JP3349158B2 - Wet gas processing equipment - Google Patents

Wet gas processing equipment

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JP3349158B2
JP3349158B2 JP52597399A JP52597399A JP3349158B2 JP 3349158 B2 JP3349158 B2 JP 3349158B2 JP 52597399 A JP52597399 A JP 52597399A JP 52597399 A JP52597399 A JP 52597399A JP 3349158 B2 JP3349158 B2 JP 3349158B2
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弘貢 長安
沖野  進
雅和 鬼塚
浩一郎 岩下
聡司 中村
井上  健治
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、排ガスから有害成分その他の目的成分を除
去する湿式ガス処理方法とその装置に関し、特に吸収液
と石炭や重油等の燃焼排ガスとの気液接触を効果的に行
なう湿式ガス処理方法とその装置に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a wet gas treatment method and apparatus for removing harmful components and other target components from exhaust gas, and particularly to a gas-liquid contact between an absorbent and a combustion exhaust gas such as coal or heavy oil. The present invention relates to an effective wet gas processing method and apparatus.

背景技術 従来より、例えば石炭焚きボイラ等の排煙から亜硫酸
ガス等の有害物質を除去する湿式排煙脱硫装置として各
種形態の気液接触装置が使用されており、このような気
液接触装置の一形態として、例えば本出願人の提案に係
わる実開昭59−53828号のようないわゆる液柱式と呼ば
れる装置が知られている。
BACKGROUND ART Conventionally, various types of gas-liquid contact devices have been used as wet flue gas desulfurization devices for removing harmful substances such as sulfurous acid gas from flue gas such as coal-fired boilers. As one form, there is known a so-called liquid column type device such as Japanese Utility Model Laid-Open No. 59-53828 proposed by the present applicant.

この装置は、吸収塔内に配設した複数のノズルから上
方に向けて石灰スラリのような吸収液を噴出させて、液
柱の如き形態を現出させ、この噴出流の中を排煙を通気
させることで、排煙に含まれる亜硫酸ガスを吸収すると
ともにフライアッシュ等の粉塵を効果的に除去するもの
である。
This device ejects an absorbent such as lime slurry upward from a plurality of nozzles arranged in the absorption tower to form a form like a liquid column, and smoke is discharged in the ejected flow. By ventilating, it absorbs sulfurous acid gas contained in the flue gas and effectively removes dust such as fly ash.

そして、その基本的な構成は、第24(A)図に示す模
式図に見るように、吸収塔2の上方に排煙導出部8を設
け下部に排ガス1の入り口となる排煙導入部3を設ける
とともに、吸収塔2内の下部にヘッダパイプ190を複数
列状に配設し、該パイプ190に例えば同図(B)に示す
複数の上向きノズル4をマトリックス状に配設してい
る。
The basic configuration thereof is as shown in the schematic diagram of FIG. 24 (A), where a smoke exhaust outlet 8 is provided above the absorption tower 2 and a smoke exhaust inlet 3 serving as an inlet of the exhaust gas 1 is provided below. In addition, a plurality of header pipes 190 are arranged in a lower row in the absorption tower 2, and a plurality of upward nozzles 4 shown in FIG.

また、吸収塔2内の下部を漏斗状の液溜め部56に構成
して石灰スラリ等の吸収液5を貯留し、回収ポンプ21a
を介して吸収液貯留槽57へ還流させている。還流された
吸収液5は、再び噴出ポンプ21b、流量開閉弁60及びヘ
ッダパイプ190を介して、上向きノズル4へと連通導入
させている。
The lower part of the absorption tower 2 is formed as a funnel-shaped liquid storage part 56 for storing the absorption liquid 5 such as lime slurry, and the recovery pump 21a.
Is returned to the absorption liquid storage tank 57 via the. The refluxed absorbing liquid 5 is again introduced into the upward nozzle 4 through the jet pump 21b, the flow opening / closing valve 60, and the header pipe 190.

そして前記マトリックス状に配設した複数の上向きノ
ズル4よりなるノズル群は、吸収液5を上方に向け液柱
状噴流5aを形成させるとともに、それと同時に前記排煙
導入部3から導入して塔上部へ通気する排ガス1が、そ
の流速により前記噴流状の吸収液5を同伴しながら上昇
し且つその頂部での傘状に散開する噴流5a中を通過させ
ることにより気液接触を図っている。
The nozzle group consisting of the plurality of upward nozzles 4 arranged in the matrix form the liquid column-shaped jet 5a with the absorption liquid 5 directed upward, and at the same time, is introduced from the smoke exhaust introduction section 3 to the top of the tower. The exhaust gas 1 to be ventilated rises while accompanying the jet-like absorbing liquid 5 at the flow velocity, and passes through the jet 5a diverging like an umbrella at the top of the exhaust gas 1, thereby achieving gas-liquid contact.

その後、前記噴流頂点付近の吸収塔2の上部に設けた
ミストエリミネータ6により排ガス1に同伴した吸収液
5を分離し、吸収液貯留槽57へ回収するようにしてい
る。また、液溜め部56に直接落下する吸収液5は、回収
ポンプ21aによって吸収液貯溜槽57へ送られる。
Thereafter, the absorbent 5 entrained in the exhaust gas 1 is separated by a mist eliminator 6 provided above the absorption tower 2 near the top of the jet, and is collected in the absorbent storage tank 57. Further, the absorbing liquid 5 that falls directly into the liquid reservoir 56 is sent to the absorbing liquid storage tank 57 by the recovery pump 21a.

このような構成による気液接触装置では、ポンプ21b
を作動させて、流量開閉弁60及びヘッダパイプ190を介
して、上向きノズル4から吸収液5を上方に向けて噴射
し、排煙導入部3の側から導入した排ガス1を噴流5a中
を通過させることで気液接触を図り、亜硫酸ガス等が除
去された処理済みの排ガス(浄化ガス)7を上方側の排
煙導出部8から導出する。
In the gas-liquid contact device having such a configuration, the pump 21b
Is operated to inject the absorbing liquid 5 upward from the upward nozzle 4 through the flow opening / closing valve 60 and the header pipe 190, and the exhaust gas 1 introduced from the side of the smoke exhaust section 3 passes through the jet stream 5a. By doing so, gas-liquid contact is achieved, and the treated exhaust gas (purified gas) 7 from which the sulfurous acid gas and the like have been removed is led out from the upper smoke exhaust outlet 8.

そして、このように吸収液5を上方に向けて噴出され
る技術では、吸収液5が往復(上昇、下降)する長い時
間、気液接触が図られるのみならず、頂点に達して傘状
に開いて流下するときは、吸収液5が液滴状になるた
め、気液接触効果が増し、また、排ガス中に含まれる亜
硫酸ガス等が少ない時は、液柱の高さを変えれば、経済
的な運転が可能であり、さらに例えば格子状のグリッド
を充填した塔内に吸収液が流下して、ガスに接触させる
いわゆる充填方式等に比べて、流体通路の詰まりが生じ
にくい等の数々の利点を有している。
In the technique in which the absorbing liquid 5 is ejected upward as described above, not only gas-liquid contact is achieved for a long time when the absorbing liquid 5 reciprocates (up and down), but also reaches the top and forms an umbrella. When flowing down, the absorbing liquid 5 is in the form of droplets, so that the gas-liquid contact effect increases. When the amount of sulfurous acid gas or the like contained in the exhaust gas is small, the height of the liquid column can be changed. Operation is possible, and moreover, for example, as compared with a so-called packing method in which the absorbing liquid flows down into a column filled with a grid-like grid and comes into contact with gas, it is more difficult for the fluid passage to be clogged. Has advantages.

さらに、上記技術の場合は噴射用ポンプ21bを作動さ
せて液溜め部56や吸収液貯溜槽57に貯溜させた吸収液5
をヘッダパイプ190側に循環させるとともに、該吸収液
5をノズル4より所定高さに噴出出来るような噴出圧を
設定している。
Further, in the case of the above technique, the injection pump 21b is operated to cause the absorption liquid 5 stored in the liquid storage section 56 and the absorption liquid storage tank 57 to be absorbed.
Is circulated to the header pipe 190 side, and the ejection pressure is set such that the absorption liquid 5 can be ejected from the nozzle 4 to a predetermined height.

そして本図では、噴射用ポンプ21bは説明を簡略にす
るために単一部材で表現しているが、実際は複数使用し
ているため、装置のコンパクト化、および設備費用、運
転費用削減等の観点から問題がある。
In this figure, the injection pump 21b is represented by a single member for simplicity of description, but in actuality, a plurality of injection pumps 21b are used, so that the apparatus is compact, and equipment costs and operation costs are reduced. There is a problem from.

また、排ガスと吸収液との間の気液接触の効率を上げ
るためには、排ガスに接触する吸収液を微粒子化するノ
ズルを多数設ける必要があり、そのためには第24(B)
図に示すようにマトリックス状に配設した複数の吸収液
噴出用ノズル群を必要とする等の設備負担の増大等の課
題も存在していた。
Further, in order to increase the efficiency of gas-liquid contact between the exhaust gas and the absorbing liquid, it is necessary to provide a number of nozzles for atomizing the absorbing liquid in contact with the exhaust gas.
As shown in the figure, there are also problems such as an increase in equipment load, such as the necessity of a plurality of nozzle groups for ejecting the absorbing liquid arranged in a matrix.

この為、例えば、ドイツ特許DE−A−1769945あるい
は特表平9−507792号において、前記ノズルへ供給循環
させるスラリを貯溜するタンクを設け、該タンクの液面
レベルをノズル噴出位置より高く設定し、ノズルより噴
出した吸収液をガスに同伴させ、吸収塔の上部で吸収液
とガスを分離し、分離した吸収液をタンクに保持し該タ
ンク液面よりの重力差を利用してノズルよりスラリ液を
噴出させ、噴射ポンプを用いずに重力差を利用してスラ
リ液のノズルよりの噴出及び循環を可能にしている。
For this purpose, for example, in DE-A-1769945 or JP-A-9-507792, a tank for storing a slurry to be supplied and circulated to the nozzle is provided, and the liquid level of the tank is set higher than the nozzle ejection position. The gas absorbed with the absorbing liquid from the nozzle is separated from the gas at the upper part of the absorption tower, and the separated absorbing liquid is held in a tank. The liquid is ejected, and the ejection and circulation of the slurry liquid from the nozzle are enabled by utilizing the gravity difference without using the injection pump.

しかしながら、かかる従来技術においては、吸収液を
貯留するタンクの液面が吸収塔内のノズル噴出位置より
も高い位置にあることを条件とするが、通常吸収塔が相
当の高さがあり、それよりも高い位置に液面を設定する
ことは、タンクの高さが必然的に高くなる欠点がある。
However, in this conventional technique, the condition is that the liquid level of the tank storing the absorbing liquid is at a position higher than the nozzle ejection position in the absorbing tower, but usually the absorbing tower has a considerable height. Setting the liquid level at a higher position has the disadvantage that the height of the tank is necessarily increased.

更に、排煙脱硫装置のようなガス洗浄装置ではボイラ
等のガス発生源が負荷変動することが一般的であり、こ
の為前記いずれの装置においても、ガス流量が低下した
場合にガスの流速低下によって吸収液が同伴しないた
め、吸収液とガス流との気液接触が円滑に出来ず、排煙
に含まれる亜硫酸ガスや粉塵を効果的に除去出来ないの
みならず、吸収塔上部で吸収液が回収出来ず、言換えれ
ばタンクへの吸収液の循環が困難になり、この結果タン
ク液面が徐々に低下し、最終的には自重で吸収液を循環
することが困難となる場合があった。
Further, in a gas cleaning apparatus such as a flue gas desulfurization apparatus, a load of a gas generation source such as a boiler generally fluctuates. Therefore, in any of the above apparatuses, when the gas flow rate is reduced, the gas flow rate is reduced. Gas cannot be brought into contact with the gas stream smoothly, sulfur dioxide gas and dust contained in the flue gas cannot be removed effectively, but also the absorption liquid cannot be removed at the top of the absorption tower. Can not be recovered, in other words, it becomes difficult to circulate the absorbent to the tank, and as a result, the tank liquid level gradually decreases, and eventually it becomes difficult to circulate the absorbent by its own weight. Was.

更に前記いずれの装置も、吸収液の吹上げ速度、言い
換えれば吹上げ高さは、排ガスの流速に比例して増減す
るものであるために、第13図に示すように、吸収塔の立
ち上がり時T1ないしシャットダウン時T2のように、燃焼
機側の燃焼容量が小さいと、排気ガス流速は低下し、ノ
ズルより噴出する吸収液の吹上げ高さを基準レベル以上
に持ち上げることが不可能となり、結果として、前記噴
流の略全量が塔頂部に設けたミストエリミネータに到達
することなく腰倒れ状態で液溜め部に落下し、前記液溜
め部に溜まる吸収液が無用に多くなる。
Further, in any of the above devices, the blowing speed of the absorbing liquid, in other words, the blowing height increases and decreases in proportion to the flow rate of the exhaust gas, and therefore, as shown in FIG. T 1 or as shutdown T 2, the combustion capacity of the burner side is small, the exhaust gas flow rate decreases, it becomes impossible to lift the upflow height of the absorption liquid is ejected from the nozzle above the reference level As a result, substantially the entire amount of the jet flow falls into the liquid storage portion in a falling state without reaching the mist eliminator provided at the top of the tower, and the absorption liquid stored in the liquid storage portion becomes uselessly increased.

このため、従来装置においては、吸収液の連続循環を
可能とするために、液溜め部56のサイズを大きくするか
又は、還流用の回収ポンプ21aを、吸収塔2の立ち上が
り及びシャットダウン時のみに対応して、大容量のもの
を用意しているが、これは設備コストの不要な増大につ
ながる。
For this reason, in the conventional apparatus, in order to enable continuous circulation of the absorption liquid, the size of the liquid reservoir 56 is increased or the recovery pump 21a for reflux is set only when the absorption tower 2 starts up and shuts down. Correspondingly, a large capacity is prepared, but this leads to an unnecessary increase in equipment cost.

更に前記いずれの装置も排ガスに同伴する亜硫酸ガス
等の目的成分を吸収したミスト(液滴)は、吸収塔上部
のミストエリミネータの折れ板に衝突し吸収塔内に落下
させて吸収液の連続循環を可能としているが、前記のよ
うな従来の装置では、塔内のガス流速が通常の4〜5m/s
程度であればミストエリミネータの捕足が可能である
が、近年処理能力の向上と省スペース化のため、塔内の
ガス流速を例えば5.5m/s以上に上げるという高速化の要
求がなされている。
Further, the mist (droplet) which absorbed the target component such as sulfur dioxide gas accompanying the exhaust gas in each of the above devices collides with the bent plate of the mist eliminator on the upper part of the absorption tower and drops into the absorption tower to continuously circulate the absorption liquid. However, in the conventional apparatus as described above, the gas flow rate in the tower is usually 4 to 5 m / s
It is possible to catch the mist eliminator if it is of the order of magnitude, but in recent years there has been a demand for higher speeds such as increasing the gas flow rate in the tower to 5.5 m / s or more, for example, in order to improve processing capacity and save space. .

このようにガス速度を5.5m/s以上にすると、ミストエ
リミネータではその部分に至った液滴を十分には取り切
れずに、同伴するガスと共に吸収液滴が塔外に排出され
ることになり、大気中に放出する場合は勿論、後段の処
理設備に送る場合でも好ましくない。
When the gas velocity is set to 5.5 m / s or more in this way, the mist eliminator will not be able to sufficiently remove the droplets that have reached that part, and the absorbed droplets will be discharged out of the tower together with the accompanying gas. It is not preferable not only to release to the atmosphere, but also to sending to the subsequent processing equipment.

又、5.5m/s以上のガス流速では、ガスに同伴されてミ
ストエリミネータに達する吸収液の液量が大幅に増加す
るために、ミストエリミネータから落下すべき液が落下
しきらずに、ミストエリミネータの入口部では液滴が渦
巻き状をなして滞留する現象(飛散吸収液溜りゾーン)
が起きることになり、ミスト除去性能は著しく低下す
る。このミスト除去性能の低下は、飛散吸収液溜りゾー
ンから排ガスに同伴されてミスト(液滴)が再度飛散す
ることによって生ずるものであり、排気用煙道からのミ
ストの逃げが増加することになる。
At a gas flow rate of 5.5 m / s or more, the amount of the absorbing liquid that reaches the mist eliminator accompanying the gas greatly increases. A phenomenon in which droplets stay in a spiral shape at the entrance (scattered absorption liquid pool zone)
And mist removal performance is significantly reduced. This decrease in the mist removal performance is caused by the mist (droplets) being scattered again by the exhaust gas from the scatter absorbing liquid pool zone, and the escape of the mist from the exhaust flue is increased. .

発明の開示 本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、噴射ポンプを
用いることなく、又吸収液を同伴するガス流速が低下し
た場合でも円滑に吸収液の回収を可能とする湿式ガス処
理に関する発明を提供することを目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the drawbacks of the prior art, and has been made of an invention relating to wet gas treatment that enables smooth recovery of an absorbent without using an injection pump and even when the gas flow rate accompanying the absorbent is reduced. The purpose is to provide.

本発明の他の目的は、大きな動力を必要としない省エ
ネ方式で、且つノズルの設備負担の増大等を解消して低
コスト化を達成しつつ、更には効率的な気液接触を可能
とする湿式ガス処理に関する発明を提供することを目的
とする。
Another object of the present invention is an energy-saving method that does not require a large power, and achieves a cost reduction by eliminating an increase in the facility load of the nozzle, and also enables more efficient gas-liquid contact. It is an object of the present invention to provide an invention relating to wet gas treatment.

本発明の他の目的は液溜め部のサイズやポンプ容量を
無用に大きくすることなく、前記排気ガスの流速が低下
した場合に生じる課題を有効に解決し得る湿式排ガス処
理に関する発明を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an invention relating to a wet exhaust gas treatment that can effectively solve the problem that occurs when the flow rate of the exhaust gas is reduced without unnecessarily increasing the size of the liquid reservoir and the pump capacity. With the goal.

かかる課題を解決するために、本発明は請求の範囲第
1項記載のように、吸収液貯溜部に貯溜した吸収液を吸
収塔内のノズル部より上方に噴流させ、該噴流を前記吸
収塔内を通気する排ガスと気液接触させ、排ガス中の目
的成分を吸収させて除去する湿式ガス処理装置におい
て、 前記吸収液貯溜部を、貯溜液面上方空間に加圧気体を
生成する加圧タンクで形成し、一方前記目的成分を吸収
した吸収液を回収する回収部を、前記加圧タンク内の貯
溜液面より高い吸収塔内の所定位置に配し、前記回収部
より加圧タンク側に吸収液を還流させる連通管の出口端
開口を、前記加圧タンク内の貯溜液内に位置させたこと
を特徴とする。
In order to solve such a problem, the present invention provides a method as set forth in claim 1, wherein an absorbing liquid stored in an absorbing liquid storage section is jetted upward from a nozzle portion in an absorption tower, and the jet flow is converted into the absorption tower. In a wet gas processing apparatus for bringing a gas into a gas-liquid contact with an exhaust gas passing therethrough to absorb and remove a target component in the exhaust gas, the pressurized tank for generating a pressurized gas in a space above a surface of the stored liquid by using the absorbent liquid storage section Formed on the other hand, a recovery unit for recovering the absorption liquid having absorbed the target component is disposed at a predetermined position in the absorption tower higher than the stored liquid level in the pressurized tank, and closer to the pressurized tank side than the recovery unit. An outlet end opening of the communication pipe for refluxing the absorbing liquid is located in the storage liquid in the pressurized tank.

この場合、前記加圧タンク内の加圧気体の付勢圧を利
用して、前記加圧タンク内に貯溜した吸収液を、前記吸
収塔内のノズル部より上方に噴流可能に構成するのがよ
く,又前記吸収液に吸収させて除去する目的成分の一が
二酸化硫黄(SO2)である場合に、前記加圧気体が酸素
含有気体であり、該酸素含有気体を加圧タンク内底部の
貯溜液に吹き込むのがよい。
In this case, it is preferable that the urging pressure of the pressurized gas in the pressurized tank is used so that the absorbent stored in the pressurized tank can be jetted upward from the nozzle in the absorber. Also, when one of the target components to be absorbed and removed by the absorbing solution is sulfur dioxide (SO 2 ), the pressurized gas is an oxygen-containing gas, and the oxygen-containing gas is removed from the bottom of the pressurized tank. It is good to blow into the stored liquid.

従ってかかる発明によれば、加圧タンクの受圧面積と
加圧気体の圧力によりノズルよりの吸収液の噴出量が決
定され、そしてボイラなどの燃焼装置の負荷変動などに
よって、吸収塔内のガス流速が変動した場合でも、この
変動を補償する方向に加圧タンク内の圧力を制御するこ
とにより、ノズルよりの吸収液の噴出高さをほぼ一定に
維持することが出来、この結果吸収液を同伴するガス流
速が低下した場合でも円滑に吸収液の回収を可能とす
る。
Therefore, according to this invention, the amount of the ejected absorbing liquid from the nozzle is determined by the pressure receiving area of the pressurized tank and the pressure of the pressurized gas, and the gas flow rate in the absorbing tower is changed by a load fluctuation of a combustion device such as a boiler. Even if the pressure fluctuates, the height of the jet of the absorbing liquid from the nozzle can be maintained almost constant by controlling the pressure in the pressurized tank in a direction to compensate for the fluctuation. This makes it possible to smoothly recover the absorbing liquid even when the flowing gas velocity decreases.

尚、加圧タンク内の気体圧は、該タンクよりの吸入液
排出量と、該タンクへの吸収液供給量、及び該タンクへ
の気体吹込み量とがバランスして所定圧になるように制
御される。
The gas pressure in the pressurized tank is adjusted so that the discharge amount of the suction liquid from the tank, the supply amount of the absorbing liquid to the tank, and the gas blowing amount into the tank are balanced to a predetermined pressure. Controlled.

又本発明によれば、噴射ポンプのように吸収液を直接
圧送するのではなく、加圧ダンク内を圧縮空気等の加圧
気体で加圧するものである為に、言換えれば複数のポン
プを用いることなく、加圧タンクとこれに加圧気体を給
送する空気圧縮機等の気体圧縮源のみで足りるために、
装置のコンパクト化、および設備費用、運転費用削減等
が図れる。
Further, according to the present invention, instead of directly pumping the absorbent as in the case of the injection pump, the inside of the pressurized dunk is pressurized with pressurized gas such as compressed air. Without using a pressurized tank and only a gas compression source such as an air compressor that feeds pressurized gas to it,
It is possible to reduce the size of the device, reduce equipment costs and operating costs, and the like.

更に、吸収液供給ノズルが上向きの上向きノズルを用
いる装置において、該上向きノズルを加圧タンクの液面
より上部に位置する必要が無く、加圧タンクを低くする
ことが可能な上、自由な配置ができる。
Further, in an apparatus using an upward nozzle in which the absorption liquid supply nozzle is upward, it is not necessary to position the upward nozzle above the liquid level of the pressurized tank. Can be.

又本発明は、前記吸収液に吸収/除去させる一の目的
成分が二酸化硫黄(SO2)である場合には、前記加圧気
体が酸素含有気体であり、該酸素含有気体を加圧タンク
内底部の貯溜液に吹き込むようにするのがよい。
Further, according to the present invention, when one target component to be absorbed / removed by the absorbing liquid is sulfur dioxide (SO 2 ), the pressurized gas is an oxygen-containing gas, and the oxygen-containing gas is stored in a pressurized tank. It is good to blow into the bottom liquid.

これによりノズルより噴流し排ガスとの気液接触によ
りSO2を吸収した石灰石を含むスラリー吸収液が加圧タ
ンク内に貯溜した際、前記酸素含有気体との接触により
SO2を酸化して硫酸カルシウム二水和物(石膏)を生成
させることが出来る。
This allows the slurry-containing liquid containing limestone, which has been jetted from the nozzle and absorbed SO 2 by gas-liquid contact with the exhaust gas, to be stored in the pressurized tank when contacted with the oxygen-containing gas.
SO 2 can be oxidized to form calcium sulfate dihydrate (gypsum).

更に本発明によれば、目的成分を吸収/除去した吸収
液は、回収部を介して加圧タンク側に回収され、吸収液
の循環再使用が可能となる。
Further, according to the present invention, the absorbing solution having absorbed / removed the target component is recovered to the pressurized tank side via the recovering section, and the absorbing solution can be circulated and reused.

尚、前記回収部より吸収液を回収する連通管を加圧タ
ンク内部の上部閉鎖空間に開口すると、該空間内の気体
圧が連通管を介して吸収塔内に逃散し加圧タンクとして
の機能を維持できない。
When a communicating pipe for collecting the absorbing liquid from the collecting section is opened in the upper closed space inside the pressurized tank, the gas pressure in the space escapes into the absorption tower through the communicating pipe and functions as a pressurized tank. Cannot be maintained.

そこで、本発明は、前記回収部より加圧タンク側に吸
収液を還流させる連通管の出口端開口を、前記加圧タン
ク内の貯溜液内に位置させることにより、連通管内の吸
収液により加圧タンクのガス圧シールを可能にするとと
もに、回収部を、前記加圧タンク内の貯溜液面より高い
吸収塔内の所定位置に配置しているために、回収部の連
通管を介して圧力タンク内部の圧力と釣り合った位置に
連通管内の液面が上昇することになる。そして前記連通
管内の液面は回収部の位置より低くなるように連通管の
高低差、回収部の位置及びタンク内圧を設定することに
より、回収器より加圧タンク内へ吸収液の循環を可能に
しつつ連通管内の吸収液により加圧タンクのガス圧シー
ルを可能にする。
In view of this, the present invention is directed to a method in which the outlet end opening of the communication pipe for returning the absorbing liquid from the recovery section to the pressurized tank side is located in the storage liquid in the pressurized tank, so that the liquid is absorbed by the absorbing liquid in the communicating pipe. The gas pressure seal of the pressure tank is enabled, and the recovery unit is disposed at a predetermined position in the absorption tower higher than the liquid level in the pressurized tank. The liquid level in the communication pipe rises to a position balanced with the pressure inside the tank. By setting the height difference of the communication pipe, the position of the recovery section, and the tank internal pressure so that the liquid level in the communication pipe is lower than the position of the recovery section, the absorption liquid can be circulated from the recovery apparatus into the pressurized tank. The gas pressure sealing of the pressurized tank is made possible by the absorbing liquid in the communicating pipe.

尚、本発明によれば、吸収塔内で吸収液を上向きに噴
流させて吸収塔上部に設けた回収部にて吸収液を回収し
ても、一部は吸収塔底部へ落下するため、前記回収部だ
けでは100%回収できないので吸収塔底部に溜まった液
のレベルが所定量以上になると低圧ポンプで加圧タンク
へと戻すように構成するのがよい。また、液の一部はど
うしてもガスとともに抜け出たりするので、その補充を
原料供給管より行なう。
According to the present invention, even if the absorbent is jetted upward in the absorption tower and the absorption liquid is collected in the collection section provided at the top of the absorption tower, the absorption liquid is partially dropped to the bottom of the absorption tower. Since the recovery section alone cannot recover 100%, it is preferable to use a low-pressure pump to return the liquid collected in the bottom of the absorption tower to the pressurized tank when the level of the liquid exceeds a predetermined amount. In addition, since a part of the liquid inevitably escapes together with the gas, replenishment is performed through the raw material supply pipe.

図面の簡単な説明 第1図は本発明の実施形態に係る湿式ガス処理装置を
示す概略図である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view showing a wet gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

第2図は、第1図のガス処理装置においてガス流速と
SO2の除去率の関係を取得した一例を示すグラフ図であ
る。
FIG. 2 shows the gas flow rate in the gas processing apparatus of FIG.
FIG. 9 is a graph showing an example of acquiring a relationship between SO 2 removal rates.

第3図は本発明の第1の関連発明に係る吸収液重力供
給方式の湿式ガス処理装置の概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a wet gas processing apparatus of an absorption liquid gravity supply type according to a first related invention of the present invention.

第4図は、第3図の樋状吸収液管の配設例を示し、
(A)は一段水平配列の場合の流線を示し、(B)は二
段千鳥状配設の場合の流線を示す図である。
FIG. 4 shows an arrangement example of the trough-shaped absorbing liquid pipe of FIG. 3,
(A) shows streamlines in the case of one-stage horizontal arrangement, and (B) shows streamlines in the case of two-stage staggered arrangement.

第5図は、第4(A)図の樋状吸収液管の配設状態と
吸収液の流通状態を示す部分斜視図で、(A)は樋状吸
収液管側壁上面に切欠きを設けないもの、(B)は樋状
吸収液管側壁上面に切欠きを設けたものを示す。
FIG. 5 is a partial perspective view showing the arrangement state of the gutter-shaped absorbing liquid pipe and the flowing state of the absorbing liquid in FIG. 4 (A). FIG. (B) shows a case in which a notch is provided on the upper surface of the side wall of the trough-shaped absorption liquid pipe.

第6図は、第5図に示す樋状吸収液管と異なり、前記
吸収液管を上部閉塞型の管状部材で構成した例を示し、
(A)は吸収液管の下面が断面円形の半円管状部材、
(B)は断面中空円状の管状部材1使用したもの、
(C)は断面楕円形の管状部材を使用したもの、(D)
はその両側側壁の空隙部と対面する側に軸線方向に沿っ
て多数の小孔を穿設したもの、(E)はその両側側壁の
空隙部と対面する側に軸線方向に沿って、断続的にスリ
ット開口を穿設している構成が示してある。
FIG. 6 shows an example in which, unlike the trough-shaped absorbing liquid pipe shown in FIG.
(A) is a semicircular tubular member having a circular cross section on the lower surface of the absorbent tube,
(B) shows the use of the tubular member 1 having a hollow circular cross section;
(C) uses a tubular member having an elliptical cross section, (D)
(E) has a number of small holes formed along the axial direction on the side facing the gap on both side walls, and (E) shows intermittently extending along the axial direction on the side facing the gap on both side walls. 2 shows a configuration in which a slit opening is formed.

第7図は本発明の第2の関連発明に係る湿式ガス処理
装置を示す概略図である。
FIG. 7 is a schematic view showing a wet gas processing apparatus according to a second related invention of the present invention.

第8図は第7図の分割板の第1の変形例にかかる湿式
ガス処理装置を示す要部概略図である。
FIG. 8 is a schematic view of a main part showing a wet gas processing apparatus according to a first modification of the dividing plate of FIG.

第9図は第7図の分割板の第2の変形例にかかる湿式
ガス処理装置を示す要部概略図である。
FIG. 9 is a schematic view of a main part showing a wet gas processing apparatus according to a second modification of the dividing plate of FIG.

第10図は第7図の分割板の第3の変形例にかかる湿式
ガス処理装置を示す要部概略図である。
FIG. 10 is a schematic view of a main part showing a wet gas processing apparatus according to a third modification of the dividing plate of FIG.

第11図は第7図の分割板の第4の変形例にかかる湿式
ガス処理装置を示す要部概略図である。
FIG. 11 is a schematic view of a main part showing a wet gas processing apparatus according to a fourth modification of the dividing plate of FIG.

第12図は、本発明の第3の関連発明に係る湿式排ガス
処理装置の構成を示す概略図である。
FIG. 12 is a schematic diagram showing a configuration of a wet exhaust gas treatment apparatus according to a third related invention of the present invention.

第13図は、ボイラの運転時間に対する排ガス塔速の変
化を示すグラフ図である。
FIG. 13 is a graph showing changes in the exhaust gas tower speed with respect to the operation time of the boiler.

第14図は、排ガス排出源と大気放出部とを結ぶ主経路
に湿式吸収塔を介在させてなる本発明の第4の関連発明
に係る排ガス処理システムを示し、(A)は吸収塔立ち
上げ前におけるダンパの開閉状態及び排ガスの流れ、
(B)はボイラよりの吸収塔への導入排ガスの塔内流速
がローディング流速以上の場合のダンパの開閉状況及び
排ガスの流れを示す図である。
FIG. 14 shows an exhaust gas treatment system according to a fourth related invention of the present invention, in which a wet absorption tower is interposed in a main path connecting an exhaust gas emission source and an atmospheric emission section, and (A) shows the startup of the absorption tower. Opening and closing state of the damper and the flow of exhaust gas before,
(B) is a diagram showing the opening / closing state of the damper and the flow of exhaust gas when the flow velocity of the exhaust gas introduced into the absorption tower from the boiler is equal to or higher than the loading flow velocity.

第15図は、吸収塔内に排ガス流路幅を規制する分割板
を設けた第14図の発明の変形例に係る排ガス処理システ
ムを示す概略図である。
FIG. 15 is a schematic diagram showing an exhaust gas treatment system according to a modification of the invention shown in FIG. 14 in which a dividing plate for regulating the width of the exhaust gas flow path is provided in the absorption tower.

第16図は、吸収塔内に排ガス流路幅を規制する分割板
を設けた第14図の発明の他の変形例に係る排ガス処理シ
ステムを示す概略図である。
FIG. 16 is a schematic diagram showing an exhaust gas treatment system according to another modified example of the invention shown in FIG. 14 in which a dividing plate for regulating the width of the exhaust gas passage is provided in the absorption tower.

第17図は、排ガス排出源と大気放出部とを結ぶ主経路
に湿式吸収塔を介在させてなる従来の排ガス吸収システ
ムの概略構成図である。
FIG. 17 is a schematic configuration diagram of a conventional exhaust gas absorption system in which a wet absorption tower is interposed in a main path connecting an exhaust gas discharge source and an atmospheric emission section.

第18図は、本発明の第5の関連発明に係る湿式排ガス
処理装置の概要を示す正面図である。
FIG. 18 is a front view showing an outline of a wet exhaust gas treatment apparatus according to a fifth related invention of the present invention.

第19図は、第18図の側面図である。 FIG. 19 is a side view of FIG.

第20図は、第18図の装置に装着されたミストエリミネ
ータの拡大部分斜視図である。
FIG. 20 is an enlarged partial perspective view of the mist eliminator mounted on the apparatus of FIG.

第21図は、第18図の発明の変形例に係る湿式排ガス処
理装置の概要を示す正面図である。
FIG. 21 is a front view showing an outline of a wet exhaust gas treatment apparatus according to a modification of the invention shown in FIG.

第22図は第18図の発明を説明するために、塔内ガス流
速とミストエリミネータ出口のミスト濃度の関係につい
ての試験結果を示す対数グラフである。
FIG. 22 is a logarithmic graph showing test results on the relationship between the gas flow rate in the tower and the mist concentration at the outlet of the mist eliminator in order to explain the invention of FIG.

第23図は第18図の発明を説明するために、塔内ガス流
速とミストエリミネータ入口のミスト飛散率の関係につ
いての試験結果を示すグラフ図である。
FIG. 23 is a graph showing the test results on the relationship between the gas flow rate in the tower and the mist scattering rate at the inlet of the mist eliminator in order to explain the invention of FIG.

第24図の(A)は従来の湿式ガス吸収塔の概略の構成
を示す図で、(B)は(A)に使用されている上向きノ
ズル群とその配管状況を示す斜視図である。
FIG. 24 (A) is a view schematically showing a configuration of a conventional wet gas absorption tower, and FIG. 24 (B) is a perspective view showing an upward nozzle group used in FIG.

発明を実施するための最良の形態 以下、図面に基づいて本発明の実施例を例示的に詳し
く説明する。但しこの実施例に記載されている構成部品
の寸法、材質、形状、その相対配置などは特に特定的な
記載がない限りは、この発明の範囲をそれのみに限定す
る趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be illustratively described in detail with reference to the drawings. However, unless otherwise specified, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described in this embodiment are not intended to limit the scope of the present invention, but are merely illustrative examples. Not just.

第1図は本発明の第1の実施形態に係る湿式ガス処理
装置を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a wet gas processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

第1図において、ボイラなどの燃焼装置からの排ガス
1は吸収塔2の下部に設置された排煙導入部3に導入さ
れる。導入された排ガス1は吸収塔2内下部に設置され
た吸収液供給ノズル4から供給される吸収液5と接触
し、ガス中の目的成分がガスから吸収液5へ移動する。
In FIG. 1, an exhaust gas 1 from a combustion device such as a boiler is introduced into a flue gas introduction section 3 installed at a lower portion of an absorption tower 2. The introduced exhaust gas 1 comes into contact with the absorption liquid 5 supplied from the absorption liquid supply nozzle 4 installed in the lower part of the absorption tower 2, and the target component in the gas moves from the gas to the absorption liquid 5.

この時、ガス中の目的成分と吸収液の組み合わせは、
目的成分が吸収液に可溶なもの及び粉塵等を指す。例え
ば本実施形態では吸収液に可溶な目的成分は二酸化硫黄
(SO2)であり、吸収液は吸収剤である石灰石を含むス
ラリーを使用した。
At this time, the combination of the target component and the absorbing solution in the gas is
It refers to those in which the target component is soluble in the absorbing solution, dust, and the like. For example, in this embodiment, the target component soluble in the absorbing solution is sulfur dioxide (SO 2 ), and the absorbing solution used was a slurry containing limestone as an absorbing agent.

そして前記ノズルは本実施形態においては上向きノズ
ル4であり、該上向きノズル4から吸収液5を上方に向
けて噴射することにより、前記排煙導入部3から導入し
た排ガス1が前記ノズル4から噴出された吸収液噴流5a
を同伴しながら、吸収液5の噴流中を通過させることで
気液接触を図る。
The nozzle is an upward nozzle 4 in the present embodiment, and the exhaust gas 1 introduced from the flue gas introduction section 3 is ejected from the nozzle 4 by injecting the absorbent 5 upward from the upward nozzle 4. Absorbed liquid jet 5a
The liquid is passed through the jet flow of the absorbing liquid 5 while bringing the gas into contact with the liquid, thereby achieving gas-liquid contact.

そして前記噴流頂点付近の吸収塔2上部にはミストエ
リミネータ6が配設され、該ミストエリミネータ6でガ
ス1に同伴した吸収液5が除去される。
A mist eliminator 6 is disposed above the absorption tower 2 near the top of the jet, and the mist eliminator 6 removes the absorbing liquid 5 accompanying the gas 1.

吸収塔2内で目的成分が吸収液5に除去され、ミスト
エリミネータ6で同伴した吸収液5が除かれた浄化ガス
7は、最終的に排煙導出部8より大気あるいは必要な不
図示の後流機器へ送られる。
The purifying gas 7 from which the target component is removed by the absorbing liquid 5 in the absorbing tower 2 and the absorbing liquid 5 entrained by the mist eliminator 6 is finally removed from the smoke exhausting section 8 to the atmosphere or after the necessary unillustrated Sent to the flow equipment.

一方、ミストエリミネータ6下方の吸収塔2側壁内周
には上側が開口された回収器9が配設され、前記ミスト
エリミネータ6で捕捉された吸収液5は回収器9で回収
され、連通管10を介して、加圧タンク11へ落下する。
On the other hand, a collecting device 9 having an upper side opened is disposed on the inner periphery of the side wall of the absorption tower 2 below the mist eliminator 6, and the absorbing liquid 5 captured by the mist eliminator 6 is collected by the collecting device 9, Through the pressure tank 11.

従って前記吸収液供給ノズル4から噴出する吸収液5
の高さは、排ガス1の流速により押し上げられ、前記回
収器9よりも高い位置まで上がるように加圧タンク11の
加圧力を設定する。
Therefore, the absorbing liquid 5 ejected from the absorbing liquid supply nozzle 4
The pressure of the pressurized tank 11 is set so that the height is raised by the flow velocity of the exhaust gas 1 and rises to a position higher than the collecting device 9.

連通管10はその上端が回収器9底面に開口し、該連通
管10の下端は加圧タンク11上面より該タンク11内の吸収
液5中に常時没水する位置で開口し、該連通管10により
加圧タンク11のガスシールを行なっている。
The upper end of the communication pipe 10 is opened at the bottom of the recovery unit 9, and the lower end of the communication pipe 10 is opened at a position where it is always submerged in the absorbent 5 in the tank 11 from the upper surface of the pressurized tank 11. The gas sealing of the pressurized tank 11 is performed by 10.

すなわち、回収器9で回収された吸収液5は連通管10
から加圧タンク11へと流れるが、このとき加圧タンク11
内部の上部閉鎖空間11aには圧縮空気からなる気体圧が
かかっており、このため加圧タンク11内の吸収液5は逆
流し、加圧タンク11内部の圧力と釣り合った位置に連通
管10内の液面が上昇することになる。そして前記連通管
10内の液面は回収器9の位置より低くなるように連通管
10の高低差、回収器9位置及びタンク11内圧を設定する
ことにより、回収器9より加圧タンク11内へ吸収液5の
循環を可能にしつつ連通管10内の吸収液5により加圧タ
ンク11のガス圧シールを可能にする。
That is, the absorbent 5 recovered by the recovery device 9 is connected to the communication pipe 10.
From the pressure tank 11 at this time.
A gas pressure of compressed air is applied to the inner upper closed space 11a, so that the absorbing liquid 5 in the pressurized tank 11 flows backward, and the communication pipe 10 is located at a position balanced with the pressure in the pressurized tank 11. Will rise. And the communication pipe
Communication pipe so that the liquid level in 10 is lower than the position of recovery unit 9
By setting the height difference of 10, the position of the collecting device 9 and the pressure in the tank 11, the absorbing liquid 5 in the communication pipe 10 can be circulated from the collecting device 9 while the absorbing liquid 5 is circulated from the collecting device 9 into the pressurizing tank 11. Enables 11 gas pressure seals.

加圧タンク11内底部には空気圧縮機12と連結した気体
吹込み管13が設置され、貯溜液に加圧された空気、言い
換えれば酸素含有気体が吹き込まれている。
A gas blowing pipe 13 connected to an air compressor 12 is installed at the bottom of the pressurized tank 11, and pressurized air, in other words, an oxygen-containing gas, is blown into the stored liquid.

この加圧気体の役割は二つある。第1は加圧タンク11
内上部閉鎖空間11aの圧力維持であり,第2は前記気液
接触によりSO2を吸収した石灰石を含むスラリー吸収液
5が、前記酸素含有気体との接触によりSO2を酸化して
硫酸カルシウム二水和物(石膏)を生成させることであ
る。
This pressurized gas has two roles. The first is a pressurized tank 11
The second is to maintain the pressure in the inner upper closed space 11a. The second is that the slurry absorbing liquid 5 containing limestone that has absorbed SO 2 by the gas-liquid contact oxidizes SO 2 by contact with the oxygen-containing gas to form calcium sulfate 2. It is to produce a hydrate (gypsum).

加圧タンク11内に貯留された吸収液5は加圧タンク11
内上部閉鎖空間11aの圧力で吸収液供給管14及び吸収液
5の供給流量を制御する流量制御弁15を介して吸収塔2
内の吸収液供給ノズル4へ循環される。
The absorbent 5 stored in the pressurized tank 11
The absorption tower 2 is controlled via the absorption liquid supply pipe 14 and the flow control valve 15 for controlling the supply flow rate of the absorption liquid 5 by the pressure of the inner upper closed space 11a.
The liquid is circulated to the absorption liquid supply nozzle 4 in the inside.

次に前記加圧タンク11の構成について説明する。 Next, the configuration of the pressurized tank 11 will be described.

加圧タンク11頂部には大気開放管17および該タンク11
内の圧力を制御する圧力制御弁16が、又タンク側壁には
中和剤などの原料を供給する原料供給管18が、更にドレ
ン回収ポンプ21により吸収塔2の底部に設けた液溜め部
56より吸収液5を回収するためのドレン回収パイプ20
が、夫々取り付けられている。
At the top of the pressurized tank 11, an atmosphere opening pipe 17 and the tank 11
A pressure control valve 16 for controlling the internal pressure, a raw material supply pipe 18 for supplying a raw material such as a neutralizing agent on the side wall of the tank, and a liquid reservoir provided at the bottom of the absorption tower 2 by a drain recovery pump 21
Drain recovery pipe 20 for recovering absorbent 5 from 56
But they are attached respectively.

一方タンク11底部には前記SO2の酸化により生成され
た石膏等を抜き出す抜き出し管19が取り付けられてい
る。
On the other hand, an extraction pipe 19 for extracting gypsum or the like generated by the oxidation of SO 2 is attached to the bottom of the tank 11.

加圧タンク11を前記のように構成した理由は下記の通
りである。
The reason why the pressurized tank 11 is configured as described above is as follows.

本実施形態によれば、吸収塔2内で吸収液5を上向き
に噴流させて吸収塔2上部に設けた回収器9にて吸収液
5を回収しても、吸収液5の一部はどうしてもガスと共
に抜け出たり、一部は吸収塔2底部へ落下するため、前
記回収器9だけでは100%回収できない。そこで吸収塔
2底部に溜まった液のレベルが所定量以上になるとポン
プ21で加圧タンク11へと戻されるように構成している。
According to the present embodiment, even if the absorbent 5 is jetted upward in the absorption tower 2 and the absorption liquid 5 is recovered by the recovery unit 9 provided above the absorption tower 2, a part of the absorption liquid 5 is inevitably formed. Since it escapes together with the gas or a part of the gas falls to the bottom of the absorption tower 2, 100% of the gas cannot be recovered by the recovery device 9 alone. Therefore, when the level of the liquid accumulated at the bottom of the absorption tower 2 becomes equal to or more than a predetermined amount, the liquid is returned to the pressurized tank 11 by the pump 21.

又、加圧タンク11には中和剤等が原料供給管18から供
給されるとともに、抜き出し管19により一部抜き出され
石膏回収工程へと回される。従って本実施形態において
は原料供給管18による吸収液供給と不図示の石膏回収工
程へ抜き出される液量とガスと共に抜け出た液量等をバ
ランスさせて加圧タンク11の液レベルを維持している。
In addition, a neutralizing agent and the like are supplied to the pressurized tank 11 from a raw material supply pipe 18, and a part is extracted by an extraction pipe 19 and is sent to a gypsum recovery step. Therefore, in the present embodiment, the liquid level of the pressurized tank 11 is maintained by balancing the supply of the absorbent through the raw material supply pipe 18 and the amount of the liquid withdrawn to the gypsum recovery step (not shown) and the amount of the liquid with the gas. I have.

空気圧縮機12から加圧タンク11内に供給される空気量
は排ガス1に含まれるSO2の量に応じて吹き込まれる。
したがって、加圧タンク11内の空気圧は、吸収液供給管
14及び抜き出し管19による吸収液排出量と、連通管10、
原料供給管18、ドレン回収パイプ20による吸収液供給
量、及び空気圧縮機12による気体吹き込み量とがバラン
スして所定圧になるように制御される。
The amount of air supplied from the air compressor 12 into the pressurized tank 11 is blown according to the amount of SO 2 contained in the exhaust gas 1.
Therefore, the air pressure in the pressurized tank 11
14 and the discharge amount of the absorbing liquid by the extraction pipe 19 and the communication pipe 10,
Control is performed so that the supply amount of the absorbing liquid by the raw material supply pipe 18 and the drain recovery pipe 20 and the amount of the gas blown by the air compressor 12 are balanced to be a predetermined pressure.

尚、前記バランスが崩れてタンク内圧力が所定圧より
高くなるような場合には、圧力制御弁16が自動的に開
き、所定圧に戻るまで中の圧力を抜き、タンク内圧力を
所定圧力に維持する。
In the case where the above-mentioned balance is lost and the pressure in the tank becomes higher than a predetermined pressure, the pressure control valve 16 is automatically opened, the pressure in the tank is released until the pressure returns to the predetermined pressure, and the pressure in the tank is reduced to the predetermined pressure. maintain.

次に前記実施形態に示した装置による効果を下記の実
験により確認した。
Next, the effect of the apparatus shown in the above embodiment was confirmed by the following experiment.

第2図には本発明のガス処理装置において、吸収液を
炭酸カルシウムを含むスラリーとし、吸収液の循環流量
を一定としてガス流速とSO2の除去率の関係を取得した
一例を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing an example in which, in the gas treatment apparatus of the present invention, the absorption liquid is a slurry containing calcium carbonate, and the relationship between the gas flow rate and the removal rate of SO 2 is obtained while keeping the circulation flow rate of the absorption liquid constant. .

この実験により、一般に二酸化硫黄の除去率として求
められる90%以上の性能が広いガス流速の範囲で得られ
ていることがわかる。
This experiment shows that a performance of 90% or more, which is generally required as a sulfur dioxide removal rate, is obtained in a wide range of gas flow rates.

従ってボイラ等のガス発生源が負荷変動しガス流量が
低下した場合においても90%以上の効率で二酸化硫黄を
除去できる。
Therefore, even when the load of the gas generation source such as a boiler fluctuates and the gas flow rate decreases, the sulfur dioxide can be removed with an efficiency of 90% or more.

また、この実験において、吸収液は第1図に示した上
向き開口の回収器9でほぼ全量回収でき、順調に運転で
きた。また、ガス流の通気速度を低下した条件において
も、加圧タンク11の圧力を上昇させることで、吸収液5
の上部への到達を促進させ、この場合でも、吸収液5は
ほぼ全量を回収器9より回収できた。
In this experiment, almost all of the absorbing liquid could be recovered by the recovery device 9 having the upward opening shown in FIG. 1, and the operation could be performed smoothly. Further, even under the condition where the gas flow velocity is reduced, the pressure of the pressurized tank 11 is increased to increase the absorption liquid 5.
The absorption liquid 5 was almost completely recovered from the recovery device 9 even in this case.

従って、かかる実施形態によれば噴射ポンプを用いる
ことなく、又吸収液を同伴するガス流速が低下した場合
でも円滑に吸収液の回収を可能とすることが出来る。
Therefore, according to this embodiment, the absorption liquid can be smoothly recovered without using the injection pump and even when the gas flow rate accompanying the absorption liquid decreases.

特に本実施形態によれば、加圧タンク内を圧縮空気等
の加圧気体で加圧することにより、加圧タンクの液面が
吸収液供給ノズルより上部に位置する必要が無く、加圧
タンクを低くすることが可能な上、自由な配置ができ
る。さらに、前述のように、負荷変動などによって、吸
収塔2内のガス流速が低下し、吸収液5が同伴できない
場合にも、加圧タンク内の圧力を増加させ、吸収液をミ
ストエリミネータ近傍付近まで上昇させ、吸収液を回収
することができる。
In particular, according to the present embodiment, by pressurizing the inside of the pressurized tank with a pressurized gas such as compressed air, the liquid level of the pressurized tank does not need to be located above the absorption liquid supply nozzle, and the pressurized tank is In addition to being able to be lowered, free arrangement is possible. Further, as described above, even when the gas flow rate in the absorption tower 2 is reduced due to a load fluctuation and the like, and the absorbing liquid 5 cannot be entrained, the pressure in the pressurized tank is increased and the absorbing liquid is discharged near the mist eliminator. And the absorbent can be recovered.

第3図は本発明の第1の関連発明で、上向きノズルを
用いない吸収液重力供給方式の湿式ガス処理装置の概略
の構成を示す。
FIG. 3 is a first related invention of the present invention, and shows a schematic configuration of a wet gas processing apparatus of an absorption liquid gravity supply type which does not use an upward nozzle.

図に見るように、ボイラなどの燃焼装置からの排ガス
1は吸収塔2の下部に設けた排煙導入部3より導入され
塔内の上方に延設する排ガス流路2Aを通気し、上昇排ガ
ス流を形成してミストエリミネータ6を介して吸収塔頂
部の排煙導出部8より排出されるように構成してある。
As shown in the figure, exhaust gas 1 from a combustion device such as a boiler is introduced from a flue gas introduction section 3 provided at a lower portion of an absorption tower 2, and flows through an exhaust gas flow path 2 A extending upward in the tower. A stream is formed and is discharged from the smoke discharge section 8 at the top of the absorption tower via the mist eliminator 6.

また、吸収塔2の下部には液溜め部56が設けられ、塔
2上部より落下した石灰スラリ等の吸収液5を貯留し回
収ポンプ21を介して吸収液貯留槽27へ還流するようにし
てある。
Further, a liquid reservoir 56 is provided at the lower part of the absorption tower 2 so that the absorbent 5 such as lime slurry dropped from the upper part of the tower 2 is stored and returned to the absorbent storage tank 27 via the recovery pump 21. is there.

一方、排煙導入部3真上の排ガス流路2A入口部には、
略水平状に多数の上部開放型の樋状吸収液管31を平行に
複数本横断するごとく並設させて水平配管列構成とする
とともに、該樋状吸収液管31に吸収液5を供給する貯留
槽27の液面が前記樋状吸収液管31液面より僅かに高くな
るように設定し、適宜落差を持たせた重力の作用により
吸収液導入パイプ29及びバルブ60を介して吸収液5を塔
内のヘッダパイプ190(第5図参照)に導入した後、該
ヘッダパイプ190を介して樋状吸収液管31に導入された
吸収液5は樋状吸収液管31側壁上面より薄膜状に、隣接
する樋状吸収液管31同士に挟まれる空隙部30に向けて溢
流するように構成してある。(第4図、第5図参照) 尚、吸収液貯溜槽27の液面27aを前記樋状吸収液管31
液面より僅かに高くなるように設定するために、吸収液
供給バルブ60よりの吸収液量に対応して回収ポンプ21及
び回収パイプ24aよりの回収量と新規な吸収液5の供給
量を調整している。
On the other hand, at the exhaust gas passage 2A entrance just above the smoke exhaust introduction unit 3,
A large number of open-top gutter-shaped absorbing liquid pipes 31 are arranged substantially in parallel so as to traverse a plurality of the pipes in parallel so as to traverse in parallel. The liquid level of the storage tank 27 is set to be slightly higher than the liquid level of the trough-shaped absorption liquid pipe 31, and the absorption liquid 5 is passed through the absorption liquid introduction pipe 29 and the valve 60 by the action of gravity with an appropriate drop. After having been introduced into the header pipe 190 (see FIG. 5) in the tower, the absorption liquid 5 introduced into the gutter-shaped absorption liquid pipe 31 through the header pipe 190 becomes thinner from the upper surface of the side wall of the gutter-shaped absorption liquid pipe 31. In addition, it is configured so as to overflow toward the gap 30 sandwiched between the adjacent trough-shaped absorption liquid tubes 31. (See FIGS. 4 and 5.) The liquid surface 27a of the absorbing liquid storage tank 27 is connected to the trough-shaped absorbing liquid pipe 31.
Adjust the recovery amount from the recovery pump 21 and the recovery pipe 24a and the supply amount of the new absorption liquid 5 in accordance with the absorption liquid amount from the absorption liquid supply valve 60, so as to set it slightly higher than the liquid level. are doing.

第4図には、前記樋状吸収液管31の配設形態を示して
あるが、第4(A)図には、前記排ガス流路2A入口部を
ほぼ横断する一の水平面内に沿って平行に配列した一段
状に列設させ、該列設する管群の隣接する管同士の空隙
部30を排ガス流32が通気可能に構成すると共に、塔2の
内壁を垂れ落ちる石灰スラリ等の吸収液5を回収するた
めに、その左右両壁の塔内壁に90゜弧状管24を設けてい
る。
FIG. 4 shows the arrangement of the trough-shaped absorbing liquid pipe 31. In FIG. 4 (A), the trough-shaped absorbing liquid pipe 31 is arranged along a horizontal plane substantially crossing the exhaust gas passage 2A inlet. The exhaust pipes 32 are arranged in parallel in a single row, and the gap 30 between the adjacent pipes of the pipe group is configured to allow the exhaust gas flow 32 to pass therethrough, and at the same time, absorption of lime slurry or the like that drips down the inner wall of the tower 2. In order to recover the liquid 5, 90 ° arc-shaped tubes 24 are provided on the inner wall of the tower on both the left and right sides.

かかる構成によれば、前記排ガス流路2A入口部を所定
の空隙部30を介して多数本の列設した樋状吸収液管31が
配設されているために、結果として前記空隙部30で排ガ
ス流32の通過面積が減少してその速度が増速して高速化
する。そして、前記排ガス流32が高速化した前記空隙部
30に吸収液5を溢流39させて、その高速上昇排ガス流32
に交叉状に接触させるようにしてあるため、吸収液5は
排ガス流32のもたらす高速速度エネルギにより擾乱化さ
れ微粒化することが出来る。
According to such a configuration, a large number of gutter-shaped absorbing liquid pipes 31 are arranged at the inlet of the exhaust gas flow passage 2A via the predetermined gap 30. The passage area of the exhaust gas flow 32 is reduced, the speed is increased, and the speed is increased. And the void portion where the exhaust gas flow 32 has been accelerated
30 is caused to overflow 39 with the absorbing solution 5, and the high-speed rising exhaust gas flow 32
The absorption liquid 5 can be disturbed and atomized by the high velocity energy provided by the exhaust gas stream 32.

又90゜弧状管24で回収した吸収液5は再度ガスにより
上昇するため、回収ポンプ21の動力を削減できる。
Further, the absorption liquid 5 recovered by the 90-degree arc tube 24 rises again by the gas, so that the power of the recovery pump 21 can be reduced.

第4(B)図には前記排ガス流路2A入口部をほぼ横断
する2段の水平面内に上下に千鳥状に前記樋状吸収液管
31A、31Bを列設させ、該列設する管群の隣接する管31
A、31B同士の空隙部30A、30Bを前記排ガス流32が通気可
能に構成したもので、この場合は一段側の樋状吸収液管
31A同士の空隙部30Aで排ガス流32の通過面積が減少して
その速度が増速して高速化する。そして、前記排ガス流
32が高速化した前記空隙部30Aに吸収液5を流出させ
て、その高速上昇排ガス流32に交叉状に接触させるまで
は第4(A)図と同様であるが、前記一段側の樋状吸収
液管31Aと二段側の樋状吸収液管31Bとの間の開放位置
で、前記高速化したガス流32の低速化と膨張により、排
ガス1の高速流体は負圧を形成して、一段側の樋状吸収
液管31Aの開放面で吸収液5の微粒子状霧化も惹起さ
れ、そして再度二段側の樋状吸収液管31B同士の空隙部3
0Bで排ガス流32の通過面積が減少してその速度が増速し
て高速化して前記と同様な作用を営み、一層高効率の気
液接触を可能にする。もちろん、この段数が3段以上で
あってもよい。
FIG. 4 (B) shows the trough-shaped absorbing liquid pipe in a two-stage horizontal plane substantially transversely crossing the exhaust gas passage 2A inlet in a staggered manner.
31A and 31B are arranged side by side, and the adjacent tubes 31 of the arranged tube group
The exhaust gas flow 32 is configured such that the exhaust gas flow 32 is permeable to the gaps 30A and 30B between A and 31B, and in this case, the gutter-shaped absorption liquid pipe on the first stage side
The passage area of the exhaust gas flow 32 is reduced in the gap 30A between the 31A and the speed is increased to increase the speed. And the exhaust gas flow
4 (A) is the same as FIG. 4 (A) until the absorption liquid 5 flows out into the gap 30A whose speed has been increased and makes contact with the high-speed rising exhaust gas flow 32 in an intersecting manner. At the open position between the absorption liquid pipe 31A and the two-stage gutter-shaped absorption liquid pipe 31B, the high-speed fluid of the exhaust gas 1 forms a negative pressure due to the low speed and expansion of the accelerated gas flow 32, Fine particle atomization of the absorbing liquid 5 is also caused on the open surface of the first-stage gutter-shaped absorbing liquid pipe 31A, and the gap 3 between the second-stage gutter-shaped absorbing liquid pipes 31B again.
At 0B, the passage area of the exhaust gas flow 32 is reduced, the speed is increased and the speed is increased, and the same operation as described above is performed, thereby enabling more efficient gas-liquid contact. Of course, the number of stages may be three or more.

第5図には、前記第4(A)図の樋状吸収液管31の吸
収液5の流れ状態を開示している。
FIG. 5 discloses the flow state of the absorbing liquid 5 in the trough-shaped absorbing liquid pipe 31 of FIG. 4 (A).

同図において、吸収液導入パイプ29に連設されている
ヘッダパイプ190は塔内の例えば奥側内壁に沿って配設
されており、該ヘッダパイプ190の側面開口190aに、パ
イプ軸線と直交する方向に沿って平行に並設された樋状
吸収液管31の一端が開口連設されている。
In the figure, a header pipe 190 connected to the absorbing liquid introduction pipe 29 is disposed along, for example, a deep inner wall in the tower, and a side opening 190a of the header pipe 190 is orthogonal to the pipe axis. One end of a trough-shaped absorbing liquid pipe 31 arranged in parallel in the direction is connected to the opening.

そして該樋状吸収液管31は第5(A)図に示すよう
に、その両側壁上面を水平に設定し、樋状吸収液管31の
側壁上面全長に亙って吸収液5が空隙部30側に溢流流出
するように構成されている。
As shown in FIG. 5 (A), the upper surface of both side walls of the trough-shaped absorbing liquid pipe 31 is set horizontally, and the absorbing liquid 5 extends over the entire length of the upper surface of the side wall of the trough-shaped absorbing liquid pipe 31. It is configured to overflow to the 30 side.

樋状吸収液管31の側壁上面を水平に設定するのは中々
困難であるために、第5(B)図に示すように、樋状吸
収液管31の左右両側壁上縁に軸方向に複数の切り欠き31
aを所定間隔毎に設け、該切り欠き31aを介して空隙部30
側に断続的に溢流39を形成させ、高速排ガス流32と交叉
接触するように構成してもよい。
Since it is very difficult to set the upper surface of the side wall of the gutter-shaped absorbing liquid tube 31 horizontally, as shown in FIG. Multiple cutouts 31
a are provided at predetermined intervals, and the gap 30 is provided through the notch 31a.
The overflow 39 may be formed intermittently on the side so as to cross-contact with the high-speed exhaust gas flow 32.

かかる装置例によれば、上記横方向の薄膜状溢流に対
し吸収塔2内へ導入された前記排ガス1は、多数本列設
された樋状吸収液管31間の空隙部30を通過することによ
り高速上昇気流(排ガスの塔速は略10m/s)を形成して
前記の様に吸収液5と交叉接触した後、該接触により交
叉接触された吸収液5は、排ガス1の接触エネルギによ
り微小液滴化され、且つ樋状吸収液管31の上部に乱流状
に膨張する前記上昇気流中に分散するとともに、樋状吸
収液管31の開放面からも負圧により樋上面の吸収液5も
霧化され、分散混入し、効率的気液接触をして気液分散
ガスを形成する。
According to this example of the apparatus, the exhaust gas 1 introduced into the absorption tower 2 with respect to the above-mentioned thin film overflow in the lateral direction passes through the gap 30 between the gutter-shaped absorption liquid pipes 31 arranged in a large number. As a result, a high-speed ascending air flow (exhaust gas tower speed is approximately 10 m / s) is formed and cross-contacts with the absorbing liquid 5 as described above. The droplets are dispersed into the upward airflow which is formed into fine droplets and expands in a turbulent manner at the upper part of the trough-shaped absorbing liquid pipe 31, and the upper surface of the trough-shaped absorbing liquid pipe 31 is also absorbed by the negative pressure from the open surface thereof. The liquid 5 is also atomized, dispersed and mixed, and makes efficient gas-liquid contact to form a gas-liquid dispersion gas.

上記気液分散ガスはその上方の気液接触空域2Aを形成
しながら吸収塔上方のミストエリミネータ6に達する
が、その間、排ガス中の目的成分は排ガス1から吸収液
5へ吸収される。
The gas-liquid dispersion gas reaches the mist eliminator 6 above the absorption tower while forming a gas-liquid contact space 2A above the gas-liquid dispersion gas. During this time, the target components in the exhaust gas are absorbed from the exhaust gas 1 into the absorption liquid 5.

なお、ガス中の目的成分と吸収液5の組合せは、実施
形態では吸収液5に可溶な目的成分は二酸化硫黄(S
O2)であり、吸収液5は吸収剤である石灰石を含むスラ
リーを使用している。
In the embodiment, the combination of the target component in the gas and the absorbing solution 5 is such that the target component soluble in the absorbing solution 5 is sulfur dioxide (S
O 2 ), and the absorbing solution 5 uses a slurry containing limestone as an absorbing agent.

一方、前記気液接触空域2Aを経た排ガス1は、ミスト
エリミネータ6により同伴し分散した吸収液5が回収さ
れ、また回収パイプ24aを経由して吸収液貯溜槽27へ還
流される。回収された吸収液5は塔内壁に設けた回収用
の半截状弧状管24より回収パイプ24bを経由して吸収液
貯留槽27へ還流するようにしてある。
On the other hand, the exhaust gas 1 that has passed through the gas-liquid contact air space 2A is collected by the mist eliminator 6 to recover the dispersed absorbent 5, and is returned to the absorbent storage tank 27 via the recovery pipe 24a. The recovered absorbing liquid 5 is returned to the absorbing liquid storage tank 27 via the recovery pipe 24b from the recovering semi-circular arc tube 24 provided on the inner wall of the tower.

吸収塔2内で目的成分が吸収液5に吸収され、ミスト
エリミネータ6で同伴した吸収液5が分離され、浄化ガ
スとなった排ガス1は最終的に排煙導出部8より大気あ
るいは不図示の下流機器へ送られる。
In the absorption tower 2, the target component is absorbed by the absorption liquid 5, and the accompanying absorption liquid 5 is separated by the mist eliminator 6. Sent to downstream equipment.

第6図には、前記に示す樋状吸収液管と異なる別の実
施例を示し、前記吸収液管31を上部閉塞型の管状部材で
構成するともに、該吸収液管31の前記排ガス流32が通気
する空隙部30と対面する周面上に、管軸線方向に沿って
スリット状開口若しくは多数の小孔列を設けている。こ
の場合、図に示すように流体の抵抗を抑えるために吸収
液管31の下面側は断面が曲線状(例えば円状、流線形、
紡滴型等)若しくは楔状又は三角形状に形成するのがよ
く、例えば第6(A)図では、吸収液管31の下面が断面
円形の半円管状部材31cの上面を平板状の蓋体31dで閉塞
させ、その両側側壁の空隙部30と対面する側に軸線方向
に沿って多数の小孔36、ないしスリット開口37(第6
(D)、(E)図参照)を断続的に穿設している構成が
示してある。
FIG. 6 shows another embodiment different from the trough-shaped absorbing liquid pipe shown above, wherein the absorbing liquid pipe 31 is constituted by a tubular member having an upper closed type, and the exhaust gas flow 32 of the absorbing liquid pipe 31 is formed. A slit-shaped opening or a large number of small hole rows is provided along the pipe axis direction on the peripheral surface facing the void portion 30 through which the air flows. In this case, as shown in the figure, in order to suppress the resistance of the fluid, the cross section of the lower surface side of the absorbent tube 31 is curved (for example, circular, streamlined,
For example, in FIG. 6 (A), the upper surface of a semicircular tubular member 31c having a circular cross section is formed on the upper surface of a semicircular tubular member 31c having a circular cross section. And a large number of small holes 36 or slit openings 37 (6th
(See FIGS. (D) and (E))).

また第6(B)図に示す装置例は、断面が中空円状の
管状部材34を使用し、軸芯を含む水平断面の左右母線上
に軸線方向に沿って多数の小孔36、ないしスリット開口
37(第6(D)、(E)図参照)を断続的に穿設してい
る構成が示してある。
The apparatus shown in FIG. 6 (B) uses a tubular member 34 having a hollow circular cross section, and has a large number of small holes 36 or slits along the axial direction on the left and right generating lines of the horizontal cross section including the axis. Opening
37 (see FIGS. 6 (D) and 6 (E)) is shown intermittently.

また第6(C)図に示す実施形態は、断面楕円形の管
状部材35を使用し、軸芯を含む水平断面の左右母線上に
軸線方向に沿って多数の小孔36、ないしスリット開口37
(第6(D)、(E)図参照)を断続的に穿設している
構成が示してある。尚、小孔36、又はスリット開口37
は、必ずしも軸心を含む水平断面状の左右母線上設けな
くてもその上方又は下方に設けてもよい。
The embodiment shown in FIG. 6 (C) uses a tubular member 35 having an elliptical cross section, and a large number of small holes 36 or slit openings 37 along the axial direction on the left and right generating lines of the horizontal cross section including the axis.
(See FIGS. 6 (D) and 6 (E)). In addition, the small hole 36 or the slit opening 37
May not necessarily be provided on the left and right generatrix of the horizontal cross section including the axis, but may be provided above or below it.

従って本装置例によれば、従来の上向きノズルと異な
り、前記吸収液5は、前記隣接する管同士の空隙部側に
向けてほぼ水平方向に溢流若しくは流出させればよいた
めに、設備費の低減とエネルギーの低減効果が得られ
る。
Therefore, according to the present apparatus example, unlike the conventional upward nozzle, the absorbing liquid 5 may be allowed to overflow or outflow in a substantially horizontal direction toward the gap side between the adjacent pipes, so that equipment cost is reduced. And the effect of reducing energy can be obtained.

又本装置例は、前記吸収液管への吸収液供給が、重力
を利用した前記吸収液供給源で構成するのが好ましい
が、本発明は吸収液供給ポンプを用いた構成を採っても
よく、この場合は前記供給ポンプは小型のものでよく、
この場合も設備費の低減効果が得られる。
Further, in this device example, it is preferable that the absorption liquid supply to the absorption liquid tube is constituted by the absorption liquid supply source utilizing gravity, but the present invention may adopt a constitution using an absorption liquid supply pump. In this case, the feed pump may be small,
Also in this case, the effect of reducing equipment costs can be obtained.

又本装置例は、前記排ガス流路2A入口部において所定
の空隙部30を介して、複数本の列設した吸収液管が配設
されているために、結果として前記空隙部30で排ガス流
32と吸収液5との効率的気液接触と吸収液5の供給とを
同時に可能とし、従来の液柱式に見られた液柱が頂部で
散開するまで排ガスが同伴して吹き抜けて初めて完了す
る気液接触に比べて、より効率的に短い時間で大幅な気
液接触が行なわれるので前記排ガス中の目的成分の吸収
/除去の高効率化を可能にするとともに、より短時間で
の吸収液5の微粒化と分散を可能にしている為に、設備
費の低減につながる。
Further, in the present device example, since a plurality of absorbent liquid pipes are arranged in a row at the inlet portion of the exhaust gas flow passage 2A via the predetermined gap portion 30, the exhaust gas flow
Efficient gas-liquid contact between the 32 and the absorbing liquid 5 and the supply of the absorbing liquid 5 can be performed simultaneously, and it is completed only when exhaust gas accompanies and blows through until the liquid column seen in the conventional liquid column type spreads out at the top. Large gas-liquid contact is performed more efficiently and in a shorter time than gas-liquid contact, which makes it possible to increase the efficiency of absorption / removal of the target component in the exhaust gas and to absorb the gas in a shorter time. Since the liquid 5 can be atomized and dispersed, the equipment cost can be reduced.

第7図は本発明の第2の関連発明の湿式ガス処理装置
を示す概略図である。
FIG. 7 is a schematic view showing a wet gas processing apparatus according to a second related invention of the present invention.

第7図において、ボイラなどの燃焼装置からの排ガス
1は吸収塔2の下部に設置された排煙導入部3に導入さ
れる。導入された排ガス1は吸収塔2内下部に設置され
た吸収液供給ノズル群4A〜4Cから供給される吸収液5と
接触し、排ガス1中の目的成分がガス1から吸収液5へ
移動する。
In FIG. 7, exhaust gas 1 from a combustion device such as a boiler is introduced into a flue gas introduction unit 3 installed at a lower part of an absorption tower 2. The introduced exhaust gas 1 comes into contact with the absorbing liquid 5 supplied from the absorbing liquid supply nozzle groups 4A to 4C installed in the lower part of the absorption tower 2, and the target component in the exhaust gas 1 moves from the gas 1 to the absorbing liquid 5. .

この時、排ガス1中の目的成分と吸収液5の組み合わ
せは、本実施形態では吸収液5に可溶な目的成分は二酸
化硫黄(SO2)であり、吸収液5は吸収剤である石灰石
を含むスラリーを使用した。
At this time, in the present embodiment, the combination of the target component in the exhaust gas 1 and the absorbing solution 5 is such that the target component soluble in the absorbing solution 5 is sulfur dioxide (SO 2 ), and the absorbing solution 5 is limestone as the absorbing agent. A slurry was used.

また、吸収塔2内の下部には液溜め部56が形成され、
石灰スラリ等の吸収液5を貯留し、回収用ポンプ21及び
再生用のバッファタンク22、ノズルポンプ23及び流量開
閉弁43A〜43Cを介して、この液溜め部56と前記各ノズル
4A〜4Cの導入管49と連通させている。
In addition, a liquid reservoir 56 is formed at a lower portion in the absorption tower 2,
The liquid storage part 56 and each of the nozzles are stored by storing the absorption liquid 5 such as lime slurry and the like through a recovery pump 21, a buffer tank 22 for regeneration, a nozzle pump 23, and flow opening / closing valves 43A to 43C.
It communicates with the introduction pipe 49 of 4A-4C.

そして前記ノズル群は上向きノズル群4A〜4Cであり、
該上向きノズル群4A〜4Cから吸収液5を上方に向けて噴
射することにより、前記排煙導入部3から導入した排ガ
ス1が前記ノズル群4A〜4Cから噴出された吸収液5を同
伴しながら、吸収液5の噴流5a中を通過させることで気
液接触を図る。
And the nozzle group is an upward nozzle group 4A-4C,
By injecting the absorbing liquid 5 upward from the upward nozzle groups 4A to 4C, the exhaust gas 1 introduced from the smoke exhaust introduction section 3 accompanies the absorbing liquid 5 ejected from the nozzle groups 4A to 4C. The gas-liquid contact is achieved by passing through the jet 5a of the absorbing liquid 5.

そして前記噴流頂点付近の吸収塔2上部にはミストエ
リミネータ6が配設され、該ミストエリミネータ6でガ
ス1に同伴した吸収液5が除去回収される。
A mist eliminator 6 is disposed above the absorption tower 2 near the apex of the jet, and the mist eliminator 6 removes and collects the absorbent 5 accompanying the gas 1.

吸収塔2内で目的成分が吸収液5に除去され、ミスト
エリミネータ6で同伴した吸収液5が除かれた浄化ガス
7は、最終的に排煙導出部8より大気あるいは必要な不
図示の後流機器へ送られる。
The purified gas 7 from which the target component is removed by the absorbing liquid 5 in the absorbing tower 2 and the absorbing liquid 5 entrained by the mist eliminator 6 is finally removed from the smoke exhausting section 8 to the atmosphere or after the necessary unillustrated Sent to the flow equipment.

一方、ミストエリミネータ6下方の吸収塔2側壁内周
には上側が開口された回収器9が配設され、前記ミスト
エリミネータ6で捕捉された吸収液5は回収器9で回収
され、バッファタンク22等を介して必要に応じて循環再
使用される。
On the other hand, a collecting device 9 having an upper side opened is disposed on the inner periphery of the side wall of the absorption tower 2 below the mist eliminator 6, and the absorbing liquid 5 captured by the mist eliminator 6 is collected by the collecting device 9, and the buffer tank 22. It is recycled if necessary through the use.

従って前記上向きノズル群4A〜4Cから噴出する吸収液
5の高さは、排ガス1の流速により押し上げられ、前記
回収器9よりも高い位置まで上がるように排ガス1の流
速を設定するのがよいが、ボイラ等のガス発生源が負荷
変動することが一般的であり、ガス流量が低下した場合
にガスの流速低下によって吸収液5が同伴しないことは
前記した通りである。
Therefore, it is preferable to set the flow rate of the exhaust gas 1 so that the height of the absorbing liquid 5 ejected from the upward nozzle groups 4A to 4C is pushed up by the flow rate of the exhaust gas 1 and rises to a position higher than the collecting device 9. In general, the load of a gas generation source such as a boiler fluctuates, and as described above, when the gas flow rate decreases, the absorption liquid 5 does not accompany due to a decrease in the gas flow rate.

そこで本実施形態においては、前記上向きノズル群4A
〜4Cを図上左、中央、右の三群構成とし、各ノズル群4A
〜4C毎の吸収液導入管49上に開閉弁43A〜43Cを設け、夫
々独立したノズル群4A〜4C毎に吸収液5の噴出/停止が
できるようにしている。尚、ノズル群4A〜4Cとしたのは
図中ではノズルが1つのようにみえるが、実際は前後方
向に複数のノズルが列状に連設されているためである。
Therefore, in the present embodiment, the upward nozzle group 4A
~ 4C in the three groups of left, center and right in the figure, each nozzle group 4A
Opening / closing valves 43A to 43C are provided on the absorption liquid introduction pipes 49 for every 4C to 4C so that the absorption liquid 5 can be ejected / stopped for each of the independent nozzle groups 4A to 4C. Note that the nozzle groups 4A to 4C are provided because a plurality of nozzles are arranged in a row in the front-rear direction although the number of nozzles appears as one in the drawing.

そして前記左ノズル群4Aと中央ノズル群4Bとの間、及
び中央ノズル群4Bと右のノズル群4Cとの間には垂直方向
に延在する分割板40A、40Bが垂設されている。
Divided plates 40A and 40B extending vertically extend between the left nozzle group 4A and the central nozzle group 4B and between the central nozzle group 4B and the right nozzle group 4C.

そして前記分割板40A、40Bはその上端は、前記回収器
9よりも高いミストエリミネータ6取付位置付近まで延
設されているが、その下端の高さ位置は異ならせてお
り、一の分割板40Aについては吸収液5の液溜め部56の
Aの液位レベル位置まで垂下させており、他の分割板40
Bについては前記Aの液位レベルより高いBの液位レベ
ル位置まで垂下させ、前記分割板40A、40Bに仕切られる
3つのガス流域41A、41B、41Cを形成する。
The upper ends of the split plates 40A and 40B are extended to the vicinity of the mist eliminator 6 mounting position higher than the collecting device 9, but the lower ends of the split plates 40A and 40B have different height positions. Is suspended down to the liquid level position of A in the liquid reservoir 56 of the absorbing liquid 5, and the other dividing plate 40
B is dripped down to a liquid level position of B higher than the liquid level of A to form three gas flow areas 41A, 41B, 41C partitioned by the dividing plates 40A, 40B.

かかる実施例によれば、ポンプ駆動制御により前記液
溜め部56内の吸収液5の液位レベルを上昇させて、前記
液位レベルをAの液位レベル位置まで引上げることによ
り先ず、一の分割板40Aの下端が吸収液5内に没水させ
ることにより、左側のガス流域41Aのガス導入開口が閉
塞されて、この結果排煙導入部3より導入される排ガス
1の流域は、中央41Bと右側41Cのみとなる。そしてこの
状態で左側ノズル群4Aの開閉弁43Aを閉めることによ
り、ガス流通過面積が中央と右側排ガス流域41B、41Cの
みの2/3の面積となる。
According to this embodiment, the liquid level of the absorbing liquid 5 in the liquid reservoir 56 is raised by the pump drive control, and the liquid level is raised to the liquid level position of A. When the lower end of the split plate 40A is submerged in the absorbent 5, the gas introduction opening of the gas flow area 41A on the left is closed, and as a result, the flow area of the exhaust gas 1 introduced from the smoke exhaust introduction section 3 becomes the central area 41B. And only 41C on the right. By closing the open / close valve 43A of the left nozzle group 4A in this state, the gas flow passage area becomes 2/3 of only the center and the right exhaust gas flow regions 41B and 41C.

この結果、排ガス1の導入流量が2/3に低下してもガ
ス流速は一定に維持することが出来るために、吸収液5
がガス流速に同伴してノズル群4B、4Cよりの吸収液5の
噴出高さを維持出来、吸収液5とガス流32との気液接触
が円滑に行なえる。
As a result, even if the introduction flow rate of the exhaust gas 1 is reduced to 2/3, the gas flow rate can be maintained at a constant value.
Can maintain the jetting height of the absorbing liquid 5 from the nozzle groups 4B and 4C along with the gas flow velocity, and the gas-liquid contact between the absorbing liquid 5 and the gas flow 32 can be performed smoothly.

更に前記液位レベルをBの液位レベル位置まで引上げ
ることにより、2つの分割板40A、40Bのいずれの下端も
が吸収液5内に没水させることにより、左側及び中央の
ガス流域41A、41Bのガス導入開口が閉塞されて、この結
果排煙導入部3より導入される排ガス1の流域は右側41
Cのみとなる。そしてこの状態で左側と中央部のノズル
群4A、4Bの開閉弁43A、43Bを閉めることにより、ガス流
通過面積が右側排ガス流域41Cのみの1/3の面積となる。
この結果、排ガス1の導入流量が1/3に低下してガス流
速は一定に維持することが出来る。
Further, by raising the liquid level to the liquid level position of B, both lower ends of the two split plates 40A and 40B are immersed in the absorbing liquid 5, so that the left and central gas flow areas 41A and 41A The gas introduction opening of 41B is closed, and as a result, the basin of the exhaust gas 1 introduced from the smoke exhaust introduction section 3
C only. In this state, by closing the on-off valves 43A and 43B of the nozzle groups 4A and 4B on the left side and the central part, the gas flow passage area becomes 1 / of that of the right exhaust gas flow area 41C alone.
As a result, the introduction flow rate of the exhaust gas 1 is reduced to 1/3, and the gas flow rate can be kept constant.

従って本実施例によれば、吸収塔2内のガス流量が低
下し、これに比例して排ガス流路を流れる流速が低下し
た場合に、前記分割板40A、40Bに仕切られる複数ガス流
域41A〜41Cの一方を閉塞することにより、前記流量の低
下に対応させて、ガス流速が一定になるようにガス通過
面積を制御することができる。
Therefore, according to the present embodiment, when the gas flow rate in the absorption tower 2 decreases and the flow rate flowing through the exhaust gas flow path decreases in proportion thereto, the plurality of gas flow areas 41A to 41A By closing one side of 41C, the gas passage area can be controlled so as to keep the gas flow velocity constant in response to the decrease in the flow rate.

第8図は第7図の関連発明の変形例で、前記分割板40
A、40Bの下端が吸収塔2内に導入される排煙導入部3側
に向け「J」字状に湾曲45されて構成されている。
FIG. 8 shows a modification of the related invention shown in FIG.
The lower ends of A and 40B are bent 45 in a “J” shape toward the flue gas introduction section 3 introduced into the absorption tower 2.

かかる装置例によれば、前記排煙導入部3より吸収塔
2内に下向き傾斜方向に導入された排ガス1が、前記
「J」字状湾曲部45に沿って垂直上向きにノズル群4A〜
4C噴流方向に整流されながら導かれ、この結果、前記分
割板40A、40Bが排ガス整流板としても機能し、一層円滑
な気液接触が可能となる。
According to such an example of the apparatus, the exhaust gas 1 introduced in a downward inclined direction from the smoke exhaust introduction section 3 into the absorption tower 2 is vertically upward along the “J” -shaped curved section 45 and the nozzle groups 4A to 4A to 4N.
The flow is guided while being rectified in the direction of the 4C jet, and as a result, the split plates 40A and 40B also function as exhaust gas rectifying plates, and gas-liquid contact can be performed more smoothly.

第9図は本関連発明の他の装置例で、前記上向きノズ
ル群4A,4Bを図上左、右の二群構成とし、各ノズル群4A,
4B毎の導入管49上に開閉弁43A,43Bを設け、夫々独立し
たノズル群4A,4B毎に吸収液5の噴出/停止ができるよ
うにしている。
FIG. 9 shows another example of the apparatus according to the present invention, wherein the upward nozzle groups 4A and 4B are configured as two groups, left and right in the figure, and each nozzle group 4A,
Opening / closing valves 43A and 43B are provided on the inlet pipe 49 for each 4B so that the absorbing liquid 5 can be jetted / stopped for each of the independent nozzle groups 4A and 4B.

そして前記左ノズル群4Aと右ノズル群4Bとの間には垂
直方向に延在する一の分割板40Aが垂設されている。
A vertically extending one dividing plate 40A is provided between the left nozzle group 4A and the right nozzle group 4B.

そして前記分割板40Aはノズル群4A,4B取付位置より下
方に支点48を設け、該支点48を中心に排煙導入部3側に
向け回動する回動板46が取り付けられている。
The dividing plate 40A is provided with a fulcrum 48 below the nozzle group 4A, 4B mounting position, and a pivoting plate 46 that pivots around the fulcrum 48 toward the smoke introduction section 3 is attached.

かかる実施例によれば、前記回動板46を排煙導入部3
側に向け水平位置より僅かに下向きの位置まで回動させ
て位置保持させることにより、左側と右側のいずれのガ
ス流域41A,41Bのガス導入開口も開放されて、通常の気
液接触が可能となる。
According to this embodiment, the rotating plate 46 is connected to the smoke introduction section 3.
By turning to a position slightly downward from the horizontal position toward the side and holding the position, the gas introduction openings of both the left and right gas flow areas 41A and 41B are opened, and normal gas-liquid contact is possible. Become.

次に前記回動板46を排煙導入部3側より液溜め部56に
向け垂直下方に回動させ、回動板46の下端を吸収液5内
に没水させることにより、左側のガス流域41Aのガス導
入開口が閉塞されて、この結果排煙導入部3より導入さ
れる排ガス流域は右側41Bのみとなる。そしてこの状態
で左側ノズル群4Aの開閉弁43Aを閉めることにより、ガ
ス流通過面積が右側のみの1/2の面積となる。
Next, the rotating plate 46 is rotated vertically downward from the smoke exhaust introducing portion 3 toward the liquid reservoir 56, and the lower end of the rotating plate 46 is immersed in the absorbing liquid 5, so that the left gas flow area The gas introduction opening of 41A is closed, and as a result, the exhaust gas flow area introduced from the smoke exhaust introduction section 3 is only the right side 41B. In this state, by closing the open / close valve 43A of the left nozzle group 4A, the gas flow passage area becomes a half area of only the right side.

第10図は第7図の他の変形例で、第9図の変形例との
違いを説明するに、前記分割板40Aはノズル群4A,4B取付
位置より下方に、垂直方向に昇降自在な昇降板47を設け
ている。かかる実施例によれば、前記昇降板47を液溜め
部56より上方に上昇させることにより、左側と右側のい
ずれのガス流域41A,41Bのガス導入開口も開放されて、
通常の気液接触が可能となる。
FIG. 10 is another modified example of FIG. 7. In order to explain the difference from the modified example of FIG. 9, the dividing plate 40A is vertically movable below the nozzle group 4A, 4B mounting position. An elevating plate 47 is provided. According to this embodiment, by raising the elevating plate 47 above the liquid reservoir 56, the gas introduction openings of both the left and right gas flow areas 41A and 41B are opened,
Normal gas-liquid contact is possible.

次に前記昇降板47を垂直下方に降動させて、昇降板47
の下端を吸収液5内に没水させることにより、左側のガ
ス流域41Aのガス導入開口が閉塞されて、この結果排煙
導入部3より導入される排ガス流域は右側41Bのみとな
る。そしてこの状態で左側ノズル群4Aの開閉弁43Aを閉
めることにより、ガス流通過面積が右側のみの1/2の面
積となる。
Next, the elevating plate 47 is moved vertically downward, and the elevating plate 47 is moved downward.
The lower end is submerged in the absorbing liquid 5, so that the gas introduction opening of the left gas flow area 41A is closed, and as a result, only the right exhaust gas flow area 41B is introduced from the smoke exhaust introduction section 3. In this state, by closing the open / close valve 43A of the left nozzle group 4A, the gas flow passage area becomes a half area of only the right side.

又前記分割板40Aは、排ガス流れ方向と直交する水平
方向に可動可能に構成してもよい。
The split plate 40A may be configured to be movable in a horizontal direction orthogonal to the exhaust gas flow direction.

第11図は分割板40Aを可動にした他の変形例で、前記
分割板40Aを排ガス流れ方向に対し略直交する方向に、
吸収塔2左側壁面より中央位置まで可動可能に構成し、
中央位置への移動により前記左ノズル群4Aと右ノズル群
4Bとの間に垂直方向に延在する一の分割板40Aが垂設さ
れることとなる。
FIG. 11 is another modified example in which the dividing plate 40A is made movable, and the dividing plate 40A is moved in a direction substantially orthogonal to the exhaust gas flow direction.
It is configured to be movable from the left side wall of the absorption tower 2 to the center position,
By moving to the center position, the left nozzle group 4A and the right nozzle group
One divided plate 40A extending in the vertical direction is vertically provided between the divided plate 40A and the divided plate 40A.

又前記分割板40Aの下端は、液溜め部56の吸収液5内
に没入されている。
The lower end of the dividing plate 40A is immersed in the absorbing liquid 5 in the liquid reservoir 56.

この結果前記分割板40Aの右側排ガス流域41Bのみがガ
ス導入開口と開放されており、該右側排ガス流域41Bは
分割板40Aを吸収塔2左側壁面より中央位置へ移動させ
るに従って、排ガス1が導入される右側ガス流域41Bの
流路断面積を狭小化することができる。
As a result, only the right exhaust gas flow area 41B of the dividing plate 40A is open to the gas introduction opening, and the exhaust gas 1 is introduced into the right exhaust gas flow area 41B as the dividing plate 40A is moved from the left side wall of the absorption tower 2 to the central position. The flow path cross-sectional area of the right gas flow area 41B can be reduced.

かかる装置例によれば排ガス流量の低下に従って分割
板40Aを中央側に移動させることにより、ガス流域41A,4
1Bの流路断面積を自在に狭小化出来る。
According to such an apparatus example, by moving the split plate 40A to the center side in accordance with the decrease in the exhaust gas flow rate, the gas flow areas 41A, 4A
The cross-sectional area of 1B can be freely reduced.

従って、かかる装置例によれば、ボイラなどの燃焼装
置の負荷変動などによって、吸収塔内のガス流量が低下
し、これに比例して排ガス流路を流れる流速が低下した
場合においても、ガス流速が一定になるようにガス流入
域のガス通過面積を制御することにより、ノズル群より
の吸収液の噴出高さをほぼ一定に維持することが出来、
この結果、吸収液とガス流との気液接触が円滑に出来る
のみならず、吸収塔上部で吸収液が円滑に回収出来る。
Therefore, according to this example of the apparatus, even when the gas flow rate in the absorption tower decreases due to load fluctuation of a combustion apparatus such as a boiler and the flow rate flowing through the exhaust gas flow path decreases in proportion thereto, the gas flow rate does not change. By controlling the gas passage area of the gas inflow area so that the pressure becomes constant, the ejection height of the absorbing liquid from the nozzle group can be maintained almost constant,
As a result, not only the gas-liquid contact between the absorbing liquid and the gas flow can be made smoothly, but also the absorbing liquid can be collected smoothly at the upper part of the absorption tower.

また本装置例によれば、無駄なポンプ駆動動力等が節
減できると共に、無駄な吸収液の循環を阻止することが
出来る。
Further, according to the present example, unnecessary pump driving power and the like can be saved, and unnecessary circulation of the absorbent can be prevented.

更に、前記分割板に仕切られる複数ガス流域の一方を
閉塞するか若しくはそのガス通過面積を狭小化すること
により、前記流量の低下に対応させて、ガス流速が一定
になるようにガス通過面積を制御することができる。
Further, by closing one of the plurality of gas flow areas partitioned by the dividing plate or narrowing the gas passage area, the gas passage area is adjusted so that the gas flow velocity becomes constant in response to the decrease in the flow rate. Can be controlled.

更に又、吸収液の液位レベルの調整により若しくは分
割板の下端を選択的に下降させて吸収液内に没水させる
ことにより、簡単にガス流域の流路を選択的に開閉させ
ることが出来る。
Furthermore, by adjusting the liquid level of the absorbing liquid or by selectively lowering the lower end of the dividing plate to submerge in the absorbing liquid, the flow path of the gas flow area can be selectively opened and closed easily. .

更に、本装置例によれば、分割板の下端側の揺動変向
により、簡単にガス流域へのガス流入の流量制御若しく
は開閉制御することが出来る。
Further, according to this example of the apparatus, the flow control or the opening and closing control of the gas inflow into the gas flow area can be easily performed by the swing deflection of the lower end side of the split plate.

更に、第8図の装置によれば、前記分割板が排ガス整
流板としても機能し、一層円滑な気液接触が可能とな
る。
Further, according to the apparatus shown in FIG. 8, the dividing plate also functions as an exhaust gas rectifying plate, and more smooth gas-liquid contact is possible.

更に第9図〜第11図の装置によれば、排ガス流量の変
動に対応させて分割板を移動させることにより、ガス流
域の流路断面積を自在に調整出来る。
Further, according to the apparatus shown in FIGS. 9 to 11, the sectional area of the gas flow area can be freely adjusted by moving the dividing plate in accordance with the fluctuation of the exhaust gas flow rate.

第12図は本発明の第3の関連発明に係る湿式排ガス処
理装置の概略構成を示し、前記関連発明で説明した装置
構成の重複する部分の説明は省略する。
FIG. 12 shows a schematic configuration of a wet exhaust gas treatment apparatus according to a third related invention of the present invention, and a description of overlapping parts of the apparatus configuration described in the related invention will be omitted.

第12図に示すように、吸収塔2の下部の吸収塔タンク
である液溜め部56の下部には既設の保守用ブローピット
60及びブローピットポンプ60aが設けられている。
As shown in FIG. 12, the existing maintenance blow pit is located below the liquid reservoir 56, which is the absorption tower tank at the bottom of the absorption tower 2.
60 and a blow pit pump 60a are provided.

又、液溜め部56からブローピット60への経路68中には
電磁開閉弁67が設けられており、排煙導入部3に設けた
排ガス流速検知センサ65よりの排ガス流速(塔速)を制
御回路66で検知し、吸収塔2の立ち上げ時及びシャット
ダウン時において、排ガス1の流速がローディング流速
に達するまで電磁開閉弁67が開放され、液溜め部56→ブ
ローピット60→ブローピットポンプ60a→加圧タンク11
に還流する迂回還流経路が形成される。
An electromagnetic opening / closing valve 67 is provided in a path 68 from the liquid reservoir 56 to the blow pit 60, and controls an exhaust gas flow rate (tower speed) from an exhaust gas flow rate detection sensor 65 provided in the smoke exhaust introduction section 3. Detected by the circuit 66, when the absorption tower 2 starts up and shuts down, the electromagnetic on-off valve 67 is opened until the flow rate of the exhaust gas 1 reaches the loading flow rate, and the liquid reservoir 56 → the blow pit 60 → the blow pit pump 60a → Pressurized tank 11
A bypass return path is formed to return to the bottom.

又、吸収塔2の外部に設けられている加圧タンク11の
貯留液面上部の空間は加圧用コンプレッサ17a及び圧力
調整器16を介して制御回路69により制御される任意の圧
力に加圧可能に構成してある。
The space above the liquid level of the pressurized tank 11 provided outside the absorption tower 2 can be pressurized to an arbitrary pressure controlled by the control circuit 69 via the pressurizing compressor 17a and the pressure regulator 16. It is configured in.

制御回路69は吸収液供給管14入口側の圧力を圧力セン
サ62により検知し、ノズル4への吸収液供給圧力が一定
になる方向に圧力調整器16により加圧タンク11の液面上
方空間11aの加圧力を制御する。
The control circuit 69 detects the pressure on the inlet side of the absorbing liquid supply pipe 14 by the pressure sensor 62, and controls the pressure regulator 16 so that the absorbing liquid supply pressure to the nozzle 4 becomes constant. To control the applied pressure.

これによりタンク11の貯留液面が上下に変動しても、
該吸収液5の重力の変動に対応させて、その液面上方空
間11aに付勢された圧力を圧力調整器16により制御する
ことにより該タンク11の液面の上下に係わりなく、吸収
液5の一定供給を可能とすることが出来る。
Thereby, even if the stored liquid level of the tank 11 fluctuates up and down,
The pressure applied to the space 11a above the liquid surface is controlled by the pressure regulator 16 in accordance with the fluctuation of the gravity of the absorbing liquid 5, so that the absorbing liquid 5 can be controlled regardless of the level of the liquid in the tank 11. Can be supplied at a constant rate.

また、吸収塔2の上部に設けたミストエリミネータ6
により分離した吸収液5の回収パイプ61は加圧タンク11
の液面下に挿入する構造にしてある。
Further, a mist eliminator 6 provided above the absorption tower 2
The recovery pipe 61 of the absorbent 5 separated by the
It is designed to be inserted below the liquid level.

この結果、加圧タンク11→吸収液供給管14→ノズル4
→排ガス1と気液接触して目的成分を吸収する同伴過程
→ミストエリミネータ6で分離→回収パイプ61→加圧タ
ンク11に還流する循環系(以下主循環系という)が構成
される。
As a result, the pressurized tank 11 → absorbent supply pipe 14 → nozzle 4
→ An entrainment process in which the target component is absorbed by gas-liquid contact with the exhaust gas 1 → Separation by the mist eliminator 6 → Recovery pipe 61 → A circulation system for returning to the pressurized tank 11 (hereinafter referred to as a main circulation system) is configured.

かかる装置例において、排ガス流速が8m/s以上のロー
ディング速度である時は、ノズル4より噴出した吸収液
5の噴流5aは排ガス1によりミストエリミネータ6まで
持ち上げられるため、吸収液5は前記主循環系により循
環する。
In this example of the apparatus, when the exhaust gas flow rate is 8 m / s or more, the jet flow 5a of the absorbent 5 ejected from the nozzle 4 is lifted up to the mist eliminator 6 by the exhaust gas 1, so that the absorbent 5 Circulates through the system.

即ち、圧力調整器16により加圧タンク11の液面上方空
間11aの加圧力を制御して得られる該加圧タンク11の付
勢圧力により吸収液供給管14を経てノズル4により噴出
した吸収液5の噴流5aはその噴流速度が所定値になる方
向に制御しながら、吸収塔2上部まで持ち上げられ上昇
排ガスと同伴気液接触し、接触の過程で排ガス1の目的
成分を吸収してミストエリミネータ6に到達する。到達
した同伴吸収液はミストエリミネータ6により分離され
回収パイプ61を介して加圧タンク11に還流する。
That is, the absorbing liquid ejected by the nozzle 4 through the absorbing liquid supply pipe 14 by the biasing pressure of the pressurizing tank 11 obtained by controlling the pressure of the space 11a above the liquid level of the pressurizing tank 11 by the pressure regulator 16. The jet 5a of 5 is lifted up to the upper part of the absorption tower 2 and comes into contact with the ascending exhaust gas while entraining the jet velocity at a predetermined value, absorbs the target component of the exhaust gas 1 in the contact process, and removes the mist eliminator. Reach 6. The arrived entrained absorbing liquid is separated by the mist eliminator 6 and returned to the pressurized tank 11 via the recovery pipe 61.

次に、吸収塔2の立ち上げ時ないしシャットダウン時
は、第13図で示すように、排ガス流速が前記ローディン
グ速度以下になるため、ノズル4より噴出した吸収液5
の噴流5aは排ガス1により吸収塔上部までは持ち上げら
れず、噴出した吸収液5の全量は殆ど下方の液溜め部56
へ落下する(符号5bで示す)。
Next, when the absorption tower 2 starts up or shuts down, as shown in FIG. 13, since the exhaust gas flow rate is lower than the loading speed, the absorption liquid 5
Jet 5a is not lifted to the upper part of the absorption tower by the exhaust gas 1, and the entire amount of the ejected absorbent 5 is almost completely discharged to the lower reservoir 56.
(Shown by reference numeral 5b).

これと並行して排煙導入部3に設けた排ガス流速検知
センサ65よりの排ガス流速(塔速)を制御回路66で検知
し、排ガスの流速が前記ローディング流速に達するまで
電磁開閉弁67が開放され、液溜め部56→ブローピット60
→ブローピットポンプ60a→加圧タンク11の迂回還流経
路により、液溜め部56に溜まった吸収液5がタンク11に
還流する。
At the same time, the exhaust gas flow rate (tower speed) from the exhaust gas flow rate detection sensor 65 provided in the smoke exhaust section 3 is detected by the control circuit 66, and the electromagnetic switching valve 67 is opened until the exhaust gas flow rate reaches the loading flow rate. And the reservoir 56 → blow pit 60
→ Blow pit pump 60a → Absorptive liquid 5 stored in the liquid reservoir 56 is returned to the tank 11 by the bypass return path of the pressurized tank 11.

即ち、液溜め部56に落下した吸収液5bは下部の既設の
ブローピット60に導入され、液溜め部56を特別のスケー
ルアップすることなくブローピット60に収容でき、つい
で収容した吸収液5はブローピットポンプ60aにより逐
次加圧タンク11に還流させることができる。
That is, the absorbent 5b that has fallen into the liquid reservoir 56 is introduced into the existing blow pit 60 below, and can be stored in the blow pit 60 without special scale-up of the liquid reservoir 56. The air can be successively refluxed to the pressurized tank 11 by the blow pit pump 60a.

なお、前記迂回循環によりタンク11の貯留液面が上下
に変動しても、制御回路69は吸収液供給管14入口側の圧
力を圧力センサ62により検知し、ノズル4への吸収液供
給圧力が一定になる方向に圧力調整器16により制御する
ことにより該タンク11の液面の上下に係わりなく吸収液
5の一定供給を可能とすることが出来る。
Even if the level of the stored liquid in the tank 11 fluctuates up and down due to the bypass circulation, the control circuit 69 detects the pressure on the inlet side of the absorbing liquid supply pipe 14 by the pressure sensor 62, and the supply pressure of the absorbing liquid to the nozzle 4 is reduced. By controlling the pressure in a constant direction by the pressure regulator 16, a constant supply of the absorbing liquid 5 can be made irrespective of the level of the liquid in the tank 11.

従って本装置例は、加圧タンク11の液面上部空間11a
をコンプレッサ17aにより所定圧のもとに加圧可能にし
てあるため、ノズル4より吸収液5を噴出させる循環ポ
ンプを設ける必要がない。但し回収パイプ61の先端は加
圧タンク11の液面下に挿入し、エアのリークを防止する
必要がある。
Therefore, this example of the apparatus has a space 11a above the liquid surface of the pressurized tank 11.
Can be pressurized under a predetermined pressure by the compressor 17a, so that there is no need to provide a circulation pump for ejecting the absorbing liquid 5 from the nozzle 4. However, the tip of the recovery pipe 61 needs to be inserted below the liquid level of the pressurized tank 11 to prevent air leakage.

従って本装置例によれば、燃焼機側の負荷変動による
排ガス速度の低下時でも、前記吸収塔底部液溜槽と第2
の液溜槽を介して加圧タンクとに連結された吸収液還流
経路を利用して、好ましくは保守用循環系を有効に利用
して吸収液の連続循環ができ、しかも、上記保守用循環
系は既設のブローピット及びブローピットポンプを使用
することが出来るために、関連機器に対する特別のスケ
ールアップや駆動力の増加を必要とせず低コスト低設備
負担で対応できる。
Therefore, according to the present apparatus example, even when the exhaust gas speed is reduced due to the load fluctuation on the combustor side, the liquid storage tank at the bottom of the absorption tower and the second
The absorbent circulation path connected to the pressurized tank via the liquid storage tank is preferably used, and preferably the maintenance circulation system is effectively used to continuously circulate the absorption liquid. Can use existing blow pits and blow pit pumps, so it does not require special scale-up or increase in driving force for related equipment, and can be handled with low cost and low equipment burden.

また、本装置例によれば、吸収液噴流圧の制御は加圧
タンクの加圧により得られた付勢圧力により任意に制御
できるために、噴出ポンプが不要となるのみならず、加
圧タンクの液面の上下に係わりなく吸収液の一定供給を
可能とすることが出来る。
Further, according to the present apparatus example, since the control of the jet pressure of the absorbing liquid can be arbitrarily controlled by the biasing pressure obtained by pressurizing the pressurizing tank, not only the jetting pump is not necessary, but also the pressurizing tank A constant supply of the absorbing liquid can be made irrespective of the level of the liquid.

尚、吸収塔2の立ち上げ時ないしシャットダウン時
は、第13図で示すように、排ガス流速が前記ローディン
グ速度以下になるため、ノズル4より噴出した吸収液5
の噴流5aは排ガス1により吸収塔上部までは持ち上げら
れず、噴出した吸収液5の全量は殆ど下方の液溜め部56
へ落下する(符号5bで示す)。かかる欠点を解消するた
めに、従来は吸収塔の立ち上がり及びシャットダウン時
においては、燃焼機やボイラ等から排出された排ガスを
前記吸収塔に通すことなく該吸収塔を迂回したバイパス
経路を通して煙突側に排出した後、排ガス流速が吸収液
を基準レベル以上持ち上げるローディング流速以上にな
った後に、初めて排ガスを前記吸収塔に通すようにして
おり、そのための排ガス迂回システムが存在する。
When the absorption tower 2 is started up or shut down, as shown in FIG. 13, the exhaust gas flow rate becomes lower than the loading speed.
Jet 5a is not lifted to the upper part of the absorption tower by the exhaust gas 1, and the entire amount of the ejected absorbent 5 is almost completely discharged to the lower reservoir 56.
(Shown by reference numeral 5b). In order to solve such a drawback, conventionally, at the time of rising and shutting down the absorption tower, the exhaust gas discharged from a combustor, a boiler, or the like is passed through the absorption tower without passing the exhaust tower to the chimney side without passing through the absorption tower. After discharging, the exhaust gas is passed through the absorption tower for the first time after the exhaust gas flow rate has become equal to or higher than the loading flow rate at which the absorption liquid is lifted above the reference level, and there is an exhaust gas bypass system for that purpose.

そして、かかる排ガス迂回システムは、第17図に示す
ように、ボイラや燃焼機等の排ガス排出源と、煙突等の
排ガスの大気放出部とを結ぶ主経路74に、ボイラ等より
の排ガス1を昇圧させて増速を図る昇圧ファン71と前記
した湿式吸収塔2を介在させると共に、昇圧ファン71入
口側と吸収塔2の出口側を接続し、煙突につながるダン
パ73を備えたバイパス経路72を設け、吸収塔2の立ち上
がり及びシャットダウン時においては、前記昇圧ファン
71の停止ととともに、ダンパ73を開放してダンパ77、78
を閉じて、燃焼機やボイラ等より排出された排ガス1を
前記吸収塔2に通すことなく該吸収塔2を迂回したバイ
パス経路72を通して煙突側に排出した後、排ガス流速が
吸収液5を基準レベル以上に持ち上げるローディング流
速以上になった際に、前記昇圧ファン71の駆動ととも
に、ダンパ73を閉塞、ダンパ77、78を開放して前記バイ
パス経路72を閉鎖させ、排ガス1はボイラ側より矢印に
示すように主経路74を通過し、昇圧ファン71を経由し
て、吸収塔2で所用の脱硫処理をなし煙突側に排出する
ようにしている。
Then, as shown in FIG. 17, the exhaust gas bypass system supplies exhaust gas 1 from a boiler or the like to a main path 74 connecting an exhaust gas discharge source such as a boiler or a combustor to an atmospheric emission portion of an exhaust gas such as a chimney. A bypass passage 72 having a damper 73 connected to the chimney and connecting the inlet side of the booster fan 71 and the outlet side of the absorber 2 while interposing the booster fan 71 for increasing the pressure to increase the speed and the wet absorption tower 2 described above is connected. When the absorption tower 2 rises and shuts down, the booster fan
With the stop of 71, damper 73 is opened and dampers 77, 78
And exhaust gas 1 discharged from a combustor, a boiler, or the like is discharged to the chimney side through a bypass path 72 bypassing the absorption tower 2 without passing through the absorption tower 2, and the flow rate of the exhaust gas is based on the absorption liquid 5. When the loading flow rate exceeds the level, the booster fan 71 is driven, the damper 73 is closed, the dampers 77 and 78 are opened and the bypass path 72 is closed. As shown, the gas passes through the main path 74, passes through the booster fan 71, undergoes necessary desulfurization treatment in the absorption tower 2, and discharges to the chimney side.

しかしながらかかる従来技術においては、吸収塔の立
ち上がり及びシャットダウン時においては排ガスが吸収
塔を通らないために、排ガス処理が行なわれず排ガス中
に含まれる亜硫酸ガスや粉塵の除去も不可能になる問題
がある。また、それを避けるためにSO2や煤塵の排出の
少ない軽油を焚くと、燃料代が大きくなるなどの問題が
ある。
However, in such a conventional technique, since exhaust gas does not pass through the absorption tower at the time of startup and shutdown of the absorption tower, there is a problem that exhaust gas treatment is not performed and removal of sulfurous acid gas and dust contained in the exhaust gas becomes impossible. . In addition, if light oil that emits less SO 2 and dust is burned to avoid this, there is a problem that the fuel cost increases.

第14図はかかる従来のバイパス経路72を効果的に利用
して、前記第3の関連発明と同様の効果を上げるように
した第4の関連発明に係るもので、ボイラや燃焼機等の
排ガス排出源と、煙突等の排ガスの大気放出部とを結ぶ
主経路74に、排ガスの流速を利用して吸収液5を同伴さ
せながら両者の気液接触により排ガス中の目的成分を吸
収液5に吸収させる湿式吸収塔2を介在させてなる排ガ
ス処理システムを示し、(A)は吸収塔立ち上げ前にお
ける各ダンパの開閉状態及び排ガスの流れ、(B)はボ
イラよりの吸収塔への導入排ガスの塔内流速がローディ
ング流速以上の場合のダンパの開閉状況及び排ガスの流
れを示す図である。
FIG. 14 relates to a fourth related invention in which the same effect as the third related invention is obtained by effectively utilizing the conventional bypass path 72. The target component in the exhaust gas is converted to the absorbent 5 by gas-liquid contact between the main source 74 connecting the discharge source and the exhaust gas discharge part such as a chimney, etc., while entraining the absorbent 5 using the flow rate of the exhaust gas. 1 shows an exhaust gas treatment system in which a wet absorption tower 2 for absorption is interposed, (A) shows the open / close state of each damper and the flow of exhaust gas before the absorption tower is started, and (B) shows exhaust gas introduced from a boiler into the absorption tower. FIG. 4 is a diagram showing the opening / closing state of the damper and the flow of exhaust gas when the flow velocity in the tower is equal to or higher than the loading flow velocity.

第14図に示すように、ボイラや燃焼機等の排ガス排出
源と、煙突等の排ガスの大気放出部とを結ぶ主経路74
に、ボイラ等よりの排ガス1を昇圧させて増速を図る昇
圧ファン71と前記した湿式吸収塔2を介在させると共
に、昇圧ファン71入口側と吸収塔2出口側を接続し、煙
突につながりダンパ73を備えたバイパス経路72を設けて
いる。
As shown in FIG. 14, a main route 74 connecting an exhaust gas discharge source such as a boiler or a combustor to an atmospheric emission portion of an exhaust gas such as a chimney.
In addition, a booster fan 71 for increasing the speed of the exhaust gas 1 from the boiler or the like and a wet absorption tower 2 described above are interposed, and the inlet side of the pressure increase fan 71 and the outlet side of the absorption tower 2 are connected to each other to be connected to a chimney and to be connected to a damper. A bypass path 72 provided with 73 is provided.

かかる装置例において、吸収塔2への排ガス導入前の
立ち上げ時においては、第14(A)図に示すようにダン
パ73を開として、バイパス経路72と主経路74で昇圧循環
路を形成させ、ボイラよりの排ガス1を排出経路76に排
出させることなく、循環路内のガスの流速を昇圧ファン
71により増速させながら吸収塔2の塔内流速がローディ
ング流速以上になるまでこれを継続する。
In this example of the apparatus, at the time of startup before exhaust gas introduction into the absorption tower 2, the damper 73 is opened as shown in FIG. 14 (A) to form a pressurized circulation path by the bypass path 72 and the main path 74. , Without increasing the exhaust gas 1 from the boiler to the discharge path 76, and increasing the flow velocity of the gas in the circulation path.
This is continued until the flow velocity in the absorption tower 2 becomes equal to or higher than the loading flow velocity while increasing the speed by 71.

そして塔内流速がローディング流速以上に維持したと
ころで、第14(B)図に示すように、バイパス経路72の
ダンパ73を閉鎖して、排ガス1の吸収処理を行なう。
Then, when the flow rate in the tower is maintained at the loading flow rate or higher, the damper 73 of the bypass path 72 is closed to perform the exhaust gas 1 absorption treatment as shown in FIG. 14 (B).

上記昇圧循環路の使用状況を第13図に示すボイラの運
転時間に対する吐出排ガス量の変化図により下記に説明
する。
The state of use of the pressurized circulation circuit will be described below with reference to a change diagram of the discharge exhaust gas amount with respect to the operation time of the boiler shown in FIG.

即ち、第13図に見るように、運転開始後の立ち上げ時
T1と運転終了前のシャットダウン時T2は排ガス量は低下
し、排ガス1を処理する吸収塔2の塔内流速は液落下速
度(ローディング流速)V1以下になっているために塔内
流速がローディング流速以上になるまで第14(A)図の
ようにダンパ73の開閉制御を行ない、塔内流速がローデ
ィング流速以上になった際に、第14(B)図のようにダ
ンパ73の開閉制御を行なって吸収塔2の動作を完全に機
能させるようにする。
That is, as shown in FIG.
T 1 and the operation before the end of the shutdown T 2 are decreased quantity of exhaust gas, the column, among others the flow rate for the column in the flow rate of the absorption tower 2 for treating an exhaust gas 1 which is in the liquid falling velocity (loading velocity) V 1 or less The opening and closing of the damper 73 is controlled as shown in FIG. 14 (A) until the flow velocity becomes equal to or higher than the loading flow velocity. When the flow velocity in the tower becomes higher than the loading flow velocity, the opening and closing of the damper 73 is performed as shown in FIG. 14 (B). The control is performed so that the operation of the absorption tower 2 is fully functioned.

第15図は、吸収塔2内に排ガス流路幅を規制する分割
板を設けた第2実施例で、気液接触空域41に垂直方向に
延設する分割板40を設け、該分割板40を気液接触空域41
における排ガス通過面積を可変可能に水平方向に移動可
能に構成する。
FIG. 15 shows a second embodiment in which a dividing plate for regulating the width of the exhaust gas passage is provided in the absorption tower 2, and a dividing plate 40 extending in the vertical direction in the gas-liquid contact space 41 is provided. The gas-liquid contact airspace 41
Is configured to be movable in the horizontal direction so as to be able to change the exhaust gas passage area in the horizontal direction.

第16図は吸収塔2内に排ガス流路幅を規制する分割板
を設けた第7図に対応する第3実施例で、気液接触空域
41に垂直方向に下端の高さ位置の異なる分割板40を階段
状に複数板延設し、下部液面レベルを制御することによ
り排ガス通過面積を可変可能に構成する。
FIG. 16 is a third embodiment corresponding to FIG. 7 in which a dividing plate for regulating the width of the exhaust gas flow path is provided in the absorption tower 2, and the gas-liquid contact air space is provided.
A plurality of divided plates 40 having different height positions at the lower end in the vertical direction are provided in a stepwise manner on the 41, and the exhaust gas passage area is configured to be variable by controlling the lower liquid level.

そして前記吸収塔2に導入される排ガス1の塔内流速
がローディング流速以下の場合に、前記分割板40により
吸収塔2内の排ガス通過面積を縮小させ、ダンパ73によ
りバイパス経路72を開放して処理済排ガスを昇圧ファン
71を介して吸収塔2入口側に戻すことにより、前記吸収
塔2内に導入される排ガス1の塔内流速を速やかに増速
させることが出来る。
When the flow velocity of the exhaust gas 1 introduced into the absorption tower 2 in the tower is equal to or less than the loading flow velocity, the exhaust gas passage area in the absorption tower 2 is reduced by the dividing plate 40, and the bypass path 72 is opened by the damper 73. Booster fan for treated exhaust gas
By returning to the inlet side of the absorption tower 2 via 71, the flow velocity of the exhaust gas 1 introduced into the absorption tower 2 in the tower can be rapidly increased.

従って本装置例によれば、塔内流速をローディング流
速以上に常に維持できるため、プラントの立ち上げ及び
シャットダウン時も吸収塔の性能を完全に維持できると
ともに、吸収塔下部の液溜め部及び回収ポンプの容量を
大きくする必要がない。
Therefore, according to this example of the apparatus, the flow velocity in the tower can always be maintained at a value equal to or higher than the loading flow rate, so that the performance of the absorption tower can be completely maintained even when the plant is started up and shut down. There is no need to increase the capacity.

第18図及び第19図は本発明の第5の関連発明に係る湿
式排ガス処理装置の概要を示す正面図と側面図で、同図
において前記装置例と同一構成の説明は省略する。吸収
塔2の高さ方向の中間部には、複数の上向きノズル4を
有する任意数のヘッダパイプ190が配されている。この
ヘッダパイプ190と前記液溜め部56との間には、途中に
循環用回収ポンプ21を介入させた吸収液供給管14が連通
接続してあり、これらをもって吸収塔2内に吸収液5を
散布し、亜硫酸ガスや粉塵等の目的成分を吸収除去する
ことは、前記したところである。
18 and 19 are a front view and a side view, respectively, showing an outline of a wet exhaust gas treatment apparatus according to a fifth related invention of the present invention. Arbitrary number of header pipes 190 each having a plurality of upward nozzles 4 are arranged in the middle of the absorption tower 2 in the height direction. Between the header pipe 190 and the liquid reservoir 56, an absorbing liquid supply pipe 14 with a circulation recovery pump 21 interposed therebetween is connected in communication, and with these, the absorbing liquid 5 is introduced into the absorption tower 2. Spraying to absorb and remove target components such as sulfur dioxide and dust is as described above.

吸収塔2内の上部であって排煙導出部8の下方の位置
にはミストエリミネータ6を設ける。
A mist eliminator 6 is provided at a position above the absorption tower 2 and below the smoke discharge section 8.

ここに取り付けるミストエリミネータ6の好ましい例
としては、第20図に明示するものが挙げられる。このミ
ストエリミネータ6は、横断面が山形(偏平V字状)を
なす複数の板材6aを間隔を隔てて重なり合うようにして
列設しそれを固定バー92で固定して成り、更にその全体
は前記一列状の板材列6aが、その下端位置で他の板材列
6bと収束するように、右方向と左方向に交互に傾斜させ
て、吸収塔2に取り付けられている。但し、ミストエリ
ミネータ6の形状及び配列形式は第20図の例に限らない
が、後記するようにエリミネータ6から流下する吸収液
5を受けとめる収容器80Aの数を少なくするために、隣
接する一対の板材列6a、6bがその下端位置で収束するよ
うに交互傾斜させてもよく、又板材列6a、6bを横断する
方向に収容器80Aを配設してもよいが、いずれにしても
排ガス1に同伴する吸収液5のミストを有効にミストエ
リミネータ6で捕獲するために、同伴流が通気可能な間
隔は必要である。
Preferred examples of the mist eliminator 6 attached here include those clearly shown in FIG. The mist eliminator 6 is formed by arranging a plurality of plate members 6a having a cross section of a mountain shape (a flat V-shape) so as to overlap with a space therebetween and fixing them with a fixing bar 92. One plate material row 6a is located at the lower end position of another plate material row.
In order to converge to 6b, it is attached to the absorption tower 2 while being alternately inclined rightward and leftward. However, the shape and arrangement of the mist eliminator 6 are not limited to the example shown in FIG. 20, but as described later, in order to reduce the number of containers 80A that receive the absorbent 5 flowing down from the eliminator 6, a pair of adjacent mist eliminators 6 is used. The plate rows 6a, 6b may be alternately inclined so as to converge at their lower end positions, and the container 80A may be arranged in a direction crossing the plate rows 6a, 6b. In order to effectively capture the mist of the absorbing liquid 5 entrained by the mist eliminator 6, an interval at which the entrained flow can be ventilated is required.

次に、この発明の要部構成について述べる。前記ミス
トエリミネータ6の下部には、そのミストエリミネータ
6から流下する吸収液5を受けとめることができる捕集
樋(第20図参照)のような収容器80Aを任意数設ける。
本装置例では収容器80Aの数は3個であるが、ミストエ
リミネータ6の配列状態や設置台数等により適宜定める
ことができる。
Next, the main configuration of the present invention will be described. Below the mist eliminator 6, an arbitrary number of containers 80A such as a collecting gutter (see FIG. 20) capable of receiving the absorbing liquid 5 flowing down from the mist eliminator 6 are provided.
In this example of the apparatus, the number of the containers 80A is three, but it can be appropriately determined according to the arrangement state of the mist eliminators 6, the number of the mist eliminators 6, and the like.

そして、各収容器80Aは返送液配管81Aの上端に連設さ
れており、該返送液配管81Aは下方に向け所要長さ延出
させた垂直管路部90を有し、該垂直管路部90により返送
吸収液5cに位置エネルギー(重力エネルギー)をもたせ
ると共に、第5図の飛散吸収液溜りゾーンの下方位置ま
で延出させ、その下端にノズル状開口82Aを設けてい
る。
Each container 80A is connected to the upper end of the return liquid pipe 81A, and the return liquid pipe 81A has a vertical pipe section 90 extended a required length downward, and the vertical pipe section The return absorption liquid 5c is given a potential energy (gravity energy) by 90 and extends to a position below the scattered absorption liquid reservoir zone in FIG. 5, and a nozzle-like opening 82A is provided at the lower end thereof.

尚、前記返送液配管81Aの垂直管路部90の長さは、上
向きノズル4上の噴出液柱高さによっても変動するが、
例えばミストエリミネータ6の高さと同等程度若しくは
それ以上に設定するのがよい。
Note that the length of the vertical pipe section 90 of the return liquid pipe 81A varies depending on the height of the ejected liquid column on the upward nozzle 4,
For example, it is preferable that the height is set to be equal to or higher than the height of the mist eliminator 6.

前記収容器80A及び返送液配管81Aの具体的構成を、第
19図に基づいて詳細に説明する。一対の板材列6a、6bの
下端収束位置に設けた収容器80Aは、その多数のエリミ
ネータ下端収束位置を横断して塔2内を水平に延設させ
ると共に、該収容器80Aの底面を僅かに下方に傾斜させ
て返送液5cが一方向に流れるように設定する。
Specific configurations of the container 80A and the return liquid pipe 81A
This will be described in detail with reference to FIG. The container 80A provided at the lower end convergence position of the pair of plate material rows 6a and 6b extends horizontally in the tower 2 across the many eliminator lower end convergence positions, and slightly lowers the bottom surface of the container 80A. It is set so as to be inclined downward so that the return liquid 5c flows in one direction.

そして前記収容器80Aの傾斜下流端位置の吸収塔2側
壁に返送液配管81Aの上端部を連設し、収容器80Aの傾斜
下流端と連通させる。
The upper end of the return liquid pipe 81A is connected to the side wall of the absorption tower 2 at the inclined downstream end of the container 80A, and communicates with the inclined downstream end of the container 80A.

そして該返送液配管81Aは「コ」の字状をなし、垂直
管路部90を塔外側壁に沿ってミストエリミネータ6の高
さと同等程度下方に垂下した後、再度塔内に水平に貫入
させ、更に塔内に水平に貫入させた水平管路部91の下面
側に、軸方向に所定距離隔てて複数のノズル状開口82A
を設け、より具体的には上向きノズル4の上方位置で、
液柱のほぼ直上付近で且つミストエリミネータ6直下の
飛散吸収液溜りゾーンの下方に開口する位置に夫々ノズ
ル状開口82Aを設け、該ノズル状開口82Aより返送液5c
が、垂直管路部90を流下する位置エネルギーを利用(重
力の作用)して噴霧しつつ噴出液柱と衝突して微滴化
し、より効率的な気液接触を可能に構成している。
Then, the return liquid pipe 81A has a U-shape, and the vertical pipe section 90 hangs down along the outer wall of the tower to the same extent as the height of the mist eliminator 6, and then penetrates horizontally again into the tower. A plurality of nozzle-shaped openings 82A at a predetermined distance in the axial direction on the lower surface side of the horizontal pipe portion 91 which is horizontally penetrated into the tower.
More specifically, at a position above the upward nozzle 4,
A nozzle-like opening 82A is provided at a position substantially immediately above the liquid column and below the scatter elimination liquid reservoir zone just below the mist eliminator 6, and the liquid 5c is returned from the nozzle-like opening 82A.
However, by utilizing the potential energy flowing down the vertical pipe section 90 (by the action of gravity), it sprays and collides with the ejected liquid column to form fine droplets, thereby enabling more efficient gas-liquid contact.

本装置例では、上向きノズル4から噴射される吸収液
5の液柱頂部の上方位置で且つ飛散吸収液溜りゾーンが
発生しやすいミストエリミネータ6の直下部(入口部)
を避けてそれより下方に位置するように配管81Aの下向
き長さを設定してある。
In the present example, the mist eliminator 6 is located above the top of the liquid column of the absorbing liquid 5 injected from the upward nozzle 4 and immediately below the mist eliminator 6 where the scattered absorbing liquid pool zone is likely to be generated (inlet).
, The downward length of the pipe 81A is set so as to be located below it.

又、返送液配管81Aは、第19図に示すようにその一部
が吸収塔2の外を通るようにしてもよいし、垂直管路部
90を含めた全部を吸収塔2内を通るように設けてもよ
い。
A part of the return liquid pipe 81A may pass outside the absorption tower 2 as shown in FIG.
The entire structure including 90 may be provided so as to pass through the inside of the absorption tower 2.

次に、第21図に示す本発明の他の実施例について説明
する。
Next, another embodiment of the present invention shown in FIG. 21 will be described.

この例では前記第19図に示す実施例と異なる構成につ
いてのみ説明する。第21図において、第18図〜第20図と
同一の符号で指し示す部材又は部位は相互に等効の部材
又は部位を表しているので、ここでは重複を避けそれら
の説明は省略する。
In this example, only the configuration different from the embodiment shown in FIG. 19 will be described. In FIG. 21, members or portions indicated by the same reference numerals as those in FIGS. 18 to 20 represent members or portions having the same effect, and thus their description is omitted here without duplication.

第2実施例においては、第18図と同様に、一対のミス
トエリミネータ6の下端収束位置に夫々収容器80Bを設
けているが、該夫々の収容器80B同士は集合管80にて1
つに集合させた後、該集合管80を下方に垂下する返送液
配管81Bの上端部に連通させる。
In the second embodiment, the containers 80B are provided at the lower end convergence positions of the pair of mist eliminators 6, respectively, as in FIG.
After the collecting, the collecting pipe 80 is communicated with the upper end of the return liquid pipe 81B that hangs downward.

そして該返送液配管81Bは塔2内を下方に垂下し、そ
の下端開口82Bは液溜め部56内に位置するように設定し
てあり、該開口82Bは前記実施例と異なりノズル状とせ
ずに単なる開口としてある。
The return liquid pipe 81B hangs downward in the tower 2 and its lower end opening 82B is set so as to be located in the liquid reservoir 56, and the opening 82B is not formed in a nozzle shape unlike the above-described embodiment. It is just an opening.

従って本装置例においては第18図及び第19図の実施例
に係る装置と異なり、収容器80Bで集めた返送液を液柱
状の噴射流の上方位置に噴霧するのではなく、液溜め部
56に返送する構成を取っている。
Therefore, in the present apparatus example, unlike the apparatus according to the embodiment of FIGS. 18 and 19, the return liquid collected in the container 80B is not sprayed to a position above the liquid column-shaped jet flow, but is stored in the liquid storage section.
It is configured to return to 56.

次に前記第18図から第21図の夫々の装置例の作用をま
とめて述べると、次の通りである。
Next, the operation of each of the device examples shown in FIGS. 18 to 21 will be summarized as follows.

夫々の実施例の装置で吸収塔2内を上向きに通過する
排ガス1の流速を5.5m/s以上の高速にすると、排ガス1
に同伴する液滴がミストエリミネータ6に付着し、その
下方部分には多量の吸収液5が流下してくる。その吸収
液5はミストエリミネータ6より直接塔内に落下するこ
となく、そのまま収容器80A、80Bにより捕集され、該収
容器80A、80Bに捕集された返送液5cは重力により返送液
配管81A、81B内を流下し、第18図及び第19図の装置例に
おいては、更にミストエリミネータ6直下ではなく、該
返送液配管81Aの垂直方向の長さ分だけ下方の位置でノ
ズル状開口82Aから重力エネルギーを利用して吸収塔2
内の上向きノズル4の噴出液柱(吸収液)上に噴出さ
れ、そして該ノズル状開口82Aより噴出した返送液5cが
噴出液柱と衝突して微滴化し、より効率的な気液接触を
可能に構成している。
When the flow rate of the exhaust gas 1 passing upward through the absorption tower 2 is increased to 5.5 m / s or more in the apparatus of each embodiment, the exhaust gas 1
Is attached to the mist eliminator 6, and a large amount of the absorbing liquid 5 flows downward. The absorbent 5 does not fall directly into the tower from the mist eliminator 6 but is collected by the containers 80A and 80B as it is, and the return liquid 5c collected by the containers 80A and 80B is returned by the return liquid piping 81A by gravity. , 81B, and in the apparatus example of FIGS. 18 and 19, the nozzle-like opening 82A is not located immediately below the mist eliminator 6 but at a position lower by the vertical length of the return liquid pipe 81A. Absorption tower 2 using gravitational energy
The return liquid 5c, which is jetted onto the jetting liquid column (absorbing liquid) of the upward nozzle 4 inside and is jetted from the nozzle-shaped opening 82A, collides with the jetting liquid column to form fine droplets, thereby achieving more efficient gas-liquid contact. It is configured to be possible.

一方、第21図においては収容器80Bで集めた返送液5c
を液溜め部56に返送し、再度ヘッダパイプ190及び噴出
ノズル4を介して上方に噴出させる。
On the other hand, in FIG. 21, the return liquid 5c collected in the container 80B is shown.
Is returned to the liquid reservoir 56, and is ejected upward again via the header pipe 190 and the ejection nozzle 4.

従って前記いずれの装置例においても、飛散吸収液溜
りゾーンを形成しがちなミストエリミネータ6直下付近
に液滴を増量させることがなく、その部分における排ガ
ス1の同伴による吸収液5の再飛散が阻止される。
Therefore, in any of the above-described apparatus examples, the amount of droplets is not increased near the mist eliminator 6 which tends to form the scattered absorbing liquid pool zone, and the re-scattering of the absorbing liquid 5 due to the entrainment of the exhaust gas 1 in that portion is prevented. Is done.

第22図は、試験によって確認された塔内ガス流速とミ
ストエリミネータ出口のミスト濃度の関係を示す対数グ
ラフで、吸収液抜き出しありのもの(本発明装置)と吸
収液抜き出しなしのもの(従来装置)とを対比してい
る。
FIG. 22 is a logarithmic graph showing the relationship between the gas flow rate in the tower and the mist concentration at the outlet of the mist eliminator, which was confirmed by the test, with the absorption liquid being extracted (the device of the present invention) and without the absorption liquid (the conventional device). ).

例えば液柱高さが1.7mの従来装置○では、塔内ガス流
速が5.5mを超えるとミスト出口濃度が急激に上がるが、
液柱高さが1.8mの発明装置●では、5.8mを超えてもミス
ト出口濃度が上がらなかった。
For example, in the conventional device ○ with a liquid column height of 1.7 m, when the gas flow rate in the tower exceeds 5.5 m, the mist outlet concentration sharply increases,
In the case of the invention device ● having a liquid column height of 1.8 m, the mist outlet concentration did not increase even if it exceeded 5.8 m.

又、例えば液柱高さが3.4mの従来装置△と、液柱高さ
が3.3mの発明装置▲では、本発明の装置の方が5.8m時点
でのミスト出口濃度は従来装置に比較して約1/50以下と
大幅に低下している事が理解できる。
Also, for example, in the conventional apparatus △ having a liquid column height of 3.4 m and the inventive apparatus ▲ having a liquid column height of 3.3 m, the mist outlet concentration at 5.8 m of the apparatus of the present invention is higher than that of the conventional apparatus. Therefore, it can be understood that it is greatly reduced to about 1/50 or less.

従って本図より、この発明の装置が従来の装置より塔
外へのミストの放出についての阻止力がガス流速が約5.
5m/s以上の領域で極めて優れていることが判明した。
Therefore, from this figure, it can be seen that the device of the present invention has a gas flow velocity of about 5.
It turned out to be extremely excellent in the region of 5 m / s or more.

この試験における本発明の装置としては第21図の実施
例のものを使用した。その他の条件は次の通りである。
(なお、図中の液柱高さとは吸収液の柱状をなす噴射流
の高さのことである。) 使用したミストエリミネータ:折れ板型のものを45度
傾斜させて使用 ミストエリミネータと上向きノズルとの間の距離:8m 第23図は、試験によって確認された塔内ガス流速とミ
ストエリミネータ入口のミスト飛散率の関係を示すグラ
フで、本発明の装置のエリミネータ入口部のミスト飛散
率(ミストの重量/噴射吸収液の全重量×100)は液柱
高さが2.4mの従来装置○と、液柱高さが1.9mの発明装置
●では、大きな変化が見られず、いずれも低率である
が、液柱高さが2.8mの従来装置△と、液柱高さが3.3mの
発明装置▲では、本発明のミスト飛散率が低率であるの
に対し、従来装置は大幅に増加している事が理解でき
る。この結果液柱高さを3.3m程度に上げた場合において
もガス流速が5.5m/s程度の高速領域であってもミスト飛
散率は十分低率であることが判明した。
In this test, the apparatus of the embodiment of FIG. 21 was used as the apparatus of the present invention. Other conditions are as follows.
(Note that the height of the liquid column in the figure is the height of the columnar jet of the absorbing liquid.) Mist eliminator used: A bent plate type is used by inclining at 45 degrees. Mist eliminator and upward nozzle Distance: 8 m FIG. 23 is a graph showing the relationship between the gas flow rate in the tower and the mist scattering rate at the mist eliminator inlet confirmed by the test. The mist scattering rate (mist mist) at the eliminator inlet of the apparatus of the present invention is shown in FIG. Weight / total weight of the jetting absorbent × 100), there is no significant change between the conventional device ○ with a liquid column height of 2.4m and the invention device ● with a liquid column height of 1.9m, and both have low rates. However, the conventional device with a liquid column height of 2.8 m and the inventive device with a liquid column height of 3.3 m have a low mist scattering rate of the present invention, whereas the conventional device has a large You can see that it is increasing. As a result, even when the liquid column height was increased to about 3.3 m, the mist scattering rate was found to be sufficiently low even in the high-speed region where the gas flow velocity was about 5.5 m / s.

この試験における使用装置も第21図の実施例のもので
ある。その他の条件は次の通りである。(なお、図中の
液柱高さとは吸収液の柱状をなす噴射流の高さのことで
ある。) 使用したミストエリミネータ:折れ板型のものを45度
傾斜させて使用 ミストエリミネータと上向きノズルとの間の距離:8m 従って本装置例によれば、吸収塔内の排ガスの流動速
度が高速化されても、洗浄処理後の排ガスに同伴されて
吸収塔から排出される吸収液のミストは極めて少量に留
められるので、塔内を通過する排ガスの高速化により排
ガス処理の操業効率の向上を図ることができ、極めて有
利である。
The apparatus used in this test is also that of the embodiment shown in FIG. Other conditions are as follows. (Note that the height of the liquid column in the figure is the height of the columnar jet of the absorbing liquid.) Mist eliminator used: A bent plate type is used by inclining at 45 degrees. Mist eliminator and upward nozzle Therefore, according to the present apparatus example, even if the flow rate of the exhaust gas in the absorption tower is increased, the mist of the absorbent discharged from the absorption tower accompanying the exhaust gas after the cleaning treatment is increased even if the flow rate of the exhaust gas in the absorption tower is increased. Since the amount is extremely small, the operation efficiency of the exhaust gas treatment can be improved by increasing the speed of the exhaust gas passing through the tower, which is extremely advantageous.

また、第18図及び第19図の装置例によれば、噴射流の
直上付近の吸収部に返送液配管から戻された吸収液が上
向きノズルから噴射される吸収液の噴射流と共にそこで
再び排ガスに対して吸収作用を奏するので、前記の効果
に加えて、排ガスの処理性能を高水準に保ち得る。
In addition, according to the apparatus example shown in FIGS. 18 and 19, the absorbent returned from the return liquid pipe to the absorption part immediately above the jet flow is discharged again along with the jet of the absorbent injected from the upward nozzle. Therefore, in addition to the above-described effects, the exhaust gas treatment performance can be maintained at a high level.

又第21図の装置例によれば、ミストエリミネータに達
する吸収液の液量が大幅に増加した場合でも、これを円
滑に液溜めに返送し再利用が可能となる。
Further, according to the apparatus example shown in FIG. 21, even when the amount of the absorbing liquid reaching the mist eliminator is greatly increased, the absorbing liquid can be smoothly returned to the liquid reservoir and reused.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 10/232060 (32)優先日 平成10年8月18日(1998.8.18) (33)優先権主張国 日本国(JP) (31)優先権主張番号 10/232061 (32)優先日 平成10年8月18日(1998.8.18) (33)優先権主張国 日本国(JP) (31)優先権主張番号 10/232062 (32)優先日 平成10年8月18日(1998.8.18) (33)優先権主張国 日本国(JP) (31)優先権主張番号 10/264332 (32)優先日 平成10年9月18日(1998.9.18) (33)優先権主張国 日本国(JP) (31)優先権主張番号 特願平9−325202 (32)優先日 平成9年11月11日(1997.11.11) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平10−48655 (32)優先日 平成10年2月13日(1998.2.13) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平10−232060 (32)優先日 平成10年8月18日(1998.8.18) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平10−232061 (32)優先日 平成10年8月18日(1998.8.18) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平10−232062 (32)優先日 平成10年8月18日(1998.8.18) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平10−264332 (32)優先日 平成10年9月18日(1998.9.18) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 長安 弘貢 東京都千代田区丸の内2丁目5番1号 三菱重工業株式会社 本社内 (72)発明者 沖野 進 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22 号 三菱重工業株式会社 広島研究所内 (72)発明者 鬼塚 雅和 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22 号 三菱重工業株式会社 広島研究所内 (72)発明者 岩下 浩一郎 東京都千代田区丸の内2丁目5番1号 三菱重工業株式会社 本社内 (72)発明者 中村 聡司 東京都千代田区丸の内2丁目5番1号 三菱重工業株式会社 本社内 (72)発明者 井上 健治 広島県広島市西区観音新町4丁目6番22 号 三菱重工業株式会社 広島研究所内 (56)参考文献 実開 昭59−131227(JP,U) 実開 昭49−117353(JP,U) 実開 昭54−34420(JP,U) 実開 平6−36614(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/34 - 53/85 B01D 53/14 - 53/18 B01B 1/00 - 3/18 B01B 7/00 - 9/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (31) Priority claim number 10/232060 (32) Priority date August 18, 1998 (August 18, 1998) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) ) Priority claim number 10/232061 (32) Priority date August 18, 1998 (August 18, 1998) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number 10/232620 ( 32) Priority date August 18, 1998 (August 18, 1998) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number 10/264332 (32) Priority date September 1998 (September 18, 1998) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 9-325202 (32) Priority date November 11, 1997 (November 1997) .11) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 10-48655 (32) Priority Japan February 13, 2010 (Feb. 13, 1998) (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 10-232060 (32) Priority date August 18, 1998 ( (1988.18.18) (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 10-232061 (32) Priority date August 18, 1998 (1998.18.18) ( 33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. Hei 10-232062 (32) Priority date August 18, 1998 (August 18, 1998) (33) Priority claim country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 10-264332 (32) Priority date September 18, 1998 (September 18, 1998) (33) Country claiming priority Japan (JP) (72) Invention Person Hirotsugu Nagayasu 2-5-1 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Headquarters (72) Inventor Susumu Okino 4-6-22, Kannonshinmachi, Nishi-ku, Hiroshima-shi, Hiroshima Hiroshima Research Institute, Mitsubishi Heavy Industries (72 Inventor Masakazu Onizuka 4-6-22 Kanonshinmachi, Nishi-ku, Hiroshima-shi, Hiroshima Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Hiroshima Research Institute (72) Inventor Koichiro Iwashita 2-5-1 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Head Office (72) Inventor Satoshi Nakamura 2-5-1 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. In-house (72) Inventor Kenji Inoue 4-6-22 Kanonshinmachi, Nishi-ku, Hiroshima-shi, Hiroshima Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Hiroshima Research Laboratory (56) References Open to the public Showa 59-131227 (JP, U) Open to the public Showa 49-117353 (JP, U) JP-A 54-34420 (JP, U) JP-A 6-36614 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 53/34-53 / 85 B01D 53/14-53/18 B01B 1/00-3/18 B01B 7/00-9/08

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】吸収液貯溜部に貯溜した吸収液を吸収塔内
のノズル部より上方に噴流させ、該噴流を前記吸収塔内
を通気する排ガスと気液接触させ、排ガス中の目的成分
を吸収させて除去する湿式ガス処理装置において、 前記吸収液貯溜部を、貯溜液面上方空間に加圧気体を生
成する加圧タンクで形成し、一方前記目的成分を吸収し
た吸収液を回収する回収部を、前記加圧タンク内の貯溜
液面より高い吸収塔内の所定位置に配し、前記回収部よ
り加圧タンク側に吸収液を還流させる連通管の出口端開
口を、前記加圧タンク内の貯溜液内に位置させたことを
特徴とする湿式ガス処理装置。
1. An absorption liquid stored in an absorption liquid storage section is jetted upward from a nozzle section in an absorption tower, and the jet stream is brought into gas-liquid contact with exhaust gas flowing through the absorption tower to convert a target component in the exhaust gas. In the wet gas processing apparatus for absorbing and removing, the absorption liquid storage section is formed by a pressurized tank that generates a pressurized gas in a space above the storage liquid surface, while collecting the absorption liquid that has absorbed the target component. Is disposed at a predetermined position in the absorption tower higher than the level of the stored liquid in the pressurized tank, and the outlet end opening of a communication pipe for returning the absorbent to the pressurized tank side from the recovery section is connected to the pressurized tank. A wet gas treatment device, wherein the wet gas treatment device is located in a storage liquid in the inside.
【請求項2】前記加圧タンク内の加圧気体の付勢圧を利
用して、前記加圧タンク内に貯溜した吸収液を、前記吸
収塔内のノズル部より上方に噴流可能に構成したことを
特徴とする請求項1記載の湿式ガス処理装置。
2. An absorption liquid stored in the pressurized tank can be jetted upward from a nozzle portion in the absorption tower by using an urging pressure of a pressurized gas in the pressurized tank. The wet gas processing apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項3】前記吸収液に吸収させて除去する目的成分
の一が二酸化硫黄(SO2)である請求の範囲第1項記載
の湿式ガス処理装置において、 前記加圧気体が酸素含有気体であり、該酸素含有気体を
加圧タンク内底部の貯溜液に吹き込むことを特徴とする
湿式ガス処理装置。
3. The wet gas processing apparatus according to claim 1, wherein one of the target components to be absorbed and removed by said absorbing liquid is sulfur dioxide (SO 2 ). A wet gas processing apparatus, wherein the oxygen-containing gas is blown into a storage liquid at the bottom of the pressurized tank.
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