JP3341581B2 - Lead frame for semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、LOC、COL等
の半導体装置に用いる半導体装置用リードフレームの製
造方法に関するものである。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for manufacturing a lead frame for a semiconductor device used for a semiconductor device such as LOC and COL.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えばDRAM(Dynamic Random Acces
s Memory)においては、従来、1Mビットまではリード
フレームに半導体チップを搭載し、その端子パッドとリ
ードフレームのインナーリードとをボンディングワイヤ
で接続するパッケージ構造が採用されていた。しかし、
近年の大容量化に伴って、例えば、4MビットまではC
OL( Chip On Lead )構造、16MビットではLOC
(Lead On Chip)によるパッケージ構造が採用されてい
る。2. Description of the Related Art For example, DRAM (Dynamic Random Acceses)
Conventionally, a package structure in which a semiconductor chip is mounted on a lead frame up to 1 Mbit and terminal pads of the semiconductor chip are connected to inner leads of the lead frame by bonding wires is used. But,
With the recent increase in capacity, for example, C
OL (Chip On Lead) structure, LOC for 16Mbit
(Lead On Chip) package structure.
【0003】図2はLOCパッケージ構造の半導体装置
の一例を示す正面断面図である。LOCパッケージに用
いるリードフレーム1は、インナーリード2とこれに接
続されるアウターリード3、及びインナーリード2の半
導体チップ搭載予定領域2aに貼着された樹脂テープ4
をもって構成されている。インナーリード2及びアウタ
ーリード3は、エッチング或いはプレス加工により製作
される。また、樹脂テープ4には、例えばポリイミドフ
ィルムを用いることができ、その両面には熱可塑性樹脂
或いは熱硬化性樹脂による接着剤が塗布されている。こ
のテープを打抜金型を用いて所定のパターンに打ち抜い
た後、リードフレームの所定位置(インナーリード部)
に貼着される。FIG. 2 is a front sectional view showing an example of a semiconductor device having a LOC package structure. The lead frame 1 used for the LOC package includes an inner lead 2, an outer lead 3 connected to the inner lead 2, and a resin tape 4 attached to a semiconductor chip mounting area 2 a of the inner lead 2.
It is comprised with. The inner lead 2 and the outer lead 3 are manufactured by etching or pressing. For example, a polyimide film can be used for the resin tape 4, and an adhesive made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin is applied to both surfaces thereof. After punching this tape into a predetermined pattern using a punching die, a predetermined position of the lead frame (inner lead portion)
Affixed to
【0004】ここで、リードフレーム1を用いた半導体
装置の組み立てについて説明する。まず、リードフレー
ム1に対して半導体チップ5を位置決めした後、樹脂テ
ープ4に半導体チップ5を貼着する。ついで、ボンディ
ングツール(不図示)を用い、インナーリード2の所定
部分と半導体チップ5の端子パッド6をボンディングワ
イヤ7によって接続する。この後、インナーリード2及
び半導体チップ5を取り囲む形状にモールド樹脂8でモ
ールドすれば、半導体装置9が完成する。Here, the assembly of a semiconductor device using the lead frame 1 will be described. First, after positioning the semiconductor chip 5 with respect to the lead frame 1, the semiconductor chip 5 is attached to the resin tape 4. Then, a predetermined portion of the inner lead 2 is connected to the terminal pad 6 of the semiconductor chip 5 by a bonding wire 7 using a bonding tool (not shown). Thereafter, the semiconductor device 9 is completed by molding with a mold resin 8 into a shape surrounding the inner leads 2 and the semiconductor chip 5.
【0005】しかし、テープを用いた図2の構成のリー
ドフレームによれば、リードフレーム品種毎に専用の金
型及び張り付け装置を必要とする。また、テープが高価
なために、リードフレームが高価格になる。一方、図2
の樹脂テープ4に代え、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂
を用いた接着剤ワニスを塗布して塗膜にしたリードフレ
ームがある。接着剤ワニスの塗布には、ディスペンサや
スクリーン印刷が用いられる。接着剤ワニスには溶媒が
混じっているので、塗布後、所定の温度及び時間をかけ
て溶媒を蒸発させる。この接着剤ワニスを塗布したリー
ドフレームは、テープ方式に比べて以下のような特長が
ある。 (a)リード部等の必要部分のみに必要最小限の接着剤
ワニスを塗布することが可能であると共にポリイミドフ
ィルム等の基材が不要であり、テープ代及びテープ製造
費の分だけフレームを安くできる。 (b)ポリイミドフィルム等の基材を用いていないた
め、パッケージに含まれる高分子材料の量を少なくする
ことができる。これは吸湿量の低減につながり、はんだ
リフローによるパッケージクラックの発生を低減するこ
とができる。[0005] However, according to the lead frame having the configuration shown in FIG. 2 using a tape, a dedicated die and a bonding device are required for each lead frame type. Also, since the tape is expensive, the lead frame becomes expensive. On the other hand, FIG.
In place of the resin tape 4, there is a lead frame formed by applying an adhesive varnish using a thermoplastic resin or a thermosetting resin to form a coating film. A dispenser or screen printing is used for applying the adhesive varnish. Since a solvent is mixed in the adhesive varnish, the solvent is evaporated over a predetermined temperature and time after application. The lead frame to which the adhesive varnish is applied has the following features as compared with the tape system. (A) The required minimum amount of adhesive varnish can be applied only to necessary portions such as the lead portion, and a base material such as a polyimide film is not required. it can. (B) Since no base material such as a polyimide film is used, the amount of the polymer material contained in the package can be reduced. This leads to a reduction in the amount of moisture absorption, and can reduce the occurrence of package cracks due to solder reflow.
【0006】次に、接着剤ワニスを塗布するための塗布
装置10及びこれを用いた塗布方法について説明する。
熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いた接着剤ワニス
は、図2に示すように、塗布装置10を用いて一定間隔
に配設されたインナーリード11-1〜11-8(ここでは
説明の便宜上、8本にしているが、その数は任意であ
る)の各々の上面に対し、順次蒲鉾形に塗布され、塗膜
12が形成される(ステップ101)。Next, a coating apparatus 10 for coating an adhesive varnish and a coating method using the same will be described.
As shown in FIG. 2, an adhesive varnish using a thermoplastic resin or a thermosetting resin is formed of inner leads 11 -1 to 11 -8 arranged at regular intervals using a coating device 10 (here, the description will be omitted). (For convenience, the number is eight, but the number is arbitrary.) The upper surface of each of them is successively applied in a semi-cylindrical shape to form a coating film 12 (step 101).
【0007】塗布装置10はニードル13及びバレル1
4から成る移動機構と、コントローラ15で構成されて
いる。バレル14とコントローラ15の間はビニール、
ゴム等の素材を用いた可撓性を有するエアー配管16に
より接続されている。ニードル13は、例えばステンレ
ス材を用いて内径約0.34mmφ、外径0.64mm
φ、長さ約13mmに作られたパイプ状の形状を有し、
その先端から液状の接着剤ワニスが吐出される。このニ
ードル13に一体的に設けられているバレル14はポリ
プロピレン等の素材を用いて作られる。その容積は30
cc程度であり、接着剤ワニス14a(例えば、ポリエ
ーテルアミドイミド系の熱可塑性の樹脂)を内蔵する。
コントローラ15内のエアーポンプ(不図示)から供給
される空気圧によってニードル13に圧送される。コン
トローラ15は、塗膜12が適切な量になるように、接
着剤ワニスの吐出圧及び吐出時間を制御する回路及び機
構を備えている。なお、塗膜12を適切に塗布するため
には、更に、ニードル13のインナーリード11-1〜1
1-8との間隔、ニードル移動速度等の条件も最適にする
必要がある。このような条件が揃えば、インナーリード
11-1〜11-8の隣接間に接着剤ワニスがこぼれること
なく塗布することができる。The coating device 10 includes a needle 13 and a barrel 1
4 and a controller 15. Vinyl between barrel 14 and controller 15,
They are connected by a flexible air pipe 16 made of a material such as rubber. The needle 13 is made of, for example, stainless steel and has an inner diameter of about 0.34 mm and an outer diameter of 0.64 mm.
φ, has a pipe-like shape made about 13mm in length,
A liquid adhesive varnish is discharged from the tip. The barrel 14 provided integrally with the needle 13 is made of a material such as polypropylene. Its volume is 30
cc, and incorporates an adhesive varnish 14a (for example, a polyetheramideimide-based thermoplastic resin).
Air is supplied to the needle 13 by air pressure supplied from an air pump (not shown) in the controller 15. The controller 15 includes a circuit and a mechanism for controlling the discharge pressure and the discharge time of the adhesive varnish so that the coating film 12 has an appropriate amount. In order to apply the coating film 12 properly, the inner leads 11 -1 to 1 -1 of the needle 13 are further required.
It is necessary to optimize the conditions such as the interval from 1-8 and the needle moving speed. If such conditions are prepared, the adhesive varnish can be applied without spilling between the adjacent inner leads 11 -1 to 11 -8 .
【0008】このような塗布装置10を用いてインナー
リード11-1〜11-8の各々に塗膜12を塗布した後、
塗膜12に含有している溶媒を乾燥させる。この乾燥処
理は、所定の温度に加熱されたホットプレート上に数分
間セットすることにより行われる。After applying the coating film 12 to each of the inner leads 11 -1 to 11 -8 using such a coating device 10,
The solvent contained in the coating film 12 is dried. This drying process is performed by setting on a hot plate heated to a predetermined temperature for several minutes.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の接着剤
ワニスを塗布したリードフレームによれば、塗布を開始
する際、ニードル13の先端部に重力がかかり、また、
接着剤ワニスに表面張力が生じる等の理由により、図4
に示すように、ワニスの液だれ17が生じる。この液だ
れ17が生じたまま接着剤ワニスの吐出を開始すると、
最初に塗布するリード(例えば、インナーリード1
1-1)には〔設定した吐出量+液だれ17〕の量が塗布
されてしまい、図5の(a)に示すように、2番以降に
塗布するリードの塗膜12に比べ膜厚の大きい塗膜12
aが形成され、リード間の膜厚にばらつきを生じ、ボン
ディング時にボンディング不良が発生し易くなる。However, according to the conventional lead frame coated with the adhesive varnish, when the coating is started, gravity is applied to the tip of the needle 13, and
Due to the surface tension of the adhesive varnish, etc., FIG.
As shown in FIG. 7, a varnish dripping 17 occurs. When the discharge of the adhesive varnish is started while the dripping 17 is generated,
The lead to be applied first (for example, inner lead 1
1 -1 ), the amount of [set discharge amount + liquid dripping 17] is applied, and as shown in FIG. 5A, the film thickness is smaller than that of the lead coating film 12 applied after the second. Large coating film 12
a is formed, the film thickness between the leads varies, and a bonding failure easily occurs during bonding.
【0010】また、塗布量が多いと、図5の(b)のよ
うに両サイドに流れ出る液こぼれ18が生じる。或い
は、図5の(c)のように、リード間にブリッジ19が
形成され、連結状態が生じる。図5の(b),(c)の
ような状態が生じ、接着剤ワニスがリードの裏面に回り
込むと、ボンディング不良の原因になる。上記の問題は
塗布の開始リードだけでなく、塗布終了リードでも発生
する。すなわち、ワニスの慣性効果によって所定の量よ
りも多く排出される結果、塗布開始リードと同様の問題
が生じる。When the amount of application is large, a liquid spill 18 flowing to both sides occurs as shown in FIG. 5B. Alternatively, as shown in FIG. 5C, a bridge 19 is formed between the leads, and a connected state occurs. When the state as shown in FIGS. 5B and 5C occurs and the adhesive varnish goes around the back surface of the lead, it causes a bonding failure. The above problem occurs not only in the lead for starting the coating but also in the lead for finishing the coating. That is, as a result of the varnish being discharged more than a predetermined amount due to the inertia effect, the same problem as the coating start lead occurs.
【0011】そこで本発明は、接着剤ワニスの塗布開始
リード及び塗布終了リードにおける塗膜厚を他のリード
と同程度に行えるようにした半導体装置用リードフレー
ムを提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a lead frame for a semiconductor device in which a coating start lead and a coating end lead of an adhesive varnish can be made almost the same thickness as other leads.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、インナーリードの半導体チップの搭載
予定領域にディスペンサにより接着剤ワニスを塗布した
半導体装置用リードフレームにおいて、前記インナーリ
ードの内、前記接着剤ワニスの塗布開始リード及び塗布
終了リードの幅を他のリードの幅より広くしている。In order to achieve the above object, the present invention provides a lead frame for a semiconductor device in which an adhesive varnish is applied by a dispenser to an area where a semiconductor chip of an inner lead is to be mounted. Among them, the width of the lead for applying the adhesive varnish and the lead for applying the adhesive varnish are made wider than the width of the other leads.
【0013】この構成によれば、他のリードに比べて接
着剤ワニスの塗布量が多くなる塗布開始リード及び塗布
終了リードのリード幅が広いため、塗布した接着剤ワニ
スは幅方向に拡散する。したがって、塗布開始リード及
び塗布終了リードのリード幅を最適に設定すれば、他の
リードと略同一の膜厚値にすることができ、膜厚のリー
ド間におけるばらつきを極めて小さくすることができ
る。この結果、ボンディング時におけるボンディング不
良を生じ難くすることができる。[0013] According to this configuration, since the lead width of the coating start lead and the coating end lead in which the application amount of the adhesive varnish is larger than that of the other leads is wide, the applied adhesive varnish diffuses in the width direction. Therefore, if the lead widths of the coating start lead and the coating end lead are optimally set, the film thickness can be made substantially the same as the other leads, and the variation in the film thickness between the leads can be made extremely small. As a result, bonding failure during bonding can be made less likely.
【0014】前記塗布開始リード及び前記塗布終了リー
ドは、前記他のリードの幅の1.3倍以上にするのが適
している。この構成によれば、接着剤ワニスの塗布量が
多かった場合でも、余分なワニス量を拡大したリード面
が負担する結果、液だれ、ブリッジ、過膜厚等を生じさ
せることがない。It is preferable that the coating start lead and the coating end lead are at least 1.3 times the width of the other leads. According to this configuration, even when the amount of the adhesive varnish applied is large, the lead surface with the increased amount of the excess varnish bears, so that dripping, bridges, excessive film thickness, and the like do not occur.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を基に説明する。図1は本発明による半導体装置
用リードフレームの主要部の構成を示す斜視図である。
本発明においては、図1に示すように、例えば、リード
フレームが片側で5本のインナーリード20-1〜20-5
を有する場合、その内の接着剤ワニスの塗布開始インナ
ーリード20-1と塗布終了インナーリード20-5のみを
他のインナーリード20-3〜20-4に比べて幅広にして
いる。すなわち、塗布開始インナーリード20-1と塗布
終了インナーリード20-5の幅W1 は、他のインナーリ
ード20 -3〜20-4の幅W2 に対する比、W1 :W2 を
1.3:1以上に設定するようにしている。この値にす
れば、適正な塗膜厚を形成することができる。なお、リ
ードの厚みtは、全てのリードで同じである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
This will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a semiconductor device according to the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a main part of a lead frame for use.
In the present invention, as shown in FIG.
The frame has five inner leads 20 on one side.-1~ 20-Five
In case of having an inner
-Reed 20-1And inner end 20 of coating-FiveOnly
Other inner leads 20-3~ 20-FourMake it wider than
I have. That is, the coating start inner lead 20-1And application
End inner lead 20-FiveWidth W1Is the other inner
Code 20 -3~ 20-FourWidth WTwoTo the ratio, W1: WTwoTo
The ratio is set to 1.3: 1 or more. This value
Then, an appropriate coating thickness can be formed. Note that
The lead thickness t is the same for all leads.
【0016】このように、塗布開始インナーリード20
-1と塗布終了インナーリード20-5の幅W1 を他のイン
ナーリード20-3〜20-4に比べて幅広にしたことによ
り、塗布開始インナーリード20-1及び塗布終了インナ
ーリード20-5に多量の接着剤ワニスが塗布されても、
塗布後の接着剤ワニスはリード幅方向に拡散するので、
塗膜12aが他のリードに塗布される塗膜12と同程度
になり、膜厚は均一化される。このため、従来のような
ボンディング不良は生じ難くなる。As described above, the coating start inner lead 20
By -1 and a width W 1 of the coating end inner leads 20 -5 and wider than the other inner leads 20 -3 to 20 -4, coating start inner leads 20 -1 and coating end inner leads 20 -5 Even if a large amount of adhesive varnish is applied to
Since the adhesive varnish after application spreads in the lead width direction,
The coating film 12a becomes substantially the same as the coating film 12 applied to the other leads, and the film thickness is made uniform. For this reason, the conventional bonding failure is unlikely to occur.
【0017】[0017]
【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。こ
こでは、接着剤ワニスの塗布手段としてディスペンサ方
式を用いた。また、接着剤ワニスにはポリエーテルアミ
ドイミド系の熱可塑性の樹脂を用いた。この接着剤ワニ
スは25℃において約100Pa・s、固形分が約20
wt%である。この接着剤ワニスを容積約30ccのバ
レル14に充填し、密封した。Next, an embodiment of the present invention will be described. Here, a dispenser method was used as a means for applying the adhesive varnish. A polyether amide imide-based thermoplastic resin was used for the adhesive varnish. The adhesive varnish has a solid content of about 100 Pa · s at 25 ° C.
wt%. The adhesive varnish was filled into a barrel 14 having a volume of about 30 cc and sealed.
【0018】リードフレームは、厚みtが0.15mm
で材質がFe−42%Ni合金製の板材にエッチングを
施し、従来技術による「試料1」と本発明による「試料
2」を製作した。なおリード間隔は、全て0.3mmに
した。「試料1」は、図6に示すようにインナーリード
11-1〜11-5の全てが同一幅(0.3mm)の従来技
術により製作したものである。また、「試料2」は図1
に示すように本発明により製作したものであり、塗布開
始インナーリード20 -1と塗布終了インナーリード20
-5の幅W1 を0.5mmにし、他のインナーリード20
-3〜20-4の幅を0.3mmにして製作したものであ
る。なお、「試料1」及び「試料2」は、共に同一材
(Fe−42%Ni合金)を用いており、製作工程も同
一である。また、図1及び図6では、説明の便宜上、リ
ード数を5本にしているが、実際には1リードフレーム
中に320本程度を有している。The lead frame has a thickness t of 0.15 mm.
To etch plate material made of Fe-42% Ni alloy
And the “sample 1” according to the prior art and the “sample 1” according to the present invention.
2 ". Note that all lead intervals are 0.3mm
did. "Sample 1" has an inner lead as shown in FIG.
11-1~ 11-FiveAll conventional technologies with the same width (0.3mm)
It was made by art. "Sample 2" is shown in FIG.
Was manufactured according to the present invention as shown in
First Inner Lead 20 -1And inner end 20 of coating
-FiveWidth W1To 0.5 mm and the other inner leads 20
-3~ 20-FourWith a width of 0.3 mm
You. “Sample 1” and “Sample 2” are the same material.
(Fe-42% Ni alloy) and the manufacturing process is the same.
One. 1 and 6, for convenience of explanation,
Although the number of cables is set to 5, actually one lead frame
There are about 320 in them.
【0019】この2種類のリードフレームのインナーリ
ード部に、図3に示した塗布装置10を用いて接着剤ワ
ニスを塗布した。この塗布に際しては、ニードル13を
リードフレームのインナーリード20-1〜20-5の一方
から他方に向けて、連続的に吐出及び移動(リード間で
も停止させない)させながら行った。また、塗布条件と
しては、吐出圧を3.5kg/cm2 、ニードル移動速
度を10mm/s、リードフレームとニードル先端間の
距離を0.15mmにした。この条件は溶媒乾燥後の塗
膜12の厚みの目標値を30μm程度にした場合であ
る。したがって、塗膜厚の目標値が変われば、塗布条件
も変える必要がある。溶媒乾燥に際しては3台のホット
プレートを用いて行った。各々のホットプレートの加熱
温度は100℃、200℃、300℃に設定し、塗膜1
2を形成した後のリードフレームを100℃→200℃
→300℃の順に各5分間づつ搬送させるものとした。An adhesive varnish was applied to the inner lead portions of the two types of lead frames using the application device 10 shown in FIG. In this application, the needle 13 was continuously discharged and moved from one side of the inner leads 20 -1 to 20 -5 of the lead frame toward the other (without stopping between the leads). The application conditions were a discharge pressure of 3.5 kg / cm 2 , a needle moving speed of 10 mm / s, and a distance between the lead frame and the tip of the needle of 0.15 mm. This condition is when the target value of the thickness of the coating film 12 after drying the solvent is set to about 30 μm. Therefore, if the target value of the coating film thickness changes, the coating conditions also need to be changed. Solvent drying was performed using three hot plates. The heating temperature of each hot plate was set at 100 ° C., 200 ° C., and 300 ° C.
100 ° C. → 200 ° C. after lead 2 is formed
→ Each of them was conveyed for 5 minutes in the order of 300 ° C.
【0020】以上のようにして、100枚のリードフレ
ームに対して接着剤ワニスを塗布し、夫々のリードの膜
厚を測定した。塗膜厚の測定には市販の焦点顕微鏡(例
えば、最高0.1μmまでの差を検出できる精度を有す
るもの)を用い、塗膜表面と塗膜12近傍のリード(F
e−42%Ni合金)表面との高低差を求めたところ、
表1(「試料1」に関するもの)及び表2(「試料2」
に関するもの)に示す結果が得られた。As described above, the adhesive varnish was applied to 100 lead frames, and the thickness of each lead was measured. The thickness of the coating film is measured using a commercially available focus microscope (for example, one having an accuracy capable of detecting a difference of up to 0.1 μm), and a lead (F) near the coating film surface and the coating film 12 is used.
e-42% Ni alloy)
Table 1 (for "Sample 1") and Table 2 (for "Sample 2")
) Were obtained.
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】表1における従来のリードフレームにおい
ては、最小値で9.9μm(38.9μm−29.0μ
m=9.9μm)の高低差、平均値で12.6μm(4
3.1μm−30.5μm=12.6μm)の高低差で
ある。また、最大値では23.9μm(55.6μm−
31.7μm=23.9μm)である。このように、従
来のリードフレームでは大きな膜厚ばらつきが見られ
る。In the conventional lead frame shown in Table 1, the minimum value is 9.9 μm (38.9 μm−29.0 μm).
m = 9.9 μm), and 12.6 μm (4
(3.1 μm−30.5 μm = 12.6 μm). The maximum value is 23.9 μm (55.6 μm−
31.7 μm = 23.9 μm). As described above, a large thickness variation is observed in the conventional lead frame.
【0023】[0023]
【表2】 [Table 2]
【0024】一方、表2に示すように、本発明によるリ
ードフレームは、最小値で1.2μm(30.1μm−
28.9μm=1.2μm)の高低差、平均値で0.8
μm(31.3μm−30.5μm=0.8μm)の高
低差である。また、最大値では1.3μm(32.9μ
m−31.6μm=1.3μm)である。このように、
本発明のリードフレームは従来のリードフレームに比
べ、高低差(リード間の膜厚差)を極めて小さくするこ
とができた。この結果、ワイヤボンディング工程におけ
るボンディング不良の発生を防止することができる。On the other hand, as shown in Table 2, the lead frame according to the present invention has a minimum value of 1.2 μm (30.1 μm-
Height difference of 28.9 μm = 1.2 μm), average 0.8
μm (31.3 μm−30.5 μm = 0.8 μm). The maximum value is 1.3 μm (32.9 μm).
m-31.6 μm = 1.3 μm). in this way,
The lead frame of the present invention was able to make the difference in height (difference in film thickness between leads) extremely small as compared with the conventional lead frame. As a result, it is possible to prevent occurrence of bonding failure in the wire bonding step.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上説明した通り、本発明は、インナー
リードの半導体チップの搭載予定領域にディスペンサに
より接着剤ワニスを塗布した半導体装置用リードフレー
ムにおいて、インナーリードの内、接着剤ワニスの塗布
開始リード及び塗布終了リードの幅を他のリードの幅よ
り広くしたため、接着剤ワニスの余剰分は幅方向に拡散
する。したがって、リード間の膜厚のばらつきを極めて
小さくすることができ、ボンディング時におけるボンデ
ィング不良を生じ難くすることができる。As described above, according to the present invention, the inner
Dispenser for lead semiconductor chip mounting area
Lead frame for semiconductor device coated with adhesive varnish
In the system, the width of the adhesive varnish application start lead and the application ending lead among the inner leads is made wider than the width of the other leads, so that the excess of the adhesive varnish diffuses in the width direction. Therefore, the variation in the film thickness between the leads can be made extremely small, and the bonding failure at the time of bonding can be made hard to occur.
【図1】本発明の半導体装置用リードフレームのインナ
ーリード部の詳細構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a detailed configuration of an inner lead portion of a lead frame for a semiconductor device of the present invention.
【図2】本発明のリードフレーム製造方法におけるワニ
ス塗布工程で用いられる塗布装置の模式的構成図であ
る。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a coating device used in a varnish coating step in the lead frame manufacturing method of the present invention.
【図3】LOCパッケージ構造の半導体装置の一例を示
す正面断面図である。FIG. 3 is a front sectional view showing an example of a semiconductor device having a LOC package structure.
【図4】従来のリードフレームにおいてワニスの液だれ
が生じた様子を示すニードル先端部の正面図である。FIG. 4 is a front view of a needle tip showing a state in which varnish dripping has occurred in a conventional lead frame.
【図5】従来のリードフレームにおける塗布不良の例を
示す正面図であり、(a)は特定のリードの塗布量が多
いために塗膜に高低差を生じた状態を示し、(b)はリ
ードのサイドに液こぼれが生じた状態を示し、(c)は
リード間にブリッジが形成された状態を示している。FIGS. 5A and 5B are front views showing examples of coating defects in a conventional lead frame, wherein FIG. 5A shows a state in which a coating film has a difference in height due to a large coating amount of a specific lead, and FIG. A state in which liquid spills on the side of the lead is shown, and FIG. 3C shows a state in which a bridge is formed between the leads.
【図6】従来のリードフレームにおけるインナーリード
部の詳細を示す拡大斜視図である。FIG. 6 is an enlarged perspective view showing details of an inner lead portion of a conventional lead frame.
1 リードフレーム 10 塗布装置 11,11-1〜11-5,20-3〜20-4 インナーリー
ド 12 塗膜 13 ニードル 20-1 塗布開始インナーリード 20-5 塗布終了インナーリードDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lead frame 10 Coating device 11, 11 -1 to 11 -5 , 20 -3 to 20 -4 Inner lead 12 Coating 13 Needle 20 -1 Coating start inner lead 20 -5 Coating end inner lead
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−218111(JP,A) 特開 昭62−296541(JP,A) 特開 平6−291156(JP,A) 国際公開95/29506(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50 H01L 21/52 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-5-218111 (JP, A) JP-A-62-296541 (JP, A) JP-A-6-291156 (JP, A) International publication 95/29506 (WO, A1) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 23/50 H01L 21/52
Claims (2)
定領域にディスペンサにより接着剤ワニスを塗布した半
導体装置用リードフレームにおいて、 前記インナーリードの内、前記接着剤ワニスの塗布開始
リード及び塗布終了リードの幅を他のリードの幅より広
くしたことを特徴とする半導体装置用リードフレーム。1. A lead frame for a semiconductor device in which an adhesive varnish is applied to a region where a semiconductor chip of an inner lead is to be mounted by a dispenser , wherein a width of a lead for starting application of the adhesive varnish and a lead for ending application of the adhesive varnish are included. A lead frame for a semiconductor device, which is wider than other leads.
ードは、前記他のリードの幅の1.3倍以上にすること
を特徴とする請求項1記載の半導体装置用リードフレー
ム。2. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein the application start lead and the application end lead are at least 1.3 times as wide as the other leads.
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KR1019970024122A KR100474843B1 (en) | 1996-06-12 | 1997-06-11 | Lead frame, method of making the same, and semiconductor device using the same |
US08/873,704 US6107675A (en) | 1996-06-12 | 1997-06-12 | Lead frame |
Applications Claiming Priority (1)
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- 1996-06-12 JP JP15120796A patent/JP3341581B2/en not_active Expired - Fee Related
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