JP3347040B2 - Plasma address display - Google Patents

Plasma address display

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JP3347040B2
JP3347040B2 JP34772997A JP34772997A JP3347040B2 JP 3347040 B2 JP3347040 B2 JP 3347040B2 JP 34772997 A JP34772997 A JP 34772997A JP 34772997 A JP34772997 A JP 34772997A JP 3347040 B2 JP3347040 B2 JP 3347040B2
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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セルとプラズ
マセルとを有するプラズマアドレス表示装置に関する。
The present invention relates to a plasma addressed display device having a liquid crystal cell and a plasma cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶セルを用いたマトリクスタイ
プの電気光学装置、例えば液晶表示装置を高解像度化、
高コントラスト化するための手段としては、各画素ごと
に薄膜トランジスタなどのスイッチング素子を設け、こ
れを線順次で駆動する方法が一般に知られている。しか
し、この方法では薄膜トランジスタのような半導体素子
を多数設ける必要があり、大面積化すると製造歩留まり
が悪くなるという問題がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, a matrix type electro-optical device using a liquid crystal cell, for example, a liquid crystal display device has been improved in resolution.
As a means for increasing the contrast, a method of providing a switching element such as a thin film transistor for each pixel and driving the switching element in a line-sequential manner is generally known. However, in this method, it is necessary to provide a large number of semiconductor elements such as thin film transistors, and there is a problem that the production yield is deteriorated when the area is increased.

【0003】この問題を解決する手段として、特開平1
−217396号公報には、薄膜トランジスタからなる
スイッチング素子にかえて、プラズマスイッチを利用す
るプラズマアドレス表示装置が提示されている。以下、
プラズマ放電に基づくスイッチを利用して液晶セルを駆
動するプラズマアドレス表示装置の構成について説明す
る。
As means for solving this problem, Japanese Patent Laid-Open No.
Japanese Patent Application Publication No. 217396 discloses a plasma addressed display device using a plasma switch instead of a switching element formed of a thin film transistor. Less than,
A configuration of a plasma addressed display device that drives a liquid crystal cell using a switch based on plasma discharge will be described.

【0004】図5に示したプラズマアドレス表示装置
は、液晶セル112とプラズマセル113とを有してい
る。
The plasma addressed display device shown in FIG. 1 has a liquid crystal cell 112 and a plasma cell 113.

【0005】液晶セル112は、対向基板107と中間
基板105とが所定の間隙をもって液晶シール材106
により貼り合わされたもので、その間隙には液晶層11
0が形成される。なお、液晶層110の内部には液晶が
充填されると共に、セルギャップを均一にするためにス
ペーサ108が設けられている。また、対向基板107
には、行方向に延びて列方向に所定の間隙をもって並べ
られた透明導電材料などからなるストライプ状のデータ
電極109が形成されている。
In the liquid crystal cell 112, the opposing substrate 107 and the intermediate substrate 105 are separated from each other by a predetermined gap.
The liquid crystal layer 11 is provided in the gap.
0 is formed. Note that the inside of the liquid crystal layer 110 is filled with liquid crystal, and a spacer 108 is provided to make the cell gap uniform. Also, the counter substrate 107
Are formed with stripe-shaped data electrodes 109 made of a transparent conductive material or the like, which extend in the row direction and are arranged with a predetermined gap in the column direction.

【0006】一方、プラズマセル113は、プラズマ基
板101と中間基板105とが所定の間隙をもってフリ
ットシール104により貼り合わされたもので、プラズ
マ基板101には、列方向に延びて行方向に所定の間隙
を持って並べられたストライプ状の放電電極102が形
成されている。この放電電極102上に、バリヤリブ1
03が等ピッチで重ね合わされている。これらの放電電
極102とバリヤリブ103とを介してプラズマ基板1
01が中間基板105と所定の間隙を持って対向してい
る。
On the other hand, the plasma cell 113 has a plasma substrate 101 and an intermediate substrate 105 bonded together with a predetermined gap by a frit seal 104. The plasma substrate 113 extends in the column direction and has a predetermined gap in the row direction. The stripe-shaped discharge electrodes 102 are formed so as to be arranged in a row. A barrier rib 1 is formed on the discharge electrode 102.
03 are superposed at the same pitch. The plasma substrate 1 is connected via these discharge electrodes 102 and barrier ribs 103.
Reference numeral 01 faces the intermediate substrate 105 with a predetermined gap.

【0007】これら放電電極102とバリヤリブ103
とにより隔壁114が形成され、隔壁114で区画され
た密閉空間によりプラズマ室111が形成される。この
プラズマ室111は、列方向に延び、行方向に所定の間
隔で形成され、イオン化可能なガスが封入されている。
The discharge electrode 102 and the barrier rib 103
, A partition 114 is formed, and a plasma chamber 111 is formed by the sealed space defined by the partition 114. The plasma chamber 111 extends in the column direction, is formed at a predetermined interval in the row direction, and is filled with an ionizable gas.

【0008】このように、放電電極102とバリヤリブ
103は、各プラズマ室111を区分けする隔壁114
としての役割を果たすと共に、各プラズマ室111のギ
ャップスペーサとしての役割をも果たす。なお、放電電
極102は、交互にアノード電極102Aとカソード電
極102Kとなるようにそれぞれドライバに接続されて
いる。
As described above, the discharge electrode 102 and the barrier rib 103 form the partition 114 that separates the respective plasma chambers 111.
, And also functions as a gap spacer for each plasma chamber 111. Note that the discharge electrodes 102 are connected to the drivers so that they alternately become the anode electrode 102A and the cathode electrode 102K.

【0009】プラズマアドレス表示装置において、デー
タ電極109は列駆動単位、プラズマ室111は行駆動
単位となり、データ電極109とプラズマ室111は直
交するように形成され、この交差部に画素が規定される
ものである。
In the plasma addressed display device, the data electrode 109 is a column drive unit and the plasma chamber 111 is a row drive unit. The data electrode 109 and the plasma chamber 111 are formed so as to be orthogonal to each other, and a pixel is defined at the intersection. Things.

【0010】このようなプラズマアドレス表示装置にお
いて、隣接するアノード電極102Aとカソード電極1
02Kとの間に所定電圧が印加されると、アノード電極
102Aとカソード電極102Kとで挟まれたプラズマ
室111内のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放
電が発生する。
In such a plasma addressed display device, the adjacent anode electrode 102A and cathode electrode 1A
When a predetermined voltage is applied between the anode electrode 102K and the cathode electrode 102K, the gas in the plasma chamber 111 sandwiched between the anode electrode 102A and the cathode electrode 102K is selectively ionized to generate plasma discharge.

【0011】プラズマ放電が終了すると、プラズマ室1
11は浮遊電位となり、各画素の液晶層110に書き込
まれた電圧は、次の書き込み期間(例えば1フレーム
後)まで保持される。このとき、プラズマ室111はサ
ンプリングスイッチとして機能し、各画素の液晶層11
0はサンプリングキャパシタとして機能している。
When the plasma discharge ends, the plasma chamber 1
Numeral 11 indicates a floating potential, and the voltage written in the liquid crystal layer 110 of each pixel is held until the next writing period (for example, after one frame). At this time, the plasma chamber 111 functions as a sampling switch, and the liquid crystal layer 11 of each pixel is used.
0 functions as a sampling capacitor.

【0012】各画素の液晶層110に対してデータ電極
109に書き込まれた駆動電圧によって液晶が動作する
ことから画素単位で表示が行われる。従って、プラズマ
放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素の液晶層11
0に電圧を書き込むプラズマ室111を行方向に順次走
査していくことで、二次元画像の表示を行うことができ
る。
Since the liquid crystal operates on the liquid crystal layer 110 of each pixel by the driving voltage written to the data electrode 109, display is performed in pixel units. Therefore, the liquid crystal layer 11 of a plurality of pixels arranged in the column direction by generating a plasma discharge
A two-dimensional image can be displayed by sequentially scanning the plasma chamber 111 for writing a voltage to 0 in the row direction.

【0013】このようなプラズマアドレス表示装置の製
造方法の一例を、図6を用いて説明する。まず、図6
(a)に示すように、プラズマ基板101上にスクリー
ン印刷法などにより放電電極パターンをストライプ状に
印刷した後、乾燥させて放電電極102を形成する。
An example of a method for manufacturing such a plasma addressed display device will be described with reference to FIG. First, FIG.
As shown in FIG. 1A, a discharge electrode pattern is printed on the plasma substrate 101 in a stripe pattern by a screen printing method or the like, and then dried to form a discharge electrode 102.

【0014】次に、ストライプ状に形成した放電電極1
02の上にスクリーン印刷でバリヤリブ103を、図6
(b)に示すように積層する。この場合、バリヤリブ1
03は約200μm程度の高さとするために、スクリー
ン印刷を繰り返して重ね塗りを行った後、バリヤリブ1
03の焼成を行い、上部を研磨し所定の高さにそろえ
る。
Next, a discharge electrode 1 formed in a stripe shape
The barrier rib 103 is screen-printed on
The layers are laminated as shown in FIG. In this case, the barrier rib 1
No. 03 was repeatedly screen-printed so as to have a height of about 200 μm, and was repeatedly coated.
03 is baked, and the upper part is polished and adjusted to a predetermined height.

【0015】次に、図6(c)に示すように、プラズマ
基板101の周辺にフリットシール104をディスペン
サなどで形成し、このフリットシール104を介してガ
ラス製の中間基板105をバリヤリブ103に乗せた状
態でプラズマ基板101に貼り合わせてプラズマ室11
1を形成する。そして、プラズマ室111を真空に引い
た後、ガスを注入する。
Next, as shown in FIG. 6C, a frit seal 104 is formed around the plasma substrate 101 by a dispenser or the like, and an intermediate substrate 105 made of glass is placed on the barrier rib 103 via the frit seal 104. The plasma chamber 11 is bonded to the plasma
Form one. After the plasma chamber 111 is evacuated, gas is injected.

【0016】次に、配向処理を行い、図6(d)に示す
ように、液晶層110を均一の厚さにするためにスペー
サ108を散布すると共に、周辺を貼り合わせる液晶シ
ール材106を形成し、図6(e)に示すように、液晶
シール材106を介して中間基板105と対向基板10
7とを貼り合わせ、その間隙に液晶を注入して密封する
ことで液晶層110を形成して、図5に示すようなプラ
ズマアドレス表示装置を得ることができる。
Next, an alignment process is performed, and as shown in FIG. 6D, spacers 108 are scattered to make the liquid crystal layer 110 to have a uniform thickness, and a liquid crystal sealing material 106 for bonding the periphery is formed. Then, as shown in FIG. 6E, the intermediate substrate 105 and the opposing substrate 10
7, and a liquid crystal layer 110 is formed by injecting and sealing a liquid crystal into a gap therebetween, thereby obtaining a plasma addressed display device as shown in FIG.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の中間基板1
05においては、プラズマ基板101に貼り合わせる際
に、バリヤリブ103及びフリットシール104などに
押圧されることにより、中間基板105が局所的に大き
く変形して割れ・欠けなどの破損が生じることがある。
さらに、中間基板105と対向基板107とを貼り合わ
せる際にも、液晶シール材106に押圧されて、中間基
板105に割れ・欠けなどの破損が生じることがある。
The above-mentioned conventional intermediate substrate 1
In the case 05, the intermediate substrate 105 may be locally deformed greatly by being pressed by the barrier ribs 103, the frit seal 104, and the like when being bonded to the plasma substrate 101, and may be broken or broken.
Further, when the intermediate substrate 105 and the opposing substrate 107 are bonded to each other, the intermediate substrate 105 may be broken or cracked or chipped by being pressed by the liquid crystal sealing material 106.

【0018】また、貼り合わせ時以外にも、搬送時にお
けるわずかな衝撃により中間基板105に破損が生じる
という問題点を有している。なお、このようなパネルは
不良品となり、製造のコストを上昇させる原因となって
いる。
There is another problem that the intermediate substrate 105 is damaged due to a slight impact during transportation, other than during bonding. Note that such a panel becomes a defective product, which causes an increase in manufacturing cost.

【0019】この問題点を解決するために、中間基板1
05の板厚を厚くすることが考えられる。
To solve this problem, the intermediate substrate 1
It is conceivable to increase the thickness of the plate 05.

【0020】しかしながら、液晶層110に印加する電
圧をVLC、液晶層110と中間基板105との両方に印
加する電圧をV0、液晶層110の電気容量をCLC、中
間基板105の電気容量をC1とすると、VLC=V0×C
1/(C1+CLC)という関係式が成り立つので、中間基
板105の板厚を厚くして電気容量C1が小さくなるほ
ど、電圧V0のうち中間基板に印加される割合が大きく
なり、データ電極109に印加される駆動電圧が弱くな
る。従って、中間基板105の板厚が厚いと導電性が悪
くなるため、高い駆動電圧が必要になるという問題点を
有している。
However, the voltage applied to the liquid crystal layer 110 is V LC , the voltage applied to both the liquid crystal layer 110 and the intermediate substrate 105 is V 0 , the electric capacity of the liquid crystal layer 110 is C LC , and the electric capacity of the intermediate substrate 105 is Let C 1 be V LC = V 0 × C
Since the relational expression of 1 / (C 1 + C LC ) holds, the ratio of the voltage V 0 applied to the intermediate substrate 105 increases as the thickness of the intermediate substrate 105 increases and the capacitance C 1 decreases. The driving voltage applied to the electrode 109 becomes weak. Accordingly, when the thickness of the intermediate substrate 105 is large, the conductivity is deteriorated, and thus there is a problem that a high driving voltage is required.

【0021】また、中間基板として、柔軟な誘電体材料
を用いたプラズマアドレス表示装置が、特開平6−31
7786号公報に開示されている。このように、中間基
板に柔軟性を持たせることにより、割れ・欠けなどの破
損が生じにくくなるが、プラズマ基板と貼り合わせる際
など、強い力が加わるときに中間基板が容易に変形して
しまうことが考えられる。この場合、中間基板の平坦性
を確保できず、液晶層の層厚が不均一となるので、表示
品位を著しく低下させてしまう。
A plasma addressed display device using a flexible dielectric material as an intermediate substrate is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-31.
No. 7786. As described above, by giving flexibility to the intermediate substrate, breakage such as cracking and chipping is less likely to occur, but the intermediate substrate is easily deformed when a strong force is applied, such as when bonding to a plasma substrate. It is possible. In this case, the flatness of the intermediate substrate cannot be ensured, and the thickness of the liquid crystal layer becomes uneven, so that the display quality is significantly reduced.

【0022】本発明は、上述した問題点に鑑みてなされ
たものであり、中間基板の強度を向上させることによ
り、割れ・欠けなどの破損を防止することができると共
に、低い電圧で駆動するプラズマアドレス表示装置を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems. By improving the strength of an intermediate substrate, it is possible to prevent breakage such as cracking and chipping, and to operate a plasma driven at a low voltage. An object of the present invention is to provide an address display device.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のプラズマアドレス表示装置は、中間基板の一方面側に
対向基板が所定の間隙を保って貼り合わされ、その間隙
に液晶が充填されてなる液晶セルと、前記中間基板の他
方面側にプラズマ基板が所定の間隙を保って貼り合わさ
れ、その間隙にプラズマガスが注入されてなるプラズマ
セルとを有し、前記プラズマセル内のプラズマ放電によ
り、前記液晶セル内に充填された液晶のスイッチングを
行うプラズマアドレス表示装置において、前記中間基板
が、開口部を有する第1の基板と、少なくとも前記開口
部に設けられる誘電体材料と、を有することを特徴とし
ている。
In a plasma addressed display device according to a first aspect of the present invention, a counter substrate is bonded to one surface of an intermediate substrate with a predetermined gap therebetween, and the gap is filled with liquid crystal. And a plasma cell in which a plasma substrate is bonded to the other surface of the intermediate substrate with a predetermined gap therebetween, and a plasma gas is injected into the gap. Accordingly, in the plasma addressed display device for switching the liquid crystal filled in the liquid crystal cell, the intermediate substrate includes a first substrate having an opening, and a dielectric material provided at least in the opening. It is characterized by:

【0024】また、本発明の請求項2に記載のプラズマ
アドレス表示装置は、前記第1の基板の板厚が、0.5
mm〜2.0mmであることを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, in the plasma addressed display device, the first substrate has a thickness of 0.5.
mm to 2.0 mm.

【0025】また、本発明の請求項3に記載のプラズマ
アドレス表示装置は、前記中間基板が、前記第1の基板
の前記液晶セルに対向した面に第2の基板を貼り合わせ
て構成されることを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the plasma addressed display device, the intermediate substrate is formed by bonding a second substrate to a surface of the first substrate facing the liquid crystal cell. It is characterized by:

【0026】また、本発明の請求項4に記載のプラズマ
アドレス表示装置は、前記第2の基板の板厚が、10μ
m〜50μmであることを特徴としている。
In the plasma addressed display device according to a fourth aspect of the present invention, the second substrate has a thickness of 10 μm.
m to 50 μm.

【0027】また、本発明の請求項5に記載のプラズマ
アドレス表示装置は、前記中間基板が、前記第1の基板
に対して前記第2の基板を複数貼り合わせて構成される
ことを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the plasma addressed display device, the intermediate substrate is formed by bonding a plurality of the second substrates to the first substrate. I have.

【0028】また、本発明の請求項6に記載のプラズマ
アドレス表示装置は、前記中間基板における画素部分に
対応する領域以外が、遮光性を有していることを特徴と
している。
The plasma addressed display device according to a sixth aspect of the present invention is characterized in that the intermediate substrate has a light-shielding property except for a region corresponding to a pixel portion.

【0029】以下、本発明による作用について説明を行
う。本発明のプラズマアドレス表示装置は、中間基板と
して、開口部を有する第1の基板と、少なくとも開口部
に配置される誘電体材料とを有しているので、第1の基
板の板厚を厚くしても、誘電体材料の厚みを薄くしてお
けば開口部における中間基板の電気容量を小さくするこ
とが可能となる。
Hereinafter, the operation of the present invention will be described. Since the plasma addressed display device of the present invention includes, as the intermediate substrate, a first substrate having an opening and at least a dielectric material disposed in the opening, the thickness of the first substrate is increased. Even if the thickness of the dielectric material is reduced, the capacitance of the intermediate substrate at the opening can be reduced.

【0030】従って、第1の基板の板厚を厚くして中間
基板の強度を向上させることが可能になると共に、誘電
体材料の厚みを薄くして駆動電圧を低くすることが可能
になる。
Therefore, it is possible to improve the strength of the intermediate substrate by increasing the thickness of the first substrate and to reduce the driving voltage by reducing the thickness of the dielectric material.

【0031】また、この第1の基板の板厚を0.5mm
以上とすることにより、上述したような中間基板の割れ
・欠けに対する強度を確保することが可能になり、ま
た、板厚を2.0mm以下とすることにより、重量的に
表示装置の取り扱いが困難になることを防止することが
可能になる。
The thickness of the first substrate is 0.5 mm
With the above, it is possible to secure the strength against cracking and chipping of the intermediate substrate as described above, and by setting the plate thickness to 2.0 mm or less, it is difficult to handle the display device due to weight. Can be prevented.

【0032】このとき、第1の基板の開口部を、1つの
画素に対して複数設ける構成とすることにより、1つの
画素に1つの開口部を設ける構成よりも第1の基板の強
度が増すため、中間基板の強度をさらに向上させること
が可能になり、また、第1の基板の開口部を、複数の画
素に対して1つ設ける構成とすることにより、1つの画
素に1つの開口部を設ける構成よりも第1の基板の製造
が容易となるため、中間基板の製造歩留まりをさらに向
上させることが可能になる。
At this time, by providing a plurality of openings in the first substrate for one pixel, the strength of the first substrate is increased as compared with a configuration in which one opening is provided for one pixel. Therefore, it is possible to further improve the strength of the intermediate substrate, and by providing one opening for the first substrate for a plurality of pixels, it is possible to provide one opening for one pixel. Since the manufacturing of the first substrate is easier than the configuration in which the first substrate is provided, the manufacturing yield of the intermediate substrate can be further improved.

【0033】また、このとき、開口部に配置される誘電
体材料として、強誘電体材料を用いることにより、中間
基板の誘電率を高くして駆動電圧を低くすることも可能
になる。
At this time, by using a ferroelectric material as the dielectric material disposed in the opening, it is possible to increase the dielectric constant of the intermediate substrate and lower the driving voltage.

【0034】本発明のプラズマアドレス表示装置は、中
間基板を、第1の基板の液晶層に対向した面に第2の基
板を貼り合わせる構成とすることにより、配向膜が形成
される中間基板の表面が平坦になるため、液晶層の層厚
のバラツキを抑えて、かつ所望のラビング処理を行うこ
とが可能になる。
According to the plasma addressed display device of the present invention, the intermediate substrate has a structure in which the second substrate is bonded to the surface of the first substrate facing the liquid crystal layer. Since the surface is flat, it is possible to suppress variation in the thickness of the liquid crystal layer and perform a desired rubbing treatment.

【0035】また、この第2の基板の板厚を10μm以
上とすることにより、スぺーサの散布時やラビング処理
時、あるいは完成後のわずかな衝撃に対する強度を確保
することが可能になり、また、板厚を50μm以下とす
ることにより、誘電率が大きくなり駆動電圧を低くする
ことが可能になる。
Further, by setting the thickness of the second substrate to 10 μm or more, it becomes possible to secure the strength against a slight impact at the time of spraying or rubbing the spacer or after completion. Further, by setting the plate thickness to 50 μm or less, the dielectric constant increases and the driving voltage can be reduced.

【0036】このとき、この第2の基板をガラスよりも
熱的、光学的、電気的、機械的特性に優れているポリマ
ー薄膜で形成することにより、第2基板の強度が向上
し、取り扱いが容易な中間基板を得ることが可能にな
る。
At this time, by forming the second substrate from a polymer thin film having better thermal, optical, electrical and mechanical properties than glass, the strength of the second substrate is improved, and handling is improved. An easy intermediate substrate can be obtained.

【0037】また、中間基板が、第1の基板に対して第
2の基板を複数枚貼り合わせる構成とすることにより、
第2の基板の1枚当りのサイズを小さくすることがで
き、第2の基板の取り扱いを容易にすることが可能にな
る。
Further, the intermediate substrate has a structure in which a plurality of second substrates are bonded to the first substrate,
The size of one second substrate can be reduced, and the handling of the second substrate can be facilitated.

【0038】また、このとき、中間基板の画素部分に対
応する領域以外は、遮光性を有していることにより、中
間基板において不要な光を遮断することが可能になる。
なお、このことにより、通常液晶層の対向基板側に形成
されていた金属や樹脂によるブラックマスクを形成する
必要が無くなり、対向基板表面の凹凸が緩和されるの
で、液晶層の層厚のバラツキを抑えることが可能にな
る。具体的には、第1の基板上に非透光性材料を設ける
ことによって、不要光を遮断することが可能となるが、
これは第1の基板上に非透光性材料を設けるだけの工程
により実現でき、この材料のパターニングの必要はない
ため、製造工程を容易にすることが可能になる。
Further, at this time, since the area other than the area corresponding to the pixel portion of the intermediate substrate has a light-shielding property, it is possible to block unnecessary light on the intermediate substrate.
This eliminates the need to form a black mask of metal or resin that is usually formed on the counter substrate side of the liquid crystal layer, and alleviates unevenness on the surface of the counter substrate. It becomes possible to suppress. Specifically, by providing a non-light-transmitting material over the first substrate, unnecessary light can be blocked.
This can be realized by a process of merely providing a non-translucent material on the first substrate, and there is no need to pattern this material, so that the manufacturing process can be simplified.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0040】(実施形態1)以下、本発明の実施形態1
について図面を参照しながら具体的に説明する。図1
は、本実施形態におけるプラズマアドレス表示装置の断
面図であり、1はプラズマ基板、2は放電電極、3はバ
リヤリブ、4はフリットシール、5は中間基板、6は液
晶シール材、7は対向基板、8はスペーサ、9はデータ
電極、10は液晶層、11はプラズマ室、12は液晶セ
ル、13はプラズマセル、14は隔壁である。
(Embodiment 1) Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described.
Will be specifically described with reference to the drawings. FIG.
1 is a cross-sectional view of a plasma addressed display device according to the present embodiment, wherein 1 is a plasma substrate, 2 is a discharge electrode, 3 is a barrier rib, 4 is a frit seal, 5 is an intermediate substrate, 6 is a liquid crystal seal material, and 7 is a counter substrate. , 8 are spacers, 9 is a data electrode, 10 is a liquid crystal layer, 11 is a plasma chamber, 12 is a liquid crystal cell, 13 is a plasma cell, and 14 is a partition.

【0041】本実施形態では、中間基板5として、駆動
電圧を低くすると共に、製造時または運搬時の衝撃に対
する強度を向上させるために、開口部16を有するガラ
ス基板5A上に薄板ガラス5Bを貼り合わせて構成す
る。
In the present embodiment, as the intermediate substrate 5, a thin glass plate 5B is attached on a glass substrate 5A having an opening 16 in order to lower the driving voltage and improve the strength against impact during manufacturing or transportation. Configure together.

【0042】本実施形態において、開口部16はプラズ
マ室11とこれに直交するデータ電極9との交差部によ
り規定される画素の領域に1対1に対応して設けられる
ため、ガラス基板5Aの板厚は駆動電圧に影響を与えな
い。従って、ガラス基板5Aの板厚を厚くして中間基板
の強度を向上することができる。なお、ガラス基板5A
の板厚は、0.5mm以上とすることで中間基板の割れ
・欠けに対する強度を確保することができ、2.0mm
以下とすることで中間基板が重くなり、表示装置の取り
扱いが困難になることを防止することが可能となる。
In the present embodiment, the openings 16 are provided in a one-to-one correspondence with the pixel regions defined by the intersections between the plasma chamber 11 and the data electrodes 9 orthogonal to the plasma chambers 11. The plate thickness does not affect the driving voltage. Therefore, the strength of the intermediate substrate can be improved by increasing the thickness of the glass substrate 5A. The glass substrate 5A
By setting the thickness of the substrate to 0.5 mm or more, the strength against cracking and chipping of the intermediate substrate can be secured.
By doing so, it is possible to prevent the intermediate substrate from becoming heavy and making it difficult to handle the display device.

【0043】このように、ガラス基板5Aの板厚を厚く
することにより、貼り合わせる薄板ガラス5Bの板厚を
さらに薄くすることができる。なお、従来の技術の中間
基板としては、50μm程度の厚みのガラス基板が用い
られていたのだが、本実施形態では、薄板ガラス5Bは
それ以下の厚み、例えば半分以下の厚みの10μm〜2
5μm程度のものを用いて駆動電圧を低くすることがで
きる。なお、薄板ガラス5Bの板厚は薄いほうがデータ
電極に印加する駆動電圧を低くすることができるのであ
るが、薄すぎるとスぺーサの散布時やラビング処理時、
あるいは完成後のわずかな衝撃によって割れ・欠けなど
の破損が生じることがあるため、中間基板5の板厚は1
0μm以上であることが望ましい。
As described above, by increasing the thickness of the glass substrate 5A, the thickness of the thin glass plate 5B to be bonded can be further reduced. Although a glass substrate having a thickness of about 50 μm is used as an intermediate substrate in the related art, in the present embodiment, the thin glass 5B has a thickness smaller than that, for example, 10 μm to
The driving voltage can be reduced by using a layer having a thickness of about 5 μm. The thinner the thickness of the thin glass 5B, the lower the driving voltage applied to the data electrode can be. However, if the thickness is too thin, the spreader or the rubbing process may be performed.
Alternatively, a slight impact after completion may cause breakage such as cracking or chipping.
It is desirable that the thickness be 0 μm or more.

【0044】また、薄板ガラス基板5Bは、ガラス基板
5Aの液晶層10側に配置させることが望ましい。これ
は、中間基板5の液晶層10側表面が平坦となるため、
液晶層10の層厚が均一になり、所望のラビング処理を
行うことを可能とするためである。
It is desirable that the thin glass substrate 5B is arranged on the liquid crystal layer 10 side of the glass substrate 5A. This is because the surface of the intermediate substrate 5 on the liquid crystal layer 10 side becomes flat,
This is because the thickness of the liquid crystal layer 10 becomes uniform, and a desired rubbing treatment can be performed.

【0045】さらに、図2に示すように、薄板ガラス2
1Bを複数に分割して設けることにより、薄板ガラス2
1Bの1枚当りのサイズが縮小されるので、薄板ガラス
21Bの取り扱いが非常に容易になると共に作製が容易
となる。特に大画面の表示装置を製造する場合において
は、このような構成は非常に有効である。なお、図2は
開口部16を有するガラス基板21Aに複数枚の薄板ガ
ラス21Bを貼り合わせた中間基板21を示す図であ
り、(a)は上面図、(b)は(a)のA−A断面図で
ある。このとき、画素に対応する領域に開口部16を設
けているため、各薄板ガラス21Bの端部はガラス基板
21Aの開口部16上以外に配置すればよく、隣接する
薄板ガラス21Bどうしを接着する必要はない。
Further, as shown in FIG.
1B is divided into a plurality of pieces to provide a thin glass 2
Since the size per sheet of 1B is reduced, the handling of the thin glass 21B becomes very easy and the production becomes easy. In particular, in the case of manufacturing a large-screen display device, such a configuration is very effective. 2A and 2B are views showing an intermediate substrate 21 in which a plurality of thin glass plates 21B are bonded to a glass substrate 21A having an opening 16; FIG. 2A is a top view, and FIG. It is A sectional drawing. At this time, since the opening 16 is provided in the region corresponding to the pixel, the end of each thin glass 21B may be arranged other than on the opening 16 of the glass substrate 21A, and the adjacent thin glass 21B is bonded. No need.

【0046】また、薄板ガラス5Bのかわりに、熱的、
機械的、電気的、光学的特性に優れているポリマー薄膜
を用いることも可能である。ポリマー薄膜としては、特
開平6−317786号公報に開示されているような、
ポリ(エーテル・ケトン)、ポリイミドなどを用いるこ
とができる。この場合、ポリマー薄膜を第1の基板と貼
り合わせる構成となるので、この中間基板をプラズマ基
板に貼り合わせる際に、ポリマー薄膜が容易に変形する
ことを防ぐことが可能となる。
In place of the thin glass 5B,
It is also possible to use a polymer thin film having excellent mechanical, electrical and optical properties. As the polymer thin film, as disclosed in JP-A-6-317786,
Poly (ether / ketone), polyimide, or the like can be used. In this case, since the polymer thin film is bonded to the first substrate, it is possible to prevent the polymer thin film from being easily deformed when bonding the intermediate substrate to the plasma substrate.

【0047】また、図示はしないが、ガラス基板におい
て、複数の画素に対して1つの開口部を設けても良い
し、1つの画素に対して複数の開口部を設けてもよい。
前者の場合はガラス基板5Aの加工が容易になるという
効果があり、後者の場合は中間基板の強度がさらに向上
するという効果がある。
Although not shown, one opening may be provided for a plurality of pixels or a plurality of openings may be provided for one pixel in a glass substrate.
In the former case, there is an effect that the processing of the glass substrate 5A becomes easy, and in the latter case, there is an effect that the strength of the intermediate substrate is further improved.

【0048】また、本実施形態のプラズマアドレス表示
装置は、透光性基板に溝を形成し、その溝をプラズマ室
とするプラズマアドレス表示装置としてもよい。このこ
とは、以下の実施形態においても同様である。
Further, the plasma addressed display device of the present embodiment may be a plasma addressed display device in which a groove is formed in a translucent substrate and the groove is used as a plasma chamber. This is the same in the following embodiments.

【0049】(実施形態2)以下、本発明の実施形態2
について図面を参照しながら具体的に説明する。図3
は、本実施形態におけるプラズマアドレス表示装置の断
面図であり、中間基板35の構成が図1に示した実施形
態1と異なっている。その他の構成については実施形態
1と同じなので、同一の部材には同一の符号を付してそ
の説明を省略する。
(Embodiment 2) Hereinafter, Embodiment 2 of the present invention will be described.
Will be specifically described with reference to the drawings. FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the plasma addressed display device according to the present embodiment, in which the configuration of an intermediate substrate 35 is different from that of the first embodiment shown in FIG. Other configurations are the same as those of the first embodiment, and therefore, the same members are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0050】本実施形態の中間基板35は、開口部16
を有するガラス基板35Aにガラス、マイカ(雲母)、
石英などからなる誘電体材料35Bを設けることによ
り、実施形態1と同様の効果を得ることができる。さら
に、この誘電体材料35Bとして、チタン酸バリウム、
PZTなどの強誘電体材料を用いることにより、駆動電
圧をさらに低くできる。なお、駆動電圧を低くするため
には誘電体材料35Bの誘電率は高いものが望ましい。
The intermediate substrate 35 according to the present embodiment has the opening 16
Glass, mica (mica),
By providing the dielectric material 35B made of quartz or the like, the same effect as in the first embodiment can be obtained. Further, as the dielectric material 35B, barium titanate,
The drive voltage can be further reduced by using a ferroelectric material such as PZT. In order to lower the driving voltage, it is desirable that the dielectric material 35B has a high dielectric constant.

【0051】また、ガラス基板35Aとしては、実施形
態1と同様に厚さ0.5mm〜2.0mmのものを用い
ることにより強度を保つことができる。
Further, the strength can be maintained by using a glass substrate having a thickness of 0.5 mm to 2.0 mm as in the first embodiment as the glass substrate 35A.

【0052】なお、図3では、ガラス基板35Aにおい
て、1つの画素に対して複数の開口部16を設けている
が、1つあるいは複数の画素に対して1つの開口部16
を設けることも可能である。
Although a plurality of openings 16 are provided for one pixel in the glass substrate 35A in FIG. 3, one opening 16 is provided for one or a plurality of pixels.
It is also possible to provide.

【0053】(実施形態3)本発明による実施形態3を
図面を参照しながら以下に説明する。図4は本実施形態
におけるプラズマアドレス表示装置の断面図であり、中
間基板45の構成が図1に示した実施形態1と異なって
いる。その他の構成については実施形態1と同じなので
同一の部材には同一の符号を付してその説明を省略す
る。
(Embodiment 3) Embodiment 3 according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 4 is a cross-sectional view of the plasma addressed display device according to the present embodiment. The configuration of the intermediate substrate 45 is different from that of the first embodiment shown in FIG. The other configuration is the same as that of the first embodiment, so that the same members are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0054】本実施形態の中間基板45は、開口部16
を設けたガラス基板45Aと薄板ガラス45Bとの間
に、画素に対応する領域以外において、非透光性材料で
ある黒色の樹脂45Cを設ける構成となっている。この
ように、画素に対応する領域以外に遮光性をもたせるこ
とにより、中間基板において不要な光を遮断することが
可能となる。従って、通常液晶層の対向基板側に形成さ
れていた金属や樹脂によるブラックマスクを形成する必
要が無くなるので、対向基板表面の凹凸が緩和され、液
晶層の層厚のバラツキを抑えることが可能となる。
The intermediate substrate 45 according to the present embodiment has the opening 16
A black resin 45C, which is a non-light-transmitting material, is provided between the glass substrate 45A provided with and the thin glass 45B except for the region corresponding to the pixel. In this way, by providing light shielding properties in a region other than the region corresponding to the pixel, it becomes possible to block unnecessary light in the intermediate substrate. Therefore, it is not necessary to form a black mask made of metal or resin which is usually formed on the counter substrate side of the liquid crystal layer, so that unevenness on the surface of the counter substrate is reduced, and it is possible to suppress variations in the thickness of the liquid crystal layer. Become.

【0055】また、図示はしないが、第1の基板自体を
非透光性材料とすることや、画素に対応する領域以外を
樹脂などで遮光することにより同様の効果を得ることが
可能である。なお、本実施形態においても、実施形態1
と同様に、複数の画素に対して1つの開口部を設けるこ
と、また、1つの画素に複数の開口部を設けることも可
能である。また、薄板ガラスを複数枚用いることも可能
である。さらに、薄板ガラスにかえてポリマー薄膜を用
いることも可能である。
Although not shown, a similar effect can be obtained by forming the first substrate itself from a non-translucent material, or by shielding the area other than the area corresponding to the pixels from light with resin or the like. . Note that, also in the present embodiment, the first embodiment
Similarly to the above, one opening can be provided for a plurality of pixels, and a plurality of openings can be provided for one pixel. It is also possible to use a plurality of thin glass sheets. Furthermore, it is also possible to use a polymer thin film instead of a thin glass.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
アドレス表示装置は、中間基板として、開口部を有する
第1の基板と、少なくとも開口部に配置される誘電体材
料とを有しているので、第1の基板の板厚を厚くして
も、誘電体材料の厚みを薄くしておけば開口部における
中間基板の電気容量を小さくすることが可能になる。
As described above, the plasma addressed display device of the present invention has, as an intermediate substrate, a first substrate having an opening and a dielectric material disposed at least in the opening. Therefore, even if the thickness of the first substrate is increased, the capacitance of the intermediate substrate at the opening can be reduced by reducing the thickness of the dielectric material.

【0057】従って、第1の基板の板厚を厚くして中間
基板の強度を向上させることが可能になると共に、誘電
体材料の厚みを薄くして駆動電圧を低くすることが可能
になる。
Accordingly, it is possible to increase the thickness of the first substrate to improve the strength of the intermediate substrate, and to reduce the drive voltage by reducing the thickness of the dielectric material.

【0058】また、この第1の基板の板厚を0.5mm
以上とすることにより、上述したような中間基板の割れ
・欠けに対する強度を確保することが可能になり、ま
た、板厚を2.0mm以下とすることにより、重量的に
表示装置の取り扱いが困難になることを防止することが
可能になる。
The thickness of the first substrate is 0.5 mm.
With the above, it is possible to secure the strength against cracking and chipping of the intermediate substrate as described above, and by setting the plate thickness to 2.0 mm or less, it is difficult to handle the display device due to weight. Can be prevented.

【0059】このとき、第1の基板の開口部を、1つの
画素に対して複数設ける構成とすることにより、1つの
画素に1つの開口部を設ける構成よりも第1の基板の強
度が増すため、中間基板の強度をさらに向上させること
が可能になり、また、第1の基板の開口部を、複数の画
素に対して1つ設ける構成とすることにより、1つの画
素に1つの開口部を設ける構成よりも第1の基板の製造
が容易となるため、中間基板の製造歩留まりをさらに向
上させることが可能になる。
At this time, by providing a plurality of openings in the first substrate for one pixel, the strength of the first substrate is increased as compared with a configuration in which one opening is provided for one pixel. Therefore, it is possible to further improve the strength of the intermediate substrate, and by providing one opening for the first substrate for a plurality of pixels, it is possible to provide one opening for one pixel. Since the manufacturing of the first substrate is easier than the configuration in which the first substrate is provided, the manufacturing yield of the intermediate substrate can be further improved.

【0060】また、このとき、開口部に配置される誘電
体材料として、強誘電体材料を用いることにより、中間
基板の誘電率を高くして駆動電圧を低くすることも可能
になる。
At this time, by using a ferroelectric material as the dielectric material disposed in the opening, it is possible to increase the dielectric constant of the intermediate substrate and lower the drive voltage.

【0061】本発明のプラズマアドレス表示装置は、中
間基板を、第1の基板の液晶層に対向した面に第2の基
板を貼り合わせる構成とすることにより、配向膜が形成
される中間基板の表面が平坦になるため、液晶層の層厚
のバラツキを抑えて、かつ所望のラビング処理を行うこ
とが可能になる。
According to the plasma addressed display device of the present invention, the intermediate substrate has a structure in which the second substrate is bonded to the surface of the first substrate facing the liquid crystal layer. Since the surface is flat, it is possible to suppress variation in the thickness of the liquid crystal layer and perform a desired rubbing treatment.

【0062】また、この第2の基板の板厚を10μm以
上とすることにより、スぺーサの散布時やラビング処理
時、あるいは完成後のわずかな衝撃に対する強度を確保
することが可能になり、また、板厚を50μm以下とす
ることにより、誘電率が大きくなり駆動電圧を低くする
ことが可能になる。
Further, by setting the thickness of the second substrate to 10 μm or more, it becomes possible to secure the strength against a slight impact at the time of spraying or rubbing the spacer, or after completion. Further, by setting the plate thickness to 50 μm or less, the dielectric constant increases and the driving voltage can be reduced.

【0063】このとき、この第2の基板をガラスよりも
熱的、光学的、電気的、機械的特性に優れているポリマ
ー薄膜で形成することにより、第2基板の強度が向上
し、取り扱いが容易な中間基板を得ることが可能にな
る。
At this time, by forming the second substrate with a polymer thin film having better thermal, optical, electrical and mechanical properties than glass, the strength of the second substrate is improved and handling is improved. An easy intermediate substrate can be obtained.

【0064】また、中間基板が、第1の基板に対して第
2の基板を複数枚貼り合わせる構成とすることにより、
第2の基板の1枚当りのサイズを小さくすることがで
き、第2の基板の取り扱いを容易にすることが可能にな
る。
The intermediate substrate has a structure in which a plurality of second substrates are bonded to the first substrate.
The size of one second substrate can be reduced, and the handling of the second substrate can be facilitated.

【0065】また、このとき、中間基板の画素部分に対
応する領域以外は、遮光性を有していることにより、中
間基板において不要な光を遮断することが可能になる。
なお、このことにより、通常液晶層の対向基板側に形成
されていた金属や樹脂によるブラックマスクを形成する
必要が無くなり、対向基板表面の凹凸が緩和されるの
で、液晶層の層厚のバラツキを抑えることが可能にな
る。具体的には、第1の基板上に非透光性材料を設ける
ことによって、不要光を遮断することが可能となるが、
これは第1の基板上に非透光性材料を設けるだけの工程
により実現でき、この材料のパターニングの必要はない
ため、製造工程を容易にすることが可能になる。
Further, at this time, since the area other than the area corresponding to the pixel portion of the intermediate substrate has a light shielding property, it is possible to block unnecessary light on the intermediate substrate.
This eliminates the need to form a black mask of metal or resin that is usually formed on the counter substrate side of the liquid crystal layer, and alleviates unevenness on the surface of the counter substrate. It becomes possible to suppress. Specifically, by providing a non-light-transmitting material over the first substrate, unnecessary light can be blocked.
This can be realized by a process of merely providing a non-translucent material on the first substrate, and there is no need to pattern this material, so that the manufacturing process can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1のプラズマアドレス表示装
置を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a plasma addressed display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1のプラズマアドレス表示装
置を示す平面図及び断面図である。
FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a plasma addressed display device according to Embodiment 1 of the present invention.

【図3】本発明の実施形態2のプラズマアドレス表示装
置を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a plasma addressed display device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施形態3のプラズマアドレス表示装
置を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a plasma addressed display device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】従来のプラズマアドレス表示装置を示す断面図
である。
FIG. 5 is a sectional view showing a conventional plasma addressed display device.

【図6】従来のプラズマアドレス表示装置の製造工程を
示す断面フロー図である。
FIG. 6 is a cross-sectional flowchart showing a manufacturing process of a conventional plasma addressed display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラズマ基板 2 放電電極 3 バリヤリブ 4 フリットシール 5、21、35、45 中間基板 5A、21A、35A、45A ガラス基板 5B、21B、45B 薄板ガラス 6 液晶シール材 7 対向基板 8 スペーサ 9 データ電極 10 液晶層 11 プラズマ室 12 液晶セル 13 プラズマセル 14 隔壁 16 開口部 22 接合部 35B 誘電体材料 45C 非透光性材料 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma substrate 2 Discharge electrode 3 Barrier rib 4 Frit seal 5, 21, 35, 45 Intermediate substrate 5A, 21A, 35A, 45A Glass substrate 5B, 21B, 45B Thin glass 6 Liquid crystal sealing material 7 Opposite substrate 8 Spacer 9 Data electrode 10 Liquid crystal Layer 11 Plasma chamber 12 Liquid crystal cell 13 Plasma cell 14 Partition wall 16 Opening 22 Joint 35B Dielectric material 45C Non-translucent material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1333

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 中間基板の一方面側に対向基板が所定の
間隙を保って貼り合わされ、その間隙に液晶が充填され
てなる液晶セルと、前記中間基板の他方面側にプラズマ
基板が所定の間隙を保って貼り合わされ、その間隙にプ
ラズマガスが注入されてなるプラズマセルとを有し、前
記プラズマセル内のプラズマ放電により、前記液晶セル
内に充填された液晶のスイッチングを行うプラズマアド
レス表示装置において、 前記中間基板は、開口部を有する第1の基板と、少なく
とも前記開口部に設けられる誘電体材料と、を有するこ
とを特徴とするプラズマアドレス表示装置。
1. A liquid crystal cell in which a counter substrate is bonded to one surface of an intermediate substrate with a predetermined gap therebetween, and a liquid crystal is filled in the gap, and a plasma substrate is formed on the other surface of the intermediate substrate by a predetermined surface. A plasma address display device, comprising: a plasma cell bonded to a gap and having a plasma gas injected into the gap; and performing switching of liquid crystal filled in the liquid crystal cell by plasma discharge in the plasma cell. 2. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein the intermediate substrate includes a first substrate having an opening, and at least a dielectric material provided in the opening.
【請求項2】 前記第1の基板の板厚は、0.5mm〜
2.0mmであることを特徴とする請求項1記載のプラ
ズマアドレス表示装置。
2. The thickness of the first substrate is 0.5 mm to
2. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein the distance is 2.0 mm.
【請求項3】 前記中間基板は、前記第1の基板の前記
液晶セルに対向した面に第2の基板を貼り合わせて構成
されることを特徴とする請求項1または2記載のプラズ
マアドレス表示装置。
3. The plasma addressed display according to claim 1, wherein the intermediate substrate is formed by bonding a second substrate to a surface of the first substrate facing the liquid crystal cell. apparatus.
【請求項4】 前記第2の基板の板厚は、10μm〜5
0μmであることを特徴とする請求項3記載のプラズマ
アドレス表示装置。
4. The second substrate has a thickness of 10 μm to 5 μm.
4. The plasma addressed display device according to claim 3, wherein the thickness is 0 μm.
【請求項5】 前記中間基板は、前記第1の基板に対し
て前記第2の基板を複数貼り合わせて構成されることを
特徴とする請求項3または4記載のプラズマアドレス表
示装置。
5. The plasma addressed display device according to claim 3, wherein the intermediate substrate is formed by bonding a plurality of the second substrates to the first substrate.
【請求項6】 前記中間基板における画素部分に対応す
る領域以外は、遮光性を有していることを特徴とする請
求項1乃至5記載のプラズマアドレス表示装置。
6. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein a region other than a region corresponding to a pixel portion on said intermediate substrate has a light shielding property.
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