JP3322769B2 - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate

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JP3322769B2
JP3322769B2 JP32589694A JP32589694A JP3322769B2 JP 3322769 B2 JP3322769 B2 JP 3322769B2 JP 32589694 A JP32589694 A JP 32589694A JP 32589694 A JP32589694 A JP 32589694A JP 3322769 B2 JP3322769 B2 JP 3322769B2
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photosensitive
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克司 北谷
浩一 川村
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はポジ型感光性平版印刷版
に関するものであり、詳しくはナフトキノンジアジド化
合物を含有するポジ型感光性平版印刷版に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positive photosensitive lithographic printing plate, and more particularly to a positive photosensitive lithographic printing plate containing a naphthoquinonediazide compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】o−ナフトキノンジアジド化合物とノボ
ラック型フェノール樹脂からなる感光性組成物は、非常
に優れた感光性組成物として平版印刷版の製造やフォト
レジストとして工業的に用いられてきた。しかし、主体
として用いられるノボラック型フェノール樹脂の性質
上、基版に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろいこ
と、耐摩耗性が劣り平版印刷版に用いたときの耐刷力が
十分でないこと等の改良すべき点があり、さらに、通常
pH13以上の高いpHを有するアルカリ水溶液で現像
しなければならないが、このような高pHの現像液は取
扱いの安全上または現像廃液の処理適性のうえから決し
て好ましいものではなかった。
2. Description of the Related Art A photosensitive composition comprising an o-naphthoquinonediazide compound and a novolak-type phenol resin has been industrially used as a very excellent photosensitive composition for producing a lithographic printing plate or as a photoresist. However, due to the properties of the novolak type phenol resin used as the main component, the adhesion to the base plate is poor, the film is brittle, the abrasion resistance is poor, and the printing durability when used in lithographic printing plates is not sufficient. There is a point to be improved, and furthermore, development must be carried out with an alkaline aqueous solution having a high pH of usually 13 or more. However, such a high pH developer is never used in view of safety of handling or processing suitability of a development waste liquid. It was not preferred.

【0003】かかる問題を解決するため、種々のポリマ
ーがバインダーとして検討されてきた。たとえば特公昭
52−41050号公報に記載されているポリヒドロキ
シスチレンまたはヒドロキシスチレン共重合体は、皮膜
性が改良されたが、耐摩耗性が劣るという欠点を有して
いた。さらに、感光性物質としてポリヒドロキシ化合物
の1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エス
テル化物を用いた場合は、露光光源適性に特徴がある
が、次のような問題があった。一般にポジ型感光性平版
印刷版を作成する方法としては、リスフィルムを平版印
刷版材料の感光層とかさねて露光し、さらにこの感光し
たものを現像液で現像処理して印刷版にすることが行わ
れている。この製版工程において、露光してから現像す
るまでの時間は一様でなく、長い場合には露光してから
数日後に現像が行われる。ところが、従来のポリヒドロ
キシ化合物の1,2−ナフトキノンジアジド−4−スル
ホン酸エステル化物を感光性物質として用いた場合に
は、露光後の長時間の経時により現像時の感度に大きな
変動があり、正常な印刷物が得られなくなっていた。
In order to solve such a problem, various polymers have been studied as binders. For example, the polyhydroxystyrene or hydroxystyrene copolymer described in Japanese Patent Publication No. 52-41050 has improved film properties, but has the disadvantage of poor abrasion resistance. Furthermore, when a 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester of a polyhydroxy compound is used as a photosensitive substance, it is characterized by suitability for exposure light source, but has the following problems. In general, as a method of preparing a positive photosensitive lithographic printing plate, a lithographic film is exposed by overlapping with a photosensitive layer of a lithographic printing plate material, and the exposed material is developed with a developer to form a printing plate. Is being done. In this plate making process, the time from exposure to development is not uniform. If the time is long, development is performed several days after exposure. However, when a 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester of a conventional polyhydroxy compound is used as a photosensitive substance, there is a large variation in sensitivity during development due to long-term aging after exposure. Normal printed matter could not be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、比較的低いpHのアルカリ水溶液でも現像性が高
く、基板に対する密着性が良く、柔軟な被膜を与え、か
つ耐刷力の大きい平版印刷版を提供することである。更
に本発明の他の目的は、感光性物質としてポリヒドロキ
シ化合物の1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホ
ン酸エステル化物を用いても、露光後の経時による感度
変動などの性能低下の僅かなポジ型感光性平版印刷版を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate having a high developability even in an alkaline aqueous solution having a relatively low pH, having good adhesion to a substrate, providing a flexible film, and having a large printing durability. To provide a version. Still another object of the present invention is to provide a method for preparing a photosensitive material, which uses a 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester of a polyhydroxy compound, with a slight decrease in performance such as sensitivity fluctuation with time after exposure. To provide a photosensitive lithographic printing plate.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記目的を
達成するため鋭意研究を重ねた結果、本発明に到達し
た。即ち本発明の目的は、支持体上に、少なくとも一種
の下記一般式(1)で表されるポリヒドロキシ化合物の
1,2(または2,1)−ナフトキノンジアジド−4−
(または−5−)スルホン酸エステル化物よりなる感光
性物質と、スルホンアミド基を有するアクリル系ポリマ
ー、カルボン酸を有するウレタン系ポリマーおよび活性
イミノ基を有するアクリル系ポリマーの中から選ばれる
少なくとも1種のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ
型感光性組成物を塗設してなる感光性平版印刷版によっ
て達成することができる。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to achieve the above object, and as a result, have reached the present invention. That is, an object of the present invention is to provide at least one kind of 1,2- (or 2,1) -naphthoquinonediazide-4-polyhydroxy compound represented by the following general formula (1) on a support.
Photosensitive substance comprising (or -5) sulfonic acid ester, and acrylic polymer having sulfonamide group
-, Urethane-based polymer having carboxylic acid and activity
Selected from among acrylic polymers with imino groups
The positive photosensitive composition comprising at least one alkali-soluble resin can be achieved by a photosensitive lithographic printing plate formed by coated.

【0006】[0006]

【化2】 Embedded image

【0007】式(1)中、Aはアルキレン基、置換アル
キレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アリ
ーレン基、又は置換アリーレン基を示す。Bは水素原
子、アルキル基または置換アルキル基を示す。R1〜R8
は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
1〜4のアルキル基、シクロアルキル基、炭素数1〜4
のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルケニル基または水
酸基である。
In the formula (1), A represents an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an arylene group, or a substituted arylene group. B represents a hydrogen atom, an alkyl group or a substituted alkyl group. R 1 to R 8
Are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group,
An alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group.

【0008】即ち、本発明は、感光性物質を形成するポ
リヒドロキシ化合物を特定の構造、つまり、少なくとも
1つの水酸基を有するベンゼン環を4つ含有する特定の
構造のポリヒドロキシ化合物を用いることにより、比較
的低pHの現像液で処理しても現像性が高く、基板に対
する密着性が良く、柔軟な被膜を与え、かつ耐刷力の大
きいとともに、更に感光性物質としてポリヒドロキシ化
合物の1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
エステル化物を用いても、露光後の経時による感度変動
などの性能低下を防止することができる。
That is, the present invention provides a polyhydroxy compound having a specific structure, that is, a polyhydroxy compound having a specific structure containing four benzene rings having at least one hydroxyl group. Even when treated with a developer having a relatively low pH, the developability is high, the adhesion to the substrate is good, a flexible film is provided, and the printing durability is large. Even if a naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester is used, it is possible to prevent a decrease in performance such as a change in sensitivity over time after exposure.

【0009】既述の如く、従来のポリヒドロキシ化合物
と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エス
テル化物を用いた場合は、露光後に長時間経時後に現像
したとき感度に大きな変動が起こってしまう。このこと
は、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エ
ステル化物が、露光後に生成するインデンカルボン酸の
不安定さに起因している推定できる。この不安定さは、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステ
ル化物を用いた場合には生じないことから、1,2−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル化物の構
造に起因する問題と考えられる。つまり、露光後の経時
による感度変動などの性能低下は、露光により生じるイ
ンデンカルボン酸が脱炭酸やスルホン酸エステルの加水
分解を起こすためと考えられる。
As described above, when a conventional polyhydroxy compound and a 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester are used, a large change in sensitivity occurs when the resist is developed for a long time after exposure. . This can be estimated that the 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester is due to the instability of indenecarboxylic acid generated after exposure. This instability is
Since this does not occur when 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid ester is used, it is considered to be a problem due to the structure of 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester. That is, it is considered that the performance deterioration such as the sensitivity fluctuation with the elapse of time after the exposure is caused by the indene carboxylic acid generated by the exposure causing decarboxylation and hydrolysis of the sulfonic acid ester.

【0010】本発明は、特定のポリヒドロキシ化合物を
用いることにより、1,2−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸エステル化物を用いた場合でも、露光後の
経時安定を良好にし、より良い印刷物を得ることができ
る。
According to the present invention, 1,2-naphthoquinonediazide-4 is produced by using a specific polyhydroxy compound.
-Even when a sulfonic acid ester is used, stability over time after exposure can be improved, and a better printed matter can be obtained.

【0011】式(1)中、Aはアルキレン基、置換アル
キレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレ
ン基、又は置換アリーレン基であり、好ましくは炭素数
1〜3のアルキレン基またはフェニレン基である。Bは
水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または置換アルキ
ル基であり、好ましくは水素原子またはメチル基であ
る。R1〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜4のアルキル基、シクロアルキル基、
炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルケニ
ル基または水酸基であり、好ましくは水素原子、塩素原
子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜2のア
ルコキシ基である。
In the formula (1), A is an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an arylene group or a substituted arylene group, preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or a phenylene group. . B is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a substituted alkyl group, and is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group,
An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group, preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms.

【0012】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂と
しては、この性質を有する種々のアクリル系、ビニル系
またはウレタン系樹脂を使用することができるが、好ま
しい樹脂としてはスチレン−アクリル酸共重合体、メチ
ルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、アルカリ可
溶性ポリウレタン樹脂、および特昭63−27008
7号明細書(特開平2−866号公報)中に記載されて
いるスルホンアミド基を有するアクリル系ポリマー、特
開昭63−226641号公報に開示されているスルホ
ンアミド基を有するアクリル系ポリマー、特開昭63−
124047号に開示されているカルボン酸を有するウ
レタン系ポリマー、特開昭63−127237号公報に
開示されている活性メチレン基を有するアクリル系ポリ
マー、活性イミノ基を有するアクリル系ポリマーなどが
ある。好ましいアルカリ可溶性樹脂としては、スルホン
アミド基を有するアクリル系ポリマー、カルボン酸を有
するウレタン系ポリマー、活性イミノ基を有するアクリ
ル系ポリマー等が挙げられる。より好ましくは、下記一
般式(2)で示される構造単位を3モル%以上60モル
%未満の割合で含有するアクリル系ポリマーが挙げられ
る。画像形成のためには一般式(2)で示される構造単
位は3モル%以上60モル%未満の範囲で含まれること
が必要であり、より好ましくは10モル%以上60モル
%未満の範囲で含まれる。
As the alkali-soluble resin used in the present invention, various acrylic, vinyl or urethane resins having this property can be used. Preferred resins are styrene-acrylic acid copolymer, methyl methacrylate - methacrylic acid copolymer, alkali-soluble polyurethane resin, and JP Application Sho 63-27008
No. 7 (JP-A-2-866) , an acrylic polymer having a sulfonamide group, an acrylic polymer having a sulfonamide group disclosed in JP-A-63-226641, JP-A-63-
There is a urethane-based polymer having a carboxylic acid disclosed in No. 124047, an acrylic polymer having an active methylene group disclosed in JP-A-63-127237, an acrylic polymer having an active imino group, and the like. Preferred alkali-soluble resins include acrylic polymers having a sulfonamide group, urethane polymers having a carboxylic acid, and acrylic polymers having an active imino group. More preferably, an acrylic polymer containing the structural unit represented by the following general formula (2) at a ratio of 3 mol% or more and less than 60 mol% is exemplified. For image formation, the structural unit represented by the general formula (2) needs to be contained in the range of 3 mol% or more and less than 60 mol%, and more preferably in the range of 10 mol% or more and less than 60 mol%. included.

【0013】[0013]

【化3】 Embedded image

【0014】式(2)中、Aは水素原子、ハロゲン原子
(例えば、フッ素、塩素、臭素)または炭素数1〜4の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル)を表
し、より好ましくは水素原子またはメチルである。R1
は炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子または炭素
数1〜6のアルコキシ基を表し、より好ましくはメチル
基、エチル基、フッ素原子、塩素原子、メトキシ基、エ
トキシ基が挙げられる。mは1から5の整数を表す。
In the formula (2), A is a hydrogen atom, a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl). , T-butyl), and more preferably a hydrogen atom or methyl. R 1
Represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably includes a methyl group, an ethyl group, a fluorine atom, a chlorine atom, a methoxy group, and an ethoxy group. m represents an integer of 1 to 5.

【0015】これらのアルカリ可溶性樹脂は、広範囲の
分子量のものを使用することができるが、ポリスチレン
を標準としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー
で測定したとき、もしくはTHF中で光散乱を用いて測
定したとき、重量平均分子量(Mw)で1,000〜
1,000,000であることが好ましく、さらに好ま
しくは4,000〜500,000である。
As these alkali-soluble resins, those having a wide range of molecular weights can be used. When measured by gel permeation chromatography using polystyrene as a standard, or when measured by light scattering in THF, Weight average molecular weight (Mw) of 1,000 to
It is preferably 1,000,000, and more preferably 4,000 to 500,000.

【0016】一般式〔2〕で示される構造単位と組み合
わせて用いられるビニル系単量体の代表例としては、次
のものを挙げることができる。ただし、これらのビニル
系単量体に限定されるものではない。例えば、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエンなどのエチ
レン不飽和オレフィン類;例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレ
ン、p−メチルスチレン、o−クロロスチレン、p−ク
ロロスチレンなどのスチレン類;例えば、アクリル酸、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸iso
−ブチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−シアノエチ
ル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸ジメチルアミノ
エチルなどのアクリル酸およびそのエステル類;例え
ば、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸iso−
ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸ヘキ
シル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル
酸ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸シ
クロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2
−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロ
ピル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル
酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸グリシジル、メ
タクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸アリ
ルなどのメタクリル酸およびそのエステル類;例えば、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロ
ン酸ビニル、安息香酸ビニルなどのビニルエステル類;
例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどの
ニトリル類;例えば、メチルビニルエーテル、エチルビ
ニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロ
エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル
などのビニルエーテル類;例えば、アクリルアミド、N
−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルア
ミド、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−オクチル
アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミドなどのアク
リルアミド類;例えば、p−ヒドロキシフェニルアクリ
ルアミド、o−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、p
−ヒドロキシフェニルメタアクリルアミド、p−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、特開昭64−35436号
公報、特公昭52−34932号公報に記載されている
フェノール性水酸基を有する単量体;例えば、N−(p
−スルファモイルフェニル)メタアクリルアミド、N−
(p−スルファモイルフェニル)アクリルアミドなどの
スルファモイル基を有する単量体;などが挙げられる。
Representative examples of the vinyl monomer used in combination with the structural unit represented by the general formula [2] include the following. However, it is not limited to these vinyl monomers. For example, ethylene, propylene, isobutylene, butadiene emissions of any ethylenically unsaturated olefins; for example, styrene, alpha-methyl styrene, o- methyl styrene, m- methyl styrene, p- methyl styrene, o- chlorostyrene, p- chloro Styrenes such as styrene; for example, acrylic acid,
Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid iso
Acrylic acid such as -butyl, n-butyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-cyanoethyl acrylate, glycidyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, and esters thereof And the like; for example, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, iso-methacrylate
Butyl, tert-butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, lauryl methacrylate, tridecyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid 2
Methacrylic acid and its esters such as -hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, allyl methacrylate;
Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl caproate, and vinyl benzoate;
For example, nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, β-chloroethyl vinyl ether, and cyclohexyl vinyl ether;
Acrylamides such as -methylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-tert-butylacrylamide, N-octylacrylamide and diacetoneacrylamide; for example, p-hydroxyphenylacrylamide, o-hydroxyphenylacrylamide, p
-Hydroxyphenyl methacrylamide, p-hydroxyphenyl acrylate, monomers having a phenolic hydroxyl group described in JP-A-64-35436 and JP-B-52-34932;
-Sulfamoylphenyl) methacrylamide, N-
A monomer having a sulfamoyl group such as (p-sulfamoylphenyl) acrylamide; and the like.

【0017】その他、特願平6−37206号明細書に
記載されているようなカプラー系モノマーも有用であ
る。
In addition, coupler-based monomers described in Japanese Patent Application No. 6-37206 are also useful.

【0018】一般式〔2〕で示される構造単位と共に用
いられる構造単位として特に好ましいものは、下記一般
式〔3〕および〔4〕で示されるビニル系単量体を重合
して得られる構造単位である。
Particularly preferred as the structural unit used together with the structural unit represented by the general formula [2] is a structural unit obtained by polymerizing a vinyl monomer represented by the following general formulas [3] and [4]. It is.

【0019】[0019]

【化4】 Embedded image

【0020】[0020]

【化5】 Embedded image

【0021】式〔3〕および〔4〕中、Aは水素原子、
ハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Z
は酸素原子または−NR2−を表し、R2は水素原子又は
炭素数1〜4のアルキル基を表す。Bはアルキル基、置
換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基、または置換基
を有してもよいヘテロ環基を表す。Bのアルキル基およ
び置換アルキル基におけるアルキル基部分の炭素数とし
ては、好ましくは1〜9である。Bの置換アルキル基に
おける置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、置換アルコキシ基、ヒドロキシ基、アセトキシ
基、フェニル基、置換フェニル基が挙げられる。Bの芳
香族基および置換芳香族基として好ましくは、フェニル
基、置換フェニル基、ナフチル基、置換ナフチル基が挙
げられる。また、Bのヘテロ環基として好ましくは、窒
素、酸素もしくは硫黄原子を少なくとも1種含有する5
〜7員の単環式もくしは多環式ヘテロ環基が挙げられ
る。
In the formulas [3] and [4], A is a hydrogen atom,
Represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Z
Represents an oxygen atom or —NR 2 —, and R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. B represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aromatic group, a substituted aromatic group, or a heterocyclic group which may have a substituent. The carbon number of the alkyl group portion in the alkyl group and the substituted alkyl group of B is preferably 1 to 9. Preferred examples of the substituent in the substituted alkyl group of B include a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a hydroxy group, an acetoxy group, a phenyl group and a substituted phenyl group. Preferred examples of the aromatic group and the substituted aromatic group of B include a phenyl group, a substituted phenyl group, a naphthyl group, and a substituted naphthyl group. The heterocyclic group of B is preferably a group containing at least one nitrogen, oxygen or sulfur atom.
A 7-membered monocyclic or polycyclic heterocyclic group is exemplified.

【0022】式〔3〕および〔4〕において、Aとして
特に好ましくは、水素およびメチルである。Zとして特
に好ましくは、酸素原子および−NH−である。Bとし
て特に好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基;ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、置換アルコキシ基、ヒドロキシ
基、フェニル基もしくは置換フェニル基で置換された炭
素数1〜6の置換アルキル基;フェニル基;および窒素
原子を含む5〜7員の単環式もしくは多環式ヘテロ環基
である。
In the formulas [3] and [4], A is particularly preferably hydrogen and methyl. Z is particularly preferably an oxygen atom or -NH-. B is particularly preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a hydroxy group, a phenyl group or a substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with a substituted phenyl group; And a 5- to 7-membered monocyclic or polycyclic heterocyclic group containing a nitrogen atom.

【0023】式〔3〕で示される化合物の好ましい例と
しては、アクリロニトリル、メタクリロニトリルを挙げ
ることができる。式〔4〕で示される化合物の好ましい
例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸ブチル、メタクリル酸ベンジル、ヒドロキシエチルメ
タクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルのアクリル酸エステル、ジエチレングリコールモノフ
ェニルエーテルのアクリル酸エステル、N−(p−スル
ファモイルフェニル)メタアクリルアミド、N−(p−
スルファモイルフェニル)アクリルアミド、および下記
構造〔5〕で示されるカプラーモノマーを挙げることが
できる。
Preferred examples of the compound represented by the formula [3] include acrylonitrile and methacrylonitrile. Preferred examples of the compound represented by the formula [4] include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, methacrylic acid,
Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, benzyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, acrylate of diethylene glycol monomethyl ether, acrylate of diethylene glycol monophenyl ether, N- (p-sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (p-
Sulfamoylphenyl) acrylamide and a coupler monomer represented by the following structure [5] can be mentioned.

【0024】[0024]

【化6】 Embedded image

【0025】前記一般式〔3〕および〔4〕で示される
単量体のポリマー中の割合は、それぞれ独立して、3モ
ル%以上80モル%以下であり、好ましくは5モル%以
上70モル%以下である。次に本発明における活性イミ
ノ基を有するポリマーの代表的な例を以下に示す。ただ
し、本発明のポリマーはこれらに限定されるものではな
い。
The proportion of the monomers represented by the general formulas [3] and [4] in the polymer is independently 3 mol% or more and 80 mol% or less, preferably 5 mol% or more and 70 mol% or less. % Or less. Next, typical examples of the polymer having an active imino group in the present invention are shown below. However, the polymer of the present invention is not limited to these.

【0026】[0026]

【化7】 Embedded image

【0027】[0027]

【化8】 Embedded image

【0028】[0028]

【化9】 Embedded image

【0029】[0029]

【化10】 Embedded image

【0030】[0030]

【化11】 Embedded image

【0031】[0031]

【化12】 Embedded image

【0032】[0032]

【化13】 Embedded image

【0033】[0033]

【化14】 Embedded image

【0034】これらのアルカリ可溶性樹脂は、単独でま
たは2種以上併用して用いることができる。これらのア
ルカリ可溶性樹脂は広範囲の酸価(単位重量当たり酸性
基のモル数)のものが使用できるが、0.5〜4.0
(meq/g)であることが好ましく、さらに好ましくは
1.0〜3.0(meq/g)である。
These alkali-soluble resins can be used alone or in combination of two or more. As these alkali-soluble resins, those having a wide range of acid values (moles of acidic groups per unit weight) can be used, but 0.5 to 4.0.
(Meq / g), and more preferably 1.0 to 3.0 (meq / g).

【0035】本発明において用いられる感光性物質(感
光剤)は、前記一般式(1)で示される化合物のキノン
ジアジドスルホン酸エステルであれば、特に限定される
ものではない。その具体例として、エステル部が、1,
2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、
2,1−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステ
ル、2,1−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エ
ステル、2,1−ナフトキノンジアジド−5−スルホン
酸エステル、その他キノンジアジド誘導体のスルホン酸
エステルなどである化合物が挙げられるが、本発明はこ
れに限定されるものではない。
The photosensitive substance (photosensitive agent) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a quinonediazide sulfonic acid ester of the compound represented by the general formula (1). As a specific example, the ester moiety is 1,
2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester,
Compounds such as 2,1-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester, 2,1-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester, 2,1-naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid ester, and other sulfonic acid esters of quinonediazide derivatives However, the present invention is not limited to this.

【0036】一般式(1)で示される化合物の具体例と
しては、以下のものが挙げられる。
The following are specific examples of the compound represented by the general formula (1).

【0037】[0037]

【化15】 Embedded image

【0038】[0038]

【化16】 Embedded image

【0039】[0039]

【化17】 Embedded image

【0040】[0040]

【化18】 Embedded image

【0041】前記一般式(1)で表される化合物は、例
えば相当するフェノールまたは置換フェノールを、塩酸
等の酸性触媒の存在下で、2官能のアルデヒド類または
ケトン類と反応させることにより良好な収率で得られ
る。このようにして得られる一般式(1)で表される化
合物は、アルコール、アセトン、酢酸、ベンゼン、トル
エン等の有機溶剤またはこれらの混合溶剤中で結晶化さ
せることにより、あるいはシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製することができる。
The compound represented by the above general formula (1) is preferably prepared by reacting the corresponding phenol or substituted phenol with a bifunctional aldehyde or ketone in the presence of an acidic catalyst such as hydrochloric acid. Obtained in yield. The compound represented by the general formula (1) thus obtained is crystallized in an organic solvent such as alcohol, acetone, acetic acid, benzene, and toluene or a mixed solvent thereof, or by silica gel column chromatography. It can be purified.

【0042】本発明の感光性物質は、例えば前記ポリヒ
ドロキシ化合物の水酸基の一部または全部を、1,2−
ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドと、塩
基性触媒の存在下で、通常のエステル化反応を行うこと
により得られる。即ち所定量のポリヒドロキシ化合物と
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリ
ド、及び溶媒、例えばジオキサン、アセトン、メチルエ
チルケトン、N−メチルピロリドン等をフラスコ中に仕
込み、塩基性触媒、例えば水酸化ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、トリエチルアミン等を滴下して縮合させ
る。得られた生成物は水洗後精製し乾燥する。
The photosensitive material of the present invention may be prepared, for example, by adding a part or all of the hydroxyl groups of the polyhydroxy compound to 1,2-
It is obtained by performing a normal esterification reaction with naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride in the presence of a basic catalyst. That is, a predetermined amount of a polyhydroxy compound and 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride, and a solvent such as dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N-methylpyrrolidone and the like are charged in a flask, and a basic catalyst such as sodium hydroxide, Sodium bicarbonate, triethylamine and the like are added dropwise for condensation. The obtained product is washed with water, purified and dried.

【0043】以上のエステル化反応においては、エステ
ル化数及びエステル化位置が種々異なる混合物が得られ
る。従って、本発明で言うエステル化率は、この混合物
の平均値として定義される。このように定義されたエス
テル化率は、原料であるポリヒドロキシ化合物と1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロリドとの
混合比により制御できる。即ち添加された1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホニルクロリドは、実質上
総てエステル化反応を起こすので、所望のエステル化率
の混合物を得るためには、原料のモル比を調整すればよ
い。なおエステル化率には特に制限はないが、好ましく
は5〜100%、より好ましくは10〜100%とする
ことができる。
In the above esterification reaction, a mixture having various esterification numbers and esterification positions is obtained. Therefore, the esterification rate referred to in the present invention is defined as an average value of this mixture. The esterification rate thus defined is determined by comparing the raw material polyhydroxy compound and 1,2
-Naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride. That is, virtually all of the added 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride causes an esterification reaction, so that the molar ratio of the raw materials may be adjusted to obtain a mixture having a desired esterification rate. The esterification rate is not particularly limited, but is preferably 5 to 100%, and more preferably 10 to 100%.

【0044】同様にして2,1−ナフトキノンジアジド
−5−スルホニルクロリド、1,2−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホニルクロリド等と反応させても本発明
の感光性物質を得ることができる。また前記方法による
反応温度は、通常−20〜60℃、好ましくは0〜40
℃である。
Similarly, the photosensitive substance of the present invention can be obtained by reacting with 2,1-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride, 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride or the like. The reaction temperature by the above method is usually -20 to 60 ° C, preferably 0 to 40 ° C.
° C.

【0045】前記のような方法で合成される感光性物質
は、本発明のポジ型感光性組成物として使用する際に、
単独でもしくは2種以上混合してアルカリ可溶性樹脂等
に配合して使用されるが、その配合量は、アルカリ可溶
性樹脂100重量部に対して5〜100重量部、好まし
くは10〜50重量部である。この使用比率が5重量部
未満では残膜率が著しく低下し、また100重量部を越
えると感度及び溶剤への溶解性が低下する。
The photosensitive substance synthesized by the above method is used when used as the positive photosensitive composition of the present invention.
It is used alone or as a mixture of two or more kinds and blended in an alkali-soluble resin or the like. The blending amount is 5 to 100 parts by weight, preferably 10 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. is there. If the use ratio is less than 5 parts by weight, the residual film ratio is remarkably reduced, and if it exceeds 100 parts by weight, sensitivity and solubility in a solvent are reduced.

【0046】また本発明では必ずしも必要ではないが必
要に応じて、前記感光性物質にすでに公知の感光性物質
を併用してもよい。例えば特開昭47−5303号、同
48−63802号、同48−63803号、同48−
96575号、同49−38701号、同48−133
54号、特公昭37−18015号、同41−1122
2号、同45−9610号、同49−17481号公
報、米国特許第2,797,213号、同第3,45
4,400号、同第3,544,323号、同第3,5
73,917号、同第3,674,495号、同第3,
785,825号、英国特許第1,227,602号、
同第1,251,345号、同第1,267,005
号、同第1,329,888号、同第1,330,93
2号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書に
記載されているものを併用することができる。
In the present invention, it is not always necessary, but if necessary, a known photosensitive material may be used in combination with the photosensitive material. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, and JP-A-48-63803.
No. 96575, No. 49-38701, No. 48-133
No. 54, Japanese Patent Publication No. 37-18015, 41-1122
No. 2, No. 45-9610, No. 49-17481, U.S. Pat. Nos. 2,797,213 and 3,45.
No. 4,400, No. 3,544,323, No. 3,5
No. 73,917, No. 3,674,495, No. 3,
785,825, British Patent No. 1,227,602,
Nos. 1,251,345 and 1,267,005
No. 1,329,888, No. 1,330,93
No. 2, German Patent No. 854,890 and the like can be used in combination.

【0047】この場合、本発明の感光性物質100重量
部に対し、1〜100重量部、好ましくは5〜30重量
部の割合で使用することができる。
In this case, it can be used in a proportion of 1 to 100 parts by weight, preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photosensitive substance of the present invention.

【0048】本発明のポジ型感光性組成物には更に必要
に応じて、種々の添加剤を添加することができる。例え
ば、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノ
ール類、有機酸類を併用することもできる。環状酸無水
物としては米国特許第4,115,128 号明細書に記載されて
いる無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4 −テ
トラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル
無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸な
どが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノー
ルA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノー
ル、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキ
シトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラ
ヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフ
ェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類として
は、特開昭60−88942 号、特開平2−96755 号公報など
に記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、ア
ルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類および
カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエン
スルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェ
ニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニ
ル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイ
ル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフ
タル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、
エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビ
ン酸などが挙げられる。
Various additives can be further added to the positive photosensitive composition of the present invention, if necessary. For example, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. Cyclic acid anhydride include US Patent has been and phthalic anhydride described in 4,115,128 Pat, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta 4 - tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride acid,
Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone,
2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,4', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane, etc. Further, examples of the organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, and alkyl sulfates described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. , Phosphonic acids, phosphoric acid esters, carboxylic acids, and the like. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phosphorus Phenyl acid, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxy Benzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid,
Erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like can be mentioned.

【0049】上記の環状酸無水物、フェノール類および
有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜2
0重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量
%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
The proportion of the above cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the photosensitive composition is 0.05 to 2%.
It is preferably 0% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, particularly preferably 0.1 to 10% by weight.

【0050】また、本発明における感光性組成物中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載さ
れているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044
号公報、特開平4−13149 号公報に記載されているよう
な両性界面活性剤を添加することができる。非イオン界
面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレー
ト、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレ
ート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
In the photosensitive composition of the present invention, in order to widen the stability of processing under development conditions, the photosensitive composition described in JP-A-62-251740 or JP-A-3-208514 is used. Nonionic surfactant, JP-A-59-121044
And an amphoteric surfactant described in JP-A-4-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether.

【0051】両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられる。上
記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の感光性組
成物中に占める割合は、0.05〜15重量%が好まし
く、より好ましくは0.1〜5重量%である。
Specific examples of the surfactant include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo KK) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0052】本発明における感光性組成物中には、露光
による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、
画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出
する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の
組合せを代表として挙げることができる。具体的には、
特開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載され
ているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロ
ゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−3622
3 号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−143748
号、同61−151644号および同63−58440 号の各公報に記
載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料
の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル
化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系
化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼
き出し画像を与える。
In the photosensitive composition of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure,
Dyes and pigments as image colorants can be added.
Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. In particular,
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A-53-3622
No. 3, 54-74728, 60-3626, 61-143748
And combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 61-151644 and 63-58440. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0053】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、感光性組成物全固形分に対し、0.01〜10
重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で感光性組成
物中に添加することができる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the salt-forming organic dyes described above. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, JP-A-62-2932
The dyes described in JP-B-47 are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.01 to 10 based on the total solid content of the photosensitive composition.
% By weight, preferably 0.1 to 3% by weight, can be added to the photosensitive composition.

【0054】更に本発明の感光性組成物中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル
酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等
が用いられる。
Further, a plasticizer may be added to the photosensitive composition of the present invention, if necessary, for imparting flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate,
Tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers and polymers of acrylic acid or methacrylic acid, and the like are used.

【0055】本発明の平版印刷版は、通常上記各成分を
溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより
製造することができる。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−
2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1
−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチル
ウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン等をあ
げることができるがこれに限定されるものではない。
The lithographic printing plate of the present invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used here,
Ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-
2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1
-Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, Examples include, but are not limited to, toluene.

【0056】これらの溶媒は単独あるいは混合して使用
される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の
濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、
乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、一般
的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜
特性は低下する。
These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. Also apply,
The coating amount (solid content) on the support obtained after drying is generally preferably from 0.5 to 5.0 g / m 2 . As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate.

【0057】本発明における感光性層中には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号
公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加
することができる。好ましい添加量は、全感光性組成物
の0.01〜1重量%さらに好ましくは0.05〜0.5重量
%である。
In the photosensitive layer in the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 may be added. Can be. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total photosensitive composition, more preferably 0.05 to 0.5% by weight.

【0058】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material, such as paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above.

【0059】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好まし
くは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mm
である。
As the support of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.
It is.

【0060】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902 号に開示されてい
るように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing the rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

【0061】この様に粗面化されたアルミニウム板は、
必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理さ
れた後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるた
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を
形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。
The aluminum plate thus roughened is
After an alkali etching treatment and a neutralization treatment as necessary, an anodic oxidation treatment is performed as required to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0062】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間1
0秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , voltage 1-100V, electrolysis time 1
A range of 0 seconds to 5 minutes is appropriate. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. So-called "scratch dirt" tends to occur.

【0063】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用
される親水化処理としては、米国特許第2,714,066 号、
同第3,181,461 号、第3,280,734 号および第3,902,734
号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例
えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法にお
いては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理さ
れるかまたは電解処理される。他に特公昭36−22063 号
公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび
米国特許第3,276,868 号、同第4,153,461 号、同第4,68
9,272 号に開示されているようなポリビニルホスホン酸
で処理する方法などが用いられる。
After the anodic oxidation treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. U.S. Pat.No. 2,714,066 as the hydrophilization treatment used in the present invention,
Nos. 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in US Pat. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Patent Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,68.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in US Pat. No. 9,272 is used.

【0064】本発明の平版印刷版は、支持体上にポジ型
の感光性組成物を設けたものであるが、必要に応じてそ
の間に下塗層を、感光性組成物層の上にマット層を設け
ることができる。下塗層成分としては種々の有機化合物
が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン
酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有し
てもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、ア
ルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホ
スホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチル
リン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有
機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミ
ンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いて
もよい。
The lithographic printing plate of the present invention has a positive photosensitive composition provided on a support. If necessary, an undercoat layer may be provided between the positive photosensitive composition and a matt layer on the photosensitive composition layer. Layers can be provided. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphinic acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloric acid of triethanolamine Hydroxy such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines having a group may be used in combination of two or more.

【0065】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々
の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度
は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%で
あり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50
℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒
〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調
整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性
改良のために黄色染料を添加することもできる。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound by immersing the aluminum plate, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. . In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 50%.
° C and the immersion time is from 0.1 second to 20 minutes, preferably from 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to pH 1 to 12 with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide or the like, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the image recording material.

【0066】有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m
2 が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2 であ
る。上記の被覆量が2mg/m2 よりも少ないと十分な耐
刷性能が得られない。また、200mg/m2 より大きく
ても同様である。
The coating amount of the organic undercoat layer is 2 to 200 mg / m
2 is suitable, preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0067】また、本発明のポジ型感光性組成物層の表
面には、擦り傷や接着故障等を防ぐためにマット層を設
けることができる。具体的には特開昭50−125805号、特
公昭57−6582号、同61−28986 号の各公報に記載されて
いるようなマット層を設ける方法、特公昭62−62337 号
公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方
法などが挙げられる。
Further, a mat layer can be provided on the surface of the positive photosensitive composition layer of the present invention in order to prevent abrasion, adhesion failure and the like. Specifically, a method of providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6658 and JP-B-61-28986 is described in JP-B-62-62337. And a method of thermally fusing such solid powder.

【0068】本発明に用いられるマット層の平均径は1
00μm以下が好ましく、より好ましい範囲としては2
〜8μmである。平均径が大きくなると、細線が付き難
く、ハイライトドットも点減りし、調子再現上好ましく
ない。平均径が2μm以下では擦り傷等の点で好ましく
ない。マット層の塗布量は5〜200mg/m2 が好まし
く、更に好ましくは20〜150mg/m2 である。塗布
量がこの範囲より大きいと擦り傷の原因となり、これよ
りも小さいと接着故障の点で好ましくない。上記のよう
にして作成されたポジ型画像記録材料は、通常、像露
光、現像処理を施される。
The average diameter of the mat layer used in the present invention is 1
00 μm or less, more preferably 2 μm or less.
88 μm. When the average diameter is large, it is difficult to form a thin line and the number of highlight dots is reduced, which is not preferable in tone reproduction. If the average diameter is 2 μm or less, it is not preferable in terms of scratches and the like. The coating amount of the mat layer is preferably from 5 to 200 mg / m 2, more preferably from 20~150mg / m 2. A coating amount larger than this range causes abrasion, while a coating amount smaller than this range is not preferable in terms of adhesion failure. The positive image recording material prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing.

【0069】像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
またg線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービー
ム(レーザービーム)も使用される。本発明において
は、近紫外から紫外領域に発光波長を持つ光源が好まし
く、水銀灯、メタルハライドランプが特に好ましい。
The light source of the actinic ray used for the image exposure includes, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp and the like.
In addition, g-line, i-line, Deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are also used. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near ultraviolet to ultraviolet region is preferable, and a mercury lamp and a metal halide lamp are particularly preferable.

【0070】本発明の平版印刷版の現像液および補充液
としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用で
きる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リ
ン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無
機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプ
ロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アル
カリ剤も用いられる。
As the developer and replenisher for the lithographic printing plate of the present invention, conventionally known aqueous alkali solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium Ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide,
And inorganic alkali salts such as ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine,
Dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, Organic alkali agents such as pyridine are also used.

【0071】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム等のケイ酸水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶
液、炭酸塩と炭酸水素塩の水溶液である。特に好ましい
ものとしては、比較的pHの低い炭酸塩と炭酸水素塩の
組み合わせが挙げられる。
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkaline agents, preferred developers are aqueous solutions of silicic acid such as sodium silicate and potassium silicate, aqueous solutions of alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and lithium hydroxide, carbonates and carbonates. It is an aqueous solution of a hydrogen salt. Particularly preferred is a combination of a carbonate and a bicarbonate having a relatively low pH.

【0072】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には現像性の促
進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イン
キ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有
機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、ア
ニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性
剤があげられる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.

【0073】更に現像液および補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液および補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。後処理としてはこれらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。
The developing solution and the replenisher may further include, if necessary, reducing agents such as sodium salts and potassium salts of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid and bisulfite, organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water. Softeners can also be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing, these processings can be used in various combinations.

【0074】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。
In recent years, in the plate making and printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and while pumping the exposed printing plate horizontally, each pumped by a pump. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like.

【0075】また、実質的に未使用の処理液で処理する
いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。更に、画像露
光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引
きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原
画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、
その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消
去は、例えば特公平 2−13293 号公報に記載されている
ような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の
時間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好
ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているよ
うなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必
要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied. Further, if the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming has an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film),
The unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably carried out by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293, to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can also be used.

【0076】[0076]

【実施例】つぎに、実施例をあげて本発明をさらに詳細
に説明する。なお下記実施例におけるパーセントは、他
に指定のない限り、すべて重量%である。 実施例1〜8及び比較例a〜c 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと4
00メッシュのパミストンの水懸濁液を用いてその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。こ
れをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流
を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の陽
極時電気量で電解粗面化処理をおこなった。その表面粗
さを測定したところ、0.6μm(Ra表示)であっ
た。ひきつづいて30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃
で2分間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流
密度2A/dm2において厚さが2.7g/m2になるよう
に陽極酸化して基板(I)を得た。この基板(I)を7
0℃の珪酸ソーダの2.5%水溶液に1分間浸漬し、水
洗し、乾燥させた。このように処理された基板の表面に
下記組成の下塗り液(A)を塗布し80℃、30秒間乾
燥した。乾燥後の被覆量は30mg/m2であった。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. All percentages in the following examples are percentages by weight unless otherwise specified. Examples 1 to 8 and Comparative Examples a to c An aluminum plate having a thickness of 0.30 mm was
The surface was grained with an aqueous suspension of pumicestone of 00 mesh, and then thoroughly washed with water. After etching by dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, the substrate was washed with running water, neutralized with 20% nitric acid, and washed with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment in a 1% nitric acid aqueous solution at an anode electricity of 160 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of V A = 12.7 V. When the surface roughness was measured, it was 0.6 μm ( Ra display). Then immersed in a 30% aqueous sulfuric acid solution at 55 ° C
After desmutting for 2 minutes, the substrate (I) was obtained by anodizing in a 20% aqueous sulfuric acid solution at a current density of 2 A / dm 2 so that the thickness became 2.7 g / m 2 . This substrate (I)
It was immersed in a 2.5% aqueous solution of sodium silicate at 0 ° C. for 1 minute, washed with water, and dried. The undercoat liquid (A) having the following composition was applied to the surface of the substrate thus treated, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 30 mg / m 2 .

【0077】 下塗り液(A) フェニルフォスフォン酸 0.064g 1%硫酸水溶液 6.0g 1%リン酸水溶液 6.0g メタノール 70g 純水 18g このようにして基板(II)を作成した。Undercoat solution (A) Phenylphosphonic acid 0.064 g 1% aqueous sulfuric acid solution 6.0 g 1% aqueous phosphoric acid solution 6.0 g Methanol 70 g Pure water 18 g In this way, a substrate (II) was prepared.

【0078】つぎに、この基板(II)につぎの感光液
(A)を25ml/m2塗設し、100℃で1分間乾燥して
ポジ型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は約
1.7g/m2であった。 感光液(A) 表1に記載の感光性物質 0.75g 表2に記載のアルカリ可溶性樹脂(1) 2.0g 2−(p−ブトキシフェニル)−4,6−ビス (トリクロルメチル)−s−トリアジン 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸 クロライド 0.03g クリスタルバイオレット 0.01g オイルブルー3#603 0.015g (オリエント化学工業株式会社製) 1−メトキシ−2−プロパノール 18g 2−メトキシエチルアセテート 12g これらの感光性平版印刷版をそれぞれ2kWのメタルハラ
イドランプで1mの距離よりポジ透明原画を通して40
秒間露光した。
Next, the following photosensitive solution (A) was coated on the substrate (II) at 25 ml / m 2 and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. The coated amount after drying was about 1.7 g / m 2 . Photosensitive solution (A) Photosensitive substance described in Table 1 0.75 g Alkali-soluble resin shown in Table 2 (1) 2.0 g 2- (p-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine 0.02 g naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride 0.03 g crystal violet 0.01 g oil blue 3 # 603 0.015 g (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) 1-methoxy-2-propanol 18 g 12 g of 2-methoxyethyl acetate Each of these photosensitive lithographic printing plates was passed through a positive transparent original from a distance of 1 m with a 2 kW metal halide lamp at a distance of 1 m.
Exposure for seconds.

【0079】露光した感光性平版印刷版をつぎに示す条
件で現像処理をおこなった。すなわちまず富士写真フイ
ルム(株)製自現機スタブロン900NPに下記の現像
液−1を水で4倍に希釈した現像液と富士写真フイルム
(株)製フィニッシャーFP−2をそれぞれ仕込み、現
像液温30℃、現像時間30秒の条件にて現像処理をお
こなった。
The exposed photosensitive lithographic printing plate was developed under the following conditions. That is, first, a developer obtained by diluting the following developer 1 by 4 times with water and a finisher FP-2 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. were respectively charged into an automatic developing machine Stublon 900NP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The development processing was performed under the conditions of 30 ° C. and a development time of 30 seconds.

【0080】 現像液−1 炭酸ナトリウム・1水塩 7g 炭酸水素ナトリウム 4.5g エチレンジアミンテトラ酢酸 2g 水 100g 現像処理後、得られた平版印刷版をオフセット印刷機に
て印刷し、耐刷性のテストをおこなった。耐刷性の劣る
ものは少ない枚数で画像部が摩耗してインキが付着しな
くなり、正常な印刷物が得られなくなる。
Developer-1 Sodium carbonate / monohydrate 7 g Sodium bicarbonate 4.5 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2 g Water 100 g After the development, the obtained lithographic printing plate was printed with an offset printing machine to test the printing durability. Was done. If the printing durability is poor, the image portion wears out with a small number of sheets, and the ink does not adhere to the printed portion, so that a normal printed matter cannot be obtained.

【0081】また、露光から現像までの経時による感度
変動(経時感度変化)を調べるために、前記の条件で露
光した後に、35℃、湿度85%の条件で16時間経時
した後に現像し、露光直後に現像した平版印刷版と感度
を比較した。ほとんど感度が変動しなかったものを○、
大きく変化し正常な印刷物が得られなかったものを×、
その中間を△で表示した。これらの結果を表1に示す。
これらの結果より、本発明のポジ型平版印刷版は比較例
に比べて、極めて優れた性能を有することが分かる。ま
た、現像液−1のような、比較的低いpHの現像液で現
像する場合、本発明の効果は著るしい。
Further, in order to examine the change in sensitivity (sensitivity change with time) from time to time from exposure to development, after exposure under the above conditions, development was performed after aging at 35 ° C. and 85% humidity for 16 hours. Immediately after, the sensitivity was compared with the lithographic printing plate developed. If the sensitivity hardly fluctuated,
X, those that did not produce normal printed matter due to large changes
The middle is indicated by △. Table 1 shows the results.
From these results, it can be seen that the positive planographic printing plate of the present invention has extremely excellent performance as compared with Comparative Examples. Further, when developing with a developer having a relatively low pH such as Developer-1, the effect of the present invention is remarkable.

【0082】[0082]

【表1】 No. 感光性物質 耐刷性(枚) 経時感度変化 実施例1 (1) 23万 ○ 実施例2 (2) 22万 ○ 実施例3 (3) 24万 ○ 実施例4 (4) 22万 ○ 実施例5 (5) 25万 ○ 実施例6 (6) 22万 △ 実施例7 (7) 21万 ○ 実施例8 (8) 20万 △ 比較例a (a) 18万 ○ 比較例b (b) 19万 △ 比較例c (c) 18万 ×[Table 1] No. Photosensitive substance Printing durability (sheets) Change in sensitivity over time Example 1 (1) 230,000 ○ Example 2 (2) 220,000 ○ Example 3 (3) 240,000 ○ Example 4 (4) 220,000 ○ Example 5 (5) 250,000 ○ Example 6 (6) 220,000 △ Example 7 (7) 210,000 ○ Example 8 (8) 200,000 △ Comparative example a (a) 180,000 ○ Comparative example b (b) 19 10,000 △ Comparative Example c (c) 180,000 ×

【0083】(1) 化合物(1)の1,2ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホン酸エステル(エステル化率8
5%) (2) 化合物(1)の1,2ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸エステル(エステル化率85%) (3) 化合物(2)の1,2ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸エステル(エステル化率85%) (4) 化合物(2)の1,2ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸エステル(エステル化率85%) (5) 化合物(5)の1,2ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸エステル(エステル化率85%) (6) 化合物(5)の1,2ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸エステル(エステル化率85%) (7) 化合物(14)の1,2ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸エステル(エステル化率90%) (8) 化合物(14)の1,2ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸エステル(エステル化率90%) (a) ピロガロール−アセトン樹脂と1,2ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホンクロリドとのエステル化物
(米国特許第3635709号明細書の実施例1に記載
されているもの) (b) 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンと
1,2ナフトキノンジアジド−5−スルホンクロリドと
のエステル化物(エステル化率77%) (c) 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンと
1,2ナフトキノンジアジド−4−スルホンクロリドと
のエステル化物(エステル化率77%)
(1) 1,2naphthoquinonediazide-5-sulfonic acid ester of compound (1) (esterification rate 8
(2) 1,2 naphthoquinonediazide of compound (1)
4-sulfonic acid ester (esterification rate 85%) (3) 1,2 naphthoquinonediazide of compound (2)
5-sulfonic acid ester (esterification rate 85%) (4) 1,2 naphthoquinonediazide of compound (2)
4-sulfonic acid ester (esterification rate 85%) (5) 1,2-naphthoquinonediazide of compound (5)
5-Sulfonate (esterification rate 85%) (6) 1,2-naphthoquinonediazide of compound (5)
4-sulfonic acid ester (esterification rate 85%) (7) 1,2-naphthoquinonediazide of compound (14)
5-Sulfonate (esterification rate 90%) (8) 1,2-naphthoquinonediazide of compound (14)
4-sulfonic acid ester (esterification rate 90%) (a) Esterified product of pyrogallol-acetone resin and 1,2 naphthoquinonediazide-5-sulfon chloride (described in Example 1 of U.S. Pat. No. 3,635,709) (B) Esterified product of 2,3,4-trihydroxybenzophenone and 1,2 naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride (esterification rate 77%) (c) 2,3,4-trihydroxybenzophenone Esterified product with 1,2 naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride (esterification rate 77%)

【0084】[0084]

【表2】 [Table 2]

【0085】実施例9〜12及び比較例d〜e アルミニウム板を実施例1〜8と同様の条件で処理した
基板(II)を作成した。つぎにこの基板(II)上につぎ
の感光液(B)を塗布し、100℃で1分間乾燥してポ
ジ型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は約1.
7g/m2であった。 感光液(B) 表1に記載の感光性物質 0.45g 表2に記載のアルカリ可溶性樹脂(バインダー) 1.2g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン クロライド 0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 0.02g 安息香酸 0.02g ピロガロール 0.05g 4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル) アミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロルメチル) −s−トリアジン 0.02g N−(1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル ホニルオキシ)−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸 イミド 0.01g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製)の 対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に変えた染料 0.045g メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.015g メチルエチルケトン 25g プロピレングリコールモノメチルエーテル 10g
Examples 9 to 12 and Comparative Examples de to e Substrates (II) were prepared by treating aluminum plates under the same conditions as in Examples 1 to 8. Next, the following photosensitive liquid (B) was applied onto the substrate (II) and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. The coating amount after drying is about 1.
It was 7 g / m 2 . Photosensitive solution (B) Photosensitive substance described in Table 1 0.45 g Alkali-soluble resin (binder) described in Table 2 1.2 g Naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.02 g Benzoic acid 0.02 g Pyrogallol 0.05 g 4- [p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 g N- ( 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonyloxy) -cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid imide 0.01 g The counter anion of Victoria Pure Blue BOH (produced by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) is 1-naphthalenesulfonic acid. 0.045g Megafac F-177 (Dai Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd. Fluorine) Surfactant) 0.015 g Methyl ethyl ketone 25 g Propylene glycol monomethyl ether 10 g

【0086】次に、これらの感光性平版印刷版を、それ
ぞれ真空焼枠中で透明ポジティブフィルムを通して1m
の距離から3kWのメタルハライドランプにより1分間露
光した後、富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4
(1:8)リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動
現像機を通して処理した。次いで、富士写真フイルム
(株)ガムGU−7を水で2倍に希釈した液で版面を処
理し、1日放置後オフセット印刷機にかけて印刷し、耐
刷性のテストをおこなった。また、実施例1〜8と同様
の方法で経時感度変化のテストをおこなった。これらの
結果を表3に示した。
Next, these photosensitive lithographic printing plates were each passed through a transparent positive film for 1 m in a vacuum furnace.
1 min. From a 3 kW metal halide lamp from a distance of 1 mm, then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4
Processing was carried out through an automatic developing machine charged with a (1: 8) rinse solution FR-3 (1: 7). Next, the plate surface was treated with a solution obtained by diluting Gum GU-7, a product of Fuji Photo Film Co., Ltd., with water two-fold, left for one day, and then printed on an offset printing machine to perform a printing durability test. Further, a test for a change in sensitivity over time was performed in the same manner as in Examples 1 to 8. Table 3 shows the results.

【0087】常法に従って処理して得られた平版印刷版
をオフセット印刷機にかけて印刷し、耐刷性のテストを
おこなった。また、実施例1〜8と同様の方法で経時感
度変化のテストをおこなった。これらの結果を表3に示
した。表3から明らかなように本発明の感光性組成物
は、極めてすぐれた性能を有することがわかる。
The planographic printing plate obtained by processing according to a conventional method was printed by an offset printing machine, and a printing durability test was performed. Further, a test for a change in sensitivity over time was performed in the same manner as in Examples 1 to 8. Table 3 shows the results. As is clear from Table 3, the photosensitive composition of the present invention has extremely excellent performance.

【0088】[0088]

【表3】 No. 感光性物質 バインダー 耐刷性(枚) 経時感度変化 実施例9 (1) (2) 23万 ○ 実施例10 (1) (3) 22万 ○ 実施例11 (2) (2) 24万 ○ 実施例12 (2) (3) 22万 ○ 比較例d (a) (2) 20万 ○ 比較例e (b) (2) 19万 ×[Table 3] No. Photosensitive material Binder Printing durability (sheets) Change in sensitivity over time Example 9 (1) (2) 230,000 Example 10 (1) (3) 220,000 Example 11 (2) (2) 240,000 Example Example 12 (2) (3) 220,000 ○ Comparative example d (a) (2) 200,000 ○ Comparative example e (b) (2) 190,000 ×

【0089】実施例13〜16及び比較例f〜g アルミニウム板を実施例1〜8と同様の条件で処理した
基板(I)を作成した。つぎにこの基板(I)に下塗り
液(B)を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は30mg/m2であった。 下塗り液(B) アミノエチルフォスフォン酸 0.1g フェニルフォスフォン酸 0.15g β−アラニン 0.1g メタノール 40g 純水 60g このようにして基板(III)を作成した。
Examples 13 to 16 and Comparative Examples f to g A substrate (I) was prepared by treating an aluminum plate under the same conditions as in Examples 1 to 8. Next, the undercoat liquid (B) was applied to the substrate (I) and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 30 mg / m 2 . Undercoat liquid (B) Aminoethylphosphonic acid 0.1 g Phenylphosphonic acid 0.15 g β-alanine 0.1 g Methanol 40 g Pure water 60 g In this way, a substrate (III) was prepared.

【0090】次にこの基板(III)の上に感光液(B)
を塗布し、100℃で1分間乾燥してポジ型感光性印刷
版を得た。乾燥後の塗布量は約1.7g/m2であった。
Next, on this substrate (III), a photosensitive solution (B)
And dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a positive photosensitive printing plate. The coated amount after drying was about 1.7 g / m 2 .

【0091】次に、これらの感光性平版印刷版を、それ
ぞれ真空焼枠中で透明ポジティブフィルムを通して1m
の距離から3kWのメタルハライドランプにより1分間露
光した後、富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4
(1:8)リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動
現像機を通して処理した。次いで、富士写真フイルム
(株)ガムGU−7を水で2倍に希釈した液で版面を処
理し、1日放置後オフセット印刷機にかけて印刷し、耐
刷性のテストをおこなった。また、実施例1〜8と同様
の方法で経時感度変化のテストをおこなった。これらの
結果を表4に示した。
Next, these photosensitive lithographic printing plates were each passed through a transparent positive film in a vacuum furnace for 1 m.
1 min. From a 3 kW metal halide lamp from a distance of 1 mm, then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4
Processing was carried out through an automatic developing machine charged with a (1: 8) rinse solution FR-3 (1: 7). Next, the plate surface was treated with a solution obtained by diluting Gum GU-7, a product of Fuji Photo Film Co., Ltd., with water two-fold, left for one day, and then printed on an offset printing machine to perform a printing durability test. Further, a test for a change in sensitivity over time was performed in the same manner as in Examples 1 to 8. Table 4 shows the results.

【0092】表4から明らかなように本発明の感光性組
成物は、極めてすぐれた性能を有することがわかる。
As is clear from Table 4, the photosensitive composition of the present invention has extremely excellent performance.

【0093】[0093]

【表4】 No. 感光性物質 バインダー 耐刷性(枚) 経時感度変化 実施例13 (1) (2) 25万 ○ 実施例14 (1) (3) 23万 ○ 実施例15 (2) (2) 24万 ○ 実施例16 (2) (3) 22万 ○ 比較例f (a) (2) 19万 ○ 比較例g (b) (2) 18万 ×[Table 4] No. Photosensitive material Binder Printing durability (sheets) Change in sensitivity over time Example 13 (1) (2) 250,000 ○ Example 14 (1) (3) 230,000 ○ Example 15 (2) (2) 240,000 ○ Example 16 (2) (3) 220,000 ○ Comparative example f (a) (2) 190,000 ○ Comparative example g (b) (2) 180,000 ×

【0094】[0094]

【発明の効果】本発明は、比較的低いpHのアルカリ水
溶液でも現像性が高く、基板に対する密着性が良く、柔
軟な被膜を与え、かつ耐刷力の大きい感光性平版印刷版
を提供することができる。更に本発明は、感光性物質と
してポリヒドロキシ化合物の1,2−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸エステル化物を用いても、露光後
の経時による感度変動などの性能低下の僅かな感光性平
版印刷版を提供することができる。
According to the present invention, there is provided a photosensitive lithographic printing plate having high developability even in an aqueous alkaline solution having a relatively low pH, having good adhesion to a substrate, providing a flexible film, and having high printing durability. Can be. Furthermore, the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate having a slight decrease in performance such as a change in sensitivity over time after exposure even when a 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid ester of a polyhydroxy compound is used as a photosensitive substance. Can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 則章 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士 写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−35185(JP,A) 特開 平6−43636(JP,A) 特開 平4−1652(JP,A) 特開 平4−301851(JP,A) 特開 平4−343359(JP,A) 特開 平5−249665(JP,A) 特開 平5−27430(JP,A) 特開 平5−289333(JP,A) 特開 平6−59447(JP,A) 特開 昭63−226641(JP,A) 特開 昭63−124047(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 - 7/42 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Noriaki Watanabe 4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture Inside Fuji Photo Film Co., Ltd. (56) References JP-A-6-35185 (JP, A) JP-A-6 JP-A-43636 (JP, A) JP-A-4-1652 (JP, A) JP-A-4-301185 (JP, A) JP-A-4-343359 (JP, A) JP-A-5-249665 (JP, A) JP-A-5-27430 (JP, A) JP-A-5-289333 (JP, A) JP-A-6-59447 (JP, A) JP-A-63-226441 (JP, A) JP-A-63-264 124047 (JP, A) (58) Fields studied (Int. Cl. 7 , DB name) G03F 7/ 00-7/42

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に、少なくとも一種の下記一般
式(1)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2(ま
たは2,1)−ナフトキノンジアジド−4−(または−
5−)スルホン酸エステル化物よりなる感光性物質と、
スルホンアミド基を有するアクリル系ポリマー、カルボ
ン酸を有するウレタン系ポリマーおよび活性イミノ基を
有するアクリル系ポリマーの中から選ばれる少なくとも
1種のアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組
成物を塗設してなる感光性平版印刷版。 【化1】 式(1)中、Aはアルキレン基、置換アルキレン基、ア
ルケニレン基、置換アルケニレン基、アリーレン基、又
は置換アリーレン基を示す。Bは水素原子、アルキル基
または置換アルキル基を示す。R1〜R8は、それぞれ独
立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキ
ル基、シクロアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ
基、炭素数1〜4のアルケニル基または水酸基である。
1. A polyhydroxy compound represented by the following general formula (1): 1,2 (or 2,1) -naphthoquinonediazide-4- (or-
5-) a photosensitive substance comprising a sulfonic acid ester ;
Acrylic polymer having sulfonamide group, carbo
Urethane-based polymer having acid and active imino group
At least selected from among acrylic polymers having
Photosensitive lithographic printing plate comprising coated with a positive photosensitive composition containing a one alkali-soluble resin. Embedded image In the formula (1), A represents an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an arylene group, or a substituted arylene group. B represents a hydrogen atom, an alkyl group or a substituted alkyl group. R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydroxyl group. is there.
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