JP3359618B2 - Semiconductor integrated circuit and power supply circuit with delay time correction function - Google Patents

Semiconductor integrated circuit and power supply circuit with delay time correction function

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、遅延時間補正機能を備
えた半導体集積回路及び電源回路に関するものである。
The present invention has a delay time correction function.
And a power supply circuit .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置の1つであるダイナミッ
クランダムアクセスメモリ(DRAM)の内部では、外
部から供給される電源電圧のレベルVCC以外に、内部降
圧レベルVint 、ワード線昇圧レベルVPP、ビット線プ
リチャージレベルVpr、基板バイアスレベルVBB等の種
々の電圧レベルが、信頼性の確保や低消費電流化のため
に必要になる。16MビットDRAMの場合、例えばV
CC=5V(接地電位VSS=0Vを基準とする。)に対し
て、Vint =3.3V、VPP=4.5V、Vpr=1.6
5V、VBB=−2V程度である。
2. Description of the Related Art In a dynamic random access memory (DRAM), which is one of the semiconductor memory devices, an internal step-down level Vint, a word line boost level VPP, and a bit line are used in addition to a power supply voltage level VCC externally supplied. Various voltage levels, such as a precharge level Vpr and a substrate bias level VBB, are required to ensure reliability and reduce current consumption. In the case of a 16 Mbit DRAM, for example, V
With respect to CC = 5V (based on the ground potential VSS = 0V), Vint = 3.3V, VPP = 4.5V, Vpr = 1.6.
5V, VBB = about -2V.

【0003】従来これらの電圧レベルを得るためには、
特開昭63−244217号公報にあるようなMOSF
ET(電界効果型MOSトランジスタ)を用いた電源電
圧変換回路を使用していた。
Conventionally, to obtain these voltage levels,
MOSF as disclosed in JP-A-63-244217
A power supply voltage conversion circuit using an ET (field effect MOS transistor) has been used.

【0004】さて、DRAM等の半導体集積回路におい
て複数の回路ブロックを同期動作させる場合、回路ブロ
ック間のタイミング調整に各種の遅延回路が使用され
る。DRAMの場合について具体的に説明すると、例え
ばその周辺回路中に、ワード線を介してメモリセルを選
択するためのロウデコーダと、該ロウデコーダにより選
択されたメモリセルからビット線上に読み出される微小
電位を増幅するようにセンスアンプを活性化させるタイ
ミングを調整するためのタイミング回路とが設けられ
る。タイミング回路により、センスアンプの活性化をロ
ウデコーダによるワード線の選択より遅らせるのであ
る。このタイミング回路は、各々2個のMOSFETの
みで構成された複数段のインバータからなる通常のイン
バータチェインで構成できる。ただし、このような単純
な構成のタイミング回路では、その遅延時間が大きな温
度依存性を持つ。
When a plurality of circuit blocks are operated synchronously in a semiconductor integrated circuit such as a DRAM, various delay circuits are used for adjusting the timing between the circuit blocks. Specifically, the case of a DRAM will be described. For example, a row decoder for selecting a memory cell via a word line and a minute potential read out from the memory cell selected by the row decoder onto a bit line are provided in its peripheral circuit. And a timing circuit for adjusting the timing of activating the sense amplifier so as to amplify the signal. The timing circuit delays the activation of the sense amplifier from the selection of the word line by the row decoder. This timing circuit can be constituted by a normal inverter chain comprising a plurality of stages of inverters each constituted by only two MOSFETs. However, in such a simple timing circuit, the delay time has a large temperature dependency.

【0005】そこで、遅延時間の温度依存性を低減する
ように、抵抗素子とコンデンサ素子とで決定される時定
数を利用したCR遅延回路が考案された。その例とし
て、特開昭63−312715号公報に記載されたCR
遅延回路や、渡辺陽二らによる"A New CR-Delay Circui
t Technology for High-Density and High-Speed DRAM'
s (高密度かつ高速のDRAMのための新規なCR遅延
回路技術)", IEEE J. Solid-State Circuits, vol.24,
pp.905-910, 1989 に記載されたCR遅延回路を挙げる
ことができる。
To reduce the temperature dependency of the delay time, a CR delay circuit using a time constant determined by a resistor and a capacitor has been devised. As an example, a CR described in JP-A-63-327715 is disclosed.
Delay circuit and "A New CR-Delay Circui" by Yoji Watanabe
t Technology for High-Density and High-Speed DRAM '
s (New CR delay circuit technology for high-density and high-speed DRAM) ", IEEE J. Solid-State Circuits, vol. 24,
pp. 905-910, 1989.

【0006】図40は、従来のCR遅延回路を用いた半
導体集積回路の構成例を示すものである。同図の半導体
集積回路では、複数段のCR遅延回路301を周辺回路
302が備えている。CR遅延回路301において、3
03はコンパレータ回路、304はP型MOSFET、
305はN型MOSFET、P1 は入力信号、P2 は出
力信号、R1は充電抵抗素子、R2,R3は分圧抵抗素
子、Cはコンデンサ素子である。各CR遅延回路301
には、定電圧発生回路306により、外部から供給され
た電源電圧を安定化させて得られる電圧VCCが内部電源
電圧として供給されている。
FIG. 40 shows a configuration example of a semiconductor integrated circuit using a conventional CR delay circuit. In the semiconductor integrated circuit shown in the figure, a peripheral circuit 302 includes a plurality of stages of CR delay circuits 301. In the CR delay circuit 301, 3
03 is a comparator circuit, 304 is a P-type MOSFET,
305 is an N-type MOSFET, P1 is an input signal, P2 is an output signal, R1 is a charging resistor, R2 and R3 are voltage dividing resistors, and C is a capacitor. Each CR delay circuit 301
, A voltage VCC obtained by stabilizing an externally supplied power supply voltage is supplied as an internal power supply voltage by a constant voltage generation circuit 306.

【0007】この構成によれば、各CR遅延回路301
の遅延時間が抵抗素子R1〜R3とコンデンサ素子Cと
の各々の幾何学的な寸法で決まる定数にのみ依存するの
で、遅延時間の温度依存性が小さくなる。
According to this configuration, each CR delay circuit 301
Is dependent only on a constant determined by the geometric dimensions of each of the resistance elements R1 to R3 and the capacitor element C, so that the temperature dependence of the delay time is reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】前記従来の電源電圧変
換回路では、外部電源電圧レベルVCCの変動に対する出
力電圧の変動は抑制されるけれども、温度変化に起因し
てMOSFETのスレッシュホールド電圧が変動したと
きに出力電圧が変動してしまうという問題があった。
In the conventional power supply voltage conversion circuit, although the fluctuation of the output voltage with respect to the fluctuation of the external power supply voltage level VCC is suppressed, the threshold voltage of the MOSFET fluctuates due to the temperature change. There has been a problem that the output voltage sometimes fluctuates.

【0009】また、半導体集積回路の周辺回路において
遅延を要する全ての部分に前記従来のCR遅延回路を用
いることとすると、通常のインバータチェインで構成さ
れた遅延回路を用いた場合に比べて周辺回路のレイアウ
ト面積が大きくなってしまうという問題があった。
In addition, if the conventional CR delay circuit is used for all portions of the peripheral circuit of the semiconductor integrated circuit that require a delay, the peripheral circuit is compared with the case where a delay circuit composed of an ordinary inverter chain is used. However, there is a problem that the layout area becomes large.

【0010】本発明の目的は、遅延時間を自動的に補正
する機能を備えた半導体集積回路及び電源回路を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to automatically correct a delay time.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit and a power supply circuit having the function of:

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1〜9の発明は、
周辺回路と、該周辺回路の遅延時間を補正するための遅
延時間補正回路とを備えた半導体集積回路に係るもので
ある。
Means for Solving the Problems The inventions of claims 1 to 9 are:
The present invention relates to a semiconductor integrated circuit including a peripheral circuit and a delay time correction circuit for correcting a delay time of the peripheral circuit.

【0012】具体的には、請求項1の発明は、パルス信
号を遅延させるための第1の遅延回路と、前記第1の遅
延回路に供給されるパルス信号と同一のパルス信号を遅
延させるための論理回路を有し該論理回路は前記周辺回
路と同一かつ前記第1の遅延回路とは異なる遅延時間温
度依存性を有しかつ基準温度におけるパルス信号の遅延
時間が前記第1の遅延回路と一致するように設定された
第2の遅延回路と、前記第2の遅延回路及び周辺回路の
各々への安定化電源電圧の供給線として用いられる出力
線の電位を制御信号に応じて変更可能な一定値に保持す
るための定電圧発生回路と、前記第1及び第2の遅延回
路の各々の出力信号に基づき前記第2の遅延回路の遅延
時間が前記第1の遅延回路の遅延時間より大きくなった
場合には促進信号を出力しかつ前記第2の遅延回路の遅
延時間が前記第1の遅延回路の遅延時間より小さくなっ
た場合には抑制信号を出力するための遅延時間差検出回
路と、前記遅延時間差検出回路からの促進信号を受け取
る毎に前記出力線の電位を上昇させるようにかつ前記遅
延時間差検出回路からの抑制信号を受け取る毎に前記出
力線の電位を低下させるように前記定電圧発生回路への
制御信号を出力するための制御回路とを備えた遅延時間
補正回路の構成を採用したものである。
More specifically, a first aspect of the present invention is a first delay circuit for delaying a pulse signal, and a first delay circuit for delaying the same pulse signal as the pulse signal supplied to the first delay circuit. Wherein the logic circuit has the same delay time temperature dependency as the peripheral circuit but different from the first delay circuit, and the delay time of the pulse signal at a reference temperature is the same as that of the first delay circuit. The potential of the second delay circuit set to match and the potential of the output line used as the supply line of the stabilized power supply voltage to each of the second delay circuit and the peripheral circuit can be changed according to the control signal. A constant voltage generating circuit for holding a constant value; and a delay time of the second delay circuit being longer than a delay time of the first delay circuit based on respective output signals of the first and second delay circuits. A promotion signal if it becomes And a delay time difference detecting circuit for outputting a suppression signal when the delay time of the second delay circuit is smaller than the delay time of the first delay circuit. A control signal is output to the constant voltage generation circuit so as to increase the potential of the output line each time a signal is received and to decrease the potential of the output line each time a suppression signal is received from the delay time difference detection circuit. And a control circuit for controlling the delay time.

【0013】請求項2の発明では、前記遅延時間補正回
路は、前記第1及び第2の遅延回路に共通のパルス信号
を供給するためのパルス発生回路を更に備えた構成を採
用することとした。
According to a second aspect of the present invention, the delay time correction circuit employs a configuration further including a pulse generation circuit for supplying a common pulse signal to the first and second delay circuits. .

【0014】請求項3の発明では、前記遅延時間差検出
回路は、第1及び第2の検出信号を前記促進信号及び抑
制信号として出力するための回路を備えることとし、前
記第1及び第2の検出信号は、各々同一時刻に遷移する
パルスを有しかつ前記第2の遅延回路の遅延時間が前記
第1の遅延回路の遅延時間より大きい場合には前記第2
の検出信号のパルス幅が前記第1の検出信号のパルス幅
より大きくされ、前記第2の遅延回路の遅延時間が前記
第1の遅延回路の遅延時間より小さい場合には前記第2
の検出信号のパルス幅が前記第1の検出信号のパルス幅
より小さくされることとした。
According to a third aspect of the present invention, the delay time difference detection circuit includes a circuit for outputting first and second detection signals as the promotion signal and the suppression signal. The detection signal has a pulse which transits at the same time, and the second signal is transmitted when the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit.
If the pulse width of the detection signal is larger than the pulse width of the first detection signal, and the delay time of the second delay circuit is smaller than the delay time of the first delay circuit,
Is determined to be smaller than the pulse width of the first detection signal.

【0015】請求項4の発明では、前記制御回路は、複
数の論理信号を前記制御信号として出力するための回路
を備えることとし、前記複数の論理信号のうち所定の論
理レベルを有する論理信号の数は、前記遅延時間差検出
回路から出力される第1及び第2の検出信号のパルス幅
の差に応じて変更されることとした。
According to a fourth aspect of the present invention, the control circuit includes a circuit for outputting a plurality of logic signals as the control signal, and the control circuit outputs a logic signal having a predetermined logic level among the plurality of logic signals. The number is changed according to the difference between the pulse widths of the first and second detection signals output from the delay time difference detection circuit.

【0016】請求項5の発明では、前記第2の遅延回路
は、基準温度における遅延時間が前記第1の遅延回路の
出力信号と一致するように設定された基準信号に対して
遅れ位相を有する第1の出力信号と前記基準信号に対し
て進み位相を有する第2の出力信号とを各々出力するた
めの回路を備えることとした。しかも、前記遅延時間差
検出回路は、前記第1の遅延回路の出力信号の入力タイ
ミングに対する前記第2の遅延回路の第1及び第2の出
力信号の入力タイミングに応じて前記第1の遅延回路の
遅延時間と前記第2の遅延回路の遅延時間との差の有無
を示す第1の検出信号と前記第1及び第2の遅延回路の
うちのいずれの遅延時間が大きいかを示す第2の検出信
号とを前記促進信号及び抑制信号として出力するための
回路を備え、前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1
の遅延回路の遅延時間より大きい場合には遅延時間差の
存在を示す第1の検出信号と第1の論理レベルを有する
第2の検出信号とが、前記第2の遅延回路の遅延時間が
前記第1の遅延回路の遅延時間より小さい場合には遅延
時間差の存在を示す第1の検出信号と第2の論理レベル
を有する第2の検出信号とが各々前記遅延時間差検出回
路から出力されることとした。
According to a fifth aspect of the present invention, the second delay circuit has a delay phase with respect to a reference signal whose delay time at a reference temperature is set to coincide with an output signal of the first delay circuit. A circuit is provided for outputting a first output signal and a second output signal having a phase advanced with respect to the reference signal. In addition, the delay time difference detection circuit is configured to control the first delay circuit in accordance with the input timing of the first and second output signals of the second delay circuit with respect to the input timing of the output signal of the first delay circuit. A first detection signal indicating whether there is a difference between the delay time and the delay time of the second delay circuit, and a second detection indicating which one of the first and second delay circuits has a longer delay time. And a circuit for outputting a signal as the promotion signal and the suppression signal, wherein the delay time of the second delay circuit is the first
When the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the second delay circuit, the first detection signal indicating the existence of the delay time difference and the second detection signal having the first logic level are different from each other. When the delay time is smaller than the delay time of the first delay circuit, a first detection signal indicating the existence of a delay time difference and a second detection signal having a second logic level are output from the delay time difference detection circuit. did.

【0017】請求項6の発明では、前記遅延時間差検出
回路は、前記第1の遅延回路の出力信号と前記第2の遅
延回路の第1及び第2の出力信号とを各々入力信号とす
る論理和回路と、前記論理和回路の出力信号をラッチす
ることにより前記第1の検出信号を出力するための第1
のラッチ回路と、前記第1のラッチ回路からの第1の検
出信号の出力タイミングで前記第1の遅延回路の出力信
号をラッチすることにより前記第2の検出信号を出力す
るための第2のラッチ回路とを備えることとした。
According to a sixth aspect of the present invention, the delay time difference detection circuit has a logic that uses the output signal of the first delay circuit and the first and second output signals of the second delay circuit as input signals. An OR circuit, and a first signal for outputting the first detection signal by latching an output signal of the OR circuit.
And a second circuit for outputting the second detection signal by latching an output signal of the first delay circuit at an output timing of a first detection signal from the first latch circuit. And a latch circuit.

【0018】請求項7の発明では、前記遅延時間差検出
回路は、前記第1の遅延回路の出力信号の入力タイミン
グに対する前記第2の遅延回路の出力信号の入力タイミ
ングに応じて前記第1及び第2の遅延回路のうちのいず
れの遅延時間が大きいかを示す第1の検出信号と前記第
1の遅延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の遅延時
間との差の有無を示す第2の検出信号とを前記促進信号
及び抑制信号として出力するための回路を備え、前記第
2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路の遅延時
間より大きい場合には第1の論理レベルを有する第1の
検出信号と遅延時間差の存在を示す第2の検出信号と
が、前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回
路の遅延時間より小さい場合には第2の論理レベルを有
する第1の検出信号と遅延時間差の存在を示す第2の検
出信号とが各々前記遅延時間差検出回路から出力される
こととした。
According to a seventh aspect of the present invention, the delay time difference detection circuit includes a first delay circuit and a second delay circuit. A first detection signal indicating which one of the two delay circuits is longer, and a second detection signal indicating whether there is a difference between the delay time of the first delay circuit and the delay time of the second delay circuit. And a circuit for outputting the detection signal as the promotion signal and the suppression signal, and when the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit, the first logic level is changed. When the first detection signal and the second detection signal indicating the presence of the delay time difference have a delay time of the second delay circuit smaller than the delay time of the first delay circuit, the second logic level A first detection signal having It was that a second detection signal indicative of the presence of a delay time difference are respectively outputted from the delay time difference detecting circuit.

【0019】請求項8の発明では、前記遅延時間差検出
回路は、前記第1及び第2の遅延回路の各々の出力信号
の電位差を増幅することにより前記第1の検出信号を出
力するためのフリップフロップと、前記第1及び第2の
遅延回路の各々の出力信号のうちのいずれか一方の遷移
によりトリガされて一定パルス幅を有する前記第2の検
出信号を出力するための単安定マルチバイブレータとを
備えた構成を採用することとした。
In the invention of claim 8, the delay time difference detection circuit outputs the first detection signal by amplifying a potential difference between output signals of the first and second delay circuits. A monostable multivibrator for outputting the second detection signal having a constant pulse width triggered by a transition of one of the output signals of the first and second delay circuits; and It was decided to adopt a configuration provided with.

【0020】請求項9の発明では、前記周辺回路は、ワ
ード線を介してメモリセルを選択するためのロウデコー
ダを備えることとし、前記定電圧発生回路の出力線は、
前記第2の遅延回路及びロウデコーダの各々への電源電
圧供給線として用いられることとした。
According to a ninth aspect of the present invention, the peripheral circuit includes a row decoder for selecting a memory cell via a word line, and the output line of the constant voltage generation circuit is
It is used as a power supply voltage supply line to each of the second delay circuit and the row decoder.

【0021】請求項10〜13の発明は、半導体基板上
の各々論理回路で構成された複数の回路ブロックに共通
の電源として用いられる安定化出力電圧としての出力線
の電位を温度上昇に応じて上げることにより前記複数の
回路ブロックの各々の遅延時間を一定に保つことができ
るように構成された半導体集積回路に関するものであ
る。
According to a tenth aspect of the present invention, the potential of an output line as a stabilized output voltage used as a common power supply for a plurality of circuit blocks each constituted by a logic circuit on a semiconductor substrate in response to a temperature rise. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit configured so that the delay time of each of the plurality of circuit blocks can be kept constant by increasing the delay time.

【0022】具体的には、請求項10の発明は、パルス
信号の遅延時間の温度依存性が小さい第1の遅延回路
と、基準温度におけるパルス信号の遅延時間が前記第1
の遅延回路と一致するように設定された温度モニタとし
ての論理回路を有する第2の遅延回路と、前記第1の遅
延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の遅延時間との
差に応じて前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の
遅延回路の遅延時間より大きくなった場合には促進信号
を出力しかつ前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1
の遅延回路の遅延時間より小さくなった場合には抑制信
号を出力するための遅延時間差検出回路と、前記遅延時
間差検出回路からの促進信号を受け取る毎に前記出力線
の電位を上昇させかつ前記遅延時間差検出回路からの抑
制信号を受け取る毎に前記出力線の電位を低下させるた
めの定電圧発生回路とを備え、前記定電圧発生回路から
の前記出力線上の安定化出力電圧は前記第2の遅延回路
へ電源として供給された構成を採用したものである。
More specifically, the invention according to claim 10 is the first delay circuit in which the delay time of the pulse signal has a small temperature dependency, and the delay time of the pulse signal at a reference temperature is the first delay circuit.
A second delay circuit having a logic circuit as a temperature monitor set so as to coincide with the delay circuit of the first and second delay circuits according to a difference between a delay time of the first delay circuit and a delay time of the second delay circuit. If the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit, a promotion signal is output and the delay time of the second delay circuit is equal to the first delay circuit.
A delay time difference detection circuit for outputting a suppression signal when the delay time becomes smaller than the delay time of the delay circuit, and increasing the potential of the output line each time a promotion signal is received from the delay time difference detection circuit, and A constant voltage generation circuit for lowering the potential of the output line each time a suppression signal is received from the time difference detection circuit, wherein the stabilized output voltage on the output line from the constant voltage generation circuit is the second delay This adopts a configuration supplied as power to the circuit.

【0023】請求項11の発明では、前記第1の遅延回
路、第2の遅延回路及び遅延時間差検出回路は前記半導
体基板上に各々1個配置され、前記定電圧発生回路は前
記複数の回路ブロックの各々に近接するように前記半導
体基板上に分散して複数配置されることとし、前記複数
の定電圧発生回路の各々と前記遅延時間差検出回路との
間にそれぞれ前記促進信号及び抑制信号を伝送するため
の2本の信号線を設けることとした。
According to the eleventh aspect of the present invention, the first delay circuit, the second delay circuit, and the delay time difference detection circuit are each disposed on the semiconductor substrate one by one, and the constant voltage generation circuit is connected to the plurality of circuit blocks. Are arranged on the semiconductor substrate so as to be close to each other, and the promotion signal and the suppression signal are respectively transmitted between each of the plurality of constant voltage generation circuits and the delay time difference detection circuit. In this case, two signal lines are provided.

【0024】請求項12の発明では、前記第1及び第2
の遅延回路は前記半導体基板上のほぼ中央に配置される
こととした。
In the twelfth aspect of the present invention, the first and the second
Is arranged substantially at the center of the semiconductor substrate.

【0025】請求項13の発明では、前記第1及び第2
の遅延回路は前記半導体基板上の発熱中心の近傍に配置
されることとした。
According to a thirteenth aspect of the present invention, the first and the second
The delay circuit is disposed near the heat generation center on the semiconductor substrate.

【0026】[0026]

【0027】[0027]

【0028】[0028]

【0029】[0029]

【0030】[0030]

【0031】請求項1416の発明、論理回路の電
源として用いられる安定化出力電圧としての出力線の電
位を温度上昇に応じて上げることにより前記論理回路の
遅延時間を一定に保つための電源回路に係るものであ
る。
The invention of claim 14-16, for keeping constant the delay time of the logic circuit by bring in accordance with the potential of the output line as a regulated output voltage used as a power source of the logic circuit to the temperature rise It relates to a power supply circuit.

【0032】具体的には、請求項14の発明は、パルス
信号の遅延時間の温度依存性が小さい第1の遅延回路
と、基準温度におけるパルス信号の遅延時間が前記第1
の遅延回路と一致するように設定された温度モニタとし
ての論理回路を有する第2の遅延回路と、前記第1の遅
延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の遅延時間との
差を検出するための遅延時間差検出回路と、前記第2の
遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路の遅延時間よ
り大きくなった場合には前記出力線の電位を上昇させか
つ前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路
の遅延時間より小さくなった場合には前記出力線の電位
を低下させるように前記遅延時間差検出回路の出力に応
じて前記出力線の電位を変更するための定電圧発生回路
とを備え、前記定電圧発生回路からの前記出力線上の安
定化出力電圧は前記第2の遅延回路へ電源として供給さ
れる構成を採用したものである。
Specifically, the invention of claim 14 is the first delay circuit in which the delay time of the pulse signal has a small temperature dependency, and the delay time of the pulse signal at the reference temperature is the first delay circuit.
A second delay circuit having a logic circuit as a temperature monitor set so as to match the delay circuit of the first embodiment, and detecting a difference between a delay time of the first delay circuit and a delay time of the second delay circuit And a delay time difference detecting circuit for increasing the potential of the output line when the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit. For changing the potential of the output line according to the output of the delay time difference detection circuit so as to lower the potential of the output line when the delay time of the first delay circuit becomes shorter than the delay time of the first delay circuit. A constant voltage generating circuit, wherein the stabilized output voltage on the output line from the constant voltage generating circuit is supplied as power to the second delay circuit.

【0033】請求項15の発明では、前記第1の遅延回
路は、抵抗素子とコンデンサ素子とで決定される時定数
を利用するように構成されることとした。
According to a fifteenth aspect of the present invention, the first delay circuit is configured to use a time constant determined by a resistance element and a capacitor element.

【0034】請求項16の発明では、前記遅延時間差検
出回路は、前記第1の遅延回路の遅延時間と前記第2の
遅延回路の遅延時間との差に応じて前記第2の遅延回路
の遅延時間が前記第1の遅延回路の遅延時間より大きく
なった場合には促進信号を出力しかつ前記第2の遅延回
路の遅延時間が前記第1の遅延回路の遅延時間より小さ
くなった場合には抑制信号を出力する機能を有し、前記
定電圧発生回路は、前記遅延時間差検出回路からの促進
信号を受け取る毎に前記出力線の電位を上昇させかつ前
記遅延時間差検出回路からの抑制信号を受け取る毎に前
記出力線の電位を低下させる機能を有することとした。
According to a sixteenth aspect of the present invention, the delay time difference detection circuit is configured to delay the second delay circuit according to a difference between a delay time of the first delay circuit and a delay time of the second delay circuit. When the time is longer than the delay time of the first delay circuit, a promotion signal is output. When the delay time of the second delay circuit is shorter than the delay time of the first delay circuit, A function of outputting a suppression signal, wherein the constant voltage generation circuit raises the potential of the output line each time it receives a promotion signal from the delay time difference detection circuit and receives a suppression signal from the delay time difference detection circuit It has a function of reducing the potential of the output line each time.

【0035】[0035]

【作用】請求項1の発明に係る半導体集積回路では、第
1の遅延回路の遅延時間と第2の遅延回路の遅延時間と
の差を解消するように定電圧発生回路の出力線電圧を制
御することにより、該出力線電圧を電源とした遅延回路
等を含む周辺回路の遅延時間が補正される。つまり、通
常のインバータチェインで構成された遅延回路を周辺回
路に用いてもその遅延時間の温度依存性が補正される結
果、前記従来のCR遅延回路を用いる場合に比べて周辺
回路のレイアウト面積が低減される。また、請求項2の
発明によれば、遅延時間差の検出のための特別なパルス
信号を半導体集積回路の外部から供給する必要がない。
In the semiconductor integrated circuit according to the first aspect of the present invention, the output line voltage of the constant voltage generation circuit is controlled so as to eliminate the difference between the delay time of the first delay circuit and the delay time of the second delay circuit. By doing so, the delay time of a peripheral circuit including a delay circuit or the like using the output line voltage as a power supply is corrected. In other words, even if a delay circuit composed of a normal inverter chain is used for a peripheral circuit, the temperature dependence of the delay time is corrected. Reduced. According to the second aspect of the present invention, it is not necessary to supply a special pulse signal for detecting the delay time difference from outside the semiconductor integrated circuit.

【0036】請求項3の発明によれば、遅延時間差検出
回路により、第1及び第2の遅延回路の遅延時間差が第
1及び第2の検出信号のパルス幅の差に変換される。請
求項4の発明によれば、制御回路により、第1及び第2
の検出信号のパルス幅の差が所定の論理レベルを有する
論理信号の数に変換される。
According to the third aspect of the present invention, the delay time difference between the first and second delay circuits is converted into the difference between the pulse widths of the first and second detection signals by the delay time difference detection circuit. According to the fourth aspect of the present invention, the first and second signals are controlled by the control circuit.
Is converted into the number of logic signals having a predetermined logic level.

【0037】請求項5及び請求項6の発明によれば、第
1の遅延回路の出力信号と、第2の遅延回路から出力さ
れる互いの間に位相差を有する第1及び第2の出力信号
との利用により、遅延時間差の有無がある範囲の不感帯
を以て検出される。しかも、その不感帯の幅は、第2の
遅延回路の第1及び第2の出力信号の間の位相差の設定
により変更される。
According to the fifth and sixth aspects of the present invention, the first and second outputs having a phase difference between the output signal of the first delay circuit and the output of the second delay circuit. By using the signal, the presence or absence of the delay time difference is detected with a certain range of dead zone. Moreover, the width of the dead zone is changed by setting the phase difference between the first and second output signals of the second delay circuit.

【0038】請求項7及び請求項8の発明によれば、フ
リップフロップの増幅機能と単安定マルチバイブレータ
との利用により、遅延時間差の有無が高感度で検出され
る。
According to the seventh and eighth aspects of the present invention, the use of the amplifying function of the flip-flop and the monostable multivibrator enables the presence or absence of a delay time difference to be detected with high sensitivity.

【0039】請求項9の発明によれば、ロウデコーダの
遅延特性がワード線の遅延特性に合わせられる。ワード
線の遅延特性は、その分布定数で決まるCR型の小さい
温度依存性を有する。一方、ロウデコーダの本来の遅延
特性は、トランジスタ型の大きい温度依存性を有する。
そこで、温度変化に応じてロウデコーダの電源電圧を制
御することにより、ロウデコーダの遅延特性をCR型の
小さい温度依存性を有する遅延特性に変えるのである。
これにより、センスアンプの活性化に関するタイミング
マージンを低減した半導体記憶装置の実現が可能にな
る。
According to the ninth aspect, the delay characteristics of the row decoder are matched with the delay characteristics of the word line. The delay characteristic of a word line has a small temperature dependency of a CR type determined by its distribution constant. On the other hand, the original delay characteristics of the row decoder have a large temperature dependence of the transistor type.
Therefore, by controlling the power supply voltage of the row decoder according to the temperature change, the delay characteristic of the row decoder is changed to a CR-type delay characteristic having a small temperature dependency.
This makes it possible to realize a semiconductor memory device in which the timing margin for activating the sense amplifier is reduced.

【0040】請求項10の発明に係る半導体集積回路で
は、第1及び第2の遅延回路の間の遅延時間の差に基づ
いて安定化出力電圧としての出力線の電位を制御するこ
とにより、該安定化出力電圧を電源とする複数の回路ブ
ロックの遅延時間が一定に保たれる。これによって、信
頼性の高い半導体集積回路を実現することができる。し
かも、遅延時間差検出回路から出力される2つの信号す
なわち促進信号及び抑制信号のみで定電圧発生回路の出
力を制御することができる。
In the semiconductor integrated circuit according to the tenth aspect of the present invention, by controlling the potential of the output line as a stabilized output voltage based on the difference in delay time between the first and second delay circuits, The delay time of a plurality of circuit blocks using the stabilized output voltage as a power source is kept constant. Thus, a highly reliable semiconductor integrated circuit can be realized. Moreover, the output of the constant voltage generation circuit can be controlled only by the two signals output from the delay time difference detection circuit, that is, the promotion signal and the suppression signal.

【0041】請求項11の発明によれば、複数の回路ブ
ロックの各々に近接するように各定電圧発生回路を半導
体基板上に分散配置したので、個々の定電圧発生回路の
出力電流を低減することができる。しかも、1つの遅延
時間差検出回路から出力される促進信号及び抑制信号を
伝送するための各々2本の信号線のみで、複数の定電圧
発生回路の各々の出力を集中制御することができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, since the constant voltage generating circuits are dispersedly arranged on the semiconductor substrate so as to be close to each of the plurality of circuit blocks, the output current of each constant voltage generating circuit is reduced. be able to. In addition, the outputs of the plurality of constant voltage generation circuits can be centrally controlled with only two signal lines for transmitting the promotion signal and the suppression signal output from one delay time difference detection circuit.

【0042】請求項12の発明によれば、第1及び第2
の遅延回路を半導体基板上のほぼ中央に配置したので、
半導体基板上の平均的な温度に基づいて各定電圧発生回
路の出力を制御することができる。また、促進信号及び
抑制信号の伝送のための信号線を短くできる。
According to the twelfth aspect of the present invention, the first and the second
Since the delay circuit of was placed almost in the center on the semiconductor substrate,
The output of each constant voltage generation circuit can be controlled based on the average temperature on the semiconductor substrate. In addition, a signal line for transmitting the promotion signal and the suppression signal can be shortened.

【0043】請求項13の発明によれば、第1及び第2
の遅延回路を半導体基板上の発熱中心の近傍に配置した
ので、温度変化を各定電圧発生回路の出力へ直ちに反映
させることができる。
According to the thirteenth aspect, the first and the second
Is arranged near the heat generation center on the semiconductor substrate, the temperature change can be immediately reflected in the output of each constant voltage generation circuit.

【0044】[0044]

【0045】[0045]

【0046】[0046]

【0047】請求項14の発明に係る電源回路では、第
1及び第2の遅延回路の間の遅延時間の差に基づいて安
定化出力電圧としての出力線の電位を制御することによ
り、該安定化出力電圧を電源とする論理回路の遅延時間
が一定に保たれる。また、請求項15の発明によれば、
温度依存性の小さい第1の遅延回路がCR遅延回路とし
て実現される。
In the power supply circuit according to the fourteenth aspect , by controlling the potential of the output line as the stabilized output voltage based on the difference between the delay times of the first and second delay circuits, The delay time of the logic circuit using the output voltage as the power supply is kept constant. According to the invention of claim 15 ,
The first delay circuit having small temperature dependence is realized as a CR delay circuit.

【0048】請求項16の発明によれば、遅延時間差検
出回路から出力される促進信号及び抑制信号を伝送する
ための2本の信号線のみで定電圧発生回路の出力電位す
なわち当該電源回路の出力線電位を制御することができ
る。
According to the sixteenth aspect of the present invention, the output potential of the constant voltage generation circuit, that is, the output of the power supply circuit, is formed by only two signal lines for transmitting the promotion signal and the suppression signal output from the delay time difference detection circuit. The line potential can be controlled.

【0049】[0049]

【実施例】《実施例1(基準電位発生回路)》まず、本
発明の第1の実施例である基準電位発生回路について、
図1〜図7を参照しながら説明する。
Embodiment 1 (Reference Potential Generation Circuit) First, a reference potential generation circuit according to a first embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIGS.

【0050】(1) 実施例1.1(抵抗負荷・接地電位基
準型) 図1の構成は、基準電位線としての接地線3と出力ノー
ド2との間に一定の電位差を発生させるための回路であ
って、抵抗手段R、帰還手段F及びダイオード手段Dを
備えたものである。抵抗手段Rを構成する抵抗素子4
は、ポリシリコン抵抗や拡散抵抗で構成されたものであ
って、電源線1(VCC:外部電源電圧レベル)と出力ノ
ード2との間に挿入されている。帰還手段Fを構成する
N型MOSFET5は、ゲートが出力ノード2に接続さ
れ、かつソースが接地線3(VSS:接地電位)に接続さ
れている。また、ダイオード手段Dを構成するように互
いに直列接続された他の3つのN型MOSFET6,
7,8は、帰還手段FのN型MOSFET5のドレイン
と出力ノード2との間に挿入されている。
(1) Embodiment 1.1 (Resistive Load / Ground Potential Reference Type) The configuration of FIG. 1 is for generating a constant potential difference between the ground line 3 as a reference potential line and the output node 2. The circuit includes a resistance means R, a feedback means F, and a diode means D. Resistance element 4 constituting resistance means R
Is constituted by a polysilicon resistor or a diffusion resistor, and is inserted between a power supply line 1 (VCC: external power supply voltage level) and an output node 2. The N-type MOSFET 5 constituting the feedback means F has a gate connected to the output node 2 and a source connected to the ground line 3 (VSS: ground potential). Further, three other N-type MOSFETs 6 connected in series with each other so as to constitute the diode means D.
Reference numerals 7 and 8 are inserted between the drain of the N-type MOSFET 5 of the feedback means F and the output node 2.

【0051】(2) 実施例1.2(抵抗負荷・外部電源電
圧レベル基準型) 図2の構成は、基準電位線としての電源線31と出力ノ
ード32との間に一定の電位差を発生させるための回路
であって、図1の場合と同様に抵抗手段R、帰還手段F
及びダイオード手段Dを備えたものである。抵抗手段R
を構成する抵抗素子34は、ポリシリコン抵抗や拡散抵
抗で構成されたものであって、接地線33(VSS:接地
電位)と出力ノード32との間に挿入されている。帰還
手段Fを構成するP型MOSFET35は、ゲートが出
力ノード32に接続され、かつソースが電源線31(V
CC:外部電源電圧レベル)に接続されている。また、ダ
イオード手段Dを構成するように互いに直列接続された
他の3つのP型MOSFET36,37,38は、帰還
手段FのP型MOSFET35のドレインと出力ノード
32との間に挿入されている。
(2) Embodiment 1.2 (Resistive Load / External Power Supply Voltage Level Reference Type) The configuration of FIG. 2 generates a constant potential difference between the power supply line 31 as a reference potential line and the output node 32. And a resistance means R and a feedback means F as in the case of FIG.
And diode means D. Resistance means R
Is constituted by a polysilicon resistor or a diffusion resistor, and is inserted between the ground line 33 (VSS: ground potential) and the output node 32. The P-type MOSFET 35 constituting the feedback means F has a gate connected to the output node 32 and a source connected to the power supply line 31 (V
CC: external power supply voltage level). The other three P-type MOSFETs 36, 37, 38 connected in series with each other to constitute the diode means D are inserted between the drain of the P-type MOSFET 35 of the feedback means F and the output node 32.

【0052】(3) 実施例1.3,1.4(トランジスタ
負荷型) 図3の構成は、図1中の抵抗手段Rとして、ゲートが接
地線3に接続されたP型MOSFET9のチャンネル抵
抗を用いたものである。また、図4の構成は、図2中の
抵抗手段Rとして、ゲートが電源線31に接続されたN
型MOSFET39のチャンネル抵抗を用いたものであ
る。
(3) Embodiments 1.3 and 1.4 (Transistor Load Type) The configuration shown in FIG. 3 is used as the resistance means R in FIG. Is used. Further, in the configuration of FIG. 4, the resistance means R in FIG.
This uses the channel resistance of the MOSFET 39.

【0053】(4) 実施例1.5(出力可変型) 図5の構成は、図1の回路において、出力ノード2の電
位を制御信号Cに応じて変更できるようにしたものであ
る。すなわち、ダイオード手段Dを構成する3つのN型
MOSFET6,7,8のうちの1つのN型MOSFE
T7のソース・ドレイン間を短絡させるための短絡手段
Sを設けるとともに、抵抗手段Rを抵抗値可変としたも
のである。短絡手段Sは他のN型MOSFET10で構
成され、そのゲートには第1の制御入力端子11を通し
てオン・オフのための制御信号が与えられる。一方、抵
抗手段Rは互いに直列接続された4つの抵抗素子12,
13,14,15を備え、このうちの3つの抵抗素子1
3,14,15を個別に短絡させるための3つのP型M
OSFET16,17,18を更に備えたものである。
これら3つのP型MOSFET16,17,18の各ゲ
ートには、それぞれ第2〜第4の制御入力端子19,2
0,21を通してオン・オフのための制御信号が与えら
れる。
(4) Embodiment 1.5 (variable output type) The configuration of FIG. 5 is such that the potential of the output node 2 can be changed according to the control signal C in the circuit of FIG. That is, one of the three N-type MOSFETs 6, 7, 8 constituting the diode means D is an N-type MOSFET.
Short-circuit means S for short-circuiting the source and drain of T7 is provided, and the resistance means R has a variable resistance value. The short-circuit means S is composed of another N-type MOSFET 10, and its gate is supplied with a control signal for ON / OFF through a first control input terminal 11. On the other hand, the resistance means R is composed of four resistance elements 12,
13, 14, and 15, of which three resistance elements 1
Three P-type M for short-circuiting 3, 14, 15 individually
OSFETs 16, 17, and 18 are further provided.
The gates of these three P-type MOSFETs 16, 17, 18 are respectively connected to the second to fourth control input terminals 19, 2
Control signals for ON / OFF are provided through 0 and 21.

【0054】(5) 実施例1.6(出力可変型) 図6の構成は、図3に示したトランジスタ負荷型の回路
において、出力ノード2の電位を制御信号Cに応じて変
更できるようにしたものである。すなわち、ダイオード
手段Dを構成する3つのN型MOSFET6,7,8の
うちの一部を短絡させるための他のN型MOSFET1
0で構成された短絡手段Sを設けるとともに、抵抗手段
Rを構成するように電源線1と出力ノード2との間に挿
入されたP型MOSFET9に対して第2及び第3のP
型MOSFET22,23を並列接続したものである。
短絡手段Sを構成するN型MOSFET10のゲート、
及び、抵抗手段Rのうちの第2及び第3のP型MOSF
ET22,23の各ゲートには、それぞれ第1〜第3の
制御入力端子11,24,25を通してオン・オフのた
めの制御信号が与えられる。
(5) Embodiment 1.6 (variable output type) The configuration of FIG. 6 allows the potential of the output node 2 to be changed according to the control signal C in the transistor load type circuit shown in FIG. It was done. That is, another N-type MOSFET 1 for short-circuiting a part of the three N-type MOSFETs 6, 7, 8 constituting the diode means D.
0 and a second and third P-type MOSFET 9 inserted between the power supply line 1 and the output node 2 so as to form the resistance means R.
The MOSFETs 22 and 23 are connected in parallel.
The gate of the N-type MOSFET 10 constituting the short-circuit means S;
And the second and third P-type MOSFs of the resistance means R
Control signals for ON / OFF are supplied to the gates of the ETs 22 and 23 through first to third control input terminals 11, 24 and 25, respectively.

【0055】以上のように構成された各基準電位発生回
路の動作を説明する。
The operation of each reference potential generating circuit configured as described above will be described.

【0056】まず、図1に示した基本型を用いて動作原
理を説明する。同図の構成によれば、電源線1から抵抗
手段R、ダイオード手段D及び帰還手段Fを経て基準電
位線としての接地線3へ抜けるように、常に小さな電流
が流れている。ここで、帰還手段Fを構成するN型MO
SFET5のドレインを内部ノードAとすると、内部ノ
ードAと出力ノード2との間の電位差は、ダイオード手
段Dを構成する3つのN型MOSFET6,7,8の各
々のスレッシュホールド電圧Vt の合計すなわち3Vt
にほぼ等しくなる。周囲温度が上昇してVt が増大した
とすると、内部ノードAと出力ノード2との間の電位差
が増大する。ところが、これに伴って、帰還手段Fを構
成するN型MOSFET5のソースとゲートとの間の電
位差が増大し、その結果、該帰還用のN型MOSFET
5のチャンネル抵抗が低下する。このため、内部ノード
Aの電位が下がり、結果的に出力ノード2はスレッシュ
ホールド電圧Vt が変化する以前の電位にほぼ保たれ
る。つまり、出力ノード2の電位の温度依存性が小さく
なる。以上が動作原理の簡単な説明である。
First, the principle of operation will be described using the basic type shown in FIG. According to the configuration shown in the figure, a small current always flows from the power supply line 1 to the ground line 3 as a reference potential line via the resistance means R, the diode means D and the feedback means F. Here, the N-type MO constituting the feedback means F
Assuming that the drain of SFET 5 is internal node A, the potential difference between internal node A and output node 2 is the sum of the threshold voltages Vt of three N-type MOSFETs 6, 7, 8 constituting diode means D, that is, 3Vt.
Is almost equal to If the ambient temperature increases and Vt increases, the potential difference between internal node A and output node 2 increases. However, along with this, the potential difference between the source and the gate of the N-type MOSFET 5 constituting the feedback means F increases, and as a result, the feedback N-type MOSFET
5, the channel resistance decreases. As a result, the potential of the internal node A decreases, and as a result, the output node 2 is kept almost at the potential before the threshold voltage Vt changes. That is, the temperature dependency of the potential of the output node 2 is reduced. The above is a brief description of the operation principle.

【0057】図2の構成では、図1の場合と異なり電源
線31を基準電位線としているが動作原理は上記と同様
であり、電源線31と出力ノード32との間の電位差が
スレッシュホールド電圧Vt の変動によらず一定に保た
れることになる。図3及び図4の構成は、抵抗手段Rと
してMOSFET9,39のチャンネル抵抗を利用した
ものである。このようにMOSFETのチャンネル抵抗
を利用すれば、前記ポリシリコン抵抗や拡散抵抗で構成
されたシート抵抗の小さい抵抗素子を用いる場合に比べ
て、回路のレイアウト面積を縮小化することができる。
図5及び図6の構成は、抵抗手段Rの抵抗値やダイオー
ド手段Dを構成するMOSFETの直列個数を制御信号
Cに応じて変えられるようにし、以て出力ノード2の電
位を変更できるようにしたものである。特に図6の構成
によれば、基準電位発生回路をMOSFETのみで構成
することができる。ただし、図6中の短絡手段Sを構成
するN型MOSFET10は出力の粗調整用であり、抵
抗手段R中の第2及び第3のP型MOSFET22,2
3は出力の微調整用である。
In the configuration of FIG. 2, unlike the case of FIG. 1, the power supply line 31 is used as the reference potential line, but the operation principle is the same as that described above. It will be kept constant regardless of the variation of Vt. 3 and 4 use the channel resistances of the MOSFETs 9 and 39 as the resistance means R. By using the channel resistance of the MOSFET as described above, the layout area of the circuit can be reduced as compared with the case of using a resistance element having a small sheet resistance constituted by the polysilicon resistance or the diffusion resistance.
5 and 6 allow the resistance value of the resistance means R and the series number of MOSFETs constituting the diode means D to be changed in accordance with the control signal C, so that the potential of the output node 2 can be changed. It was done. In particular, according to the configuration of FIG. 6, the reference potential generation circuit can be configured only with MOSFETs. However, the N-type MOSFET 10 constituting the short-circuit means S in FIG. 6 is for coarse adjustment of the output, and the second and third P-type MOSFETs 22 and 2 in the resistance means R are provided.
Reference numeral 3 is for fine adjustment of the output.

【0058】なお、図1〜図6に示す各構成において、
ダイオード手段Dを構成する各MOSFETのコンダク
タンスの合計と帰還手段Fを構成するMOSFETのコ
ンダクタンスとが等しいときに温度依存性の低減効果が
最も大きくなる。すなわち、ダイオード手段Dを構成す
る複数のMOSFETの各々のチャンネル幅をW1、チ
ャンネル長をL1、直列個数をNとし、帰還手段Fを構
成するMOSFETのチャンネル幅をW2、チャンネル
長をL2としたとき、W1/L1とW2/L2との比が
ほぼN対1である場合である。
In each of the configurations shown in FIGS.
When the sum of the conductances of the respective MOSFETs constituting the diode means D is equal to the conductance of the MOSFETs constituting the feedback means F, the effect of reducing the temperature dependency is maximized. That is, when the channel width of each of a plurality of MOSFETs constituting the diode means D is W1, the channel length is L1, the number of series is N, and the channel width of the MOSFET constituting the feedback means F is W2 and the channel length is L2. , W1 / L1 and W2 / L2 are approximately N: 1.

【0059】図7に本実施例に係る基準電位発生回路の
シミュレーション結果を示す。本実施例により出力電位
の温度依存性が低減されることが示されている。
FIG. 7 shows a simulation result of the reference potential generating circuit according to the present embodiment. It is shown that the present embodiment reduces the temperature dependency of the output potential.

【0060】《実施例2(定電圧発生回路)》次に、本
発明の第2の実施例である定電圧発生回路について、図
8〜図12を参照しながら説明する。
Embodiment 2 (Constant Voltage Generating Circuit) Next, a constant voltage generating circuit according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0061】(1) 実施例2.1(基本型) 図8の構成は、出力線44の電位を所定値に保持するた
めの回路であって、図6に示した基準電位発生回路41
に、コンパレータ回路42と、出力線44を駆動するた
めのドライバ回路としてのP型MOSFET43とを付
加したものである。コンパレータ回路42は基準電位発
生回路41の出力ノード41aの電位と出力線44の電
位とを比較するものであって、該コンパレータ回路42
の出力はP型MOSFET43のゲートに与えられる。
(1) Embodiment 2.1 (Basic Type) The configuration of FIG. 8 is a circuit for holding the potential of the output line 44 at a predetermined value, and the reference potential generating circuit 41 shown in FIG.
In addition, a comparator circuit 42 and a P-type MOSFET 43 as a driver circuit for driving the output line 44 are added. The comparator circuit 42 compares the potential of the output node 41a of the reference potential generation circuit 41 with the potential of the output line 44.
Is supplied to the gate of the P-type MOSFET 43.

【0062】この構成によれば、例えば負荷電流の増加
によって出力線44の電位が下がろうとすると、基準電
位発生回路41の出力ノード41aからの基準電位と出
力線44の電位との差をコンパレータ回路42が検出
し、P型MOSFET43のドレイン電流が増大するよ
うにそのゲート電圧が制御され、出力電圧の低下が防止
されることになる。これにより、出力線44には安定化
された出力電圧が得られる。しかも、図8に示す回路
は、抵抗手段R及び短絡手段Sの作用により、制御信号
Cに応じて安定化出力電圧の設定を変化させ得るように
なっている。
According to this configuration, when the potential of the output line 44 is about to decrease due to, for example, an increase in the load current, the difference between the reference potential from the output node 41a of the reference potential generating circuit 41 and the potential of the output line 44 is determined by the comparator. The gate voltage is controlled by the circuit 42 so that the drain current of the P-type MOSFET 43 is increased, thereby preventing the output voltage from lowering. As a result, a stabilized output voltage is obtained on the output line 44. Moreover, the circuit shown in FIG. 8 can change the setting of the stabilized output voltage according to the control signal C by the action of the resistance means R and the short-circuit means S.

【0063】ただし、図8の定電圧発生回路は次のよう
な問題点を有している。すなわち、発生すべき電圧が外
部電源電圧レベルVCCに近いものであったとき、基準電
位発生回路41の出力電位をそのような電圧レベルにす
べきなのであるが、この場合にはコンパレータ回路42
が正常に動作しなくなるのである。
However, the constant voltage generation circuit of FIG. 8 has the following problems. That is, when the voltage to be generated is close to the external power supply voltage level VCC, the output potential of the reference potential generating circuit 41 should be set to such a voltage level.
Will not work properly.

【0064】MOSFETを用いたコンパレータ回路4
2の典型的な回路構成を図9に示す。同図において、4
7a,47bは各々ゲートに入力電位V+,V−が与え
られる差動N型MOSFET、48a,48bはカレン
トミラーP型MOSFET、49はゲートにスタンバイ
信号Vsbが与えられる共通N型MOSFETである。こ
のコンパレータ回路42の入出力特性を図10に示す。
同図に示すように、入力電圧が電源レベルに近くなる
と、コンパレータ回路42の出力Vout が接地電位VSS
まで下がり切らなくなる。つまり、このコンパレータ回
路42は、入力電圧がカレントミラーP型MOSFET
48a,48bのスレッシュホールド電圧を割ったあた
りから、正常な比較動作を行わなくなるのである。
Comparator circuit 4 using MOSFET
FIG. 9 shows a typical circuit configuration of the second example. In FIG.
Reference numerals 7a and 47b denote differential N-type MOSFETs whose gates are supplied with input potentials V + and V-, 48a and 48b are current mirror P-type MOSFETs, and 49 is a common N-type MOSFET whose gate is supplied with a standby signal Vsb. FIG. 10 shows the input / output characteristics of the comparator circuit 42.
As shown in the figure, when the input voltage approaches the power supply level, the output Vout of the comparator circuit 42 changes to the ground potential VSS.
It does not fall down to the end. In other words, the comparator circuit 42 has an input voltage of a current mirror P-type MOSFET.
When the threshold voltages of 48a and 48b are divided, normal comparison operation is not performed.

【0065】そこで、コンパレータ回路42の動作点を
最適な位置にシフトさせるように電圧シフト回路を付加
した定電圧発生回路について次に説明する。
A description will now be given of a constant voltage generating circuit to which a voltage shift circuit is added so as to shift the operating point of the comparator circuit 42 to an optimum position.

【0066】(2) 実施例2.2(電圧シフト回路付加
型) 図11の構成は、図8の回路にコンデンサ素子45と電
圧シフト回路46とを付加したものである。コンデンサ
素子45は、発振防止のために出力線44とコンパレー
タ回路42の帰還入力端子との間に挿入されたものであ
る。電圧シフト回路46は、図4の基準電位発生回路に
おいてダイオード手段Dを構成する複数のP型MOSF
ETの一部を短絡させるための短絡手段Sを設けるとと
もに、抵抗手段Rを抵抗値可変としたものである。ただ
し、図4の基準電位発生回路では電源線31を基準電位
線としていたが、図11の電圧シフト回路46では入力
ノード46aを介して出力線44を基準電位線としてい
る。つまり、この電圧シフト回路46は、出力線44と
自己の出力ノード46bとの間に一定の電位差を発生さ
せるための回路である。前記基準電位発生回路41の出
力ノード(第1のノード)41aの電位はコンパレータ
回路42に参照入力として与えられる一方、電圧シフト
回路46の出力ノード(第2のノード)46bの電位は
コンパレータ回路42に帰還入力として与えられる。
(2) Embodiment 2.2 (Addition of Voltage Shift Circuit) The configuration of FIG. 11 is obtained by adding a capacitor element 45 and a voltage shift circuit 46 to the circuit of FIG. The capacitor element 45 is inserted between the output line 44 and the feedback input terminal of the comparator circuit 42 to prevent oscillation. The voltage shift circuit 46 includes a plurality of P-type MOSFs constituting the diode means D in the reference potential generation circuit of FIG.
Short-circuit means S for short-circuiting a part of the ET is provided, and resistance means R has a variable resistance value. However, in the reference potential generation circuit of FIG. 4, the power supply line 31 is used as the reference potential line, but in the voltage shift circuit 46 of FIG. 11, the output line 44 is used as the reference potential line via the input node 46a. That is, the voltage shift circuit 46 is a circuit for generating a constant potential difference between the output line 44 and its own output node 46b. The potential of the output node (first node) 41a of the reference potential generating circuit 41 is given as a reference input to the comparator circuit 42, while the potential of the output node (second node) 46b of the voltage shift circuit 46 is Is provided as a feedback input.

【0067】図11の定電圧発生回路の動作原理を簡単
に説明する。出力線44とコンパレータ回路42の帰還
入力との間に上記電圧シフト回路46を挿入したことに
より、コンパレータ回路42の帰還入力の電位は、出力
線44の電位よりも一定の電圧だけ下がった点に設定さ
れる。しかも、このシフト量は、先の基準電位発生回路
の動作説明から明らかなように、温度が変わっても変動
しない。一方、基準電位発生回路41からコンパレータ
回路42への参照入力も同様に、目的とする安定化出力
電圧より低めに設定される。これにより、コンパレータ
回路42の動作点を正常に動作する範囲へシフトさせる
ことができる。しかも、図11に示す回路は、基準電位
発生回路41及び電圧シフト回路46の各々が有する抵
抗手段R及び短絡手段Sの作用により、制御信号Cに応
じて安定化出力電圧の設定を変化させ得るようになって
いる。
The operation principle of the constant voltage generating circuit shown in FIG. 11 will be briefly described. By inserting the voltage shift circuit 46 between the output line 44 and the feedback input of the comparator circuit 42, the potential of the feedback input of the comparator circuit 42 is reduced to a point lower than the potential of the output line 44 by a certain voltage. Is set. In addition, this shift amount does not change even when the temperature changes, as is clear from the above description of the operation of the reference potential generation circuit. On the other hand, the reference input from the reference potential generation circuit 41 to the comparator circuit 42 is similarly set lower than the intended stabilized output voltage. As a result, the operating point of the comparator circuit 42 can be shifted to a range in which it can operate normally. Moreover, the circuit shown in FIG. 11 can change the setting of the stabilized output voltage according to the control signal C by the action of the resistance means R and the short-circuit means S of each of the reference potential generation circuit 41 and the voltage shift circuit 46. It has become.

【0068】なお、コンデンサ素子45は、電圧シフト
回路46の挿入により安定化出力の変化が帰還入力の変
化となって現われるのが遅れ、その結果コンパレータ回
路42とP型MOSFET43とからなるループ回路が
発振を起してしまうのを防ぐものである。すなわち、変
動成分のみがコンデンサ素子45を通過するように構成
したものである。
The capacitor element 45 delays a change in the stabilized output from appearing as a change in the feedback input due to the insertion of the voltage shift circuit 46. As a result, a loop circuit including the comparator circuit 42 and the P-type MOSFET 43 is formed. This is to prevent oscillation. That is, only the fluctuation component is configured to pass through the capacitor element 45.

【0069】(3) 実施例2.3(プログラマブル定電圧
発生回路) 図11の定電圧発生回路を発展させたプログラマブルな
定電圧発生回路を、図12に示す。同図において、51
は本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路、52
はコンパレータ回路、53はドライバ回路としてのP型
MOSFET、54は安定化電圧の出力線、55はコン
デンサ素子、56は電圧シフト回路である。基準電位発
生回路51及び電圧シフト回路56の抵抗手段Rは、各
々抵抗値が制御信号Cに応じて変化するように構成され
ている。また、該基準電位発生回路51及び電圧シフト
回路56は、ダイオード手段Dを構成する複数のMOS
トランジスタのうちの少なくとも1つのMOSトランジ
スタのソース・ドレイン間を制御信号Cに応じて短絡さ
せるための短絡手段Sをそれぞれ備えている。57は、
基準電位発生回路51及び電圧シフト回路56へ制御信
号Cを与えることにより出力線54の電位を変更するた
めの制御回路である。
(3) Embodiment 2.3 (Programmable Constant Voltage Generating Circuit) FIG. 12 shows a programmable constant voltage generating circuit obtained by developing the constant voltage generating circuit of FIG. In FIG.
Reference numeral 52 denotes a reference potential generating circuit according to the first embodiment of the present invention;
Is a comparator circuit, 53 is a P-type MOSFET as a driver circuit, 54 is an output line for a stabilized voltage, 55 is a capacitor element, and 56 is a voltage shift circuit. The resistance means R of the reference potential generation circuit 51 and the resistance means R of the voltage shift circuit 56 are each configured so that the resistance value changes according to the control signal C. Further, the reference potential generating circuit 51 and the voltage shift circuit 56 include a plurality of MOS transistors constituting the diode means D.
Short-circuit means S for short-circuiting between the source and the drain of at least one of the MOS transistors in accordance with the control signal C are provided. 57 is
This is a control circuit for changing the potential of the output line 54 by supplying a control signal C to the reference potential generation circuit 51 and the voltage shift circuit 56.

【0070】この制御回路57は、促進信号を受け取る
毎に安定化出力電圧としての出力線54の電位を上昇さ
せ、かつ抑制信号を受け取る毎に該出力線54の電位を
低下させるように制御信号Cを生成する機能を有する。
つまり、2本の信号線のみで出力電圧の昇降を制御する
ことができる。
The control circuit 57 raises the potential of the output line 54 as a stabilized output voltage each time the promotion signal is received, and lowers the potential of the output line 54 each time the suppression signal is received. It has a function of generating C.
That is, the rise and fall of the output voltage can be controlled only by the two signal lines.

【0071】また、この制御回路57は、スタンバイ認
識端子を通してスタンバイ信号を受け取った場合には、
基準電位発生回路51、コンパレータ回路52及び電圧
シフト回路56の各々の消費電流を低減させるように制
御信号Cを生成する。基準電位発生回路51及び電圧シ
フト回路56の各々の抵抗手段Rの抵抗値を最大にセッ
トするとともに、コンパレータ回路52中の貫通電流を
低減するように該回路中の共通N型MOSFET(図9
中の49に相当するもの)をオフさせるのである。ただ
し、コンパレータ回路52への制御信号は図示を省略し
ている。
When the control circuit 57 receives a standby signal through the standby recognition terminal,
The control signal C is generated so as to reduce the current consumption of each of the reference potential generation circuit 51, the comparator circuit 52, and the voltage shift circuit 56. In order to set the resistance value of each resistance means R of the reference potential generation circuit 51 and the voltage shift circuit 56 to the maximum, and to reduce the through current in the comparator circuit 52, a common N-type MOSFET (FIG.
(Equivalent to 49 in FIG. 3) is turned off. However, a control signal to the comparator circuit 52 is not shown.

【0072】更に、この制御回路57は、リセット認識
端子を通してパワーオンリセット信号を受け取った場合
には、出力線54の電位をデフォルト値に初期設定する
ように制御信号Cを生成する機能をも有する。
Further, the control circuit 57 has a function of generating a control signal C so as to initialize the potential of the output line 54 to a default value when a power-on reset signal is received through the reset recognition terminal. .

【0073】なお、図8の構成の定電圧発生回路を図1
2のようにプログラマブル定電圧発生回路に発展させる
こともできる。
The constant voltage generating circuit having the configuration shown in FIG.
2, it can be developed into a programmable constant voltage generating circuit.

【0074】《実施例3(電圧レベル検出回路)》次
に、本発明の第3の実施例である電圧レベル検出回路に
ついて、図13〜図17を参照しながら説明する。
Embodiment 3 (Voltage Level Detecting Circuit) Next, a voltage level detecting circuit according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0075】DRAM集積回路中では、前記のとおり、
接地電位VSSを基準として外部から供給される電源電圧
レベルVCC以外に、基板バイアスレベルVBBやワード線
昇圧レベルVPPが必要になる。
In a DRAM integrated circuit, as described above,
A substrate bias level VBB and a word line boost level VPP are required in addition to the power supply voltage level VCC externally supplied with reference to the ground potential VSS.

【0076】(1) 実施例3.1(VBBレベル検出回路) 図13は、接地電位VSSを基準電圧レベルとし、基板バ
イアスレベルVBBを被測定電圧レベルとするVBBレベル
検出回路の構成例を示すものである。同図において61
は、接地線(VSS:接地電位)と第1のノード61aと
の間に一定の電位差を発生させるための第1の基準電位
発生回路であって、図6の場合と同様の抵抗手段R、帰
還手段F、ダイオード手段D及び短絡手段Sを備えたも
のである。62は、基板バイアスレベルVBBの被測定線
と第2のノード62aとの間に一定の電位差を発生させ
るための第2の基準電位発生回路であって、やはり図6
の場合と同様の抵抗手段R、帰還手段F、ダイオード手
段D及び短絡手段Sを備えたものである。ただし、ダイ
オード手段Dを構成するN型MOSFETの直列個数
は、第2の基準電位発生回路62の方を多くしてあり、
主として、この個数の差が検出する基板バイアスの深さ
を決める。63は、第1のノード61aの電位と第2の
ノード62aの電位とを比較するためのコンパレータ回
路である。このコンパレータ回路63の出力は、基板レ
ベル検出出力φ1 として出力端子64から取り出され
る。このVBBレベル検出回路は、電圧レベル検出特性が
温度に依存しないという特徴を有している。
(1) Embodiment 3.1 (VBB Level Detection Circuit) FIG. 13 shows a configuration example of a VBB level detection circuit in which the ground potential VSS is used as a reference voltage level, and the substrate bias level VBB is used as a measured voltage level. Things. In the figure, 61
Is a first reference potential generating circuit for generating a constant potential difference between a ground line (VSS: ground potential) and the first node 61a, and includes the same resistance means R, It is provided with feedback means F, diode means D and short-circuit means S. Reference numeral 62 denotes a second reference potential generating circuit for generating a constant potential difference between the measured line at the substrate bias level VBB and the second node 62a.
And a resistance means R, a feedback means F, a diode means D and a short-circuit means S similar to those of the first embodiment. However, the number of N-type MOSFETs constituting the diode means D in series is larger in the second reference potential generation circuit 62,
Mainly, the difference between the numbers determines the depth of the substrate bias to be detected. 63 is a comparator circuit for comparing the potential of the first node 61a with the potential of the second node 62a. The output of the comparator circuit 63 is taken out from the output terminal 64 as a substrate level detection output φ1. This VBB level detection circuit has a feature that the voltage level detection characteristic does not depend on the temperature.

【0077】(2) 実施例3.2(VPPレベル検出回路) 図14は、外部電源電圧レベルVCCを基準電圧レベルと
し、ワード線昇圧レベルVPPを被測定電圧レベルとする
VPPレベル検出回路の構成例を示すものである。同図に
おいて、65は電源線(VCC:外部電源電圧レベル)と
第1のノード65aとの間に一定の電位差を発生させる
ための第1の基準電位発生回路、66はワード線昇圧レ
ベルVPPの被測定線と第2のノード66aとの間に一定
の電位差を発生させるための第2の基準電位発生回路、
67は第1のノード65aの電位と第2のノード66a
の電位とを比較するためのコンパレータ回路、68は出
力端子、φ2 は昇圧レベル検出出力である。第1及び第
2の基準電位発生回路65,66は、主としてP型MO
SFETを用いた図4の構成の変形である点が、図13
に示すVBBレベル検出回路とは異なる。このVPPレベル
検出回路も、電圧レベル検出特性が温度に依存しない。
(2) Embodiment 3.2 (VPP level detection circuit) FIG. 14 shows a configuration of a VPP level detection circuit in which the external power supply voltage level VCC is used as a reference voltage level, and the word line boosted level VPP is used as a measured voltage level. This is an example. In the drawing, reference numeral 65 denotes a first reference potential generating circuit for generating a constant potential difference between a power supply line (VCC: external power supply voltage level) and a first node 65a, and 66 denotes a word line boosted level VPP. A second reference potential generating circuit for generating a constant potential difference between the measured line and the second node 66a;
67 is the potential of the first node 65a and the second node 66a
, A comparator circuit 68 for comparing the potential with the potential of .phi.2, and .phi.2 a boosted level detection output. The first and second reference potential generating circuits 65 and 66 are mainly composed of a P-type MO.
13 is a modification of the configuration of FIG. 4 using SFETs.
Is different from the VBB level detection circuit shown in FIG. Also in this VPP level detection circuit, the voltage level detection characteristics do not depend on temperature.

【0078】(3) 実施例3.3,3.4(ヒステリシス
特性型) 図13と同様の構成を有するVBBレベル検出回路にヒス
テリシス特性をもたせたものを図15に、図14と同様
の構成を有するVPPレベル検出回路にヒステリシス特性
をもたせたものを図16にそれぞれ示す。第1の基準電
位発生回路61,65及び第2の基準電位発生回路6
2,66は、それぞれ前記抵抗手段及び短絡手段の作用
により制御信号Cに応じて自己の出力ノードの電位を変
更できるように構成されており、コンパレータ回路6
3,67からのレベル検出出力φ1 ,φ2 に応じて電圧
レベル検出特性を変更するように制御信号Cを生成する
ためのヒステリシス制御回路69,70が付加されてい
る。
(3) Embodiments 3.3 and 3.4 (Hysteresis Characteristics Type) FIG. 15 shows a VBB level detection circuit having a configuration similar to that shown in FIG. 13 with hysteresis characteristics, and FIG. FIG. 16 shows a VPP level detection circuit having a hysteresis characteristic. First reference potential generation circuits 61 and 65 and second reference potential generation circuit 6
2 and 66 are configured such that the potential of their own output nodes can be changed according to the control signal C by the action of the resistance means and the short-circuit means, respectively.
Hysteresis control circuits 69 and 70 for generating a control signal C so as to change the voltage level detection characteristics in accordance with the level detection outputs φ1 and φ2 from 3, 67 are added.

【0079】図17は、図15のVBBレベル検出回路の
特性を示すグラフである。図17に示すように、ヒステ
リシス制御回路69のはたらきにより、基板レベル検出
出力φ1 が1になるレベルと、0に戻るレベルとを異な
らせることができる。これによって、検出レベルである
基板バイアスレベルVBBにノイズ等が乗ってもVBBレベ
ル検出回路の動作を安定させることができる。図16の
VPPレベル検出回路も同様のヒステリシス特性を有する
ものである。
FIG. 17 is a graph showing characteristics of the VBB level detection circuit of FIG. As shown in FIG. 17, the function of the hysteresis control circuit 69 makes it possible to make the level at which the substrate level detection output φ1 becomes 1 different from the level at which the substrate level detection output φ1 returns to 0. Thus, the operation of the VBB level detection circuit can be stabilized even when noise or the like is applied to the substrate bias level VBB which is the detection level. The VPP level detection circuit in FIG. 16 also has a similar hysteresis characteristic.

【0080】《実施例4(温度検出回路)》次に、本発
明の第4の実施例である温度検出回路について、図18
〜図22を参照しながら説明する。
Embodiment 4 (Temperature Detection Circuit) Next, a temperature detection circuit according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0081】(1) 実施例4.1(接地電位基準型) 図18の構成は、周囲温度が所定の温度に達したかどう
かを判定するための回路であって、第1及び第2の基準
電位発生回路71,72と、コンパレータ回路73とを
備えたものである。このうち、第1の基準電位発生回路
71は、MOSトランジスタのスレッシュホールド電圧
の変動の影響を緩和することによって小さい温度依存性
を有する電位差を接地線(VSS:接地電位)と第1のノ
ード71aとの間に発生させるための回路であって、図
6の場合と同様の抵抗手段R、帰還手段F、ダイオード
手段D及び短絡手段Sを備えている。第2の基準電位発
生回路72は、MOSトランジスタのスレッシュホール
ド電圧の変動に起因した大きい温度依存性を有する電位
差を接地線(VSS:接地電位)と第2のノード72aと
の間に発生させるための回路であって、第1の基準電位
発生回路71中の帰還手段Fの配設を省略した構成を備
えている。つまり、第2の基準電位発生回路72では、
ダイオード手段Dを構成する複数のN型MOSFETか
らなる直列回路の一端が接地線に直結されている。コン
パレータ回路73は、第1のノード71aの電位と第2
のノード72aの電位とを比較するための回路であっ
て、その出力は出力端子74を通して取り出される。
(1) Embodiment 4.1 (ground potential reference type) The configuration of FIG. 18 is a circuit for determining whether or not the ambient temperature has reached a predetermined temperature. The circuit includes reference potential generating circuits 71 and 72 and a comparator circuit 73. Among them, the first reference potential generating circuit 71 reduces the potential difference having a small temperature dependency by alleviating the influence of the variation of the threshold voltage of the MOS transistor and the ground line (VSS: ground potential) and the first node 71a. And a resistor means R, feedback means F, diode means D, and short-circuit means S similar to those shown in FIG. The second reference potential generation circuit 72 generates a potential difference having a large temperature dependency between the ground line (VSS: ground potential) and the second node 72a due to the fluctuation of the threshold voltage of the MOS transistor. In which the arrangement of the feedback means F in the first reference potential generating circuit 71 is omitted. That is, in the second reference potential generation circuit 72,
One end of a series circuit comprising a plurality of N-type MOSFETs constituting the diode means D is directly connected to a ground line. The comparator circuit 73 calculates the potential of the first node 71a and the second node 71a.
Is a circuit for comparing the potential of the node 72a with the potential of the node 72a.

【0082】第1の基準電位発生回路71の出力すなわ
ち第1のノード71aの電位は、前記のとおり周囲温度
が変わっても変化しない。他方、第2の基準電位発生回
路72は温度依存性を抑制するための帰還手段Fを有し
ていないので、第2のノード72aの電位は周囲温度に
伴って変化する。つまり、温度が変わっていくにしたが
って、第1及び第2のノード71a,72aの間の電位
差が増大することとなる。これをコンパレータ回路73
で検出し、その出力をもって温度検出とするものであ
る。
The output of the first reference potential generating circuit 71, that is, the potential of the first node 71a does not change even if the ambient temperature changes, as described above. On the other hand, since the second reference potential generating circuit 72 does not have the feedback means F for suppressing the temperature dependency, the potential of the second node 72a changes with the ambient temperature. That is, as the temperature changes, the potential difference between the first and second nodes 71a and 72a increases. This is supplied to the comparator 73
And the output is used as temperature detection.

【0083】(2) 実施例4.2(外部電源電圧レベル基
準型) 図19は、温度検出回路の他の構成例を示すものであ
る。同図において、75は小さい温度依存性を有する電
位差を電源線(VCC:外部電源電圧レベル)と第1のノ
ード75aとの間に発生させるための第1の基準電位発
生回路、76は大きい温度依存性を有する電位差を電源
線(VCC:外部電源電圧レベル)と第2のノード76a
との間に発生させるための第2の基準電位発生回路、7
7は第1のノード75aの電位と第2のノード76aの
電位とを比較するためのコンパレータ回路、78は出力
端子である。図18の場合と同様に、第1及び第2の基
準電位発生回路75,76のうち第1の基準電位発生回
路75にのみ帰還手段Fを設けてある。第1及び第2の
基準電位発生回路75,76は、主としてP型MOSF
ETを用いた図4の構成の変形である点が図18の場合
とは異なるが、動作原理は同様である。
(2) Embodiment 4.2 (External Power Supply Voltage Level Reference Type) FIG. 19 shows another configuration example of the temperature detection circuit. In the figure, reference numeral 75 denotes a first reference potential generating circuit for generating a potential difference having a small temperature dependency between a power supply line (VCC: external power supply voltage level) and a first node 75a; The potential difference having dependency is connected to the power supply line (VCC: external power supply voltage level) and the second node 76a.
A second reference potential generating circuit for generating a voltage between
7 is a comparator circuit for comparing the potential of the first node 75a with the potential of the second node 76a, and 78 is an output terminal. As in the case of FIG. 18, the feedback means F is provided only in the first reference potential generation circuit 75 of the first and second reference potential generation circuits 75 and 76. The first and second reference potential generating circuits 75 and 76 are mainly composed of P-type MOSFs.
Although the configuration of FIG. 4 using ET is different from that of FIG. 18, the operation principle is the same.

【0084】(3) 実施例4.3,4.4(ヒステリシス
特性型) 図18及び図19の温度検出回路にヒステリシス特性を
もたせたものを、図20及び図21にそれぞれ示す。第
1の基準電位発生回路71,75及び第2の基準電位発
生回路72,76は、それぞれ前記抵抗手段及び短絡手
段の作用により制御信号Cに応じて自己の出力ノードの
電位を変更できるように構成されており、コンパレータ
回路73,77からの温度検出出力に応じて温度検出特
性を変更するように制御信号Cを生成するためのヒステ
リシス制御回路79,80が付加されている。
(3) Embodiments 4.3 and 4.4 (Hysteresis Characteristics) FIGS. 20 and 21 show the temperature detection circuits shown in FIGS. 18 and 19 having hysteresis characteristics, respectively. The first reference potential generation circuits 71 and 75 and the second reference potential generation circuits 72 and 76 can change the potential of their own output nodes according to the control signal C by the action of the resistance means and the short-circuit means, respectively. It has hysteresis control circuits 79 and 80 for generating a control signal C so as to change the temperature detection characteristics according to the temperature detection outputs from the comparator circuits 73 and 77.

【0085】図22は、図20の温度検出回路の特性を
示すグラフである。図22に示すように、ヒステリシス
制御回路79のはたらきにより、温度検出出力が1にな
る温度t1 と、0に戻る温度t0 とを異ならせることが
できる。これによって、温度の瞬間的なふらつきが生じ
ても該温度検出回路は誤動作しない。図21の温度検出
回路も同様のヒステリシス特性を有するものである。
FIG. 22 is a graph showing characteristics of the temperature detection circuit of FIG. As shown in FIG. 22, the temperature t1 at which the temperature detection output becomes 1 and the temperature t0 at which the temperature detection output returns to 0 can be made different by the operation of the hysteresis control circuit 79. As a result, the temperature detection circuit does not malfunction even if the temperature fluctuates instantaneously. The temperature detection circuit of FIG. 21 also has a similar hysteresis characteristic.

【0086】《実施例5(アクティブ電圧制御方式の電
源回路)》次に、本発明の第5の実施例であるアクティ
ブ電圧制御方式の電源回路について、図23〜図25を
参照しながら説明する。
Fifth Embodiment (Power Supply Circuit of Active Voltage Control System) Next, a power supply circuit of an active voltage control system according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. .

【0087】従来の電源回路方式では、周囲温度が変わ
っても出力電圧が変化しないということを目標としてき
た。ところが、半導体集積回路上の論理回路は、一般に
温度が上がると動作が遅くなってしまう。本実施例に係
るアクティブ電圧制御方式は、温度が上昇したときに、
論理回路の動作を遅くしないようにその電源電圧を上げ
てやろうというものである。
In the conventional power supply circuit system, it has been aimed that the output voltage does not change even if the ambient temperature changes. However, the operation of a logic circuit on a semiconductor integrated circuit generally becomes slow as the temperature rises. The active voltage control method according to the present embodiment, when the temperature rises,
The purpose is to increase the power supply voltage so as not to slow down the operation of the logic circuit.

【0088】(1) 実施例5.1,5.2(温度制御型) 図23の電源回路は、前記抵抗手段及び短絡手段の作用
により制御信号Cに応じて出力線44の電位を変更でき
るように構成された図8の定電圧発生回路81aを採用
し、該制御信号Cを生成するための制御回路81bをそ
の定電圧発生回路81aに付加したものをプログラマブ
ル定電圧発生回路82とし、制御回路81bを温度検出
回路83の出力にしたがって動作させる構成を採用した
ものである。また、図24の電源回路は、同様に制御信
号Cに応じて出力線44の電位を変更できるように構成
された図11の定電圧発生回路84aを採用し、該制御
信号Cを生成するための制御回路84bをその定電圧発
生回路84aに付加したものをプログラマブル定電圧発
生回路85とし、制御回路84bを温度検出回路86の
出力にしたがって動作させる構成を採用したものであ
る。温度検出回路83,86として、図18〜図21の
構成を採用することができる。
(1) Embodiments 5.1 and 5.2 (Temperature Control Type) In the power supply circuit of FIG. 23, the potential of the output line 44 can be changed according to the control signal C by the action of the resistance means and the short-circuit means. The constant voltage generation circuit 81a of FIG. 8 configured as described above is employed, and a control circuit 81b for generating the control signal C is added to the constant voltage generation circuit 81a to form a programmable constant voltage generation circuit 82. In this configuration, the circuit 81b operates according to the output of the temperature detection circuit 83. The power supply circuit of FIG. 24 employs the constant voltage generation circuit 84a of FIG. 11 similarly configured to change the potential of the output line 44 according to the control signal C, and generates the control signal C. Is added to the constant voltage generating circuit 84a to form a programmable constant voltage generating circuit 85, and the control circuit 84b operates according to the output of the temperature detecting circuit 86. 18 to 21 can be adopted as the temperature detection circuits 83 and 86.

【0089】図23及び図24の電源回路は、いずれも
温度上昇に応じて出力線44の電位を上昇させるよう
に、温度検出回路83,86により検出された温度に応
じて制御回路81b,84bから定電圧発生回路81
a,84aへの制御信号Cを生成するものである。ただ
し、定性的な傾向を合わせようとするものであって、温
度が上昇した際に電源電圧をどの程度上昇させるべきか
という明確な指針がない。この点を改良したのが、次に
説明する遅延時間制御型のアクティブ電圧制御方式であ
る。
The power supply circuits of FIGS. 23 and 24 both control the control circuits 81b and 84b in accordance with the temperatures detected by the temperature detection circuits 83 and 86 so as to increase the potential of the output line 44 in response to the temperature increase. To constant voltage generation circuit 81
a, 84a to generate a control signal C. However, it is intended to match the qualitative tendency, and there is no clear guideline on how much the power supply voltage should be raised when the temperature rises. An improvement in this point is a delay time control type active voltage control method described below.

【0090】(2) 実施例5.3(遅延時間制御型) 図25の電源回路は、図23中のプログラマブル定電圧
発生回路82を制御するための温度検出回路83を、パ
ルス発生回路91、第1の遅延回路92、第2の遅延回
路93及び遅延時間差検出回路94からなるアクティブ
電圧制御回路95に置き換えたものである。
(2) Embodiment 5.3 (Delay Time Control Type) The power supply circuit of FIG. 25 includes a temperature detection circuit 83 for controlling the programmable constant voltage generation circuit 82 in FIG. It is replaced with an active voltage control circuit 95 including a first delay circuit 92, a second delay circuit 93, and a delay time difference detection circuit 94.

【0091】パルス発生回路91は、システムクロック
(DRAMにおけるRAS等)や内部リフレッシュ信号
等を分周してパルス信号を生成し、該パルス信号を第1
及び第2の遅延回路92,93にそれぞれ供給するため
の回路である。第1の遅延回路92は、パルス信号の遅
延時間の温度依存性の小さい遅延回路であって、例えば
抵抗素子とコンデンサ素子とで決定される時定数を遅延
に利用したものである。温度依存性の小さい第1の遅延
回路92の例として、前記従来のCR遅延回路が挙げら
れる。第2の遅延回路93は、基準温度(室温)におけ
るパルス信号の遅延時間が第1の遅延回路92と一致す
るように設定された温度モニタとしての論理ゲートを有
するものである。ここで論理ゲートとは、DRAMの周
辺回路で用いられているNANDゲート等の一般的な論
理回路を指している。遅延時間差検出回路94は、第1
の遅延回路92の遅延時間と第2の遅延回路93の遅延
時間との差を検出するための回路であって、第2の遅延
回路93の遅延時間が第1の遅延回路92の遅延時間よ
り大きくなった場合には促進信号を出力し、第2の遅延
回路93の遅延時間が第1の遅延回路92の遅延時間よ
り小さくなった場合には抑制信号を出力する機能を有す
るものである。
The pulse generating circuit 91 generates a pulse signal by dividing the frequency of a system clock (such as RAS in a DRAM), an internal refresh signal and the like, and converts the pulse signal into a first signal.
And second delay circuits 92 and 93, respectively. The first delay circuit 92 is a delay circuit in which the temperature dependence of the delay time of the pulse signal is small, and uses a time constant determined by, for example, a resistance element and a capacitor element for the delay. An example of the first delay circuit 92 having small temperature dependency is the above-mentioned conventional CR delay circuit. The second delay circuit 93 has a logic gate as a temperature monitor set so that the delay time of the pulse signal at the reference temperature (room temperature) matches the first delay circuit 92. Here, the logic gate indicates a general logic circuit such as a NAND gate used in a peripheral circuit of the DRAM. The delay time difference detection circuit 94
For detecting the difference between the delay time of the delay circuit 92 and the delay time of the second delay circuit 93, wherein the delay time of the second delay circuit 93 is longer than the delay time of the first delay circuit 92. It has a function of outputting a promotion signal when it becomes larger, and outputting a suppression signal when the delay time of the second delay circuit 93 becomes smaller than the delay time of the first delay circuit 92.

【0092】プログラマブル定電圧発生回路82は、前
記抵抗手段及び短絡手段の作用により制御信号Cに応じ
て出力ノード41aの電位を変更し、以て安定化出力電
圧としての出力線44の電位を変更できるように構成さ
れた基準電位発生回路41を備えており、遅延時間差検
出回路94からの促進信号を受け取る毎に出力線44の
電位を上昇させ、抑制信号を受け取る毎に該出力線44
の電位を低下させる機能を有する。なお、少なくとも第
2の遅延回路93へは、プログラマブル定電圧発生回路
82から例えば内部降圧レベルVint として出力される
出力線44上の安定化電圧が電源として供給されてい
る。
The programmable constant voltage generating circuit 82 changes the potential of the output node 41a according to the control signal C by the action of the resistance means and the short-circuit means, thereby changing the potential of the output line 44 as a stabilized output voltage. And a reference potential generating circuit 41 configured to increase the potential of the output line 44 each time a promotion signal from the delay time difference detection circuit 94 is received, and to increase the potential of the output line 44 each time a suppression signal is received.
Has the function of lowering the potential of the Note that at least the second delay circuit 93 is supplied as a power supply with a stabilized voltage on the output line 44 output from the programmable constant voltage generation circuit 82, for example, as the internal step-down level Vint.

【0093】次に、以上の構成を有する図25の電源回
路の動作を説明する。温度が上昇すると第2の遅延回路
93における遅延時間が増大する。これに対して温度依
存性の小さい第1の遅延回路92は遅延時間がそれほど
増大しない。そのため、2つの遅延回路92,93の遅
延時間の間に差が発生する。これを遅延時間差検出回路
94が検出し、出力線44の電位を上昇させるように促
進信号をプログラマブル定電圧発生回路82に送ること
になる。この促進信号は、パルス発生回路91でパルス
信号が発生する毎に送られる。これによって出力線44
の電位Vint が上昇し、それを電源としている第2の遅
延回路93の遅延時間の増大が打ち消されることにな
る。
Next, the operation of the power supply circuit having the above configuration and shown in FIG. 25 will be described. When the temperature rises, the delay time in the second delay circuit 93 increases. On the other hand, the delay time of the first delay circuit 92 having small temperature dependency does not increase so much. Therefore, a difference occurs between the delay times of the two delay circuits 92 and 93. This is detected by the delay time difference detection circuit 94, and a promotion signal is sent to the programmable constant voltage generation circuit 82 so as to increase the potential of the output line 44. This promotion signal is sent each time a pulse signal is generated in the pulse generation circuit 91. As a result, the output line 44
Rises, and the increase in the delay time of the second delay circuit 93 using the same as the power supply is canceled.

【0094】反対に第2の遅延回路93における遅延時
間が小さくなり過ぎた結果温度依存性の小さい第1の遅
延回路92における遅延時間よりも小さくなると、今度
はプログラマブル定電圧発生回路82に対して抑制信号
を送り、出力線44上の安定化出力電圧Vint を低下さ
せる。これらの一連の動作によって、第2の遅延回路9
3の遅延時間が第1の遅延回路92の遅延時間にほぼ等
しくなるように出力線44上の安定化出力電圧Vint が
調整され、結果として該電圧Vint を電源としている不
図示の多数の論理回路の遅延時間が各々一定に保たれる
わけである。このようなアクティブ電圧制御型の電源回
路を用いることよって、後に説明するように、信頼性の
高い半導体集積回路を実現することができる。
On the other hand, if the delay time in the second delay circuit 93 becomes too small as a result of the delay time in the first delay circuit 92 having a small temperature dependency, the programmable constant voltage generation circuit 82 A suppression signal is sent to lower the stabilized output voltage Vint on output line 44. By these series of operations, the second delay circuit 9
The stabilized output voltage Vint on the output line 44 is adjusted so that the delay time of the third delay circuit 3 is substantially equal to the delay time of the first delay circuit 92. As a result, a large number of logic circuits (not shown) powered by the voltage Vint are used. Are kept constant. By using such an active voltage control type power supply circuit, a highly reliable semiconductor integrated circuit can be realized as described later.

【0095】なお、図24中のプログラマブル定電圧発
生回路85を制御するための温度検出回路86を、図2
5の場合と同様のパルス発生回路、第1及び第2の遅延
回路並びに遅延時間差検出回路に置き換えてもよい。
A temperature detecting circuit 86 for controlling the programmable constant voltage generating circuit 85 in FIG.
5, a pulse generation circuit, first and second delay circuits, and a delay time difference detection circuit may be used.

【0096】《実施例6(半導体集積回路)》次に、本
発明の第6の実施例である半導体集積回路について、図
26〜図39を参照しながら説明する。
Embodiment 6 (Semiconductor Integrated Circuit) Next, a semiconductor integrated circuit according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0097】(1) 実施例6.1(遅延時間補正回路を備
えた半導体集積回路:論理積型の遅延時間差検出回路) 図26の構成は、図25の電源回路技術を半導体集積回
路に応用したものである。図26中の101〜106で
示される回路ブロックは、図25中のパルス発生回路9
1、温度依存性の小さい第1の遅延回路92、論理ゲー
トで構成された第2の遅延回路93、遅延時間差検出回
路94、制御回路81b及び定電圧発生回路81aに各
々相当する。図26の半導体集積回路では、定電圧発生
回路106の出力電圧Vint が第2の遅延回路103及
び周辺回路107に各々電源電圧として供給される。周
辺回路107は遅延回路を備えており、該遅延回路は各
々P型及びN型の2個のMOSFETのみで構成された
複数段のインバータからなる通常のインバータチェイン
で構成されている。各インバータには、定電圧発生回路
106の出力電圧Vint がそれぞれ電源電圧として供給
されている。
(1) Embodiment 6.1 (Semiconductor integrated circuit provided with delay time correction circuit: AND type delay time difference detection circuit) The configuration of FIG. 26 applies the power supply circuit technology of FIG. 25 to a semiconductor integrated circuit. It was done. The circuit blocks indicated by 101 to 106 in FIG. 26 correspond to the pulse generation circuit 9 in FIG.
1. These correspond to a first delay circuit 92 having a small temperature dependency, a second delay circuit 93 composed of a logic gate, a delay time difference detection circuit 94, a control circuit 81b, and a constant voltage generation circuit 81a. In the semiconductor integrated circuit of FIG. 26, the output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 106 is supplied to the second delay circuit 103 and the peripheral circuit 107 as power supply voltages. The peripheral circuit 107 includes a delay circuit, and the delay circuit is formed of a normal inverter chain including a plurality of stages of inverters each including only two P-type and N-type MOSFETs. The output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 106 is supplied to each inverter as a power supply voltage.

【0098】この構成によれば、第1の遅延回路102
の遅延時間τ1 と第2の遅延回路103の遅延時間τ2
との差が認められなくなるまで定電圧発生回路106の
出力電圧Vint を変更することにより、該電圧を電源と
した周辺回路107中のインバータチェインの遅延時間
が補正される。つまり、通常のインバータチェインで構
成された遅延回路を周辺回路107に用いているにもか
かわらず該遅延回路に小さい温度依存性の遅延特性を実
現でき、前記従来のCR遅延回路を用いる場合に比べて
周辺回路107のレイアウト面積が低減される。なお、
パルス発生回路101の温度特性が問題になる場合に
は、温度依存性の小さい外部からのパルス信号を直接第
1及び第2の遅延回路102,103に入力してもよ
い。
According to this configuration, the first delay circuit 102
And the delay time τ2 of the second delay circuit 103
By changing the output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 106 until the difference from the above is not recognized, the delay time of the inverter chain in the peripheral circuit 107 using the voltage as a power supply is corrected. That is, despite the fact that a delay circuit composed of a normal inverter chain is used for the peripheral circuit 107, a small temperature-dependent delay characteristic can be realized in the delay circuit. Thus, the layout area of the peripheral circuit 107 is reduced. In addition,
When the temperature characteristic of the pulse generation circuit 101 becomes a problem, an external pulse signal having low temperature dependency may be directly input to the first and second delay circuits 102 and 103.

【0099】次に、図26中の遅延時間差検出回路10
4、制御回路105及び定電圧発生回路106の詳細構
成について順次説明する。
Next, the delay time difference detecting circuit 10 shown in FIG.
4. Detailed configurations of the control circuit 105 and the constant voltage generation circuit 106 will be sequentially described.

【0100】図27に遅延時間差検出回路104の構成
を示す。第1の遅延回路102の出力信号S1 と第2の
遅延回路103の出力信号S2 とを入力信号とする遅延
時間差検出回路104は、第1の遅延回路部111a,
111bと、第1のNAND回路112a,112b
と、第2のNAND回路113a,113bと、第3の
NAND回路114と、第2の遅延回路部115a,1
15bと、第4のNAND回路116a,116bとに
よって構成されている。第1の遅延回路部111a,1
11bは、各々入力信号S1 ,S2 を遅延させるための
互いに同数かつ奇数段のインバータによって構成された
ものである。第1のNAND回路112a,112b
は、入力信号S1 ,S2 と、第1の遅延回路部111
a,111bの出力信号とをそれぞれ入力とする。第2
のNAND回路113a,113bは、入力信号S1 ,
S2 と、第1のNAND回路112a,112bの出力
信号S3,S4 を各々反転させた信号とをそれぞれ入力
とする。第3のNAND回路114は、第2のNAND
回路113a,113bの出力信号S5 ,S6 を各々反
転させた信号をそれぞれ入力とする。第2の遅延回路部
115a,115bは、各々第3のNAND回路114
の入力信号を遅延させるための互いに同数かつ偶数段の
インバータによって構成されたものである。第4のNA
ND回路116a,116bは、第2の遅延回路部11
5a,115bの各々の出力信号と、第3のNAND回
路114の出力信号S7 とをそれぞれ入力とする。第4
のNAND回路116a,116bから、各々第1及び
第2の検出信号S8 ,S9 が前記促進信号及び抑制信号
として出力される。
FIG. 27 shows the configuration of the delay time difference detection circuit 104. The delay time difference detection circuit 104, which uses the output signal S1 of the first delay circuit 102 and the output signal S2 of the second delay circuit 103 as input signals, comprises a first delay circuit section 111a,
111b and first NAND circuits 112a and 112b
, Second NAND circuits 113a and 113b, third NAND circuit 114, and second delay circuit sections 115a and 115a.
15b and fourth NAND circuits 116a and 116b. First delay circuit section 111a, 1
Numeral 11b designates an odd number of stages of inverters for delaying the input signals S1 and S2. First NAND circuits 112a, 112b
Are the input signals S1 and S2 and the first delay circuit 111
a and 111b are input. Second
NAND circuits 113a and 113b receive the input signals S1,
S2 and a signal obtained by inverting the output signals S3 and S4 of the first NAND circuits 112a and 112b, respectively, are input. The third NAND circuit 114 is a second NAND circuit.
Signals obtained by inverting the output signals S5 and S6 of the circuits 113a and 113b are input. The second delay circuit units 115a and 115b are connected to the third NAND circuit 114, respectively.
Are configured by the same number of even-numbered stages of inverters for delaying the input signal. 4th NA
The ND circuits 116a and 116b are connected to the second delay circuit 11
5a and 115b and the output signal S7 of the third NAND circuit 114 are input. 4th
, NAND circuits 116a and 116b output first and second detection signals S8 and S9, respectively, as the promotion signal and the suppression signal.

【0101】図28(a)〜(i)に、τ1 <τ2 の場
合の遅延時間差検出回路104の動作波形図を示す。第
1の遅延回路部111a,111b及び第1のNAND
回路112a,112bによって、入力信号S1 ,S2
の各々から互いに同じパルス幅を持ったS3 ,S4 が生
成される。S3 ,S4 は、第2のNAND回路113
a,113bによって、立ち下がりタイミングの揃った
信号S5 ,S6 へと変えられる。第3のNAND回路1
14は、S5 ,S6 のうちのパルス幅の小さい方の信号
をS7 として選択する。第4のNAND回路116a,
116bは、S7を元にして第1及び第2の検出信号S8
,S9 を出力する。この際、第2の遅延回路103の
遅延時間τ2 が第1の遅延回路102の遅延時間τ1 よ
り大きいことを反映して第2の検出信号S9 のパルス幅
が第1の検出信号S8 のパルス幅より大きくなり、かつ
そのパルス幅の差Δxは入力信号S1 ,S2 の遅延時間
差δに比例する。ただし、該第1及び第2の検出信号S
8 ,S9 の立ち上がりタイミングは揃っている。
FIGS. 28A to 28I show operation waveform diagrams of the delay time difference detection circuit 104 when τ1 <τ2. First delay circuit units 111a and 111b and first NAND
The input signals S1 and S2 are output by the circuits 112a and 112b.
Generates S3 and S4 having the same pulse width from each other. S3 and S4 correspond to the second NAND circuit 113
The signals a and 113b are changed to signals S5 and S6 having the same falling timing. Third NAND circuit 1
The selector 14 selects the signal having the smaller pulse width of S5 and S6 as S7. The fourth NAND circuit 116a,
116b is a first and second detection signal S8 based on S7.
, S9 are output. At this time, the pulse width of the second detection signal S9 is changed to the pulse width of the first detection signal S8, reflecting that the delay time τ2 of the second delay circuit 103 is longer than the delay time τ1 of the first delay circuit 102. The pulse width difference Δx is proportional to the delay time difference δ between the input signals S1 and S2. However, the first and second detection signals S
8 and S9 have the same rising timing.

【0102】逆にτ1 >τ2 の場合には、図示を省略す
るが、同一時刻に立ち上がる第1及び第2の検出信号S
8 ,S9 が遅延時間差検出回路104から出力され、し
かも第2の検出信号S9 のパルス幅が第1の検出信号S
8 のパルス幅より小さくされる。後述のとおり、第2の
検出信号S9 のパルス幅の方が大きい場合には定電圧発
生回路106の出力電圧Vint を上昇させるように、第
1の検出信号S8 のパルス幅の方が大きい場合には該V
int を低下させるように作用するのである。
Conversely, when τ1> τ2, although not shown, the first and second detection signals S rising at the same time are not shown.
8 and S9 are output from the delay time difference detection circuit 104, and the pulse width of the second detection signal S9 is changed to the first detection signal S9.
8 is made smaller than the pulse width. As will be described later, when the pulse width of the first detection signal S8 is larger, the output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 106 is increased when the pulse width of the second detection signal S9 is larger. Is the V
It works to reduce int.

【0103】図29に制御回路105の構成を示す。遅
延時間差検出回路104からの第1及び第2の検出信号
S8 ,S9 に加えてLOAD信号及びRESET信号を
入力信号とする制御回路105は、M段の双方向シフト
レジスタとして構成されている。該シフトレジスタの各
段は、第1及び第2のラッチ回路121,122と、各
々N型MOSFETで構成された第1〜第4のスイッチ
ング素子とを備えている。第1のスイッチング素子12
3は、第1のラッチ回路121の出力側と第2のラッチ
回路122の入力側との間に介在し、ゲートにLOAD
信号が印加される。第2のスイッチング素子124は、
第1のラッチ回路121の入力側と隣接下段の第2のラ
ッチ回路122の出力側との間に介在し、ゲートに第1
の検出信号S8 が印加される。第3のスイッチング素子
125は、第1のラッチ回路121の入力側と隣接上段
の第2のラッチ回路122の出力側との間に介在し、ゲ
ートに第2の検出信号S9 が印加される。第4のスイッ
チング素子126は、上半の段では第1のラッチ回路1
21の入力側と電源線(VCC:外部電源電圧レベル)と
の間に、下半の段では第1のラッチ回路121の入力側
と接地線(VSS:接地電位)との間に各々介在し、ゲー
トにRESET信号が印加される。
FIG. 29 shows the structure of the control circuit 105. The control circuit 105 that receives the LOAD signal and the RESET signal in addition to the first and second detection signals S8 and S9 from the delay time difference detection circuit 104 is configured as an M-stage bidirectional shift register. Each stage of the shift register includes first and second latch circuits 121 and 122, and first to fourth switching elements each including an N-type MOSFET. First switching element 12
3 is interposed between the output side of the first latch circuit 121 and the input side of the second latch circuit 122, and LOAD is connected to the gate.
A signal is applied. The second switching element 124 is
The first latch circuit 121 is interposed between the input side of the first latch circuit 121 and the output side of the second lower latch circuit 122 in the adjacent lower stage.
Is applied. The third switching element 125 is interposed between the input side of the first latch circuit 121 and the output side of the adjacent upper-stage second latch circuit 122, and has a gate to which the second detection signal S9 is applied. The fourth switching element 126 has the first latch circuit 1 in the upper half.
21 and the power supply line (VCC: external power supply voltage level), and in the lower half, between the input side of the first latch circuit 121 and the ground line (VSS: ground potential). , A RESET signal is applied to the gate.

【0104】この構成によれば、まずRESET信号に
より全段の第4のスイッチング素子124が開かれ、ま
たLOAD信号のパルスにより全段の第1のスイッチン
グ素子123が開かれる。これにより全段の第1及び第
2のラッチ回路121,122の初期設定が行われ、上
半の段の第2のラッチ回路122からはHighの論理
信号が、下半の段のラッチ回路122からはLowの論
理信号が各々出力される。第2のラッチ回路122に保
持された該M個の論理信号は、定電圧発生回路106へ
の制御信号Cの初期信号となる。
According to this configuration, first, the fourth switching elements 124 in all stages are opened by the RESET signal, and the first switching elements 123 in all stages are opened by the pulse of the LOAD signal. Thereby, the initial settings of the first and second latch circuits 121 and 122 of all the stages are performed, and the high logic signal is output from the second latch circuit 122 of the upper half and the latch circuit 122 of the lower half. Output a low logic signal. The M logic signals held in the second latch circuit 122 become initial signals of the control signal C to the constant voltage generation circuit 106.

【0105】RESET信号の解除後、遅延時間差検出
回路104から立ち上がりタイミングの揃った第1及び
第2の検出信号S8 ,S9 が供給される。この際、例え
ば図28(h)及び(i)に示すようにτ1 <τ2 であ
ることを反映して第2の検出信号S9 のパルス幅が第1
の検出信号S8 のパルス幅より大きくなっている場合に
は、第1の検出信号S8 の方が先にLow状態に遷移す
るので、上半の段のうちの最下段の第2のラッチ回路1
22の出力がLowの論理信号に変えられる。すなわ
ち、τ1 <τ2 の場合には、LOAD信号のパルスが順
次供給されるにつれて、制御信号Cを構成するM個の論
理信号のうちのLow信号の数が増えていく。逆にτ1
>τ2 の場合には、Highの論理信号の数が増えてい
く。
After the RESET signal is released, the first and second detection signals S8 and S9 having the same rising timing are supplied from the delay time difference detection circuit 104. At this time, for example, as shown in FIGS. 28 (h) and (i), the pulse width of the second detection signal S9 is changed to the first pulse, reflecting that τ1 <τ2.
When the pulse width of the first detection signal S8 is larger than the pulse width of the first detection signal S8, the first detection signal S8 transitions to the low state first, so that the lowermost second latch circuit 1
The output of 22 is changed to a low logic signal. That is, when τ1 <τ2, as the pulses of the LOAD signal are sequentially supplied, the number of Low signals among the M logic signals constituting the control signal C increases. Conversely, τ1
If> τ2, the number of High logic signals increases.

【0106】図30に定電圧発生回路106の構成を示
す。制御回路105からの制御信号Cを入力信号とする
定電圧発生回路106は、図8の構成と同様に、基準電
位発生回路131と、コンパレータ回路132と、ドラ
イバ回路133とを備えており、出力線134の電位
(Vint :内部降圧レベル)を制御信号Cに応じて変更
できるように構成されている。基準電位発生回路131
は、基準電位線としての接地線と出力ノード131aと
の間に一定の電位差を発生させるための回路であって、
抵抗手段R、帰還手段F及びダイオード手段Dを備えた
ものである。抵抗手段Rを構成するように互いに直列接
続されたM個の抵抗素子は、電源線(VCC:外部電源電
圧レベル)と出力ノード131aとの間に挿入されてい
る。しかも、各抵抗素子の両端子間を短絡できるように
その各々にP型MOSFETが並列接続されており、各
P型MOSFETのゲートに制御回路105からの制御
信号Cを構成するM個の論理信号がそれぞれ印加され
る。帰還手段Fを構成するN型MOSFETは、ゲート
が出力ノード131aに接続され、かつソースが接地線
(VSS:接地電位)に接続されている。また、ダイオー
ド手段Dを構成するように互いに直列接続された他の3
つのN型MOSFETは、帰還手段FのN型MOSFE
Tのドレインと出力ノード131aとの間に挿入されて
いる。コンパレータ回路132は、カレントミラー型の
差動増幅器として2個のP型MOSFETと2個のN型
MOSFETとで構成されており、基準電位発生回路1
31の出力ノード131aの電位と出力線134の電位
とを比較する。出力線134を駆動するためのドライバ
回路133は、コンパレータ回路132の出力がゲート
に印加されたP型MOSFETと、ノーマリ・オンのN
型MOSFETとで構成されている。
FIG. 30 shows the configuration of the constant voltage generation circuit 106. The constant voltage generation circuit 106 that receives the control signal C from the control circuit 105 as an input signal includes a reference potential generation circuit 131, a comparator circuit 132, and a driver circuit 133, as in the configuration of FIG. The potential of the line 134 (Vint: internal step-down level) can be changed according to the control signal C. Reference potential generation circuit 131
Is a circuit for generating a constant potential difference between a ground line as a reference potential line and the output node 131a,
It comprises resistance means R, feedback means F and diode means D. The M resistance elements connected in series to constitute the resistance means R are inserted between a power supply line (VCC: external power supply voltage level) and the output node 131a. In addition, P-type MOSFETs are connected in parallel to each of the resistance elements so that both terminals of the resistance elements can be short-circuited. Are respectively applied. The N-type MOSFET constituting the feedback means F has a gate connected to the output node 131a and a source connected to a ground line (VSS: ground potential). In addition, another 3 connected in series with each other to constitute the diode means D.
The two N-type MOSFETs are N-type MOSFETs of the feedback means F.
It is inserted between the drain of T and the output node 131a. The comparator circuit 132 is composed of two P-type MOSFETs and two N-type MOSFETs as a current mirror type differential amplifier.
Then, the potential of the output node 131a and the potential of the output line 134 are compared. The driver circuit 133 for driving the output line 134 includes a P-type MOSFET in which the output of the comparator circuit 132 is applied to the gate and a normally-on N-type MOSFET.
And a type MOSFET.

【0107】この構成によれば、τ1 <τ2 であること
を反映して制御回路105からの制御信号CのうちのL
owの論理信号の数が増えると、基準電位発生回路13
1の出力ノード131aの電位が上昇する結果、第2の
遅延回路103の遅延時間τ2 を小さくするように出力
電圧Vint が上昇する。逆にτ1 >τ2 の場合には、H
ighの論理信号の数が増えることにより、第2の遅延
回路103の遅延時間τ2 を大きくするように出力電圧
Vint が低下する。つまり、第1及び第2の遅延回路1
02,103の遅延時間差を解消するように出力電圧V
int が変更されるのである。
According to this configuration, L of the control signal C from the control circuit 105 reflects that τ1 <τ2.
When the number of logic signals ow increases, the reference potential generation circuit 13
As a result, the output voltage Vint increases so as to reduce the delay time τ2 of the second delay circuit 103. Conversely, if τ1> τ2, H
As the number of high logic signals increases, the output voltage Vint decreases so as to increase the delay time τ2 of the second delay circuit 103. That is, the first and second delay circuits 1
Output voltage V so that the delay time difference between
int is changed.

【0108】(2) 実施例6.2(遅延時間補正回路を備
えた半導体集積回路:論理和型の遅延時間差検出回路) 図31の構成は、第1の遅延回路から出力される1つの
信号と、第2の遅延回路から出力される互いの間に位相
差を持った2つの信号とを利用して遅延時間差の有無を
検出するものである。同図において、141はパルス発
生回路、142は第1の遅延回路、143は第2の遅延
回路、144は遅延時間差検出回路、145は制御回
路、146は定電圧発生回路、147は周辺回路であっ
て、図26中の101〜107で示される回路ブロック
に各々相当する。
(2) Embodiment 6.2 (Semiconductor Integrated Circuit with Delay Time Correction Circuit: OR Type Delay Time Difference Detection Circuit) The configuration shown in FIG. 31 is one signal output from the first delay circuit. And two signals output from the second delay circuit and having a phase difference therebetween to detect whether there is a delay time difference. In the figure, 141 is a pulse generation circuit, 142 is a first delay circuit, 143 is a second delay circuit, 144 is a delay time difference detection circuit, 145 is a control circuit, 146 is a constant voltage generation circuit, and 147 is a peripheral circuit. Thus, they correspond to the circuit blocks 101 to 107 in FIG. 26, respectively.

【0109】第2の遅延回路143は、(n+2)段又
はそれ以上の段数のインバータからなる通常のインバー
タチェインで構成されている。このうち基準信号として
のn段目のインバータの出力信号T4 で第2の遅延回路
143の遅延時間τ2 が規定されており、基準温度にお
ける遅延時間τ2 が第1の遅延回路142の遅延時間τ
1 と一致するように、第1及び第2の遅延回路142,
143の各々の遅延特性の温度依存性が設定されてい
る。第1の遅延回路142からは1つの出力信号T1 の
みが取り出されるのに対して、第2の遅延回路143か
らは(n−2)段目のインバータの出力信号T2 (補助
出力信号)と、(n−1)段目のインバータの出力信号
T3 (第1の出力信号)と、(n+1)段目のインバー
タの出力信号T5 (第2の出力信号)との3つの信号が
出力される。
The second delay circuit 143 is constituted by a normal inverter chain including (n + 2) or more stages of inverters. The delay time .tau.2 of the second delay circuit 143 is defined by the output signal T4 of the n-th inverter as a reference signal, and the delay time .tau.2 at the reference temperature is the delay time .tau. Of the first delay circuit 142.
1 and the first and second delay circuits 142, 142
143, the temperature dependence of the delay characteristics is set. While only one output signal T1 is extracted from the first delay circuit 142, the output signal T2 (auxiliary output signal) of the (n-2) th inverter is output from the second delay circuit 143; Three signals, an output signal T3 (first output signal) of the (n-1) th inverter and an output signal T5 (second output signal) of the (n + 1) th inverter, are output.

【0110】遅延時間差検出回路144は、3入力のN
OR回路151と、第1のインバータ152と、第1の
ラッチ回路153と、N型MOSFETで構成された第
1のスイッチング素子154と、NAND回路155
と、第2のインバータ156と、P型MOSFETで構
成された第2のスイッチング素子157と、第2のラッ
チ回路158とを備えている。NOR回路151は、第
1の遅延回路142の出力信号T1 と、第2の遅延回路
143の第1及び第2の出力信号T3 ,T5 とを入力信
号とする。第1のインバータ152は、NOR回路15
1の出力信号を反転させた信号を第1のラッチ回路15
3の入力側に供給する。第1のスイッチング素子154
は、第1のラッチ回路153の出力側と接地線との間に
介在しており、該第1のラッチ回路153を初期化する
ようにゲートに第2の遅延回路143の第2の出力信号
T5 が印加される。NAND回路155は、第1のラッ
チ回路153の出力信号と、第2の遅延回路143の補
助出力信号T2 を第2のインバータ156で反転させた
信号とを入力信号として、第1の遅延回路142の遅延
時間τ1 と第2の遅延回路143の遅延時間τ2 との差
の有無を示す第1の検出信号T6 を出力するものであ
る。第2のスイッチング素子157は、第1の遅延回路
142の出力側と第2のラッチ回路158の入力側との
間に介在しており、ゲートに第2の遅延回路143から
の補助出力信号T2 が印加される。第2のラッチ回路1
58は、第1及び第2の遅延回路142,143のうち
のいずれの遅延時間が大きいかを示す第2の検出信号T
7 を出力するものである。以上の構成を備えた遅延時間
差検出回路144から出力される第1及び第2の検出信
号T6 ,T7 は、前記促進信号及び抑制信号として制御
回路145に供給される。
The delay time difference detection circuit 144 has a three-input N
OR circuit 151, first inverter 152, first latch circuit 153, first switching element 154 composed of an N-type MOSFET, and NAND circuit 155
, A second inverter 156, a second switching element 157 formed of a P-type MOSFET, and a second latch circuit 158. The NOR circuit 151 receives the output signal T1 of the first delay circuit 142 and the first and second output signals T3 and T5 of the second delay circuit 143 as input signals. The first inverter 152 is connected to the NOR circuit 15
1 to the first latch circuit 15
3 input. First switching element 154
Is interposed between the output side of the first latch circuit 153 and the ground line, and the second output signal of the second delay circuit 143 is applied to the gate so as to initialize the first latch circuit 153. T5 is applied. The NAND circuit 155 receives the output signal of the first latch circuit 153 and the signal obtained by inverting the auxiliary output signal T2 of the second delay circuit 143 by the second inverter 156 as input signals, and outputs the first delay circuit 142 And outputs a first detection signal T6 indicating whether or not there is a difference between the delay time .tau.1 of the second delay circuit 143 and the delay time .tau.2 of the second delay circuit 143. The second switching element 157 is interposed between the output side of the first delay circuit 142 and the input side of the second latch circuit 158, and has its gate connected to the auxiliary output signal T2 from the second delay circuit 143. Is applied. Second latch circuit 1
58 is a second detection signal T indicating which one of the first and second delay circuits 142 and 143 has a longer delay time.
7 is output. The first and second detection signals T6 and T7 output from the delay time difference detection circuit 144 having the above configuration are supplied to the control circuit 145 as the promotion signal and the suppression signal.

【0111】図32(a)〜(g)にτ1 >τ2 の場合
の遅延時間差検出回路144の動作波形図を示す。図3
3(a)〜(g)は、τ1 <τ2 の場合の同様の図であ
る。まず、第1のラッチ回路153の出力は、第2の遅
延回路143の第2の出力信号T5 がHighになるこ
とによって第1のスイッチング素子154がオン状態と
なった時点で、Lowに初期化される。この結果、第1
の検出信号T6 はHighとなる。第1の遅延回路14
2の出力信号T1 と第2の遅延回路143の第1及び第
2の出力信号T3 ,T5 とが同時にLowになる期間が
ある場合には、NOR回路151により第1の遅延回路
142の遅延時間τ1 と第2の遅延回路143の遅延時
間τ2 との間に差があるものと認識される結果、第1の
ラッチ回路153の出力がLowからHighへと遷移
する。したがって、図32(f)及び図33(f)に示
すように、第1の検出信号T6 がLowへと遷移する。
このようにして一旦Lowへの遷移が生じた第1の検出
信号T6 は、第2の出力信号T5 がHighに遷移する
ことにより第1のスイッチング素子154が再びオン状
態になるまで、第1のラッチ回路153によってLow
状態に保持される。NOR回路151の3つの入力信号
T1 ,T3 ,T5 が同時にLowになることがない場合
には、第1の検出信号T6 は、一度もLowに遷移する
ことなくHigh状態に保持される。
FIGS. 32A to 32G show operation waveform diagrams of the delay time difference detection circuit 144 when τ1> τ2. FIG.
3 (a) to 3 (g) are similar diagrams when τ1 <τ2. First, the output of the first latch circuit 153 is initialized to Low when the second output signal T5 of the second delay circuit 143 becomes High and the first switching element 154 is turned on. Is done. As a result, the first
Is high. First delay circuit 14
When the output signal T1 of the second delay circuit and the first and second output signals T3 and T5 of the second delay circuit 143 have a low level at the same time, the delay time of the first delay circuit 142 is determined by the NOR circuit 151. As a result of the recognition that there is a difference between τ1 and the delay time τ2 of the second delay circuit 143, the output of the first latch circuit 153 transitions from low to high. Therefore, as shown in FIGS. 32 (f) and 33 (f), the first detection signal T6 transitions to Low.
The first detection signal T6, which has once transitioned to Low in this manner, remains in the first state until the first switching element 154 is turned on again by the transition of the second output signal T5 to High. Low by the latch circuit 153
Held in state. When the three input signals T1, T3, and T5 of the NOR circuit 151 do not go Low at the same time, the first detection signal T6 is held in the High state without ever making a transition to Low.

【0112】一方、図32(a)及び(b)に示すよう
に第2の遅延回路143の補助出力信号T2 がHigh
からLowへと遷移した時に第1の遅延回路142の出
力信号T1 がHigh状態であるならば、第2のラッチ
回路158は、第2の遅延回路143の遅延時間τ2 が
第1の遅延回路142の遅延時間τ1 よりも小さい(τ
1 >τ2 )との判定を制御回路145に知らせるよう
に、第2の検出信号T7をLowに設定する。これとは
逆に、図33(a)及び(b)に示すように補助出力信
号T2 がHighからLowへと遷移した時に第1の遅
延回路142の出力信号T1 がLow状態であるなら
ば、τ1 <τ2 であることを示すように第2の検出信号
T7 がHighに設定される。
On the other hand, as shown in FIGS. 32A and 32B, the auxiliary output signal T2 of the second delay circuit 143 is high.
If the output signal T1 of the first delay circuit 142 is in the high state when the signal transits from the low state to the low state, the second latch circuit 158 determines that the delay time τ2 of the second delay circuit 143 is Is smaller than the delay time τ1 (τ
The second detection signal T7 is set to Low so as to notify the control circuit 145 of the determination that 1> τ2). Conversely, if the output signal T1 of the first delay circuit 142 is in a low state when the auxiliary output signal T2 changes from high to low as shown in FIGS. 33 (a) and (b), The second detection signal T7 is set high to indicate that .tau.1 <.tau.2.

【0113】制御回路145は、第1の検出信号T6 と
してLowのパルスを受け取った時に第2の検出信号T
7 がτ1 >τ2 を示すLow状態であるならば、定電圧
発生回路146に出力電圧Vint を低下させるように制
御信号Cを出力する。また、第1の検出信号T6 として
Lowのパルスを受け取った時に第2の検出信号T7が
τ1 <τ2 を示すHigh状態であるならば、出力電圧
Vint を上昇させるような制御信号Cが出力される。第
1の検出信号T6 がHigh状態に保持されている場合
には、出力電圧Vint の変更が停止される。このように
して第1の遅延回路142の遅延時間τ1 と第2の遅延
回路143の遅延時間τ2 との差が認められなくなるま
で定電圧発生回路146の出力電圧Vint を変更するこ
とにより、該電圧を電源とした周辺回路147の遅延時
間が補正される。
When the control circuit 145 receives a Low pulse as the first detection signal T6, it outputs the second detection signal T6.
If 7 is in a low state indicating τ1> τ2, the control signal C is output to the constant voltage generation circuit 146 so as to lower the output voltage Vint. If a low pulse is received as the first detection signal T6 and the second detection signal T7 is in a High state indicating τ1 <τ2, a control signal C for increasing the output voltage Vint is output. . When the first detection signal T6 is held in the High state, the change of the output voltage Vint is stopped. By changing the output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 146 until the difference between the delay time τ1 of the first delay circuit 142 and the delay time τ2 of the second delay circuit 143 is no longer recognized, , The delay time of the peripheral circuit 147 is corrected.

【0114】図31の構成によれば、第2の遅延回路1
43中の(n−1)段目のインバータの出力信号T3
と、(n+1)段目のインバータの出力信号T5 とを各
々第1の遅延回路142の出力信号T1 に対する参照信
号として利用したので、ある範囲の不感帯を以て遅延時
間差の有無が検出される。この結果、定電圧発生回路1
46の出力電圧Vint のふらつきを防止できる。なお、
不感帯の幅は、第2の遅延回路143からの2つの参照
信号の取り方により、任意に変更可能である。また、第
2のスイッチング素子157のオン・オフ制御に用いら
れる補助出力信号は、第1の検出信号T6 のパルス出力
タイミングで第2の検出信号T7 の論理レベルを設定で
きる限り、(n−2)段目のインバータの出力信号T2
に限定されない。
According to the configuration of FIG. 31, second delay circuit 1
43, the output signal T3 of the (n-1) th inverter
And the output signal T5 of the (n + 1) th inverter are used as reference signals for the output signal T1 of the first delay circuit 142, so that the presence or absence of a delay time difference is detected with a certain range of dead zone. As a result, the constant voltage generation circuit 1
The fluctuation of the output voltage Vint at 46 can be prevented. In addition,
The width of the dead zone can be arbitrarily changed depending on how to take two reference signals from the second delay circuit 143. The auxiliary output signal used for on / off control of the second switching element 157 is (n−2) as long as the logical level of the second detection signal T7 can be set at the pulse output timing of the first detection signal T6. ) Output signal T2 of the inverter at the stage
It is not limited to.

【0115】(3) 実施例6.3(遅延時間補正回路を備
えた半導体集積回路:フリップフロップ型の遅延時間差
検出回路) 図34の構成は、第1の遅延回路から出力される1つの
信号と、第2の遅延回路から出力される他の1つの信号
とを利用して遅延時間差の有無を検出するものである。
同図において、161はパルス発生回路、162は第1
の遅延回路、163は第2の遅延回路、164は遅延時
間差検出回路、165は制御回路、166は定電圧発生
回路、167は周辺回路であって、図26中の101〜
107で示される回路ブロックに各々相当する。
(3) Embodiment 6.3 (Semiconductor Integrated Circuit with Delay Time Correction Circuit: Flip-Flop Delay Time Difference Detection Circuit) The configuration shown in FIG. 34 has one signal output from the first delay circuit. And another signal output from the second delay circuit to detect the presence or absence of a delay time difference.
In the figure, 161 is a pulse generation circuit, and 162 is a first
26, 163 is a second delay circuit, 164 is a delay time difference detection circuit, 165 is a control circuit, 166 is a constant voltage generation circuit, and 167 is a peripheral circuit.
Each corresponds to a circuit block indicated by 107.

【0116】遅延時間差検出回路164は、フリップフ
ロップ168と、単安定マルチバイブレータ169とを
備えている。フリップフロップ168は、2つのNAN
D回路で構成されており、第1及び第2の遅延回路16
2,163の各々の出力信号U1 ,U2 を入力信号とし
て、第1及び第2の遅延回路162,163のうちのい
ずれの遅延時間が大きいかを示す第1の検出信号U3 を
出力するものである。単安定マルチバイブレータ169
は、2つのNOR回路と3つのインバータとで構成され
ており、第1及び第2の遅延回路162,163の各々
の出力信号U1,U2 を入力信号として、第1の遅延回
路142の遅延時間τ1 と第2の遅延回路143の遅延
時間τ2 との差の有無を示す第2の検出信号U4 を出力
するものである。このような構成を備えた遅延時間差検
出回路164から出力される第1及び第2の検出信号U
3 ,U4 は、前記促進信号及び抑制信号として制御回路
165に供給される。
The delay time difference detection circuit 164 includes a flip-flop 168 and a monostable multivibrator 169. Flip-flop 168 has two NANs
D circuit, and the first and second delay circuits 16
2 and 163, and outputs a first detection signal U3 indicating which one of the first and second delay circuits 162 and 163 has a longer delay time, using the respective output signals U1 and U2 as input signals. is there. Monostable multivibrator 169
Is composed of two NOR circuits and three inverters. The output signals U1 and U2 of the first and second delay circuits 162 and 163 are used as input signals, and the delay time of the first delay circuit 142 is It outputs a second detection signal U4 indicating whether there is a difference between .tau.1 and the delay time .tau.2 of the second delay circuit 143. The first and second detection signals U output from the delay time difference detection circuit 164 having such a configuration.
3 and U4 are supplied to the control circuit 165 as the promotion signal and the suppression signal.

【0117】図35(a)〜(d)にτ1 >τ2 の場合
の遅延時間差検出回路164の動作波形図を示す。図3
6(a)〜(d)は、τ1 <τ2 の場合の同様の図であ
る。2つの入力信号U1 ,U2 がともにLowの時に
は、フリップフロップ168により、第1の検出信号U
3 がHigh状態とされる。図35(a)及び(b)に
示すようにU2 がU1 よりも早くHighに遷移した場
合には、この時点では第1の検出信号U3 がHigh状
態を維持する。これとは逆に図36(a)及び(b)に
示すようにU1 がU2 よりも早くHighに遷移した場
合には、フリップフロップ168の増幅機能により、こ
の時点で第1の検出信号U3 がLowへと急速に遷移す
る。一方、単安定マルチバイブレータ169は、制御回
路165の活性化のタイミングを決めるように、2つの
入力信号U1 ,U2 のうち早くHighに遷移した方の
信号の立ち上がり時点から一定幅のHighのパルス信
号を第2の検出信号U4 として発生させる。すなわち、
図34の遅延時間差検出回路164の構成によれば、フ
リップフロップ168と単安定マルチバイブレータ16
9との利用により、第1及び第2の遅延回路162,1
63の微小な遅延時間差を検出できる。
FIGS. 35A to 35D show operation waveform diagrams of the delay time difference detection circuit 164 when τ1> τ2. FIG.
6 (a) to 6 (d) are similar diagrams when τ1 <τ2. When the two input signals U1 and U2 are both Low, the first detection signal U is output by the flip-flop 168.
3 is in a High state. When U2 transitions to High earlier than U1 as shown in FIGS. 35A and 35B, the first detection signal U3 maintains the High state at this time. Conversely, when U1 transitions to High earlier than U2 as shown in FIGS. 36 (a) and (b), the first detection signal U3 is generated at this time by the amplifying function of the flip-flop 168. Transition to Low rapidly. On the other hand, the monostable multivibrator 169 determines a timing of activation of the control circuit 165 by a pulse signal having a fixed width from a rising point of a signal of the two input signals U1 and U2 which has transitioned to High earlier. As the second detection signal U4. That is,
According to the configuration of the delay time difference detection circuit 164 of FIG. 34, the flip-flop 168 and the monostable multivibrator 16
9, the first and second delay circuits 162, 1
63 small delay time differences can be detected.

【0118】制御回路165は、第2の検出信号U4 と
してHighのパルスを受け取った時に第1の検出信号
U3 がτ1 >τ2 を示すHigh状態であるならば、定
電圧発生回路166に出力電圧Vint を低下させるよう
に制御信号Cを出力する。また、第2の検出信号U4 と
してHighのパルスを受け取った時に第1の検出信号
U3 がτ1 <τ2 を示すLow状態であるならば、出力
電圧Vint を上昇させるような制御信号Cが出力され
る。遅延時間差がないために第2の検出信号U4がLo
w状態に保持されている場合には、出力電圧Vint の変
更が停止される。このようにして第1の遅延回路162
の遅延時間τ1 と第2の遅延回路163の遅延時間τ2
との差が認められなくなるまで定電圧発生回路166の
出力電圧Vint を変更することにより、該電圧を電源と
した周辺回路167の遅延時間が補正される。
If the first detection signal U3 is in the High state indicating τ1> τ2 when receiving the High pulse as the second detection signal U4, the control circuit 165 supplies the output voltage Vint to the constant voltage generation circuit 166. Control signal C is output so as to reduce If the first detection signal U3 is in a low state indicating τ1 <τ2 when a High pulse is received as the second detection signal U4, a control signal C for increasing the output voltage Vint is output. . Since there is no delay time difference, the second detection signal U4 becomes Lo.
If it is kept in the w state, the change of the output voltage Vint is stopped. Thus, the first delay circuit 162
And the delay time τ2 of the second delay circuit 163
By changing the output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 166 until no difference is recognized, the delay time of the peripheral circuit 167 using the voltage as a power supply is corrected.

【0119】(4) 実施例6.4(遅延時間補正回路を備
えた半導体集積回路:リングオッシレータへの応用事
例) 図37の構成は、周辺回路中のリングオッシレータの遅
延を温度変化に応じて補正した例を示すものである。同
図において、171はパルス発生回路、172は第1の
遅延回路、173は第2の遅延回路、174は遅延時間
差検出回路、175は制御回路、176は定電圧発生回
路、177は周辺回路であって、図26中の101〜1
07で示される回路ブロックに各々相当する。ただし、
図37の半導体集積回路中の周辺回路177は、4系統
のリングオッシレータを備えている。定電圧発生回路1
76の出力電圧Vint は、第2の遅延回路173及び各
リングオッシレータに各々電源電圧として供給される。
(4) Embodiment 6.4 (Semiconductor Integrated Circuit with Delay Time Correction Circuit: Example of Application to Ring Oscillator) The configuration of FIG. 37 uses the delay of the ring oscillator in the peripheral circuit as a temperature change. It shows an example corrected accordingly. In the figure, 171 is a pulse generation circuit, 172 is a first delay circuit, 173 is a second delay circuit, 174 is a delay time difference detection circuit, 175 is a control circuit, 176 is a constant voltage generation circuit, and 177 is a peripheral circuit. And 101 to 1 in FIG.
07 respectively. However,
The peripheral circuit 177 in the semiconductor integrated circuit of FIG. 37 includes four ring oscillators. Constant voltage generator 1
The output voltage Vint of 76 is supplied to the second delay circuit 173 and each ring oscillator as a power supply voltage.

【0120】各リングオッシレータは、2入力のNAN
D回路178a〜178dと、通常のインバータチェイ
ンで構成された遅延回路部179a〜179dとを備え
ている。ただし、第1のリングオッシレータの遅延回路
部179aは8段、第2のリングオッシレータの遅延回
路部179bは6段、第3のリングオッシレータの遅延
回路部179cは4段、第4のリングオッシレータの遅
延回路部179dは2段のインバータからなる。すなわ
ち、各遅延回路部179a〜179dは、互いに異なる
遅延時間を有している。各遅延回路部179a〜179
dには、NAND回路178a〜178dを介して入力
パルス信号が与えられる。また、各遅延回路部179a
〜179dの出力は、NAND回路178a〜178d
を介して該遅延回路部179a〜179dにフィードバ
ックされる。このようにして構成された4系統のリング
オッシレータの出力パルス信号の周波数は、各々f、4
/3f、2f、4fである。
Each ring oscillator is a 2-input NAN
D circuits 178a to 178d and delay circuit units 179a to 179d each formed of a normal inverter chain are provided. However, the delay circuit unit 179a of the first ring oscillator has eight stages, the delay circuit unit 179b of the second ring oscillator has six stages, the delay circuit unit 179c of the third ring oscillator has four stages, and the fourth stage. The delay circuit section 179d of the ring oscillator includes a two-stage inverter. That is, each of the delay circuit units 179a to 179d has a different delay time. Each delay circuit section 179a to 179
d is supplied with an input pulse signal via NAND circuits 178a to 178d. Further, each delay circuit section 179a
To 179d are output from NAND circuits 178a to 178d.
Is fed back to the delay circuit units 179a to 179d via the. The frequencies of the output pulse signals of the four ring oscillators configured as described above are f4 and f4, respectively.
/ 3f, 2f, and 4f.

【0121】この構成によれば、周辺回路177中の4
系統のリングオッシレータの各々に電源電圧として供給
される定電圧発生回路176の出力電圧Vint が温度変
化に応じて制御されるので、各リングオッシレータの主
要部を構成する遅延回路部179a〜179dの遅延時
間が補正される結果、通常のインバータチェインを用い
ているにもかかわらず、各リングオッシレータの出力周
波数の温度依存性が低減される。
According to this configuration, 4 in peripheral circuit 177
Since the output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 176 supplied as a power supply voltage to each of the ring oscillators of the system is controlled in accordance with the temperature change, the delay circuits 179a to 179d constituting the main parts of each ring oscillator As a result, the temperature dependence of the output frequency of each ring oscillator is reduced despite the use of a normal inverter chain.

【0122】(5) 実施例6.5(遅延時間補正回路を備
えた半導体集積回路:DRAMへの応用事例) 図38の構成は、DRAM中のロウデコーダ及びタイミ
ング回路の各々の遅延を温度変化に応じて補正した例を
示すものである。同図において、181はパルス発生回
路、182は第1の遅延回路、183は第2の遅延回
路、184は遅延時間差検出回路、185は制御回路、
186は定電圧発生回路、187は周辺回路であって、
図26中の101〜107で示される回路ブロックに各
々相当する。ただし、図38の半導体集積回路は、ワー
ド線とビット線とが交叉する位置に各々メモリセルを備
えており、周辺回路187は、ロウデコーダ188、タ
イミング回路189及びセンスアンプ190を有する。
ロウデコーダ188は、ワード線を介してメモリセルを
選択するための論理ゲートを備えたものである。センス
アンプ190は、ロウデコーダ188により選択された
メモリセルからビット線上に読み出される微小電位を増
幅するための回路である。タイミング回路189は、セ
ンスアンプ190への活性化信号を出力するタイミング
を調整するための回路であって、通常のインバータチェ
インで構成されている。定電圧発生回路186の出力電
圧Vint は、第2の遅延回路183、ロウデコーダ18
8の各論理ゲート及びタイミング回路189の各インバ
ータに各々電源電圧として供給される。
(5) Embodiment 6.5 (Semiconductor Integrated Circuit Equipped with Delay Time Correction Circuit: Application Example to DRAM) The configuration shown in FIG. 38 shows that the delay of each of the row decoder and the timing circuit in the DRAM changes with temperature. FIG. In the figure, 181 is a pulse generation circuit, 182 is a first delay circuit, 183 is a second delay circuit, 184 is a delay time difference detection circuit, 185 is a control circuit,
186 is a constant voltage generation circuit, 187 is a peripheral circuit,
26 correspond to circuit blocks indicated by 101 to 107 in FIG. However, the semiconductor integrated circuit in FIG. 38 includes memory cells at positions where word lines and bit lines cross each other, and the peripheral circuit 187 includes a row decoder 188, a timing circuit 189, and a sense amplifier 190.
The row decoder 188 has a logic gate for selecting a memory cell via a word line. The sense amplifier 190 is a circuit for amplifying a minute potential read from a memory cell selected by the row decoder 188 onto a bit line. The timing circuit 189 is a circuit for adjusting the timing at which an activation signal is output to the sense amplifier 190, and is configured by a normal inverter chain. The output voltage Vint of the constant voltage generation circuit 186 is supplied to the second delay circuit 183 and the row decoder 18.
8 are supplied as power supply voltages to the respective logic gates and the inverters of the timing circuit 189.

【0123】この構成によれば、ロウデコーダ188の
遅延特性がワード線の遅延特性に合わせられる。ワード
線の遅延特性は、その分布定数で決まるCR型の小さい
温度依存性を有する。一方、本来のロウデコーダの遅延
特性は、トランジスタ型の大きい温度依存性を有する。
したがって、従来はタイミングマージンを考慮してタイ
ミング回路の遅延時間を大きな値に設定する必要があ
り、メモリセルのアクセス速度が制限を受けていた。と
ころが、図38の構成によれば、例えば前記従来のCR
遅延回路で構成された第1の遅延回路182の遅延時間
と、ロウデコーダ188と同じく論理ゲートで構成され
た第2の遅延回路183の遅延時間との差を解消するよ
うに定電圧発生回路186の出力電圧Vint が制御さ
れ、該出力電圧Vint がロウデコーダ188に電源電圧
として供給されるので、ロウデコーダ188の遅延特性
がワード線と同じCR型の小さい温度依存性を有する遅
延特性に変えられる。したがって、タイミング回路18
9の遅延時間を小さな値に設定してもセンスアンプ19
0の活性化タイミングに支障が生じることはなく、メモ
リセルの高速アクセスが可能となる。
According to this configuration, the delay characteristics of row decoder 188 are adjusted to the delay characteristics of the word line. The delay characteristic of a word line has a small temperature dependency of a CR type determined by its distribution constant. On the other hand, the original delay characteristics of the row decoder have a large temperature dependence of the transistor type.
Therefore, conventionally, it is necessary to set the delay time of the timing circuit to a large value in consideration of the timing margin, and the access speed of the memory cell is limited. However, according to the configuration of FIG.
The constant voltage generation circuit 186 is configured to eliminate the difference between the delay time of the first delay circuit 182 formed of a delay circuit and the delay time of the second delay circuit 183 formed of a logic gate similarly to the row decoder 188. , And the output voltage Vint is supplied to the row decoder 188 as a power supply voltage, so that the delay characteristics of the row decoder 188 can be changed to the same CR type delay characteristics as those of the word lines, which have a small temperature dependency. . Therefore, the timing circuit 18
9 is set to a small value, the sense amplifier 19
There is no problem with the activation timing of 0, and high-speed access of the memory cell is enabled.

【0124】また、図38の構成によれば、周辺回路1
87中のタイミング回路189にも定電圧発生回路18
6の出力電圧Vint が電源電圧として供給されているの
で、通常のインバータチェインで構成されたタイミング
回路189の遅延特性の温度依存性が低減される。した
がって、タイミング回路に前記従来のCR遅延回路を用
いる場合と同等の効果を得ながら、周辺回路187のレ
イアウト面積を小さくすることができる。
According to the configuration of FIG. 38, peripheral circuit 1
The constant voltage generation circuit 18
Since the output voltage Vint of No. 6 is supplied as the power supply voltage, the temperature dependence of the delay characteristics of the timing circuit 189 formed of a normal inverter chain is reduced. Therefore, the layout area of the peripheral circuit 187 can be reduced while obtaining the same effect as the case where the conventional CR delay circuit is used for the timing circuit.

【0125】なお、定電圧発生回路186の出力電圧V
int を第2の遅延回路183及び周辺回路187中のロ
ウデコーダ188のみに電源電圧として供給するように
しても、タイミング回路189の遅延時間を短縮するこ
とは可能である。このように遅延時間補正回路の出力電
圧Vint の周辺回路187への供給をロウデコーダ18
8の部分に限定すれば、半導体集積回路全体の消費電流
の増加を抑制しながらメモリセルの高速アクセスを実現
できる。
The output voltage V of the constant voltage generation circuit 186
Even if int is supplied as the power supply voltage only to the second delay circuit 183 and the row decoder 188 in the peripheral circuit 187, the delay time of the timing circuit 189 can be reduced. In this manner, the supply of the output voltage Vint of the delay time correction circuit to the peripheral circuit 187 is performed by the row decoder 18.
If the number is limited to 8, the high speed access of the memory cell can be realized while suppressing an increase in current consumption of the entire semiconductor integrated circuit.

【0126】(6) 実施例6.6(多電源の半導体集積回
路) 図39の構成は、内部に複数の電圧レベルの電源を必要
とするDRAM等の半導体チップの例を示すものであ
る。同図において、VPP発生回路211,212は、外
部から供給される電源電圧のレベルVCCと接地電位VSS
とに基づきワード線昇圧レベルVPPの電圧を生成し、こ
れを半導体基板上の特定の回路ブロック201,203
へ供給するための回路である。VBB発生回路221,2
22は、基板バイアスレベルVBBの電圧を生成し、これ
を半導体基板に供給するための回路である。ただし、こ
れらのVPP発生回路211,212及びVBB発生回路2
21,222は、あまり大きな出力電流を必要としな
い。これに対して半導体基板上の全ての回路ブロック2
01〜204に共通に供給すべき内部降圧レベルVint
を生成するためのVint 発生回路231〜234は、各
回路ブロックに近接するように半導体基板上に分散配置
されている。個々のVint 発生回路231〜234の出
力電流を低減するためである。各Vint 発生回路231
〜234は、前記プログラマブル定電圧発生回路の構成
(図12の構成、あるいは、図23〜図25中の82又
は85で示される構成)を有するものである。
(6) Embodiment 6.6 (Multi-Power Supply Semiconductor Integrated Circuit) The configuration of FIG. 39 shows an example of a semiconductor chip such as a DRAM which requires a power supply of a plurality of voltage levels inside. In the figure, VPP generation circuits 211 and 212 are provided with a power supply voltage level VCC supplied from the outside and a ground potential VSS.
, A voltage of the word line boost level VPP is generated, and this voltage is supplied to specific circuit blocks 201 and 203 on the semiconductor substrate.
Circuit for supplying to VBB generation circuits 221 and 2
Reference numeral 22 denotes a circuit for generating a voltage of the substrate bias level VBB and supplying the voltage to the semiconductor substrate. However, these VPP generation circuits 211 and 212 and VBB generation circuit 2
21 and 222 do not require very large output currents. On the other hand, all circuit blocks 2 on the semiconductor substrate
Internal step-down level Vint to be commonly supplied to 01 to 204
Are generated and distributed on the semiconductor substrate so as to be close to each circuit block. This is to reduce the output currents of the individual Vint generating circuits 231 to 234. Each Vint generation circuit 231
234 have the configuration of the programmable constant voltage generating circuit (the configuration shown in FIG. 12 or the configuration shown by 82 or 85 in FIGS. 23 to 25).

【0127】半導体基板上のほぼ中央に配置された中央
制御回路200は、次の3つの機能を有している。
The central control circuit 200 arranged substantially at the center on the semiconductor substrate has the following three functions.

【0128】第1の機能は、VPPレベル検出回路として
の機能である。中央制御回路200は、ワード線昇圧レ
ベルVPPを監視するための図14又は図16の構成を備
えており、該ワード線昇圧レベルが所定のレベルより低
くなったときには昇圧レベル検出出力φ2 を出力するこ
とによってVPP発生回路211,212を動作させ、十
分なレベルにあるときはその動作を停止させる。
The first function is a function as a VPP level detection circuit. The central control circuit 200 has the configuration of FIG. 14 or FIG. 16 for monitoring the word line boost level VPP, and outputs a boost level detection output φ2 when the word line boost level falls below a predetermined level. As a result, the VPP generation circuits 211 and 212 are operated, and when they are at a sufficient level, the operation is stopped.

【0129】第2の機能は、VBBレベル検出回路として
の機能である。中央制御回路200は、基板バイアスレ
ベルVBBを監視するための図13又は図15の構成を備
えており、該レベルの高低に応じて基板レベル検出出力
φ1 を出力することによりVBB発生回路221,222
の動作を制御する。
The second function is a function as a VBB level detection circuit. The central control circuit 200 has the structure shown in FIG. 13 or FIG. 15 for monitoring the substrate bias level VBB.
Control the operation of.

【0130】第3の機能は、図25中のアクティブ電圧
制御回路95の機能である。すなわち、中央制御回路2
00は、前記パルス発生回路91、第1の遅延回路9
2、第2の遅延回路93及び遅延時間差検出回路94の
構成を備えている。そして、複数のVint 発生回路23
1〜234と中央制御回路200との間には、それぞれ
促進信号と抑制信号とを伝送するための2本の信号線が
設けられている。これによって、温度が上昇したとき、
それに応じた適切な内部降圧レベルVint を設定するた
めの信号が、半導体基板上に分散配置されたVint 発生
回路231〜234へ少数の信号線によって伝えられ
る。しかも、中央制御回路200により半導体基板上の
平均的な温度に基づいて各Vint 発生回路231〜23
4の出力を制御することができる。また、促進信号及び
抑制信号の伝送のための信号線を短くできる。
The third function is a function of the active voltage control circuit 95 in FIG. That is, the central control circuit 2
00 is the pulse generation circuit 91, the first delay circuit 9
2. It has the configuration of a second delay circuit 93 and a delay time difference detection circuit 94. Then, a plurality of Vint generating circuits 23
Two signal lines for transmitting the promotion signal and the suppression signal are provided between the central control circuit 200 and the central control circuit 200, respectively. Thus, when the temperature rises,
A signal for setting an appropriate internal step-down level Vint corresponding thereto is transmitted by a small number of signal lines to Vint generating circuits 231 to 234 distributed on a semiconductor substrate. In addition, the Vint generating circuits 231 to 23 based on the average temperature on the semiconductor substrate by the central control circuit 200.
4 can be controlled. In addition, a signal line for transmitting the promotion signal and the suppression signal can be shortened.

【0131】なお、中央制御回路200を半導体基板上
の発熱中心の近傍に配置すれば、温度変化をVint 発生
回路231〜234の出力へ直ちに反映させることがで
きる。ただし、各電圧レベルの電源線は、相互に接続さ
れていてもいなくても特に問題はない。
By arranging the central control circuit 200 near the heat generation center on the semiconductor substrate, the temperature change can be immediately reflected on the outputs of the Vint generating circuits 231 to 234. However, there is no particular problem whether the power supply lines of each voltage level are connected to each other or not.

【0132】[0132]

【発明の効果】以上説明してきたとおり、請求項1の発
明に係る半導体集積回路によれば、第1の遅延回路の遅
延時間と第2の遅延回路の遅延時間との差を解消するよ
うに定電圧発生回路の出力線電圧を制御することによ
り、周辺回路の遅延時間の変動がその電源電圧の自動制
御を通じて実効的に補償される。つまり、通常のインバ
ータチェインで構成された遅延回路を周辺回路に用いて
もその遅延時間の温度依存性が補正される結果、前記従
来のCR遅延回路を用いる場合に比べて周辺回路のレイ
アウト面積が低減される。また、請求項2の発明によれ
ば、遅延時間差の検出のための特別なパルス信号を半導
体集積回路の外部から供給する必要がない。請求項3及
び請求項4の発明によれば、第1及び第2の遅延回路の
遅延時間差がパルス幅の差に変換され、該パルス幅の差
が所定の論理レベルを有する論理信号の数に変換され、
該論理信号の数に応じて定電圧発生回路の出力線電圧が
変更される。しかも、定電圧発生回路における上記本発
明の基準電位発生回路の利用により、その出力線電位の
温度依存性が小さくなる。請求項5及び請求項6の発明
によれば、第1及び第2の遅延回路の遅延時間差の有無
がある範囲の不感帯を以て検出されるので、定電圧発生
回路の出力電圧のふらつきを防ぐことができる。請求項
7及び請求項8の発明によれば、第1及び第2の遅延回
路の微小な遅延時間差を検出できる。請求項9の発明に
よれば、ロウデコーダの遅延特性がワード線の遅延特性
に合わせられる結果、センスアンプの活性化に関するタ
イミングマージンを低減した高速アクセスが可能な半導
体記憶装置を実現できる。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention, the difference between the delay time of the first delay circuit and the delay time of the second delay circuit is eliminated. By controlling the output line voltage of the constant voltage generating circuit, fluctuations in the delay time of the peripheral circuit are effectively compensated through automatic control of the power supply voltage. In other words, even if a delay circuit composed of a normal inverter chain is used for a peripheral circuit, the temperature dependence of the delay time is corrected. Reduced. According to the second aspect of the present invention, it is not necessary to supply a special pulse signal for detecting the delay time difference from outside the semiconductor integrated circuit. According to the third and fourth aspects of the present invention, the difference between the delay times of the first and second delay circuits is converted into a difference in pulse width, and the difference in pulse width is converted into the number of logic signals having a predetermined logic level. Converted,
The output line voltage of the constant voltage generation circuit is changed according to the number of the logic signals. In addition, the use of the reference potential generating circuit of the present invention in the constant voltage generating circuit reduces the temperature dependence of the output line potential. According to the fifth and sixth aspects of the present invention, the presence or absence of the delay time difference between the first and second delay circuits is detected within a certain range of the dead band, so that the fluctuation of the output voltage of the constant voltage generation circuit can be prevented. it can. According to the seventh and eighth aspects of the invention, it is possible to detect a small delay time difference between the first and second delay circuits. According to the ninth aspect, the delay characteristic of the row decoder is matched with the delay characteristic of the word line, so that a semiconductor memory device capable of high-speed access with a reduced timing margin for activation of the sense amplifier can be realized.

【0133】請求項10の発明に係る半導体集積回路に
よれば、第1及び第2の遅延回路の間の遅延時間の差に
基づいて安定化出力電圧としての出力線の電位を制御す
ることにより、該安定化出力電圧を電源とする複数の回
路ブロックの遅延時間が一定に保たれる。これによっ
て、信頼性の高い半導体集積回路を実現することができ
る。請求項11の発明によれば、複数の回路ブロックの
各々に近接するように各定電圧発生回路を半導体基板上
に分散配置したので、個々の定電圧発生回路の出力電流
を低減することができる。しかも、1つの遅延時間差検
出回路から出力される促進信号及び抑制信号を伝送する
ための各々2本の信号線のみで、複数の定電圧発生回路
の各々の出力を集中制御することができる。請求項12
の発明によれば、第1及び第2の遅延回路を半導体基板
上のほぼ中央に配置したので、半導体基板上の平均的な
温度に基づいて各定電圧発生回路の出力を制御すること
ができる。また、促進信号及び抑制信号の伝送のための
信号線を短くできる。請求項13の発明によれば、第1
及び第2の遅延回路を半導体基板上の発熱中心の近傍に
配置したので、温度変化を各定電圧発生回路の出力へ直
ちに反映させることができる。
According to the semiconductor integrated circuit of the tenth aspect, by controlling the potential of the output line as the stabilized output voltage based on the difference in delay time between the first and second delay circuits. The delay time of a plurality of circuit blocks using the stabilized output voltage as a power source is kept constant. Thus, a highly reliable semiconductor integrated circuit can be realized. According to the eleventh aspect of the present invention, since the constant voltage generating circuits are dispersedly arranged on the semiconductor substrate so as to be close to each of the plurality of circuit blocks, the output current of each constant voltage generating circuit can be reduced. . In addition, the outputs of the plurality of constant voltage generation circuits can be centrally controlled with only two signal lines for transmitting the promotion signal and the suppression signal output from one delay time difference detection circuit. Claim 12
According to the invention, since the first and second delay circuits are arranged substantially at the center on the semiconductor substrate, it is possible to control the output of each constant voltage generating circuit based on the average temperature on the semiconductor substrate. . In addition, a signal line for transmitting the promotion signal and the suppression signal can be shortened. According to the invention of claim 13, the first
Further, since the second delay circuit is arranged near the heat generation center on the semiconductor substrate, the temperature change can be immediately reflected on the output of each constant voltage generation circuit.

【0134】[0134]

【0135】[0135]

【0136】[0136]

【0137】請求項14の発明に係る電源回路によれ
ば、第1及び第2の遅延回路の間の遅延時間の差に基づ
いて安定化出力電圧としての出力線の電位を制御するこ
とにより、該安定化出力電圧を電源とする論理回路の遅
延時間が一定に保たれる。請求項15の発明によれば、
温度依存性の小さい第1の遅延回路がCR遅延回路とし
て実現される。請求項16の発明によれば、遅延時間差
検出回路から出力される促進信号及び抑制信号を伝送す
るための2本の信号線のみで出力線電位を制御すること
ができる。
According to the power supply circuit of the fourteenth aspect , by controlling the potential of the output line as the stabilized output voltage based on the difference in delay time between the first and second delay circuits, The delay time of the logic circuit using the stabilized output voltage as a power source is kept constant. According to the invention of claim 15 ,
The first delay circuit having small temperature dependence is realized as a CR delay circuit. According to the sixteenth aspect , it is possible to control the output line potential with only two signal lines for transmitting the promotion signal and the suppression signal output from the delay time difference detection circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
の第1構成例の回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a first configuration example of a reference potential generation circuit according to a first example of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
の第2構成例の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a second configuration example of the reference potential generation circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
の第3構成例の回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a third configuration example of the reference potential generation circuit according to the first example of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
の第4構成例の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a fourth configuration example of the reference potential generation circuit according to the first example of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
の第5構成例の回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram of a fifth configuration example of the reference potential generation circuit according to the first example of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
の第6構成例の回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram of a sixth configuration example of the reference potential generation circuit according to the first example of the present invention.

【図7】本発明の第1の実施例に係る基準電位発生回路
による出力電位の温度依存性の改善効果を示すグラフで
ある。
FIG. 7 is a graph showing the effect of improving the temperature dependency of the output potential by the reference potential generation circuit according to the first example of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施例に係る定電圧発生回路の
第1構成例の回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram of a first configuration example of a constant voltage generation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図9】図8中のコンパレータ回路の構成例を示す回路
図である。
FIG. 9 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a comparator circuit in FIG. 8;

【図10】図9のコンパレータ回路が正常な比較動作を
行なわなくなる場合があることを示す説明図である。
10 is an explanatory diagram showing that the comparator circuit of FIG. 9 may not perform a normal comparison operation in some cases.

【図11】本発明の第2の実施例に係る定電圧発生回路
の第2構成例の回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram of a second configuration example of the constant voltage generation circuit according to the second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第2の実施例に係る定電圧発生回路
の第3構成例の回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram of a third configuration example of the constant voltage generation circuit according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第3の実施例に係る電圧レベル検出
回路の第1構成例を示す回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a first configuration example of a voltage level detection circuit according to a third example of the present invention.

【図14】本発明の第3の実施例に係る電圧レベル検出
回路の第2構成例を示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a second configuration example of the voltage level detection circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第3の実施例に係る電圧レベル検出
回路の第3構成例を示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a third configuration example of the voltage level detection circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第3の実施例に係る電圧レベル検出
回路の第4構成例を示す回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a fourth configuration example of the voltage level detection circuit according to the third embodiment of the present invention.

【図17】図15の電圧レベル検出回路のヒステリシス
特性を示すグラフである。
17 is a graph showing a hysteresis characteristic of the voltage level detection circuit of FIG.

【図18】本発明の第4の実施例に係る温度検出回路の
第1構成例の回路図である。
FIG. 18 is a circuit diagram of a first configuration example of a temperature detection circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第4の実施例に係る温度検出回路の
第2構成例の回路図である。
FIG. 19 is a circuit diagram of a second configuration example of the temperature detection circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【図20】本発明の第4の実施例に係る温度検出回路の
第3構成例の回路図である。
FIG. 20 is a circuit diagram of a third configuration example of the temperature detection circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【図21】本発明の第4の実施例に係る温度検出回路の
第4構成例の回路図である。
FIG. 21 is a circuit diagram of a fourth configuration example of the temperature detection circuit according to the fourth embodiment of the present invention.

【図22】図20の温度検出回路のヒステリシス特性を
示すグラフである。
FIG. 22 is a graph showing a hysteresis characteristic of the temperature detection circuit of FIG.

【図23】本発明の第5の実施例に係るアクティブ制御
方式の電源回路の第1構成例を示す回路図である。
FIG. 23 is a circuit diagram showing a first configuration example of an active control type power supply circuit according to a fifth embodiment of the present invention.

【図24】本発明の第5の実施例に係るアクティブ制御
方式の電源回路の第2構成例を示す回路図である。
FIG. 24 is a circuit diagram showing a second configuration example of the active control type power supply circuit according to the fifth embodiment of the present invention.

【図25】本発明の第5の実施例に係るアクティブ制御
方式の電源回路の第3構成例を示す回路図である。
FIG. 25 is a circuit diagram showing a third configuration example of the active control type power supply circuit according to the fifth embodiment of the present invention.

【図26】本発明の第6実施例に係る半導体集積回路の
第1構成例を示す回路図である。
FIG. 26 is a circuit diagram showing a first configuration example of a semiconductor integrated circuit according to a sixth embodiment of the present invention.

【図27】図26中の遅延時間差検出回路の構成を示す
回路図である。
FIG. 27 is a circuit diagram showing a configuration of a delay time difference detection circuit in FIG. 26;

【図28】図27の遅延時間差検出回路の各部信号波形
を示すタイミングチャート図である。
28 is a timing chart showing signal waveforms at various parts of the delay time difference detection circuit of FIG. 27;

【図29】図26中の制御回路の構成を示す回路図であ
る。
FIG. 29 is a circuit diagram showing a configuration of a control circuit in FIG. 26;

【図30】図26中の定電圧発生回路の構成を示す回路
図である。
FIG. 30 is a circuit diagram showing a configuration of a constant voltage generation circuit in FIG. 26;

【図31】本発明の第6実施例に係る半導体集積回路の
第2構成例を示す回路図である。
FIG. 31 is a circuit diagram showing a second configuration example of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment of the present invention.

【図32】τ1 >τ2 の場合の図31中の各部の信号波
形を示すタイミングチャート図である。
FIG. 32 is a timing chart showing signal waveforms at various points in FIG. 31 when τ1> τ2.

【図33】τ1 <τ2 の場合の図32と同様の図であ
る。
FIG. 33 is a view similar to FIG. 32, where τ1 <τ2;

【図34】本発明の第6実施例に係る半導体集積回路の
第3構成例を示す回路図である。
FIG. 34 is a circuit diagram showing a third configuration example of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment of the present invention.

【図35】τ1 >τ2 の場合の図34中の遅延時間差検
出回路の入出力信号波形を示すタイミングチャート図で
ある。
FIG. 35 is a timing chart showing input / output signal waveforms of the delay time difference detection circuit in FIG. 34 when τ1> τ2.

【図36】τ1 <τ2 の場合の図35と同様の図であ
る。
36 is a diagram similar to FIG. 35 when τ1 <τ2.

【図37】本発明の第6実施例に係る半導体集積回路の
第4構成例を示す回路図である。
FIG. 37 is a circuit diagram showing a fourth configuration example of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment of the present invention.

【図38】本発明の第6実施例に係る半導体集積回路の
第5構成例を示す回路図である。
FIG. 38 is a circuit diagram showing a fifth configuration example of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment of the present invention.

【図39】本発明の第6実施例に係る半導体集積回路の
第6構成例を示す回路図である。
FIG. 39 is a circuit diagram showing a sixth configuration example of the semiconductor integrated circuit according to the sixth embodiment of the present invention.

【図40】従来のCR遅延回路を用いた半導体集積回路
の構成例を示す回路図である。
FIG. 40 is a circuit diagram showing a configuration example of a semiconductor integrated circuit using a conventional CR delay circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電源線(第2の電圧供給線) 2 出力ノード 3 接地線(第1の電圧供給線、基準電位線) 4 抵抗素子 5 N型MOSFET 6,7,8 N型MOSFET(MOSダイオード) 9 P型MOSFET 10 N型MOSFET 11 制御入力端子 12,13,14,15 抵抗素子 16,17,18 P型MOSFET 19,20,21 制御入力端子 22,23 P型MOSFET 24,25 制御入力端子 31 電源線(第1の電圧供給線、基準電位線) 32 出力ノード 33 接地線(第2の電圧供給線) 34 抵抗素子 35 P型MOSFET 36,37,38 P型MOSFET(MOSダイオー
ド) 39 N型MOSFET 41 基準電位発生回路(第1の基準電位発生回路) 41a 基準電位発生回路の出力ノード(第1のノー
ド) 42 コンパレータ回路 43 P型MOSFET(ドライバ回路) 44 出力線 45 コンデンサ素子 46 電圧シフト回路(第2の基準電位発生回路) 46a 電圧シフト回路の入力ノード 46b 電圧シフト回路の出力ノード(第2のノード) 47a,47b 差動N型MOSFET 48a,48b カレントミラーP型MOSFET 49 共通N型MOSFET 51 基準電位発生回路(第1の基準電位発生回路) 52 コンパレータ回路 53 P型MOSFET(ドライバ回路) 54 出力線 55 コンデンサ素子 56 電圧シフト回路(第2の基準電位発生回路) 57 制御回路 61,65 第1の基準電位発生回路 61a,65a 第1のノード 62,66 第2の基準電位発生回路 62a,66a 第2のノード 63,67 コンパレータ回路 69,70 ヒステリシス制御回路 71,75 第1の基準電位発生回路 71a,75a 第1のノード 72,76 第2の基準電位発生回路 72a,76a 第2のノード 73,77 コンパレータ回路 79,80 ヒステリシス制御回路 81a,84a 定電圧発生回路 81b,84b 制御回路 82,85 プログラマブル定電圧発生回路 83,86 温度検出回路 91 パルス発生回路 92 第1の遅延回路 93 第2の遅延回路 94 遅延時間差検出回路 95 アクティブ電圧制御回路 101,141,161,171,181 パルス発生
回路 102,142,162,172,182 第1の遅延
回路 103,143,163,173,183 第2の遅延
回路 104,144,164,174,184 遅延時間差
検出回路 105,145,165,175,185 制御回路 106,146,166,176,186 定電圧発生
回路 107,147,167,177,187 周辺回路 111a,111b,115a,115b 遅延回路部 112a,112b,113a,113b,114,1
16a,116b NAND回路 121,122 ラッチ回路 123,124,125,126 スイッチング素子 131 基準電位発生回路 131a 基準電位発生回路の出力ノード 132 コンパレータ回路 133 ドライバ回路 134 定電圧発生回路の出力線 151 NOR回路(論理和回路) 153 第1のラッチ回路 158 第2のラッチ回路 168 フリップフロップ 169 単安定マルチバイブレータ 188 ロウデコーダ 189 タイミング回路 190 センスアンプ 200 中央制御回路(基板電位制御回路、特定電位制
御回路、アクティブ電圧制御回路) 201,202,203,204 回路ブロック 211,212 VPP発生回路(特定電位生成回路) 221,222 VBB発生回路(基板電位生成回路) 231,232,233,234 Vint 発生回路 R 抵抗手段 F 帰還手段 D ダイオード手段 S 短絡手段 C 制御信号 VCC 外部電源電圧レベル VSS 接地電位 VBB 基板バイアスレベル(基板電位、被測定電圧レベ
ル) VPP ワード線昇圧レベル(被測定電圧レベル) Vint 内部降圧レベル φ1 基板レベル検出出力 φ2 昇圧レベル検出出力
Reference Signs List 1 power supply line (second voltage supply line) 2 output node 3 ground line (first voltage supply line, reference potential line) 4 resistor element 5 N-type MOSFET 6, 7, 8 N-type MOSFET (MOS diode) 9 P Type MOSFET 10 N-type MOSFET 11 Control input terminal 12, 13, 14, 15 Resistance element 16, 17, 18 P-type MOSFET 19, 20, 21 Control input terminal 22, 23 P-type MOSFET 24, 25 Control input terminal 31 Power supply line (First voltage supply line, reference potential line) 32 output node 33 ground line (second voltage supply line) 34 resistive element 35 P-type MOSFET 36, 37, 38 P-type MOSFET (MOS diode) 39 N-type MOSFET 41 Reference potential generation circuit (first reference potential generation circuit) 41a Output node (first node) of reference potential generation circuit 42 Comparator circuit 43 P-type MOSFET (driver circuit) 44 Output line 45 Capacitor element 46 Voltage shift circuit (second reference potential generation circuit) 46a Input node of voltage shift circuit 46b Output node (second node) of voltage shift circuit 47a , 47b Differential N-type MOSFET 48a, 48b Current mirror P-type MOSFET 49 Common N-type MOSFET 51 Reference potential generation circuit (first reference potential generation circuit) 52 Comparator circuit 53 P-type MOSFET (driver circuit) 54 Output line 55 Capacitor Element 56 Voltage shift circuit (second reference potential generation circuit) 57 Control circuit 61, 65 First reference potential generation circuit 61a, 65a First node 62, 66 Second reference potential generation circuit 62a, 66a Second Node 63, 67 Comparator circuit 6 , 70 hysteresis control circuit 71, 75 first reference potential generation circuit 71a, 75a first node 72, 76 second reference potential generation circuit 72a, 76a second node 73, 77 comparator circuit 79, 80 hysteresis control circuit 81a, 84a Constant voltage generation circuit 81b, 84b Control circuit 82, 85 Programmable constant voltage generation circuit 83, 86 Temperature detection circuit 91 Pulse generation circuit 92 First delay circuit 93 Second delay circuit 94 Delay time difference detection circuit 95 Active voltage Control circuit 101, 141, 161, 171, 181 Pulse generating circuit 102, 142, 162, 172, 182 First delay circuit 103, 143, 163, 173, 183 Second delay circuit 104, 144, 164, 174, 184 delay time difference detection circuit 105,145, 65, 175, 185 Control circuit 106, 146, 166, 176, 186 Constant voltage generation circuit 107, 147, 167, 177, 187 Peripheral circuit 111a, 111b, 115a, 115b Delay circuit section 112a, 112b, 113a, 113b, 114 , 1
16a, 116b NAND circuit 121, 122 Latch circuit 123, 124, 125, 126 Switching element 131 Reference potential generation circuit 131a Output node of reference potential generation circuit 132 Comparator circuit 133 Driver circuit 134 Output line of constant voltage generation circuit 151 NOR circuit ( OR circuit) 153 First latch circuit 158 Second latch circuit 168 Flip-flop 169 Monostable multivibrator 188 Row decoder 189 Timing circuit 190 Sense amplifier 200 Central control circuit (substrate potential control circuit, specific potential control circuit, active voltage) Control circuit) 201, 202, 203, 204 Circuit block 211, 212 VPP generation circuit (specific potential generation circuit) 221, 222 VBB generation circuit (substrate potential generation circuit) 231, 232, 23 , 234 Vint generation circuit R resistance means F feedback means D diode means S short circuit means C control signal VCC external power supply voltage level VSS ground potential VBB substrate bias level (substrate potential, voltage level to be measured) VPP word line boost level (voltage to be measured) Level) Vint Internal step-down level φ1 Board level detection output φ2 Step-up level detection output

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 淳 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−306494(JP,A) 特開 平1−124011(JP,A) 特開 平4−366492(JP,A) 特開 平4−247714(JP,A) 特開 昭63−69315(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/407 H03K 19/0944 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Atsushi Fujiwara 1006 Kadoma, Kazuma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) References JP-A-2-306494 (JP, A) JP-A-1- 124011 (JP, A) JP-A-4-366492 (JP, A) JP-A-4-247714 (JP, A) JP-A-63-69315 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 11/407 H03K 19/0944

Claims (16)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 周辺回路と、該周辺回路の遅延時間を補
正するための遅延時間補正回路とを備えた半導体集積回
路であって、 前記遅延時間補正回路は、 パルス信号を遅延させるための第1の遅延回路と、 前記第1の遅延回路に供給されるパルス信号と同一のパ
ルス信号を遅延させるための論理回路を有し、該論理回
路は前記周辺回路と同一かつ前記第1の遅延回路とは異
なる遅延時間温度依存性を有しかつ基準温度におけるパ
ルス信号の遅延時間が前記第1の遅延回路と一致するよ
うに設定された第2の遅延回路と、 前記第2の遅延回路及び周辺回路の各々への安定化電源
電圧の供給線として用いられる出力線の電位を、制御信
号に応じて変更可能な一定値に保持するための定電圧発
生回路と、 前記第1及び第2の遅延回路の各々の出力信号に基づ
き、前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回
路の遅延時間より大きくなった場合には促進信号を出力
し、かつ前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅
延回路の遅延時間より小さくなった場合には抑制信号を
出力するための遅延時間差検出回路と、 前記遅延時間差検出回路からの促進信号を受け取る毎に
前記出力線の電位を上昇させるように、かつ前記遅延時
間差検出回路からの抑制信号を受け取る毎に前記出力線
の電位を低下させるように前記定電圧発生回路への制御
信号を出力するための制御回路とを備えたことを特徴と
する半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit comprising: a peripheral circuit; and a delay time correction circuit for correcting a delay time of the peripheral circuit, wherein the delay time correction circuit includes a second delay circuit for delaying a pulse signal. 1 delay circuit; and a logic circuit for delaying the same pulse signal as the pulse signal supplied to the first delay circuit, wherein the logic circuit is the same as the peripheral circuit and is the first delay circuit. A second delay circuit having a delay time temperature dependence different from that of the first delay circuit and having a delay time of a pulse signal at a reference temperature set to coincide with the first delay circuit; A constant voltage generation circuit for holding a potential of an output line used as a supply line of a stabilized power supply voltage to each of the circuits at a constant value that can be changed according to a control signal; and the first and second delays Output signal of each circuit When the delay time of the second delay circuit is larger than the delay time of the first delay circuit, a promotion signal is output, and the delay time of the second delay circuit is equal to the first delay time. A delay time difference detection circuit for outputting a suppression signal when the delay time is smaller than the delay time of the delay circuit; and increasing the potential of the output line each time a promotion signal is received from the delay time difference detection circuit, and And a control circuit for outputting a control signal to the constant voltage generation circuit so as to decrease the potential of the output line each time the suppression signal is received from the delay time difference detection circuit. circuit.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記遅延時間補正回路は、前記第1及び第2の遅延回路
に共通のパルス信号を供給するためのパルス発生回路を
更に備えたことを特徴とする半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein said delay time correction circuit further includes a pulse generation circuit for supplying a common pulse signal to said first and second delay circuits. Characteristic semiconductor integrated circuit.
【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記遅延時間差検出回路は、第1及び第2の検出信号を
前記促進信号及び抑制信号として出力するための回路を
備え、 前記第1及び第2の検出信号は各々同一時刻に遷移する
パルスを有し、かつ前記第2の遅延回路の遅延時間が前
記第1の遅延回路の遅延時間より大きい場合には前記第
2の検出信号のパルス幅が前記第1の検出信号のパルス
幅より大きくされ、前記第2の遅延回路の遅延時間が前
記第1の遅延回路の遅延時間より小さい場合には前記第
2の検出信号のパルス幅が前記第1の検出信号のパルス
幅より小さくされることを特徴とする半導体集積回路。
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the delay time difference detection circuit includes a circuit for outputting first and second detection signals as the promotion signal and the suppression signal. Each of the second detection signals has a pulse that transits at the same time, and when the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit, the pulse of the second detection signal The pulse width of the second detection signal is greater than the pulse width of the first detection signal, and if the delay time of the second delay circuit is smaller than the delay time of the first delay circuit, A semiconductor integrated circuit, wherein the pulse width is smaller than a pulse width of a first detection signal.
【請求項4】 請求項3記載の半導体集積回路におい
て、 前記制御回路は、複数の論理信号を前記制御信号として
出力するための回路を備え、 前記複数の論理信号のうち所定の論理レベルを有する論
理信号の数は、前記遅延時間差検出回路から出力される
第1及び第2の検出信号のパルス幅の差に応じて変更さ
れることを特徴とする半導体集積回路。
4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein said control circuit includes a circuit for outputting a plurality of logic signals as said control signal, and has a predetermined logic level among said plurality of logic signals. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the number of logic signals is changed according to a difference between pulse widths of the first and second detection signals output from the delay time difference detection circuit.
【請求項5】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記第2の遅延回路は、基準温度における遅延時間が前
記第1の遅延回路の出力信号と一致するように設定され
た基準信号に対して遅れ位相を有する第1の出力信号
と、前記基準信号に対して進み位相を有する第2の出力
信号とを各々出力するための回路を備え、 前記遅延時間差検出回路は、前記第1の遅延回路の出力
信号の入力タイミングに対する前記第2の遅延回路の第
1及び第2の出力信号の入力タイミングに応じて、前記
第1の遅延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の遅延
時間との差の有無を示す第1の検出信号と、前記第1及
び第2の遅延回路のうちのいずれの遅延時間が大きいか
を示す第2の検出信号とを前記促進信号及び抑制信号と
して出力するための回路を備え、 前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路の
遅延時間より大きい場合には遅延時間差の存在を示す第
1の検出信号と第1の論理レベルを有する第2の検出信
号とが、前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅
延回路の遅延時間より小さい場合には遅延時間差の存在
を示す第1の検出信号と第2の論理レベルを有する第2
の検出信号とが各々前記遅延時間差検出回路から出力さ
れることを特徴とする半導体集積回路。
5. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the second delay circuit is configured to receive a reference signal whose delay time at a reference temperature is set to coincide with an output signal of the first delay circuit. And a circuit for outputting a first output signal having a delayed phase and a second output signal having a leading phase with respect to the reference signal, respectively. The delay time of the first delay circuit and the delay time of the second delay circuit are determined according to the input timing of the first and second output signals of the second delay circuit with respect to the input timing of the output signal of the circuit. And a second detection signal indicating which one of the first and second delay circuits has a longer delay time is output as the promotion signal and the suppression signal. Equipped with circuits for When the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit, a first detection signal indicating the existence of a delay time difference and a second detection signal having a first logic level are provided. If the delay time of the second delay circuit is smaller than the delay time of the first delay circuit, a second detection signal indicating the existence of a delay time difference and a second logic level having a second logic level are provided.
Wherein each of the detection signals is output from the delay time difference detection circuit.
【請求項6】 請求項5記載の半導体集積回路におい
て、 前記遅延時間差検出回路は、 前記第1の遅延回路の出力信号と前記第2の遅延回路の
第1及び第2の出力信号とを各々入力信号とする論理和
回路と、 前記論理和回路の出力信号をラッチすることにより前記
第1の検出信号を出力するための第1のラッチ回路と、 前記第1のラッチ回路からの第1の検出信号の出力タイ
ミングで前記第1の遅延回路の出力信号をラッチするこ
とにより前記第2の検出信号を出力するための第2のラ
ッチ回路とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。
6. The semiconductor integrated circuit according to claim 5, wherein said delay time difference detection circuit outputs an output signal of said first delay circuit and first and second output signals of said second delay circuit, respectively. An OR circuit serving as an input signal; a first latch circuit for outputting the first detection signal by latching an output signal of the OR circuit; and a first latch circuit from the first latch circuit. And a second latch circuit for outputting the second detection signal by latching an output signal of the first delay circuit at an output timing of the detection signal.
【請求項7】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記遅延時間差検出回路は、 前記第1の遅延回路の出力信号の入力タイミングに対す
る前記第2の遅延回路の出力信号の入力タイミングに応
じて、前記第1及び第2の遅延回路のうちのいずれの遅
延時間が大きいかを示す第1の検出信号と、前記第1の
遅延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の遅延時間と
の差の有無を示す第2の検出信号とを前記促進信号及び
抑制信号として出力するための回路を備え、 前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路の
遅延時間より大きい場合には第1の論理レベルを有する
第1の検出信号と遅延時間差の存在を示す第2の検出信
号とが、前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅
延回路の遅延時間より小さい場合には第2の論理レベル
を有する第1の検出信号と遅延時間差の存在を示す第2
の検出信号とが各々前記遅延時間差検出回路から出力さ
れることを特徴とする半導体集積回路。
7. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the delay time difference detection circuit is configured to respond to an input timing of an output signal of the second delay circuit with respect to an input timing of an output signal of the first delay circuit. A first detection signal indicating which one of the first and second delay circuits has a longer delay time, and a first detection signal indicating a delay time of the first delay circuit and a delay time of the second delay circuit. A circuit for outputting a second detection signal indicating the presence or absence of a difference as the promotion signal and the suppression signal, wherein a delay time of the second delay circuit is longer than a delay time of the first delay circuit Is when the first detection signal having the first logic level and the second detection signal indicating the existence of the delay time difference are different in that the delay time of the second delay circuit is smaller than the delay time of the first delay circuit Has a second logical level A second detection signal indicating the existence of the delay time difference from the first detection signal having the first detection signal.
Wherein each of the detection signals is output from the delay time difference detection circuit.
【請求項8】 請求項7記載の半導体集積回路におい
て、 前記遅延時間差検出回路は、 前記第1及び第2の遅延回路の各々の出力信号の電位差
を増幅することにより前記第1の検出信号を出力するた
めのフリップフロップと、 前記第1及び第2の遅延回路の各々の出力信号のうちの
いずれか一方の遷移によりトリガされて一定パルス幅を
有する前記第2の検出信号を出力するための単安定マル
チバイブレータとを備えたことを特徴とする半導体集積
回路。
8. The semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein said delay time difference detection circuit converts said first detection signal by amplifying a potential difference between output signals of said first and second delay circuits. And a flip-flop for outputting the second detection signal having a constant pulse width triggered by a transition of one of the output signals of the first and second delay circuits. A semiconductor integrated circuit comprising a monostable multivibrator.
【請求項9】 請求項1記載の半導体集積回路におい
て、 前記周辺回路は、ワード線を介してメモリセルを選択す
るためのロウデコーダを備え、 前記定電圧発生回路の出力線は、前記第2の遅延回路及
びロウデコーダの各々への電源電圧供給線として用いら
れることを特徴とする半導体集積回路。
9. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the peripheral circuit includes a row decoder for selecting a memory cell via a word line, and an output line of the constant voltage generation circuit is connected to the second line. A semiconductor integrated circuit used as a power supply voltage supply line to each of the delay circuit and the row decoder.
【請求項10】 半導体基板上の各々論理回路で構成さ
れた複数の回路ブロックに共通の電源として用いられる
安定化出力電圧としての出力線の電位を温度上昇に応じ
て上げることにより前記複数の回路ブロックの各々の遅
延時間を一定に保つことができるように構成された半導
体集積回路であって、 パルス信号の遅延時間の温度依存性が小さい第1の遅延
回路と、 基準温度におけるパルス信号の遅延時間が前記第1の遅
延回路と一致するように設定された温度モニタとしての
論理回路を有する第2の遅延回路と、 前記第1の遅延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の
遅延時間との差に応じて、前記第2の遅延回路の遅延時
間が前記第1の遅延回路の遅延時間より大きくなった場
合には促進信号を出力し、かつ前記第2の遅延回路の遅
延時間が前記第1の遅延回路の遅延時間より小さくなっ
た場合には抑制信号を出力するための遅延時間差検出回
路と、 前記遅延時間差検出回路からの促進信号を受け取る毎に
前記出力線の電位を上昇させ、かつ前記遅延時間差検出
回路からの抑制信号を受け取る毎に前記出力線の電位を
低下させるための定電圧発生回路とを備え、 前記定電圧発生回路からの前記出力線上の安定化出力電
圧は、前記第2の遅延回路へ電源として供給されている
ことを特徴とする半導体集積回路。
10. The plurality of circuits by increasing the potential of an output line as a stabilized output voltage used as a common power supply for a plurality of circuit blocks each constituted by a logic circuit on a semiconductor substrate as the temperature rises. A semiconductor integrated circuit configured to keep a delay time of each block constant, comprising: a first delay circuit having a small temperature dependency of a delay time of a pulse signal; and a delay of the pulse signal at a reference temperature. A second delay circuit having a logic circuit as a temperature monitor whose time is set to coincide with the first delay circuit; a delay time of the first delay circuit and a delay time of the second delay circuit When the delay time of the second delay circuit becomes longer than the delay time of the first delay circuit in accordance with the difference between the second delay circuit and the delay time of the second delay circuit, A delay time difference detection circuit for outputting a suppression signal when the delay time is smaller than the delay time of the first delay circuit; and a potential of the output line each time a promotion signal is received from the delay time difference detection circuit. A constant voltage generation circuit for raising and lowering the potential of the output line each time a suppression signal is received from the delay time difference detection circuit, and a stabilized output voltage on the output line from the constant voltage generation circuit. Is supplied as power to the second delay circuit.
【請求項11】 請求項10記載の半導体集積回路にお
いて、 前記第1の遅延回路、第2の遅延回路及び遅延時間差検
出回路は、前記半導体基板上に各々1個配置され、 前記定電圧発生回路は、前記複数の回路ブロックの各々
に近接するように前記半導体基板上に分散して複数配置
され、 前記複数の定電圧発生回路の各々と前記遅延時間差検出
回路との間に、それぞれ前記促進信号及び抑制信号を伝
送するための2本の信号線が設けられたことを特徴とす
る半導体集積回路。
11. The constant voltage generation circuit according to claim 10, wherein the first delay circuit, the second delay circuit, and the delay time difference detection circuit are each disposed on the semiconductor substrate. Are arranged on the semiconductor substrate so as to be close to each of the plurality of circuit blocks, respectively, and between each of the plurality of constant voltage generation circuits and the delay time difference detection circuit, the promotion signal is provided. And a semiconductor integrated circuit provided with two signal lines for transmitting a suppression signal.
【請求項12】 請求項11記載の半導体集積回路にお
いて、 前記第1及び第2の遅延回路は、前記半導体基板上のほ
ぼ中央に配置されたことを特徴とする半導体集積回路。
12. The semiconductor integrated circuit according to claim 11, wherein said first and second delay circuits are arranged substantially at the center on said semiconductor substrate.
【請求項13】 請求項11記載の半導体集積回路にお
いて、 前記第1及び第2の遅延回路は、前記半導体基板上の発
熱中心の近傍に配置されたことを特徴とする半導体集積
回路。
13. The semiconductor integrated circuit according to claim 11, wherein said first and second delay circuits are arranged near a heat generation center on said semiconductor substrate.
【請求項14】 論理回路の電源として用いられる安定
化出力電圧としての出力線の電位を温度上昇に応じて上
げることにより前記論理回路の遅延時間を一定に保つた
めの電源回路であって、 パルス信号の遅延時間の温度依存性が小さい第1の遅延
回路と、 基準温度におけるパルス信号の遅延時間が前記第1の遅
延回路と一致するように設定された温度モニタとしての
論理回路を有する第2の遅延回路と、 前記第1の遅延回路の遅延時間と前記第2の遅延回路の
遅延時間との差を検出するための遅延時間差検出回路
と、 前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路の
遅延時間より大きくなった場合には前記出力線の電位を
上昇させ、かつ前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第
1の遅延回路の遅延時間より小さくなった場合には前記
出力線の電位を低下させるように、前記遅延時間差検出
回路の出力に応じて前記出力線の電位を変更するための
定電圧発生回路とを備え、 前記定電圧発生回路からの前記出力線上の安定化出力電
圧は、前記第2の遅延回路へ電源として供給されている
ことを特徴とする電源回路。
14. A power supply circuit for keeping a delay time of the logic circuit constant by increasing a potential of an output line as a stabilized output voltage used as a power supply of the logic circuit in accordance with a rise in temperature. A second delay circuit having a first delay circuit having a small temperature dependence of a signal delay time and a logic circuit serving as a temperature monitor set so that a delay time of a pulse signal at a reference temperature is equal to the first delay circuit; A delay circuit for detecting a difference between a delay time of the first delay circuit and a delay time of the second delay circuit; and a delay time of the second delay circuit. When the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit, the potential of the output line is increased. Previous A constant voltage generation circuit for changing the potential of the output line according to the output of the delay time difference detection circuit so as to lower the potential of the output line; and stabilizing the output line from the constant voltage generation circuit. A power supply circuit, wherein the converted output voltage is supplied as power to the second delay circuit.
【請求項15】 請求項14記載の電源回路において、 前記第1の遅延回路は、抵抗素子とコンデンサ素子とで
決定される時定数を利用するように構成されたことを特
徴とする電源回路。
15. The power supply circuit according to claim 14 , wherein said first delay circuit is configured to use a time constant determined by a resistance element and a capacitor element.
【請求項16】 請求項14記載の電源回路において、 前記遅延時間差検出回路は、前記第1の遅延回路の遅延
時間と前記第2の遅延回路の遅延時間との差に応じて、
前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回路の
遅延時間より大きくなった場合には促進信号を出力し、
かつ前記第2の遅延回路の遅延時間が前記第1の遅延回
路の遅延時間より小さくなった場合には抑制信号を出力
する機能を有し、 前記定電圧発生回路は、前記遅延時間差検出回路からの
促進信号を受け取る毎に前記出力線の電位を上昇させ、
かつ前記遅延時間差検出回路からの抑制信号を受け取る
毎に前記出力線の電位を低下させる機能を有することを
特徴とする電源回路。
16. The power supply circuit according to claim 14 , wherein said delay time difference detection circuit is configured to determine a difference between a delay time of said first delay circuit and a delay time of said second delay circuit.
If the delay time of the second delay circuit is longer than the delay time of the first delay circuit, a promotion signal is output;
And a function of outputting a suppression signal when the delay time of the second delay circuit is smaller than the delay time of the first delay circuit. Raises the potential of the output line each time a promotion signal of
And a power supply circuit having a function of lowering the potential of the output line each time a suppression signal is received from the delay time difference detection circuit.
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