JP3340013B2 - Defect detection method for coverlay film - Google Patents

Defect detection method for coverlay film

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JP3340013B2
JP3340013B2 JP01629396A JP1629396A JP3340013B2 JP 3340013 B2 JP3340013 B2 JP 3340013B2 JP 01629396 A JP01629396 A JP 01629396A JP 1629396 A JP1629396 A JP 1629396A JP 3340013 B2 JP3340013 B2 JP 3340013B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はカバーレイフィルム
の欠陥検出法、特にはプリント回路などに使用されるポ
リイミド系カバーレイフィルムの異物、気泡、糊欠、ゲ
ル等欠陥の検出方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for detecting defects in a coverlay film, and more particularly to a method for detecting defects such as foreign matter, bubbles, glue chips, and gel in a polyimide coverlay film used for a printed circuit or the like. .

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、エレクトロニクス製品の軽量化、
小型化、薄肉化、高機能化に伴い、プリント基板の需要
が高まり、中でもフレキシブルプリント基板は、使用範
囲が広がり、ますます需要が伸びている。最近では、プ
リント基板の高機能化、ファインパターン化が進み、フ
レキシブル基板の表面欠陥に対する要求は、益々厳しく
なってきており、特にカバーレイフィルムの異物、気
泡、ピンホール、糊欠、ゲル等の欠陥はファインパター
ンプリント基板に対し、埋込不良、絶縁不良、ピール強
度、耐折特性の低下など製品不良の原因となっている。
そのため、これらの欠陥を検出する必要があるが、従来
この種の検査は人間の肉眼で観察する目視検査で行なわ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, weight reduction of electronic products,
With the miniaturization, thinning, and enhancement of functions, demand for printed circuit boards is increasing. Among them, flexible printed circuit boards are used in a wider range, and demand is growing more and more. In recent years, the functionalities of printed circuit boards have become more sophisticated and fine patterns have been developed, and the demand for surface defects on flexible substrates has become more and more severe. In particular, foreign substances, air bubbles, pinholes, glue defects, gels, etc. Defects cause product defects, such as poor embedding, poor insulation, peel strength, and reduced folding endurance, for fine pattern printed circuit boards.
Therefore, it is necessary to detect these defects. Conventionally, this kind of inspection is performed by a visual inspection for observing with the naked eye of a human.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、目視検査に
は、欠陥判定基準に個人差があり、集中力が持続できず
欠陥を見逃すことが多いので、省力化のためにも機械的
にインラインで検査し、欠陥位置にマーキングするなど
の方法の確立が望まれている。
However, in the visual inspection, there is an individual difference in the defect judgment criteria, and the concentration cannot be maintained, and the defect is often overlooked. It is desired to establish a method of inspecting and marking a defect position.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決したカバーレイフィルムの欠陥検出法
に関するもので、これはカバーレイフィルムの製造工程
において、ポリイミドフィルムに接着剤を塗工し、ドラ
イヤーで乾燥後、離型材とラミネートする前に、ラミネ
ートロール前の 2,000mm以内の欠陥検出位置で、欠陥検
出部位のロール間隔を100〜400mm とし、カバーレイフ
ィルムのポリイミドフィルム側から、波長0.3〜1.1μm
の光を照射し、透過光を解像度がカバーレイフィルムの
幅方向に対し、1mmあたり5ビット以上の密度である
CDラインセンサーの画素子で受光し、光量によって生
ずる電圧変化を信号処理し、信号レベルが予め設定した
明暗の基準値以上、あるいは基準値以下である時に、気
泡、異物、ゲル、糊欠などを欠陥として判別し、検出
判別された欠陥を、カバーレイフィルムの判別位置
のエッジ部にマーキングすることを特徴とするカバーレ
イフィルムの欠陥検出法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for detecting a defect of a cover lay film which solves such disadvantages and problems, and applies an adhesive to a polyimide film in a cover lay film manufacturing process. and Engineering, dried with a drier, before laminating the release agent, lamination
At a defect detection position within 2,000 mm before
The roll interval of the projecting part is 100 to 400 mm, and the wavelength is 0.3 to 1.1 μm from the polyimide film side of the coverlay film.
Of transmitted light and the resolution of transmitted light
C with a density of 5 bits or more per mm in the width direction
Light is received by the image element of the CD line sensor, and the voltage change caused by the amount of light is signal-processed. Identify and detect defects
The detected defect is determined by the position of the coverlay film.
This is a method for detecting a defect in a cover lay film, characterized by marking an edge portion of the cover lay film.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】図1(a)は本発明の欠陥検出法
における部品配置を示したものであり、図1(b)は部
品構成を示したものである。図1(a)中、1は接着剤
塗工ポリイミドフィルム(矢印側はポリイミドフィルム
側で、反対側は接着剤塗工層側を示す)、2は光源、3
はCCDカメラ、4は離型材、5はラミネートロール、
6はエンコーダ、7はマーキング装置を示したものであ
る。本発明のカバーレイフィルムの欠陥検出法は、接着
剤を塗工、乾燥したカバーレイフィルム1のポリイミド
フィルム側から光を当て、透過光をCCDラインセンサ
ー上の画素子で受光し、光量によって生ずる電圧変化を
信号処理し、信号レベルが予め設定してある明暗基準値
以上、あるいは基準値以下のときに欠陥があると判定す
るのであるが、本発明では透過型の欠陥検出装置が用い
られるので、接着剤に埋もれた異物や接着剤ゲルなどの
検出し難い欠陥も検出できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1A shows a component arrangement in the defect detection method of the present invention, and FIG. 1B shows a component configuration. In FIG. 1A, reference numeral 1 denotes an adhesive-coated polyimide film (the arrow side indicates the polyimide film side, and the opposite side indicates the adhesive-coated layer side);
Is a CCD camera, 4 is a release material, 5 is a laminating roll,
Reference numeral 6 denotes an encoder, and 7 denotes a marking device. In the method for detecting a defect of a coverlay film according to the present invention, light is applied from the polyimide film side of the coverlay film 1 coated with an adhesive and dried, and transmitted light is received by an image element on a CCD line sensor, and is generated by the amount of light. The voltage change is signal-processed, and it is determined that there is a defect when the signal level is equal to or higher than a preset light-dark reference value or equal to or lower than the reference value. However, in the present invention, a transmission-type defect detection device is used. It is also possible to detect hard-to-detect defects such as foreign substances buried in the adhesive and the adhesive gel.

【0006】本発明の方法におけるCCDラインセンサ
ーの解像度は、カバーレイフィルムの幅方向に対し1mm
あたり5ビット以上の密度がよく、これが、5ビット未
満では充分な解像度が得られない。これにより直径 0.2
mm程度までの微小な欠陥が検出可能であればよい。図2
は図1(a)における光源2とCCDカメラ3の詳細図
で、9はレンズ、10はCCDラインセンサー、11は接着
剤層の欠陥を示す。カバーレイフィルム1のポリイミド
フィルム側(矢印側)から光を当てる光源2としては、
ラインセンサーの感度波長、走査周期を考慮して例え
ば、高周波(20kHz 以上)の蛍光灯やハロゲンランプを
光源とした電送ライト、レーザーなどを光源とした光フ
ァイバーを横一列に並べたファイバーライトなどが好適
に用いられる。光源には、光の指向性を高める為に集光
レンズを取り付けてもよい。この際、光の波長は 0.3〜
1.1μmとする光源を用いるとよい。カバーレイフィル
ムの欠陥検出位置は、フィルムの表面欠陥が発生する可
能性のある工程の後方に設置するのが適当で、接着剤を
塗工し、インラインドライヤーで乾燥後に、離型材とラ
ミネートするラミネートロール前の 2,000mm以内、好ま
しくは 1,500mm以内がよく、これによって検査後におけ
るカバーレイフィルムへの異物混入や欠陥発生を防ぐこ
とができる。欠陥検出部位のロール間隔は 100〜400mm
、好ましくは 100〜300mm とすれば、フィルムのシワ
やバタつき、蛇行を抑え、検出部を安定化させ、欠陥検
出時の誤動作をなくすことができる。なお、このロール
間隔は欠陥検出装置をはさむ前後のロールどうしの距離
である。また、上記した方法で欠陥を検出したのち、検
出位置のフィルムのエッジ部にラベラーやインクジェッ
ター、レーザーなどを設けて、マーキングすれば欠陥を
インラインで連続的に検出でき、また、検出位置のフィ
ルムのエッジ部にラベリングすれば、ラベルの粘着剤が
銅箔に転写することもない。
The resolution of the CCD line sensor in the method of the present invention is 1 mm with respect to the width direction of the coverlay film.
A density of 5 bits or more per pixel is good, and if it is less than 5 bits, sufficient resolution cannot be obtained. This gives a diameter of 0.2
It suffices if a minute defect up to about mm can be detected. FIG.
Is a detailed view of the light source 2 and the CCD camera 3 in FIG. 1A, 9 is a lens, 10 is a CCD line sensor, and 11 is a defect of the adhesive layer. As the light source 2 for applying light from the polyimide film side (arrow side) of the coverlay film 1,
Considering the sensitivity wavelength and scanning cycle of the line sensor, for example, a transmission light using a high-frequency (20 kHz or more) fluorescent lamp or a halogen lamp as a light source, a fiber light using an optical fiber using a laser or the like as a light source, and the like are preferable. Used for A condenser lens may be attached to the light source to increase the directivity of light. At this time, the wavelength of light is 0.3 ~
It is preferable to use a light source of 1.1 μm. It is appropriate to set the defect detection position of the coverlay film behind the process where surface defects of the film may occur, apply an adhesive, dry with an inline dryer, and laminate with the release material. It is better to be 2,000 mm or less, preferably 1,500 mm before the roll, so that it is possible to prevent foreign matter from entering the cover lay film and the occurrence of defects after the inspection. Roll spacing between defect detection sites is 100 to 400 mm
When the thickness is preferably 100 to 300 mm, wrinkles, fluttering and meandering of the film can be suppressed, the detecting section can be stabilized, and malfunction at the time of detecting a defect can be eliminated. The roll interval is the distance between the rolls before and after the defect detection device is sandwiched. In addition, after detecting a defect by the method described above, a labeler, an ink jetter, a laser or the like is provided at the edge of the film at the detection position, and if the marking is performed, the defect can be detected continuously in-line, and the film at the detection position can be detected. If the labeling is performed on the edge portion, the adhesive of the label will not be transferred to the copper foil.

【0007】つぎに本発明のカバーレイフィルムの欠陥
検出法に用いる部品構成について説明する。これは図1
(b)に示したようにCCDラインセンサー、透過光微
分・2値化処理回路、欠陥判定回路、シフトレジスタ、
エンコーダー、マーキング装置からなり、検査するカバ
ーレイフィルムの幅方向に対し、1列に並んだ画素子
が、レンズで集光した光量の異なる透過光を受光し、画
素子は光を受けて発生する電圧を画素データ信号として
出力するので、これを画像処理装置を通して微分処理、
2値化処理を施す。またこの際、信号のS/N(Signal
/Noise)比を上げて欠陥の判定を容易にする。また図3
はこの部品構成による信号処理の一例の微分処理、2値
化処理の工程を示したもので、(a)に示すビデオ信号
の暗欠陥13、明欠陥14はエッジ部12と共に微分処理され
て(b)に示す微分波形となり、2値化処理されて
(c)に示す2値化波形の信号が得られるので両端のエ
ッジ部の信号を除いた2つが欠陥として取り出される。
この際、信号とノイズの差が小さいとノイズを拾うこと
があるので好ましくない。欠陥信号は判定回路で予め調
整された明暗の基準値(異物がない時のカバーレイフィ
ルムの光量)と比較され、これが基準値を超えた場合お
よび基準値以下のときは欠陥として判定され、この結果
がマーキングされる。また、ピンホールがあると、基準
値を超えた値が検出され、異物がある場合は基準値より
低い値が検出される。
Next, a description will be given of a component configuration used in the method for detecting a defect of a coverlay film of the present invention. This is Figure 1
As shown in (b), a CCD line sensor, a transmitted light differentiation / binarization processing circuit, a defect determination circuit, a shift register,
The picture elements, which consist of an encoder and a marking device, are arranged in a line in the width direction of the coverlay film to be inspected. The picture elements receive different amounts of transmitted light condensed by the lens, and the picture elements are generated by receiving the light. Since the voltage is output as a pixel data signal, this is differentiated through an image processing device,
A binarization process is performed. At this time, the signal S / N (Signal
/ Noise) ratio to facilitate defect determination. FIG.
FIG. 5 shows the steps of differential processing and binarization processing as an example of signal processing by this component configuration. The dark defect 13 and the light defect 14 of the video signal shown in FIG. The waveform becomes a differential waveform shown in b) and is binarized to obtain a signal of the binarized waveform shown in (c). Therefore, two signals excluding the signals at the edges at both ends are taken out as defects.
At this time, if the difference between the signal and the noise is small, noise may be picked up, which is not preferable. The defect signal is compared with a light / dark reference value (light amount of the cover lay film when there is no foreign substance) adjusted in advance by a judgment circuit, and when this exceeds the reference value or is less than the reference value, it is judged as a defect. The result is marked. If there is a pinhole, a value exceeding the reference value is detected, and if there is a foreign substance, a value lower than the reference value is detected.

【0008】なお、製品エッジ部は接着剤の塗工ムラに
より検出信号の乱れることがあり、また多少フィルムが
蛇行することもあるので、エッジ部から10mmの範囲はマ
スキングして検査対象から外すのがよく、従ってエッジ
部の信号を外して基準値と比較すればよい。欠陥信号は
上記したように判定回路で予め調整された明暗の基準値
と比較され、明の基準値以上の信号、暗の基準値以下の
信号が、走査周期中に計測された場合欠陥と判別され、
マーキング装置にエンコーダーからの信号でタイミング
を合わせて出力されマーキングされる。製品の欠陥位置
にマーキングするマーキング装置としてはラベラー、イ
ンクジェッター、レーザーなどが例示されるが、マーキ
ングは、製品に傷をつけたり汚したりしないように、カ
バーレイフィルムのエッジ部にするのがよい。
In addition, since the detection signal may be disturbed at the edge of the product due to uneven coating of the adhesive and the film may meander a little, a range of 10 mm from the edge is masked and excluded from inspection. Therefore, it is sufficient to remove the signal at the edge portion and compare it with the reference value. The defect signal is compared with the light / dark reference value adjusted in advance by the determination circuit as described above, and if a signal that is higher than the light reference value and a signal that is lower than the dark reference value are measured during the scanning cycle, it is determined to be defective. And
The timing is output to the marking device with the signal from the encoder and the marking is performed. Labelers, ink jetters, lasers, and the like are exemplified as marking devices for marking defective positions of the product. The marking is preferably made at the edge of the coverlay film so as not to damage or stain the product.

【0009】この走査周期は、次式によって算出され
る。 走査周期(秒)=最小欠点径(mm)/ラインスピード
(mm/秒) 走査周期は0.25〜10m 秒の範囲に設定すればよく、一般
に検知漏れを防ぐには算定値より小さめの範囲に設定す
るのがよい。最小欠点径は、検出しなければならない最
小の欠点径を表わす。ラインスピードは50〜 400mm/秒
とするのが好ましい。本発明で検出されるカバーレイフ
ィルムの欠陥には種々のものがあり、例えば気泡やピン
ホールは透過性の欠陥で、カバーレイ地のベースライン
より光量が多くなり、明側の基準値を超えると欠陥と判
定される。また、異物やゲルは遮光性の欠陥であり、カ
バーレイ地のベースラインより光量が低下して暗側の基
準値を下廻るとき欠陥と判定される。
This scanning cycle is calculated by the following equation. Scanning cycle (sec) = minimum defect diameter (mm) / line speed (mm / sec) Scanning cycle should be set in the range of 0.25 to 10msec. Generally, set to a value smaller than the calculated value to prevent detection omission. Good to do. The minimum defect diameter represents the minimum defect diameter that must be detected. The line speed is preferably between 50 and 400 mm / sec. There are various types of defects in the cover lay film detected by the present invention, for example, bubbles and pinholes are permeable defects, the amount of light is larger than the baseline of the cover lay ground, and exceeds the reference value on the light side Is determined to be defective. In addition, the foreign matter or the gel is a light-shielding defect, and is determined to be a defect when the amount of light is lower than the base line of the coverlay and falls below the reference value on the dark side.

【0010】なおカバーレイフィルムはポリイミドフィ
ルムに接着剤を塗工し、乾燥後に離型材とラミネートす
ることによって作られる。ポリイミドフィルムは市販品
でよく、厚さが12.5〜 125μm、幅 500〜1,016mm が一
般的であるが、吸湿し易いため事前に乾燥しておくのが
よい。
The cover lay film is produced by applying an adhesive to a polyimide film, drying and laminating the polyimide film with a release material. The polyimide film may be a commercially available product, which generally has a thickness of 12.5 to 125 μm and a width of 500 to 1,016 mm, but is preferably dried in advance because it easily absorbs moisture.

【0011】また、接着剤は、接着強度が高く、かつ半
田などの使用にも耐える耐熱性が要求されることから、
エポキシ樹脂、NBR−フェノール系樹脂、フェノール
−ブチラール系樹脂、エポキシ−NBR系樹脂、エポキ
シ−ポリエステル系樹脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、
エポキシ−アクリル系樹脂、アクリル系樹脂ポリアミド
−エポキシ−フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、シ
リコーン系樹脂などが例示されるが、この樹脂層の厚さ
は乾燥時5〜30μmが好ましい。
Further, since the adhesive is required to have high adhesive strength and heat resistance to withstand the use of solder or the like,
Epoxy resin, NBR-phenol resin, phenol-butyral resin, epoxy-NBR resin, epoxy-polyester resin, epoxy-nylon resin,
Examples thereof include an epoxy-acrylic resin, an acrylic resin, a polyamide-epoxy-phenolic resin, a polyimide resin, and a silicone resin. The thickness of this resin layer is preferably 5 to 30 μm when dried.

【0012】離型材としてはポリエチレンフィルム、ポ
リプロピレンフィルム、TPXフィルムおよびシリコー
ン系として、シリコーン離型剤付きポリエステルフィル
ム、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ンのフィルムコート紙などの離型紙あるいは離型性フィ
ルムが例示されるが、これらはポリイミドフィルムとの
接着性を改良するために低温プラズマ処理、コロナ放電
処理などの表面処理を行なったものを使用してもよい。
Examples of the release material include a release film or a release film such as a polyethylene film, a polypropylene film, a TPX film, and a silicone film, such as a polyester film with a silicone release agent, or a film coated with a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene. However, these may be subjected to a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a corona discharge treatment in order to improve the adhesion to the polyimide film.

【0013】[0013]

【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例について説明
するがこれらは本発明を限定するものではない。 実施例1 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
[東レ・デュポン(株)製商品名]を、電極4本を円筒
状に配置し、電極の外側40mmの距離でフィルムを電極の
外周に50m/分で移動させる連続プラズマ処理装置を用
いて、真空度 0.1Torr、酸素流量 1.0 L/分、印加電圧
2kv、周波数 110kHz 、電力30kwの条件で低温プラズマ
処理を行なった。
EXAMPLES Next, examples of the present invention and comparative examples will be described, but these do not limit the present invention. Example 1 Kapton (trade name, manufactured by Dupont Toray Co., Ltd.), a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm, was placed in a cylindrical shape with four electrodes, and the film was placed on the outer periphery of the electrodes at a distance of 40 mm outside the electrodes. Using a continuous plasma processing apparatus moved at 50 m / min, low-temperature plasma processing was performed under the conditions of a vacuum degree of 0.1 Torr, an oxygen flow rate of 1.0 L / min, an applied voltage of 2 kv, a frequency of 110 kHz, and a power of 30 kw.

【0014】ついで図1(a)に示す部品配置で、ポリ
イミドフィルムにライン速度5m/分でエポキシーNB
R系接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるようにロール
コーターで塗工し、インラインドライヤーで接着剤の溶
媒を50〜 140℃で乾燥除去し、接着剤を半硬化させ、イ
ンラインドライヤー出口からラミネートロール手前 500
mmの点で、カバーレイフィルムの欠陥検査を行なった。
欠陥検出装置は図2に示す簡易欠陥検出装置・LS−30
[竹中システム機器(株)製商品名]を用い、光源2と
しては高周波蛍光灯を用い、フィルム透過光(感度波長
0.35〜 0.6μm)をCCDラインセンサー10上の画素子
にレンズ9を通して集光し、透過光の変化を検出した。
この際、カバーレイフィルム1の 520mm幅に対し、画素
数 2,048ビットのCCDラインセンサー10を製品幅方向
に2台並べ、1mm当りの画素数を 7.9ビット、走査周期
2msecで欠陥検出を行なった(ただし、エッジ部から10
mmはマスキングした)。
Next, with the parts arrangement shown in FIG. 1A, epoxy-NB was applied to the polyimide film at a line speed of 5 m / min.
The R-based adhesive is coated with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, and the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an in-line dryer, and the adhesive is semi-cured. Before the laminating roll 500
The coverlay film was inspected for defects in mm.
The defect detector is a simple defect detector shown in Fig. 2 ・ LS-30
[Takenaka System Equipment Co., Ltd.], a high-frequency fluorescent lamp as the light source 2, and light transmitted through the film (sensitivity wavelength
(0.35 to 0.6 μm) was condensed on the image element on the CCD line sensor 10 through the lens 9 to detect a change in transmitted light.
At this time, two CCD line sensors 10 each having a 2,048-bit number of pixels were arranged in the product width direction with respect to the 520 mm width of the cover lay film 1, and the number of pixels per 1 mm was 7.9 bits, and a defect was detected at a scanning cycle of 2 msec ( However, 10
mm was masked).

【0015】この場合の検出部のロール間隔は 200mm
で、フィルムのシワ、バタつき、蛇行はなく安定してい
た。検出された欠陥は、フィルムをラミネートロール
(ロール温度 100℃、圧力2.0kg/cm)でポリエチレンフ
ィルムにシリコーン系離型剤をコーティングしたシリコ
ーン系離型材と熱圧着して製品とした後、製品欠陥位置
のフィルムのエッジ部にラベラーによりマーキングし
た。検出された欠陥数を表1に示した。ついでこのカバ
ーレイ製品を 100m巻取り、スリット工程で従来通り目
視で検査して欠陥数を求め、欠陥検出装置で検出された
欠陥数と比較して見逃した欠陥数を求め、また、非欠陥
箇所を欠陥として検出した検出ミス数を求めたところ、
表1に示した結果が得られた。その結果、見逃しなく欠
陥が検出され、検出ミスもなかった。
In this case, the roll interval of the detecting section is 200 mm.
The film was stable without wrinkles, flutter, or meandering. Detected defects were obtained by thermocompression bonding the film to a silicone-based release material coated with a silicone-based release agent on a polyethylene film using a laminating roll (roll temperature 100 ° C, pressure 2.0 kg / cm). The edge of the film at the position was marked by a labeler. Table 1 shows the number of detected defects. Next, this coverlay product is wound 100m, and the number of defects is determined by visual inspection in the slitting process as before, and the number of missed defects is compared with the number of defects detected by the defect detection device. When the number of detection errors that detected
The results shown in Table 1 were obtained. As a result, the defect was detected without being overlooked, and there was no detection error.

【0016】実施例2 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理したのち、ライン速度5m/分でエポキシ
−NBR系接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるように
ロールコーターで塗工し、インラインドライヤーで接着
剤の溶媒を50〜 140℃で乾燥除去し、接着剤を半硬化さ
せ、インラインドライヤー出口からラミネートロール手
前 1,000mmの地点でカバーレイフィルムの欠陥検査を行
なった。
Example 2 Kapton (described above) of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm was subjected to low-temperature plasma treatment by the same continuous plasma processing apparatus as in Example 1, and then an epoxy-NBR adhesive was applied at a line speed of 5 m / min. Is coated with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an inline drier, and the adhesive is semi-cured. At the point of mm, the coverlay film was inspected for defects.

【0017】欠陥検出装置は実施例1に使用した簡易欠
陥検出装置・LS−30(前出)とし、1mmあたりの画素
数を 7.9ビット、走査周期2msecで欠陥検出を行った。
また、検出部のロール間隔を 300mmとしたが、フィルム
のシワ、バタつき、蛇行はなく安定していた。検出され
た欠陥は、フィルムをラミネート(ロール温度 100℃、
圧力2.0kg/cm)でシリコーン系離型材(前出)と熱圧着
して製品とした後、製品欠陥位置のフィルムのエッジ部
にラベラーによりマーキングした。検出された欠陥数を
表1に示した。このカバーレイ製品を 100m巻取り、ス
リット工程で従来通り目視で検査し、見逃した欠陥数お
よび検出ミス数を求めたところ、表1に示した結果が得
られた。その結果、見逃しなく欠陥を検出でき、検出ミ
スもなかった。
The defect detection device was the simple defect detection device LS-30 (described above) used in Example 1, and the number of pixels per 1 mm was 7.9 bits, and the defect was detected at a scanning period of 2 msec.
Although the roll interval of the detection section was set to 300 mm, the film was stable without wrinkles, fluttering and meandering. Detected defects, laminate the film (roll temperature 100 ℃,
A silicone-based release material (described above) was thermocompression-bonded to the product at a pressure of 2.0 kg / cm) to form a product, and the edge of the film at the position of the product defect was marked with a labeler. Table 1 shows the number of detected defects. This coverlay product was wound up 100 m and visually inspected in the slitting process as usual, and the number of missed defects and the number of detection errors were obtained. The results shown in Table 1 were obtained. As a result, the defect could be detected without being overlooked, and there was no detection error.

【0018】実施例3 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理したのち、ライン速度5m/分でエポキシ
−NBR系接着剤を乾燥後の厚みが20μmになるように
ロールコーターで塗工し、インラインドライヤーで接着
剤の溶媒を50〜 140℃で乾燥除去して接着剤を半硬化さ
せ、インラインドライヤー出口からラミネートロール手
前 2,000mmの地点でカバーレイフィルムの欠陥検査を行
なった。
Example 3 Kapton (described above) of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm was subjected to low-temperature plasma treatment in the same continuous plasma processing apparatus as in Example 1, and then an epoxy-NBR adhesive was applied at a line speed of 5 m / min. Is coated with a roll coater so that the thickness after drying is 20 μm, and the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an inline dryer to semi-harden the adhesive. At the point of mm, the coverlay film was inspected for defects.

【0019】この欠陥検出装置は実施例1で使用した簡
易欠陥検出装置・LS−30(前出)とし、1mmあたりの
画素数を 5.0ビットに設置し、走査周期2msecで欠陥検
出を行なった。また、検出部のロール間隔は 400mmとし
たが、フィルムのシワ、バタつき、蛇行もなく安定して
いた。検出された欠陥は、フィルムをラミネート(ロー
ル温度 100℃、圧力2.0kg/cm)でシリコーン系離型材
(前出)と熱圧着して製品とした後、製品欠陥位置のフ
ィルムのエッジ部にラベラーによりマーキングされた。
検出された欠陥数を表1に示した。また、カバーレイ製
品は 100m巻取り、スリット工程で従来通り目視で検査
し、見逃した欠陥数および検出ミスを求めたところ、表
1に示した結果が得られた。その結果、見逃しなく欠陥
を検出でき、検出ミスもなかった。
This defect detection apparatus was the simple defect detection apparatus LS-30 (described above) used in the first embodiment, and the number of pixels per 1 mm was set to 5.0 bits, and defect detection was performed at a scanning cycle of 2 msec. Further, although the roll interval of the detecting section was set to 400 mm, the film was stable without wrinkles, flutter and meandering. Detected defects are obtained by laminating the film (roll temperature 100 ° C, pressure 2.0kg / cm) with a silicone-based release material (described above) and thermocompressing it into a product. Marked by.
Table 1 shows the number of detected defects. The coverlay product was visually inspected in the conventional manner in the winding step of 100 m and the slitting process, and the number of missed defects and detection errors were obtained. The results shown in Table 1 were obtained. As a result, the defect could be detected without being overlooked, and there was no detection error.

【0020】比較例1 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理したのち、ライン速度5m/分でエポキシ
−NBR系接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるように
ロールコーターで塗工し、インラインドライヤーで接着
剤の溶媒を50〜 140℃で乾燥除去し、接着剤を半硬化さ
せ、インラインドライヤー出口からラミネートロール手
前 1,000mmの地点でカバーレイフィルムの欠陥検査を行
なった。
Comparative Example 1 Kapton (described above), a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm, was subjected to low-temperature plasma treatment using the same continuous plasma processing apparatus as in Example 1, and then an epoxy-NBR adhesive was applied at a line speed of 5 m / min. Is coated with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an inline drier, and the adhesive is semi-cured. At the point of mm, the coverlay film was inspected for defects.

【0021】検査装置は実施例1で使用した簡易欠陥検
出装置・LS−30(前出)とし、1mmあたりの画素数を
3.9ビットに設置し、走査周期2msecで欠陥検出を行な
った。また、検出部のロール間隔は 200mmとしたが、フ
ィルムのシワ、バタつき、蛇行もなく安定していた。検
出された欠陥は、フィルムをラミネート(ロール温度 1
00℃、圧力2.0kg/cm)でシリコーン系離型材(前出)と
熱圧着して製品とした後、製品欠陥位置のフィルムのエ
ッジ部にラベラーによりマーキングした。検出された欠
陥数を表1に示した。また、このカバーレイ製品は 100
m巻取り、スリット工程で従来通り目視で検査し、見逃
した欠陥および検出ミスを求めたところ、表1に示した
結果が得られた。その結果、解像度が低いため 0.2mmの
小欠陥を見逃した。
The inspection device is the simple defect detection device LS-30 (described above) used in the first embodiment, and the number of pixels per 1 mm is
At 3.9 bits, defect detection was performed at a scanning cycle of 2 msec. Although the roll interval of the detection section was set to 200 mm, the film was stable without wrinkles, flutter and meandering. Detected defects laminate film (roll temperature 1
After thermocompression bonding with a silicone-based release material (described above) at 00 ° C. and a pressure of 2.0 kg / cm) to obtain a product, the edge of the film at the position of the product defect was marked with a labeler. Table 1 shows the number of detected defects. Also, this coverlay product is 100
Inspection was carried out visually in the conventional manner in the m-winding and slitting steps, and the missed defects and detection errors were determined. The results shown in Table 1 were obtained. As a result, a small defect of 0.2 mm was missed due to low resolution.

【0022】比較例2 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理したのち、ライン速度5m/分でエポキシ
−NBR接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるようにロ
ールコーターで塗工し、インラインドライヤーで接着剤
の溶媒を50〜 140℃で乾燥除去し、接着剤を半硬化さ
せ、インラインドライヤー手前 1,000mmの地点でカバー
レイフィルムの欠陥検査を行なった。
Comparative Example 2 Kapton (described above) of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm was subjected to low-temperature plasma treatment by the same continuous plasma processing apparatus as in Example 1, and then an epoxy-NBR adhesive was applied at a line speed of 5 m / min. Coat with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, dry and remove the adhesive solvent at 50 to 140 ° C with an inline dryer, semi-harden the adhesive, and cover at 1,000 mm before the inline dryer The ray film was inspected for defects.

【0023】検査装置は実施例1で使用した簡易欠陥検
出装置・LS−30(前出)とし、1mmあたりの画素数を
7.9ビットに設置し、走査周期2msecで欠陥検出を行な
った。また、検出部のロール間隔は 200mmとしたが、フ
ィルムのシワ、バタつき、蛇行もなく安定していた。検
出された欠陥は、フィルムをラミネートロール(ロール
温度 100℃、圧力2.0kg/cm)でシリコーン系離型材(前
出)と熱圧着して製品とした後、製品欠陥位置のフィル
ムのエッジ部にラベラーによりマーキングした。検出さ
れた欠陥数を表1に示した。また、このカバーレイ製品
は 100m巻取り、スリット工程で従来通り目視で検査
し、見逃した欠陥および検出ミスを求めたところ、後記
する表1に示したとおりの結果が得られたが、ドライヤ
ー手前で欠陥検出を行ったために、ドライヤー中で発生
した気泡を検出できなかったために、この欠陥を見逃し
てしまった。
The inspection device is the simple defect detection device LS-30 (described above) used in the first embodiment, and the number of pixels per 1 mm is
At 7.9 bits, defect detection was performed at a scanning cycle of 2 msec. Although the roll interval of the detection section was set to 200 mm, the film was stable without wrinkles, flutter and meandering. Detected defects are obtained by thermocompression bonding the film with a silicone-based release material (described above) using a laminating roll (roll temperature 100 ° C, pressure 2.0 kg / cm) to produce a product. Marked by labeler. Table 1 shows the number of detected defects. In addition, this coverlay product was visually inspected in the conventional manner in a 100 m winding and slitting process, and missing defects and detection errors were obtained. As a result, the results shown in Table 1 below were obtained. This defect was missed because the air bubbles generated in the dryer could not be detected because the defect was detected in the above.

【0024】比較例3 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理し、ライン速度5m/分でエポキシ−NB
R系接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるようにロール
コーターで塗工し、インラインドライヤーで接着剤の溶
媒を50〜 140℃で乾燥除去し、接着剤を半硬化させ、イ
ンラインドライヤー出口からラミネートロール手前 1,0
00mmの地点でカバーレイフィルムの欠陥検査を行なっ
た。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 Kapton (described above) of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm was subjected to low-temperature plasma treatment using the same continuous plasma processing apparatus as in Example 1, and epoxy-NB was applied at a line speed of 5 m / min.
The R-based adhesive is coated with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, and the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an in-line dryer, and the adhesive is semi-cured. Before laminating roll 1,0
A defect inspection of the coverlay film was performed at a point of 00 mm.

【0025】検査装置は実施例1で使用した簡易欠陥検
出装置・LS−30(前出)とし、1mm当りの画素数を
3.9ビットに設置し、走査周期2msecで欠陥検出を行な
った。検出部のロール間隔を 700mmとしたところ、フィ
ルムがバタついていた。検出された欠陥は、フィルムを
ラミネートロール(ロール温度 100℃、圧力2.0kg/cm)
でシリコーン系離型材(前出)と熱圧着して製品とした
後、製品欠陥位置のフィルム端部にラベラーによりマー
キングした。検出された欠陥数を表1に示す。また、こ
のカバーレイ製品は 100m巻取り、スリット工程で従来
通り目視で検査を行ない、見逃した欠陥および検出ミス
を求めたところ、表1に示した結果が得られたが、フィ
ルムがバタついた為に検出ミスが12件出た。
The inspection device is the simple defect detection device LS-30 (described above) used in the first embodiment, and the number of pixels per 1 mm is
At 3.9 bits, defect detection was performed at a scanning cycle of 2 msec. When the roll interval of the detection unit was set to 700 mm, the film fluttered. Detected defects include laminating the film on a roll (roll temperature 100 ° C, pressure 2.0kg / cm)
After thermocompression bonding with a silicone-based release material (described above) to form a product, marking was performed on the film edge at the position of the product defect with a labeler. Table 1 shows the number of detected defects. In addition, this coverlay product was visually inspected in the conventional manner in a 100m winding and slitting process, and missing defects and detection errors were obtained. The results shown in Table 1 were obtained, but the film fluttered. As a result, 12 detection errors occurred.

【0026】比較例4 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルム・カプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理し、ライン速度5m/分でエポキシ−NB
R系接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるようにロール
コーターで塗工し、インラインドライヤーで接着剤の溶
媒を50〜 140℃で乾燥除去し、接着剤を半硬化させ、イ
ンラインドライヤー出口からラミネートロール手前 1,0
00mmの地点でカバーレイフィルムの欠陥検査を行なっ
た。
Comparative Example 4 A 25 μm thick, 508 mm wide polyimide film Kapton (described above) was subjected to low-temperature plasma treatment with the same continuous plasma treatment apparatus as in Example 1, and epoxy-NB was applied at a line speed of 5 m / min.
The R-based adhesive is coated with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, and the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an in-line dryer, and the adhesive is semi-cured. Before laminating roll 1,0
A defect inspection of the coverlay film was performed at a point of 00 mm.

【0027】検査装置は実施例1で使用した簡易欠陥検
出装置・LS−30(前出)とし、1mmあたりの画素数を
7.9ビットに設置し、走査周期2msecで欠陥検出を行な
った。検出部のロール間隔は 300mmとしたが、フィルム
のシワ、バタつき、蛇行もなく安定していた。検出され
た欠陥は、フィルムをラミネートロール(ロール温度 1
00℃、圧力2.0kg/cm)でシリコーン系離型材(前出)と
熱圧着し製品とした後、製品の欠陥位置に直接ラベラー
によりマーキングした。検出された欠陥数を表1に示し
た。このカバーレイ製品は 100m巻取り、スリット工程
で従来通り目視で検査を行ない、見逃した欠陥および検
出ミスを求めたところ、表1に示した結果が得られた
が、欠陥位置にラベリングした為にラベルの粘着剤が銅
箔に転写してしまった。
The inspection device is the simple defect detection device LS-30 (described above) used in the first embodiment, and the number of pixels per 1 mm is
At 7.9 bits, defect detection was performed at a scanning cycle of 2 msec. Although the roll interval of the detection unit was 300 mm, the film was stable without wrinkles, fluttering and meandering. Detected defects laminated film roll (roll temperature 1
After thermocompression bonding with a silicone release material (described above) at 00 ° C. and a pressure of 2.0 kg / cm) to obtain a product, the defect position of the product was directly marked with a labeler. Table 1 shows the number of detected defects. This coverlay product was visually inspected in the conventional way in the slitting process with 100 m winding and slitting process. The results shown in Table 1 were obtained when missing defects and detection errors were obtained. The adhesive on the label has been transferred to the copper foil.

【0028】比較例5 厚さ25μm、幅 508mmのポリイミドフィルムのカプトン
(前出)を実施例1と同じ連続プラズマ処理装置で低温
プラズマ処理し、ライン速度5m/分でエポキシ−NB
R系接着剤を乾燥後の厚みが30μmになるようにロール
コーターで塗工し、インラインドライヤーで接着剤の溶
媒を50〜 140℃で乾燥除去して接着剤を半硬化させ、ラ
ミネートロール(ロール温度 100℃、圧力2.0kg/cm)で
シリコーン系離型材(前出)と熱圧着させたのち、これ
をカバーレイ製品として 100m巻取り、スリット工程で
従来通り目視で検査を行ない検出された欠陥数を求め、
スリットしたものをもう一度目視で検査を行なって見逃
した欠陥および検出ミスを求めたところ、表1に示した
とおりの結果が得られた。なお、スリット工程での目視
検査は、欠陥検出装置を用いた場合の1/2以下のスピ
ーで行なわないと見逃しがあるため、生産性の悪いもの
であった。
Comparative Example 5 Kapton (described above), which is a polyimide film having a thickness of 25 μm and a width of 508 mm, was subjected to low-temperature plasma treatment in the same continuous plasma processing apparatus as in Example 1, and epoxy-NB was applied at a line speed of 5 m / min.
The R-based adhesive is coated with a roll coater so that the thickness after drying becomes 30 μm, and the solvent of the adhesive is dried and removed at 50 to 140 ° C. with an inline drier, and the adhesive is semi-cured. After thermocompression bonding with a silicone-based release material (described above) at a temperature of 100 ° C and a pressure of 2.0 kg / cm), this is rolled up as a coverlay product for 100 m, and is visually inspected as before in the slitting process. Find the number,
The slits were visually inspected again to determine missing defects and detection errors. The results shown in Table 1 were obtained. In addition, the visual inspection in the slitting process was not performed at a speed less than 1/2 that of the case where the defect detection device was used, so that there was an oversight, resulting in poor productivity.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、カバーレイフィルムの
気泡、異物、ピンホール、糊欠、ゲルなどの欠陥を正確
に漏れなく自動的に検出し、マーキングすることができ
るため、従来人間の目視により行なわれていた検査検出
作業を、客観的な数値基準による正確な検査ができ、ま
た省力化ができる。
According to the present invention, defects such as air bubbles, foreign matter, pinholes, glue chips, and gels on a cover lay film can be automatically detected without any omission and can be marked. Inspection detection work that has been performed visually can be accurately performed based on objective numerical criteria, and labor can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)、(b)は本発明で使用される欠陥検出
装置の部品配置図および部品構成図を示したものであ
る。
FIGS. 1A and 1B show a component arrangement diagram and a component configuration diagram of a defect detection apparatus used in the present invention.

【図2】本発明で使用される欠陥検出装置の斜視図を示
したものである。
FIG. 2 is a perspective view of a defect detection device used in the present invention.

【図3】(a)、(b)、(c)は本発明の信号処理工
程の一例を示したものである。
FIGS. 3A, 3B, and 3C show an example of a signal processing step of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…接着剤塗工ポリイミドフィルム 2…光源 3…CCDカメラ 4…離型材 5…ラミネートロール 6…エンコーダ 7…マーキング装置 8…インラインドライヤー 9…レンズ 10…CCDラインセンサー 11…接着剤層の欠陥 12…エッジ部 13…暗欠陥 14…明欠陥 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Adhesive coating polyimide film 2 ... Light source 3 ... CCD camera 4 ... Release material 5 ... Laminating roll 6 ... Encoder 7 ... Marking device 8 ... In-line dryer 9 ... Lens 10 ... CCD line sensor 11 ... Defect of adhesive layer 12 … Edge 13… dark defect 14… bright defect

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栄口 吉次 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田1番地 信越化学工業株式会社 塩ビ技術研究所 内 (56)参考文献 特開 平7−306160(JP,A) 特開 平4−264790(JP,A) 特開 平6−235624(JP,A) 特開 平4−359139(JP,A) 特開 平6−242023(JP,A) 特開 平6−147867(JP,A) 特開 昭58−173456(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 11/30 C08J 7/04 G01N 21/892 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshiji Sakaguchi 1 Towada, Kazu-gun, Kashima-gun, Ibaraki Pref. Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. PVC Research Laboratory (56) References JP-A-7-306160 (JP) JP-A-4-264790 (JP, A) JP-A-6-235624 (JP, A) JP-A-4-359139 (JP, A) JP-A-6-242023 (JP, A) 6-147867 (JP, A) JP-A-58-173456 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 11/30 C08J 7/04 G01N 21/892

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 カバーレイフィルムの製造工程におい
て、ポリイミドフィルムに接着剤を塗工し、ドライヤー
で乾燥後、離型材とラミネートする前に、ラミネートロ
ール前の 2,000mm以内の欠陥検出位置で、欠陥検出部位
のロール間隔を100〜400mm とし、カバーレイフィルム
のポリイミドフィルム側から、波長0.3〜1.1μmの光を
照射し、透過光を解像度がカバーレイフィルムの幅方向
に対し、1mmあたり5ビット以上の密度であるCCDラ
インセンサーの画素子で受光し、光量によって生ずる電
圧変化を信号処理し、信号レベルが予め設定した明暗の
基準値以上、あるいは基準値以下である時に、気泡、異
物、ゲル、糊欠などを欠陥として判別し、検出判別
された欠陥を、カバーレイフィルムの判別位置のエッジ
部にマーキングすることを特徴とするカバーレイフィル
ムの欠陥検出法。
In a coverlay film manufacturing process, an adhesive is applied to a polyimide film, dried with a drier, and laminated with a release material before lamination.
At the defect detection position within 2,000 mm before
The roll interval is 100 to 400 mm, and light with a wavelength of 0.3 to 1.1 μm is emitted from the polyimide film side of the coverlay film.
Irradiates the transmitted light with resolution in the width direction of the coverlay film
On the other hand, light is received by an image element of a CCD line sensor having a density of 5 bits or more per 1 mm, and a voltage change caused by the amount of light is signal-processed, and a signal level is equal to or higher than a preset light-dark reference value or lower than a reference value. Sometimes bubbles, foreign matter, gel, glue, etc. are identified as defects, detected and identified
The detected defect to the edge of the discrimination position of the coverlay film
A method for detecting a defect in a coverlay film, characterized by marking a part .
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