ない値で、しきい値電流ITHa から所
定の範囲内にすることができる。
Even when the temperature of the semiconductor laser changes from T b to T a , the bias current I is controlled by the same control.
or equal to the threshold current I THa the b, or with less than the threshold current I THa, it can be within a predetermined range from the threshold current I THa.

【0066】また、半導体レーザの温度がTa から
b 、TC と上昇した時にも同様に制御することによ
り、バイアス電流Ib をそれぞれの温度におけるしきい
電流に等しいか、若しくはしきい値電流より少ない値
で、しきい値電流から所定の範囲内にすることができ
る。
Further, when the temperature of the semiconductor laser rises from T a to T b and T C , the bias current I b is equal to the threshold current at each temperature or the threshold value is controlled by the same control. It can be within a predetermined range from the threshold current with a value smaller than the current.

【0067】なお、直列抵抗RS の実際の値は5Ω程度
であり、また、微分抵抗値については、80℃、しきい
値電流10mA(歪量子井戸活性層半導体レーザにおける
値)の場合で、しきい値電流での微分抵抗値の不連続Δ
d は6Ω程度であるので、十分制御が可能である。
The actual value of the series resistance R S is about 5Ω, and the differential resistance value is 80 ° C. and the threshold current is 10 mA (value in the strained quantum well active layer semiconductor laser). Discontinuity of differential resistance value at threshold current Δ
Since R d is about 6Ω, it can be sufficiently controlled.

【0068】次に、実際に駆動電流Id がバイアス電流
b に重畳されているときの電圧Vと微分抵抗値Rd
時間に対する変化について、図3を用いて説明する。は
じめに、電流Iは、駆動電流Id が入力ディジタル信号
に対応して変調されているので、図3(a)に示すよう
に変化する。図3(a)においては、電流が(Id +I
b )となったときに半導体レーザが発振するように、バ
イアス電流I b はしきい値電流ITH以下の値とされてい
る。これに対応して、電圧Vは、図3(b)に示すよう
に変化する。そして、微分抵抗値Rd は、駆動電流Id
の変調に対応して、図3(c)に示すように変化する。
すなわち、駆動電流Id が印加されて半導体レーザが発
振しているときには、微分抵抗値Rd は直列抵抗RS
等しくなり、駆動電流Id が印加されず半導体レーザが
発振していないときには、微分抵抗値Rd はバイアス電
流のみのときの抵抗値RC となっている。
Next, the drive current I is actuallydIs the bias current
IbVoltage V and differential resistance value R when superimposed ondof
The change with time will be described with reference to FIG. Is
First, the current I is the drive current IdIs the input digital signal
Since it is modulated corresponding to, as shown in FIG.
Changes to. In FIG. 3A, the current is (Id+ I
b), The semiconductor laser oscillates when
Ias current I bIs the threshold current ITHThe following values are
It Corresponding to this, the voltage V is as shown in FIG.
Changes to. And the differential resistance value RdIs the drive current Id
Corresponding to the modulation of, the change occurs as shown in FIG.
That is, the drive current IdIs applied and the semiconductor laser emits
When shaking, the differential resistance value RdIs the series resistance RSWhen
Become equal and drive current IdIs not applied and the semiconductor laser
When not oscillating, differential resistance value RdIs the bias voltage
Resistance value R when flowing onlyCHas become.

【0069】次に、上述したバイアス電流Ib の制御を
行うための本発明の基本構成について、図1を用いて説
明する。図1に示すように、本発明のバイアス電流制御
による半導体レーザ制御装置は、入力ディジタル信号S
INに対応して変化し、半導体レーザ1を発振させる駆動
電流Id を生成し、出力する駆動手段2と、バイアス電
流制御手段の制御に基づき、バイアス電流Ib を生成
し、出力するバイアス手段3と、動作電流ID から半導
体レーザの微分抵抗値Rd を検出し、出力する微分抵抗
値検出手段4と、微分抵抗値Rd の値と、所定の動作環
境(温度TC )における半導体レーザ1のしきい値電流
(ITHC )に対応して予め設定された所定の基準抵抗値
F とを比較して、比較信号SC を出力する比較手段5
と、比較信号SC に基づき、微分抵抗値Rd の値が基準
抵抗値RF と等しくなるようにバイアス電流Ib を制御
するバイアス制御信号SB を出力するバイアス電流制御
手段6と、を備えて構成されている。そして、微分抵抗
値検出手段4によって検出された微分抵抗値Rd に基づ
き、上述したようなバイアス電流Ib の制御がバイアス
電流制御手段6において実行される。
Next, the basic structure of the present invention for controlling the bias current I b described above will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the semiconductor laser control device by the bias current control of the present invention uses an input digital signal S
Bias means for generating and outputting a driving current I d that changes corresponding to IN and that oscillates the semiconductor laser 1 and generates and outputs a bias current I b under the control of the bias current control means. 3, the differential resistance value detecting means 4 for detecting and outputting the differential resistance value R d of the semiconductor laser from the operating current I D, the value of the differential resistance value R d , and the semiconductor in a predetermined operating environment (temperature T C ). Comparison means 5 for comparing with a predetermined reference resistance value R F preset corresponding to the threshold current (I THC ) of the laser 1 and outputting a comparison signal S C.
And a bias current control means 6 that outputs a bias control signal S B that controls the bias current I b so that the value of the differential resistance value R d becomes equal to the reference resistance value R F based on the comparison signal S C. It is equipped with. Then, based on the differential resistance value R d detected by the differential resistance value detecting means 4, the bias current I b is controlled by the bias current controlling means 6 as described above.

【0070】また、微分抵抗値検出手段4においては、
より具体的には、図3(b)に示す電圧Vを検出するこ
とにより、微分抵抗値Rd を検出している。 (II)第1実施例 次に、請求項1、2、4及び5に記載の発明に対応する
第1の実施例について図4及び図6を用いて説明する。
Further, in the differential resistance value detecting means 4,
More specifically, the differential resistance value R d is detected by detecting the voltage V shown in FIG. (II) First Embodiment Next, a first embodiment corresponding to the invention described in claims 1, 2, 4 and 5 will be described with reference to FIGS. 4 and 6.

【0071】図4に示す半導体レーザバイアス電流制御
装置10は、半導体レーザ1を駆動するための、入力デ
ィジタル信号SINの変化に対応して変化する駆動電流I
d を生成し、出力する駆動手段としての駆動回路11
と、バイアス電流制御手段としてのバイアス電流制御回
路17の制御に基づき、駆動電流Id に重畳されるバイ
アス電流Ib を生成し、出力するバイアス手段としての
バイアス回路12と、駆動電流Id とバイアス電流Ib
とを合わせた動作電流ID の変化に基づき変化する半導
体レーザ1の微分抵抗値Rd を検出し、当該微分抵抗値
d に比例した直流電圧VD を出力する微分抵抗値検出
手段4と、直流電圧VD の値と、所定の動作環境として
の実用温度の最大値における半導体レーザ1のしきい値
電流ITHに対応して予め設定された所定の基準抵抗値R
F に対応する基準電圧VS とを比較して、比較信号SC
を出力する比較手段としての電圧比較回路16と、比較
信号SC に基づき、直流電圧VD の値が基準電圧VS
等しくなるか、又は基準電圧VS より高い値であって、
かつ、基準電圧VS に近づくようにバイアス電流Ib
制御するバイアス電流制御手段としてのバイアス電流制
御回路17により構成されている。
The semiconductor laser bias current control device 10 shown in FIG. 4 drives the semiconductor laser 1 and changes the drive current I corresponding to the change of the input digital signal S IN.
Drive circuit 11 as drive means for generating and outputting d
And a bias circuit 12 as bias means for generating and outputting a bias current I b which is superimposed on the drive current I d based on the control of the bias current control circuit 17 as the bias current control means, and the drive current I d . Bias current I b
Detecting the differential resistance value R d of the semiconductor laser 1 which changes based on the change in the operating current I D combined bets, and the differential resistance value detecting means 4 to output a DC voltage V D which is proportional to the differential resistance value R d , A predetermined reference resistance value R preset corresponding to the value of the DC voltage V D and the threshold current I TH of the semiconductor laser 1 at the maximum practical temperature as a predetermined operating environment.
The comparison signal S C is compared with the reference voltage V S corresponding to F.
A voltage comparator 16 as a comparing means for outputting a comparison on the basis of the signal S C, if the value of the DC voltage V D becomes equal to the reference voltage V S, or a value higher than the reference voltage V S,
In addition, the bias current control circuit 17 serves as a bias current control unit that controls the bias current I b so as to approach the reference voltage V S.

【0072】微分抵抗値検出手段4は、入力ディジタル
信号SINのビットレートに比して十分に低い一定の周波
数を持ち、入力ディジタル信号SINの電流に比して十分
に小さい一定の電流振幅値を持つ微小交流電流を動作電
流ID に重畳する微小交流電流供給手段としての微小交
流電流供給回路13と、半導体レーザ1に印加される電
圧(以下、動作電圧Vという。)を測定して平滑化する
電圧測定手段としての電圧測定回路14と、動作電圧V
から、微小交流電流に対応する微小交流電圧V 1 を抽出
し、その振幅に比例する直流電圧VD に変換し出力する
微小交流電圧抽出手段としての微小交流電圧抽出回路1
5とにより構成されている。
The differential resistance value detecting means 4 is an input digital
Signal SINA constant frequency that is sufficiently low compared to the bit rate of
Has a number and the input digital signal SINSufficient compared to the current of
Operating a small alternating current with a small constant current amplitude value.
Flow IDAs a means for supplying minute alternating current
The current supply circuit 13 and the voltage applied to the semiconductor laser 1
Pressure (hereinafter referred to as operating voltage V) is measured and smoothed.
A voltage measuring circuit 14 as a voltage measuring means, and an operating voltage V
From the minute AC voltage V corresponding to the minute AC current 1Extract
DC voltage V proportional to its amplitudeDAnd output
Micro AC voltage extraction circuit 1 as micro AC voltage extraction means
5 and 5.

【0073】ここで、入力ディジタル信号SINのビット
レートに対応する周波数帯域に対して十分に低い一定の
周波数とは、入力ディジタル信号SINの信号帯域の下限
よりも小さい周波数を言い、入力ディジタル信号SIN
電流に比して十分に小さい一定の電流振幅値とは、入力
ディジタル信号SINに基づく半導体レーザ1のレーザ光
Lの出力の大きさに対して、微小交流電流によるレーザ
光Lの微少振動の振幅が、当該レーザ光Lを受光する受
光器において雑音として当該受光器の動作に影響を与え
ない程度に小さい一定の電流振幅値を言う。
[0073] Here, the input digital signal S constant frequency sufficiently lower than the frequency band corresponding to the bit rate of the IN, it refers to a frequency smaller than the lower limit of the signal band of the input digital signal S IN, the input digital The constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the current of the signal S IN means that the laser light L generated by a minute AC current is smaller than the output of the laser light L of the semiconductor laser 1 based on the input digital signal S IN. Is a constant current amplitude value that is small enough not to affect the operation of the photodetector as noise in the photodetector that receives the laser light L.

【0074】上記構成において、電圧測定回路14は、
例えば、低域周波数用交流バッファ増幅器により構成さ
れている。また、微小交流電圧抽出回路15は、例え
ば、帯域通過フィルタ型増幅器、検波器及び整流器によ
り構成されている。さらに、電圧比較回路16は、例え
ば、差動アンプにより構成され、バイアス電流制御回路
17は、例えば、トランジスタ等による差動対により構
成されている。
In the above structure, the voltage measuring circuit 14 is
For example, it is configured by an AC buffer amplifier for low frequency. The minute AC voltage extracting circuit 15 is composed of, for example, a bandpass filter type amplifier, a detector and a rectifier. Further, the voltage comparison circuit 16 is composed of, for example, a differential amplifier, and the bias current control circuit 17 is composed of, for example, a differential pair of transistors or the like.

【0075】次に、図4及び図6を用いて、動作を説明
する。駆動回路11により生成された駆動電流Id にバ
イアス回路12が生成したバイアス電流Ib が重畳さ
れ、半導体レーザ1を駆動するための動作電流ID とな
って、半導体レーザ1に印加される。この動作電流ID
に微小交流電流供給回路13により微小交流電流が重畳
される。この微小交流電流の周波数は、例えば、入力デ
ィジタル信号SINのビットレートが100Mb/s 以上で
あれば、100kHz とされ、その電流振幅値は、例え
ば、入力ディジタル信号SINの変調電流が20mAであれ
ば、0.2mAとされる。この微小交流電流が重畳された
動作電流IDの波形は図6(a)のようになる。そし
て、この動作電流ID が半導体レーザ1に加えられたと
きの半導体レーザ1に生じる動作電圧Vは、図6(b)
に示すような波形を有する。
Next, the operation will be described with reference to FIGS. 4 and 6. The drive current I d generated by the drive circuit 11 is superposed with the bias current I b generated by the bias circuit 12, and becomes an operating current I D for driving the semiconductor laser 1, which is applied to the semiconductor laser 1. This operating current I D
The minute alternating current supply circuit 13 superimposes the minute alternating current. The frequency of this minute alternating current is, for example, 100 kHz when the bit rate of the input digital signal S IN is 100 Mb / s or more, and its current amplitude value is, for example, when the modulation current of the input digital signal S IN is 20 mA. If there is, it will be 0.2mA. The waveform of the operating current ID superposed with this minute alternating current is as shown in FIG. The operating voltage V generated in the semiconductor laser 1 when the operating current ID is applied to the semiconductor laser 1 is shown in FIG.
It has a waveform as shown in.

【0076】ここで、図6(b)に示すように、微分抵
抗値Rd が直列抵抗RS に等しく一定であるため、半導
体レーザ1が発振しているとき(動作電流ID がしきい
値電流ITHより大きいとき)の動作電圧Vの微小交流電
流に伴う電圧の変化Bは小さい。
As shown in FIG. 6B, since the differential resistance value R d is equal to the series resistance R S and is constant, when the semiconductor laser 1 is oscillating (the operating current ID is the threshold value). The change B of the voltage due to the minute alternating current of the operating voltage V (when it is larger than the value current I TH ) is small.

【0077】これに対して、半導体レーザ1が発振して
いないとき(動作電流ID がしきい値電流ITHより少な
いとき)の動作電圧Vの微小交流電流に伴う電圧の変化
Aは、図2(b)に示すように、微分抵抗値Rd が不連
続点を越えて直列抵抗RS よりも大きくなるので(動作
電流ID がしきい値電流以下であることによる)、微小
交流電流の変化に対応して、半導体レーザ1が発振して
いるとき(図6(b)符号B参照)に比して大きく変化
し、その変化は、微分抵抗値Rd が大きいほど大きくな
る。そして、この動作電圧Vの変化が電圧測定回路14
により平滑化されると、図6(c)に示す波形を有する
出力電圧V1 となる。この出力電圧V1の変化は、重畳
した微小交流電流に対応しており、その電圧の変化(振
幅)Aは、上述のように、微小交流電流の周波数及び振
幅が一定ならば、微分抵抗値Rdの大きさに比例した値
となる。
On the other hand, when the semiconductor laser 1 is not oscillating (when the operating current I D is less than the threshold current I TH ), the change A of the operating voltage V caused by the minute AC current is shown in FIG. As shown in FIG. 2 (b), since the differential resistance value R d exceeds the discontinuity point and becomes larger than the series resistance R S (because the operating current ID is less than or equal to the threshold current), a small alternating current Corresponding to the change in the semiconductor laser 1 is oscillating (see reference numeral B in FIG. 6B), the change becomes larger as the differential resistance value R d becomes larger. The change in the operating voltage V is caused by the voltage measuring circuit 14
When smoothed by, the output voltage V 1 has a waveform shown in FIG. This change in the output voltage V 1 corresponds to the superposed minute alternating current, and the change (amplitude) A of the voltage is the differential resistance value if the frequency and the amplitude of the minute alternating current are constant as described above. The value is proportional to the magnitude of R d .

【0078】その後、この出力電圧V1 が微小交流電圧
抽出回路15により検波及び整流がなされ、交流信号の
振幅としての電圧の変化Aが直流電圧VD に変換され
る。以上の微小交流電流供給回路13、電圧測定回路1
4及び微小交流電圧抽出回路15の動作により、微分抵
抗値Rd の大きさに比例した直流電圧VD が得られる。
この直流電圧VD は、電圧比較回路16において、所定
の基準抵抗値RF に対応する基準電圧VS と比較され、
その結果に基づく比較信号SC が出力され、バイアス電
流制御回路17に入力される。そして、バイアス電流制
御回路17において、本発明の原理において説明したよ
うにバイアス電流を制御すべくバイアス制御信号SB
出力され、これに基づきバイアス回路において、微分抵
抗値R d の変化に基づき、その時のしきい値電流に対応
したバイアス電流Ib が生成され、出力される。
Thereafter, this output voltage V1Is a small AC voltage
The extraction circuit 15 detects and rectifies the AC signal
The change A of the voltage as the amplitude is the DC voltage VDIs converted to
It Micro AC current supply circuit 13 and voltage measurement circuit 1 described above
4 and the operation of the minute AC voltage extraction circuit 15 cause the differential resistance
Resistance value RdDC voltage V proportional to the magnitude ofDIs obtained.
This DC voltage VDIs a predetermined value in the voltage comparison circuit 16.
Reference resistance value RFReference voltage V corresponding toSCompared to
Comparison signal S based on the resultCIs output and the bias voltage is
It is input to the flow control circuit 17. And bias current control
The control circuit 17 has been described in the principle of the present invention.
Bias control signal S for controlling the bias currentBBut
It is output, and based on this, in the bias circuit, the differential resistance is
Resistance value R dCorresponding to the threshold current at that time based on the change of
Bias current IbIs generated and output.

【0079】以上の第1実施例によれば、半導体レーザ
1の微分抵抗値Rd を検出し、その変化に基づいてバイ
アス電流を制御するようにしたので、他の装置を必要と
せず信号処理のみによって、バイアス電流を常にしきい
値電流と等しくするか、又は、当該しきい値電流以下の
値であって、当該しきい値電流から所定の範囲内にする
ことができ、さらに、第1実施例を構成する回路は、そ
の全てを集積回路化することが可能なので、高速応答可
能な半導体レーザが小型、かつ、安価で簡単な回路によ
り得られる。
According to the first embodiment described above, the differential resistance value R d of the semiconductor laser 1 is detected, and the bias current is controlled based on the change, so that no other device is required and the signal processing is performed. The bias current can be always equal to the threshold current, or can be a value less than or equal to the threshold current and within a predetermined range from the threshold current by only Since all the circuits constituting the embodiment can be integrated into a circuit, a semiconductor laser capable of high-speed response can be obtained with a small size, an inexpensive and simple circuit.

【0080】なお、上述の第1実施例において、電圧測
定回路14は、低域周波数用交流バッファ増幅器により
構成したが、これに代えて、入力ディジタル信号SIN
よりトリガされるサンプルホールド回路により構成する
ことも可能である。このときには、入力ディジタル信号
INの論理“0”の状態(オフ状態)でのバイアス電流
b のみのときの動作電圧Vを選択的にサンプル化して
ホールドするようにする。このように構成することによ
り、より精密に微分抵抗値Rd を検出することができ
る。 (III )第2実施例 次に、請求項1、3、4及び6に記載の発明に対応する
第2の実施例について図5及び図6を用いて説明する。
In the first embodiment described above, the voltage measuring circuit 14 is composed of the low frequency AC buffer amplifier, but instead of this, it is composed of the sample hold circuit triggered by the input digital signal S IN. It is also possible to do so. At this time, the operating voltage V is selectively sampled and held only when the bias current Ib is in the logical "0" state (off state) of the input digital signal S IN . With this configuration, the differential resistance value R d can be detected more accurately. (III) Second Embodiment Next, a second embodiment corresponding to the invention described in claims 1, 3, 4 and 6 will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

【0081】図5に示す第2実施例において、図4に示
す第1実施例と同様の構成要素については、同様の部材
番号を付し、その細部の説明は省略する。第2実施例に
おいては、入力ディジタル信号SINのビット比率として
のマーク率(所定期間における入力ディジタル信号SIN
のうち、論理“1”を示すビットの数を当該所定期間の
全ビット数で除したもの)の変動に対応する直流電圧V
Dの変動が補正回路によって補正され安定した補正直流
電圧VDRに基づいてバイアス電流Ib が制御される。
In the second embodiment shown in FIG. 5, the same components as those in the first embodiment shown in FIG. 4 are designated by the same reference numerals, and the detailed description thereof will be omitted. In the second embodiment, the input digital signal at the mark ratio (the predetermined period as a bit ratio of the input digital signal S IN S IN
DC voltage V corresponding to the fluctuation of the number of bits indicating logic “1” divided by the total number of bits in the predetermined period)
The fluctuation of D is corrected by the correction circuit, and the bias current I b is controlled based on the stable corrected DC voltage V DR .

【0082】図5に示すように、第2実施例の半導体レ
ーザバイアス電流制御装置20は、第1実施例の半導体
レーザバイアス電流制御装置10の構成に加えて、入力
ディジタル信号SINのマーク率Mを検出し出力する積分
器等よりなるマーク率検出回路21と、検出されたマー
ク率Mに基づいて直流電圧VD を補正するAGC(Auto
Gain Control )回路等により構成される補正回路22
と、により構成されている。
As shown in FIG. 5, the semiconductor laser bias current control device 20 of the second embodiment has the mark ratio of the input digital signal S IN in addition to the configuration of the semiconductor laser bias current control device 10 of the first embodiment. A mark ratio detection circuit 21 including an integrator that detects and outputs M, and an AGC (Auto) that corrects the DC voltage V D based on the detected mark ratio M.
Correction circuit 22 including a gain control circuit, etc.
It consists of and.

【0083】次に動作を説明する。第1実施例と同様の
構成要素については、第1実施例と同様の動作であるの
で、説明は省略する。
Next, the operation will be described. The same components as those in the first embodiment operate in the same manner as in the first embodiment, and thus the description thereof will be omitted.

【0084】マーク率検出回路21は、入力ディジタル
信号SINを積分することにより、その平均電圧からマー
ク率Mを検出する。そして、補正回路22はそのマーク
率Mに基づいて、直流電圧VD を補正して補正直流電圧
DRを出力する。より具体的には、マーク率Mが高い
と、入力ディジタル信号SINの論理“1”のビットが多
いことから、図6(b)又は(c)の振幅Aが小さくな
るように変動する。この時には、直流電圧VD が正しい
値よりも小さくなるので、補正回路22を構成するAG
Cの増幅率を上げるように補正する。また、マーク率M
が低いと、振幅Aが大きくなるように変動するので、直
流電圧VD が正しい値よりも大きくなる。よって、補正
回路22を構成するAGCの増幅率を下げるように補正
する。
The mark ratio detection circuit 21 detects the mark ratio M from the average voltage by integrating the input digital signal S IN . Then, the correction circuit 22 corrects the DC voltage V D based on the mark ratio M and outputs the corrected DC voltage V DR . More specifically, when the mark ratio M is high, the number of logic "1" bits of the input digital signal S IN is large, so that the amplitude A of FIG. 6B or 6C fluctuates to be small. At this time, the DC voltage V D becomes smaller than the correct value, so that the AG forming the correction circuit 22 is configured.
Correct so as to increase the amplification factor of C. Also, the mark rate M
Is low, the amplitude A fluctuates so as to become large, and therefore the DC voltage V D becomes larger than a correct value. Therefore, the correction is performed so that the amplification factor of the AGC forming the correction circuit 22 is lowered.

【0085】その後、電圧比較回路16において、補正
直流電圧VDRと基準電圧VS が比較されることから、マ
ーク率Mに起因する変動が補正された比較信号SC が出
力され、これに基づいてバイアス電流Ib が制御され
る。
After that, the voltage comparison circuit 16 compares the corrected DC voltage V DR with the reference voltage V S, so that the comparison signal S C in which the variation caused by the mark ratio M is corrected is output. The bias current I b is controlled by the control.

【0086】以上の第2実施例によれば、第1実施例の
効果に加えて、マーク率Mの変動により直流電圧VD
変動してもそれを補正することができ、より正確にバイ
アス電流を所望の値に制御することができる。
According to the second embodiment described above, in addition to the effect of the first embodiment, even if the DC voltage V D fluctuates due to the fluctuation of the mark ratio M, it can be corrected and the bias can be more accurately. The current can be controlled to the desired value.

【0087】なお、上述の第2実施例においては、マー
ク率として所定期間における入力ディジタル信号SIN
うち、論理“1”を示すビットの数を当該所定期間の全
ビット数で除したものを用いたが、これに限られるもの
ではなく、所定期間における入力ディジタル信号SIN
うち、論理“0”を示すビットの数を当該所定期間の全
ビット数で除したものを用いてもよい。
In the above-described second embodiment, the mark ratio obtained by dividing the number of bits indicating the logic "1" in the input digital signal S IN in a predetermined period by the total number of bits in the predetermined period. However, the present invention is not limited to this, and the input digital signal S IN in the predetermined period may be divided by the total number of bits in the predetermined period by the number of bits indicating logic “0”.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1又は4に
記載の発明によれば、半導体レーザの動作電圧から、バ
イアス電流の変化に対応して変化する微分抵抗値を検出
し、これと所定の基準抵抗値とを比較して、当該微分抵
抗値の値が基準抵抗値と等しくなるようにバイアス電流
が制御される。
As described above, according to the invention described in claim 1 or 4, the differential resistance value which changes corresponding to the change of the bias current is detected from the operating voltage of the semiconductor laser, and The bias current is controlled so that the value of the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value by comparing with a predetermined reference resistance value.

【0089】したがって、動作温度の変化又は半導体レ
ーザの劣化等によりしきい値電流が変化しても、他の装
置を必要とせず信号処理のみによって、バイアス電流を
常にしきい値電流と等しくするか、又は、当該しきい値
電流より少ない値であって、当該しきい値電流から設計
上許容される半導体レーザの発振遅延時間に対応する所
定の範囲内にすることができ、さらに回路全体を集積回
路化可能なことから、高速応答可能な半導体レーザが小
型、かつ、安価に得られる。
Therefore, even if the threshold current changes due to a change in operating temperature or deterioration of the semiconductor laser, the bias current is always made equal to the threshold current only by signal processing without the need for any other device. Or a value smaller than the threshold current and within a predetermined range corresponding to the oscillation delay time of the semiconductor laser allowed by the design from the threshold current, and further the entire circuit is integrated. Since the circuit can be formed, a semiconductor laser capable of high-speed response can be obtained in a small size and at a low cost.

【0090】請求項2又は5に記載の発明によれば、請
求項1又は4に記載の発明の効果に加えて、微小交流電
流を動作電流に重畳し、その電圧の変化から微小交流電
流に対応する微小交流電圧を抽出し、その振幅に基づい
て得られる微分抵抗値に比例する直流電圧と基準抵抗値
に対応する基準電圧とを比較するようにしたので、より
簡単な回路で高速応答可能な半導体レーザが得られる。
According to the invention described in claim 2 or 5, in addition to the effect of the invention described in claim 1 or 4, a minute alternating current is superposed on the operating current, and a change in the voltage is converted into a minute alternating current. Since a corresponding minute AC voltage is extracted and the DC voltage proportional to the differential resistance value obtained based on its amplitude is compared with the reference voltage corresponding to the reference resistance value, high-speed response is possible with a simpler circuit. It is possible to obtain various semiconductor lasers.

【0091】請求項3又は6に記載の発明によれば、請
求項2又は5に記載の発明の効果に加えて、入力ディジ
タル信号のビット比率を検出し、それに対応して微分抵
抗値に比例する直流電圧を補正するようにしたので、入
力ディジタル信号のビット比率が変動しても、安定した
直流電圧が得られ、より安定したバイアス電流の制御が
可能になる。
According to the invention of claim 3 or 6, in addition to the effect of the invention of claim 2 or 5, the bit ratio of the input digital signal is detected and proportional to the differential resistance value correspondingly. Since the DC voltage to be applied is corrected, a stable DC voltage can be obtained even if the bit ratio of the input digital signal changes, and more stable bias current control becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の基本構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of the present invention.

【図2】半導体レーザにおける電流と電圧又は微分抵抗
値との関係を示す図であり、(a)は電流−電圧特性を
示す図、(b)は電流−微分抵抗値特性を示す図であ
る。
2A and 2B are diagrams showing a relationship between a current and a voltage or a differential resistance value in a semiconductor laser, FIG. 2A is a diagram showing a current-voltage characteristic, and FIG. 2B is a diagram showing a current-differential resistance value characteristic. .

【図3】半導体レーザにおける各パラメータと時間との
関係を示す図であり、(a)は時間と電流の関係を示す
図、(b)は時間と電圧の関係を示す図、(c)は時間
と微分抵抗値の関係を示す図である。
3A and 3B are diagrams showing a relationship between each parameter and time in the semiconductor laser, FIG. 3A is a view showing a relationship between time and current, FIG. 3B is a view showing a relationship between time and voltage, and FIG. It is a figure which shows the relationship between time and a differential resistance value.

【図4】本発明の第1実施例の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2実施例の構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a second exemplary embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1及び第2実施例における各部の波
形を示す図であり、(a)は時間と動作電流ID の関係
を示す図であり、(b)は時間と動作電圧Vの関係を示
す図であり、(c)は時間と出力電圧V1 の関係を示す
図である。
FIG. 6 is a diagram showing a waveform of each part in the first and second embodiments of the present invention, (a) is a diagram showing a relationship between time and an operating current I D , and (b) is a time and an operating voltage. is a diagram showing the relationship and V, is a diagram showing a (c) the time and the output voltages V 1 relationship.

【図7】第1の従来技術の構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a first conventional technique.

【図8】第2の従来技術の構成を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a second conventional technique.

【図9】第3の従来技術の構成を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a third conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、100…半導体レーザ 2…駆動手段 3…バイアス手段 4…微分抵抗値検出手段 5…比較手段 6…バイアス電流制御手段 7、103…ヒートシンク 10…第1実施例の半導体レーザバイアス電流制御回路 11…駆動回路 12…バイアス回路 13…微小交流電流供給回路 14…電圧測定回路 15…微小交流電圧抽出回路 16…電圧比較回路 17…バイアス電流制御回路 20…第2実施例の半導体レーザバイアス電流制御回路 21…マーク率検出回路 22…補正回路 101…駆動回路 102…ペルチェ素子 104…温度センサ 105…温度制御回路 106…温度モニタ回路 107…光検出器 108…光出力検出回路 ID …動作電流 Id …駆動電流 Ib …バイアス電流 L…レーザ光 M…マーク率 Rd …微分抵抗値 RF …基準抵抗値 SIN…入力ディジタル信号 SB …バイアス制御信号 SC …比較信号 SS …センサ信号 SL …検出器出力 V1 …出力電圧 VD …直流電圧 VDR…補正直流電圧 VS …基準電圧1, 100 ... Semiconductor laser 2 ... Driving means 3 ... Bias means 4 ... Differential resistance value detection means 5 ... Comparison means 6 ... Bias current control means 7, 103 ... Heat sink 10 ... Semiconductor laser bias current control circuit 11 of the first embodiment Drive circuit 12 Bias circuit 13 Micro AC current supply circuit 14 Voltage measurement circuit 15 Micro AC voltage extraction circuit 16 Voltage comparison circuit 17 Bias current control circuit 20 Semiconductor laser bias current control circuit of the second embodiment 21 ... Mark ratio detection circuit 22 ... Correction circuit 101 ... Driving circuit 102 ... Peltier element 104 ... Temperature sensor 105 ... Temperature control circuit 106 ... Temperature monitor circuit 107 ... Photodetector 108 ... Optical output detection circuit ID ... Operating current Id Drive current I b Bias current L Laser light M Mark ratio R d Differential resistance R F Reference resistance S IN Input input Digital signal S B ... bias control signal S C ... comparison signal S S ... sensor signal S L ... detector output V 1 ... output voltage V D ... DC voltage V DR ... correction DC voltage V S ... reference voltage

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 入力ディジタル信号に対応する駆動電流
にバイアス電流を重畳することにより得られ、かつ、半
導体レーザに供給される動作電流に基づいて変化する前
記半導体レーザの微分抵抗値を検出し、出力する微分抵
抗値検出工程と、 検出された前記微分抵抗値と、所定の動作環境における
前記半導体レーザのしきい値電流に対応して予め設定さ
れた所定の基準抵抗値と、を比較して、比較信号を出力
する比較工程と、 前記比較信号に基づき、前記微分抵抗値が前記基準抵抗
値と等しくなるように前記バイアス電流を制御するバイ
アス電流制御工程と、 を備えたことを特徴とする半導体レーザ制御方法。
1. A differential resistance value of the semiconductor laser, which is obtained by superimposing a bias current on a drive current corresponding to an input digital signal and changes based on an operating current supplied to the semiconductor laser, The differential resistance value detecting step of outputting, and comparing the detected differential resistance value with a predetermined reference resistance value preset corresponding to the threshold current of the semiconductor laser in a predetermined operating environment, A comparison step of outputting a comparison signal, and a bias current control step of controlling the bias current so that the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value based on the comparison signal. Semiconductor laser control method.
【請求項2】 請求項1に記載の半導体レーザ制御方法
であって、 前記微分抵抗値検出工程は、前記入力ディジタル信号の
ビットレートに比して十分に低い一定の周波数を持ち、
前記入力ディジタル信号電流に比して十分に小さい一定
の電流振幅値を持つ微小交流電流を前記動作電流に重畳
する微小交流電流供給工程と、 前記半導体レーザに印加される電圧を測定する電圧測定
工程と、 前記測定した電圧から、前記微小交流電流に対応する微
小交流電圧を抽出し、当該微小交流電圧を、その振幅に
基づいて前記微分抵抗値に比例する直流電圧に変換し出
力する微小交流電圧抽出工程と、 を備えて構成され、 前記比較工程は、前記基準抵抗値に対応する基準電圧と
前記直流電圧とを比較して比較信号を出力する電圧比較
工程であることを特徴とする半導体レーザ制御方法。
2. The semiconductor laser control method according to claim 1, wherein the differential resistance value detecting step has a constant frequency sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal,
Micro AC current supply step of superimposing a micro AC current having a constant current amplitude value which is sufficiently smaller than the input digital signal current on the operating current, and voltage measurement step of measuring a voltage applied to the semiconductor laser. And, from the measured voltage, a minute AC voltage corresponding to the minute AC current is extracted, and the minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on the amplitude, and the minute AC voltage is output. An extraction step, and the comparison step is a voltage comparison step of comparing a reference voltage corresponding to the reference resistance value with the DC voltage and outputting a comparison signal. Control method.
【請求項3】 請求項1に記載の半導体レーザ制御方法
であって、 前記微分抵抗値検出工程は、前記入力ディジタル信号の
ビットレートに比して十分に低い一定の周波数を持ち、
前記入力ディジタル信号電流に比して十分に小さい一定
の電流振幅値を持つ微小交流電流を前記動作電流に重畳
する微小交流電流供給工程と、 前記半導体レーザに印加される電圧を測定する電圧測定
工程と、 前記測定した電圧から、前記微小交流電流に対応する微
小交流電圧を抽出し、当該微小交流電圧を、その振幅に
基づいて前記微分抵抗値に比例する直流電圧に変換し出
力する微小交流電圧抽出工程と、 前記入力ディジタル信号の所定期間の一方の論理のビッ
ト数を前記所定期間内の全ビット数で除したビット比率
を検出するビット比率検出工程と、 前記ビット比率の変化に基づいて前記直流電圧を補正
し、補正直流電圧を出力する補正工程と、 を備えて構成され、 前記比較工程は、前記基準抵抗値に対応する基準電圧と
前記補正直流電圧とを比較して比較信号を出力する電圧
比較工程であることを特徴とする半導体レーザ制御方
法。
3. The semiconductor laser control method according to claim 1, wherein the differential resistance value detecting step has a constant frequency sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal,
Micro AC current supply step of superimposing a micro AC current having a constant current amplitude value which is sufficiently smaller than the input digital signal current on the operating current, and voltage measurement step of measuring a voltage applied to the semiconductor laser. And, from the measured voltage, a minute AC voltage corresponding to the minute AC current is extracted, and the minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on the amplitude, and the minute AC voltage is output. An extraction step; a bit ratio detection step of detecting a bit ratio obtained by dividing the number of bits of one logic of a predetermined period of the input digital signal by the total number of bits within the predetermined period; And a correction step of correcting the DC voltage and outputting the corrected DC voltage, wherein the comparing step includes a reference voltage corresponding to the reference resistance value and the correction direct voltage. The semiconductor laser control method, which is a voltage comparison step for outputting a comparison signal by comparing the voltage.
【請求項4】 入力ディジタル信号に対応する駆動電流
を生成し、出力する駆動手段と、 バイアス電流制御信号に基づきバイアス電流を生成し、
出力するバイアス手段と、 前記駆動電流に前記バイアス電流を重畳することにより
得られ、かつ、前記半導体レーザに供給される動作電流
に基づき変化する前記半導体レーザの微分抵抗値を検出
し、出力する微分抵抗値検出手段と、 検出された前記微分抵抗値と、所定の動作環境における
前記半導体レーザのしきい値電流に対応して予め設定さ
れた所定の基準抵抗値と、を比較して、比較信号を出力
する比較手段と、 前記比較信号に基づき、前記微分抵抗値が前記基準抵抗
値と等しくなるように前記バイアス電流を制御する前記
バイアス電流制御信号を出力するバイアス電流制御手段
と、 を備えたことを特徴とする半導体レーザ制御装置。
4. A drive means for generating and outputting a drive current corresponding to an input digital signal, and a bias current based on a bias current control signal,
A bias means for outputting, and a differential resistance that is obtained by superimposing the bias current on the drive current and that detects and outputs a differential resistance value of the semiconductor laser that changes based on an operating current supplied to the semiconductor laser. A resistance value detecting means compares the detected differential resistance value with a predetermined reference resistance value set in advance corresponding to the threshold current of the semiconductor laser in a predetermined operating environment, and a comparison signal And a bias current control unit that outputs the bias current control signal that controls the bias current so that the differential resistance value becomes equal to the reference resistance value, based on the comparison signal. A semiconductor laser control device characterized by the above.
【請求項5】 請求項4に記載の半導体レーザ制御装置
であって、 前記微分抵抗値検出手段は、前記入力ディジタル信号の
ビットレートに比して十分に低い一定の周波数を持ち、
前記入力ディジタル信号電流に比して十分に小さい一定
の電流振幅値を持つ微小交流電流を前記動作電流に重畳
する微小交流電流供給手段と、 前記半導体レーザに印加される電圧を測定する電圧測定
手段と、 前記測定した電圧から、前記微小交流電流に対応する微
小交流電圧を抽出し、当該微小交流電圧を、その振幅に
基づいて前記微分抵抗値に比例する直流電圧に変換し出
力する微小交流電圧抽出手段と、 を備えて構成され、 前記比較手段は、前記直流電圧と前記基準抵抗値に対応
する基準電圧とを比較して比較信号を出力する電圧比較
手段であることを特徴とする半導体レーザ制御装置。
5. The semiconductor laser control device according to claim 4, wherein the differential resistance value detecting means has a constant frequency sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal,
A minute alternating current supply means for superimposing a minute alternating current having a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current on the operating current, and a voltage measuring means for measuring the voltage applied to the semiconductor laser. And, from the measured voltage, a minute AC voltage corresponding to the minute AC current is extracted, and the minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on the amplitude, and the minute AC voltage is output. Extraction means, and the comparison means is a voltage comparison means for comparing the DC voltage with a reference voltage corresponding to the reference resistance value and outputting a comparison signal. Control device.
【請求項6】 請求項4に記載の半導体レーザ制御装置
であって、 前記微分抵抗値検出手段は、前記入力ディジタル信号の
ビットレートに比して十分に低い一定の周波数を持ち、
前記入力ディジタル信号電流に比して十分に小さい一定
の電流振幅値を持つ微小交流電流を前記動作電流に重畳
する微小交流電流供給手段と、 前記半導体レーザに印加される電圧を測定する電圧測定
手段と、 前記測定した電圧から、前記微小交流電流に対応する微
小交流電圧を抽出し、当該微小交流電圧を、その振幅に
基づいて前記微分抵抗値に比例する直流電圧に変換し出
力する微小交流電圧抽出手段と、 前記入力ディジタル信号の所定期間の一方の論理のビッ
ト数を前記所定期間内の全ビット数で除したビット比率
を検出するビット比率検出手段と、 前記ビット比率の変化に基づいて前記直流電圧を補正
し、補正直流電圧を出力する補正手段と、 を備えて構成され、 前記比較手段は、前記補正直流電圧と前記基準抵抗値に
対応する基準電圧とを比較して比較信号を出力する電圧
比較手段であることを特徴とする半導体レーザ制御装
置。
6. The semiconductor laser control device according to claim 4, wherein the differential resistance value detection means has a constant frequency sufficiently lower than a bit rate of the input digital signal,
A minute alternating current supply means for superimposing a minute alternating current having a constant current amplitude value that is sufficiently smaller than the input digital signal current on the operating current, and a voltage measuring means for measuring the voltage applied to the semiconductor laser. And, from the measured voltage, a minute AC voltage corresponding to the minute AC current is extracted, and the minute AC voltage is converted into a DC voltage proportional to the differential resistance value based on the amplitude, and the minute AC voltage is output. Extracting means, bit ratio detecting means for detecting a bit ratio obtained by dividing the number of bits of one logic in a predetermined period of the input digital signal by the total number of bits in the predetermined period, and the bit ratio detecting device based on a change in the bit ratio. Compensating means for compensating the DC voltage and outputting the compensating DC voltage, and the comparing means is a base corresponding to the compensating DC voltage and the reference resistance value. The semiconductor laser control apparatus which is a voltage comparator for outputting a comparison signal by comparing the voltage.
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