JP3322665B2 - High frequency module - Google Patents
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- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話等に好適
な高周波モジュールに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency module suitable for a cellular phone or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の高周波モジュールでは、その目的
に応じて、片面基板、両面基板、更には積層基板を用い
て、マイクロストリップラインを含むストリップライン
を構成し、そのトップ層に回路上必要となる抵抗、コン
デンサ、更に半導体部品を搭載していた。2. Description of the Related Art In a conventional high-frequency module, a strip line including a microstrip line is formed by using a single-sided board, a double-sided board, or a laminated board according to the purpose. It had mounted resistors, capacitors, and even semiconductor components.
【0003】図8の概略斜視図に、従来の高周波モジュ
ールの一例を示す。この従来の高周波モジュールは、図
8に示すように、下方向から、下面シ−ルド層105、
共振器用のストリップラインが形成された基板層10
4、グランド層103、いわゆるチップ部品(抵抗,コ
ンデンサおよびその他の半導体部品)が実装されたトッ
プ層102、メタルキャップシールドケース101が、
順次積層された構成のものである。FIG. 8 is a schematic perspective view showing an example of a conventional high-frequency module. As shown in FIG. 8, the conventional high-frequency module includes a lower shield layer 105,
Substrate layer 10 on which strip line for resonator is formed
4. A ground layer 103, a top layer 102 on which so-called chip components (resistors, capacitors and other semiconductor components) are mounted, and a metal cap shield case 101
It is of a configuration that is sequentially laminated.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従来の高周波モジュー
ルでは、上記のような構成であるため、これら部品の形
状がモジュールの大きさと厚さを決定付ける要因となっ
ている。市場からの要望で、部品メーカーではこれらの
チップ部品を如何に小さく、薄く作るかに注目がなされ
ている。In a conventional high-frequency module having the above-described configuration, the shapes of these components are factors that determine the size and thickness of the module. Due to market demands, component manufacturers are paying attention to how to make these chip components smaller and thinner.
【0005】一方、アセンブリメーカーでは、高密度に
実装するために専用設備をはじめ、各種シミュレータを
導入して回路設計を進めている。こら様な状況の中で、
各種携帯電話、PDA(Personal Digital Assistant
s)などは益々小型薄型、軽量化が求められている。こ
のニーズに答えるためには、モジュールの小型化が必要
不可欠のところまできている。[0005] On the other hand, an assembly maker introduces various simulators, including dedicated equipment for high-density mounting, and is proceeding with circuit design. In these situations,
Mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistant)
s) and the like are increasingly required to be smaller, thinner and lighter. To meet this need, miniaturization of modules has become essential.
【0006】従来のモジュールでは、1608(1.6mm
×0.8mm)のチップサイズから1005(1.0mm×0.5mm)
のチップサイズへと移行しており、更に0603(0.6mm
×0.3mm)サイズが一部使用されつつある。1005サ
イズから0603サイズのチップヘ移行すると、指数関
数的に,部品単価、実装、実装設備、歩留り等に関して
の課題が増える。In the conventional module, 1608 (1.6 mm
× 0.5mm) to 1005 (1.0mm × 0.5mm)
The chip size has been shifted to 0603 (0.6 mm
× 0.3mm) Some of the sizes are being used. When shifting from the 1005 size chip to the 0603 size chip, the problems related to the unit cost of components, mounting, mounting equipment, yield, and the like increase exponentially.
【0007】しかしながら、上述のように、市場ニーズ
の小型軽量低価格を達成するは、礎来の技術では充分に
対処できていなかった。さらに、0603サイズのチッ
プのプロセス技術確立後の新規技術の見通しが必要とな
るが、上記のような従来技術では充分に対処できない。[0007] However, as described above, achieving the small size, light weight, and low price of the market needs has not been sufficiently addressed by the underlying technologies. Further, it is necessary to have a prospect of a new technology after the process technology of the 0603-size chip is established, but the conventional technology as described above cannot sufficiently cope with it.
【0008】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、設計更が容易で小型軽声低
価格な高周波モジュールを提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and has as its object to provide a small, lightweight, low-cost high-frequency module that can be easily redesigned.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の高周波モジュールは、アレイ状に形成され
た複数の第1受動素子、および、該複数の第1受動素子
間の電気的接続を行なう第1受動素子用配線パターンを
含む、配線付き第1受動素子アレイ層と、アレイ状に形
成された複数の第2受動素子、および、該複数の第2受
動素子間の電気的接続を行なう第2受動素子用配線パタ
ーンを含む、配線付き第2受動素子アレイ層とを備え
る。この発明の構成上の特徴は、上記複数の第1受動素
子および上記複数の第2受動素子がそれぞれ、第1およ
び第2受動素子用配線パターンの変更によって、任意の
組合せで相互に配線接続することにより、所望の回路定
数を得ることができるようになっている点である。In order to achieve the above object, a high-frequency module according to the present invention comprises a plurality of first passive elements formed in an array and an electrical connection between the plurality of first passive elements. A first passive element array layer with wiring, including a first passive element wiring pattern for performing the following, a plurality of second passive elements formed in an array, and an electrical connection between the plurality of second passive elements. A second passive element array layer with wiring, including a second passive element wiring pattern to be performed. A structural feature of the present invention is that the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements are mutually connected in any combination by changing the first and second passive element wiring patterns. Thus, a desired circuit constant can be obtained.
【0010】上記第1の受動素子としては、抵抗素子、
コンデンサ素子およびインダクタ素子のいずれかが該当
し、上記第2の受動素子としても、抵抗素子、コンデン
サ素子およびインダクタ素子のいずれかが該当する。As the first passive element, a resistance element,
One of a capacitor element and an inductor element corresponds to the second passive element, and any of the resistor element, the capacitor element, and the inductor element corresponds to the second passive element.
【0011】本発明の高周波モジュールは、たとえば、
配線付き第1受動素子アレイ層と配線付き第2受動素子ア
レイ層とが互いに異なる面に、あるいは双方とも同一の
面に形成される。いずれの場合にも、第1受動素子用配
線パターンと第2受動素子用配線パターンとが、配線付
き第1受動素子アレイ層と配線付き第2受動素子アレイ層
との間に介在する結線により、電気的に接続される。The high-frequency module according to the present invention is, for example,
The first passive element array layer with wiring and the second passive element array layer with wiring are formed on different surfaces or both on the same surface. In any case, the first passive element wiring pattern and the second passive element wiring pattern are connected by a wiring interposed between the first passive element array layer with wiring and the second passive element array layer with wiring. Electrically connected.
【0012】配線付き第1受動素子アレイ層と配線付き
第2受動素子アレイ層とが、1枚の基板の表裏面にそれ
ぞれ形成される場合には、第1受動素子用配線パターン
と第2受動素子用配線パターンとの電気的接続は、基板
を貫通して設けられたスルーホールに形成された導電層
により行なうことができる。When the first passive element array layer with wiring and the second passive element array layer with wiring are formed on the front and back surfaces of one substrate, respectively, the first passive element wiring pattern and the second passive element array pattern are formed. Electrical connection with the element wiring pattern can be made by a conductive layer formed in a through hole provided through the substrate.
【0013】上記構成を有することにより、本発明によ
れば、例えばアレイとして構成する抵抗素子、コンデン
サ素子あるいはインダクタ素子は、高周波モジュールが
適用される具体的な用途とは無関係に予め定められた、
所定の抵抗値,容量値、あるいはインダクタンス値を有
する素子のアレイを形成し、配線パターンのみの変更に
よるこれらの素子の組合せによって、所望の用途に必要
な回路定数を得ることができる。このような高周波モジ
ュールは、幅広い用途に適用可能であることから、各種
要望に対応できる標準的な高周波モジュールとして設計
することを可能とする。その結果、大量生産につながっ
て製造コストの大幅な低減が実現される。With the above-described structure, according to the present invention, for example, the resistance element, the capacitor element, or the inductor element configured as an array is predetermined regardless of the specific application to which the high-frequency module is applied.
An array of elements having a predetermined resistance value, capacitance value, or inductance value is formed, and a circuit constant required for a desired application can be obtained by combining these elements by changing only the wiring pattern. Since such a high-frequency module can be applied to a wide range of applications, it can be designed as a standard high-frequency module that can respond to various requests. As a result, a large reduction in manufacturing cost is realized, which leads to mass production.
【0014】また、設計変更を行なうのに、回路設計以
外に、各アレイ層の配線パターンのみの変更で済むた
め、開発時間が短縮されるとともに、開発費用が削減さ
れる。In addition, since only the wiring pattern of each array layer needs to be changed in addition to the circuit design to make the design change, the development time is reduced and the development cost is reduced.
【0015】本発明の高周波モジュールの受動素子アレ
イとしての抵抗アレイ,コアデンサアレイ,あるいはイ
ンダクタアレイを、印刷,蒸着,フォトエッチング,選
択めっきなどの手法を用いて形成すれば、バラツキ精度
も向上するので、モジュール性能としても目標に合った
ものを形成することが可能となり、工業上の意義も深
い。If a resistor array, a core capacitor array, or an inductor array as a passive element array of the high-frequency module of the present invention is formed by using a technique such as printing, vapor deposition, photoetching, and selective plating, the variation accuracy is improved. Therefore, it is possible to form a module that meets the target in terms of module performance, and it has great industrial significance.
【0016】更に、チップ部品としての受動素子を使用
しないことにより、従来のような0603サイズのよう
な非常に小さいチップ部品を扱う必要もなくなるので、
高価なマウンターなどの設備も不要となる。Furthermore, since passive elements are not used as chip parts, it is not necessary to handle very small chip parts such as the conventional 0603 size.
Equipment such as expensive mounters is not required.
【0017】また、本発明によれば、大多数の受動部品
を、積層された基板層の主表面に形成することによって
内装化できるので、能動部品である半導体部品のみを、
例えば積層体上部のトップ層に実装すればよく、従来設
備で十分対処できることとなる。Further, according to the present invention, since most of the passive components can be formed by forming them on the main surface of the laminated substrate layer, only the active semiconductor components can be used.
For example, it may be mounted on the top layer on the top of the laminate, and conventional equipment can sufficiently cope with the problem.
【0018】本発明の高周波モジュールの好ましい実施
例においては、配線付き第1受動素子アレイ層の少なく
とも上下のいずれか一方に、ストリップラインおよび能
動電子部品の少なくとも一方が配置されている。In a preferred embodiment of the high-frequency module according to the present invention, at least one of a stripline and an active electronic component is arranged on at least one of the upper and lower sides of the first passive element array layer with wiring.
【0019】本発明の高周波モジュールにおいては、複
数の第1の受動素子および複数の第2の受動素子の少な
くとも一方の全数が、同一の抵抗値,容量値,またはイン
ダクタンス値を有するように構成することができる。ま
た、複数の第1の受動素子および複数の第2の受動素子
の少なくとも一方が、複数の群をなし、該複数の群のそ
れぞれにおいて、構成する受動素子の全数が、同一の抵
抗値,容量値,またはインダクタンス値を有するように構
成することもできる。In the high-frequency module according to the present invention, at least one of the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements has the same resistance, capacitance, or inductance. be able to. Further, at least one of the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements forms a plurality of groups, and in each of the plurality of groups, the total number of constituent passive elements has the same resistance and capacitance. It can also be configured to have a value, or inductance value.
【0020】これは、複数の第1受動素子および複数の
第2受動素子がそれぞれ、第1および第2受動素子用配
線パターンのみの変更によって、任意の組合せで相互に
配線接続することにより、所望の回路定数を得ることが
できるようになっているためである。This is because the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements are interconnected in any combination by changing only the wiring patterns for the first and second passive elements, respectively. This is because the following circuit constant can be obtained.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0022】図1は、本実施形態の、4つの基板層が積
層された高周波モジュールの概略構造を、基板層間の境
界をわかり易くするために各基板層ごとに分離して示す
要部断面図である。この高周波モジュールは、上方か
ら、トップ基板層としての第1基板層1(図1
(a))、第2基板層2(図1(b))、第3基板層3
(図1(c))、および第4基板層4(図1(d))
が、それぞれ順次積層されて構成されている。これらの
基板層のうち、本実施形態の特徴となるのは、図1
(c)に示す第3基板層3であるので、先ずこの第3基
板層3について説明する。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a high-frequency module in which four substrate layers are stacked according to the present embodiment, which are separated for each substrate layer so that boundaries between the substrate layers can be easily understood. is there. This high-frequency module includes a first substrate layer 1 (FIG. 1) as a top substrate layer from above.
(A)), second substrate layer 2 (FIG. 1 (b)), third substrate layer 3
(FIG. 1C) and the fourth substrate layer 4 (FIG. 1D)
Are sequentially laminated. Among these substrate layers, the feature of the present embodiment is that FIG.
Since this is the third substrate layer 3 shown in (c), the third substrate layer 3 will be described first.
【0023】第3基板層3においては、その絶縁基板3
0の上面に、誘電体膜としてのアレイ状に配されたコン
デンサ素子31および配線パターン層32a,32bを
含む配線付コンデンサアレイ層3aが形成されている。
また、絶縁基板30の下面には、アレイ状に配された抵
抗膜34および配線パターン35を含む配線付抵抗アレ
イ層3cが形成されている。さらに、絶縁基板30に
は、ビアホール36が形成され、このビアホール36に
埋め込まれた導電体を介して、配線付抵抗アレイ層3c
と配線付コンテンサアレイ層3aとが結線されている。
したがって絶縁基板30が結線層3bに相当する。In the third substrate layer 3, the insulating substrate 3
A capacitor array layer 3a with wiring including capacitor elements 31 and wiring pattern layers 32a and 32b arranged in an array as a dielectric film is formed on the upper surface of the substrate.
On the lower surface of the insulating substrate 30, a resistance array layer 3c with wiring including a resistance film 34 and a wiring pattern 35 arranged in an array is formed. Further, a via hole 36 is formed in the insulating substrate 30, and via the conductor buried in the via hole 36, the resistance array layer with wiring 3 c is formed.
And the wiring-equipped contentor array layer 3a.
Therefore, the insulating substrate 30 corresponds to the connection layer 3b.
【0024】絶縁基板30の上面の配線付コンデンサア
レイ層3aでは、コンデンサ31の誘電体膜となるTa
O2(酸化タンタル)薄膜31aを図面垂直方向に挟む
ように、Al,Cuなどの導電性材料から成る電極およ
び配線を含む配線パターン32a,32bが形成され、
コンデンサ素子31を構成している。そして、配線パタ
ーン32a,32b上には、上部に配置される第2基板
層2との結線部分(接触部分)を除いて、樹脂材料など
から成る絶縁膜33が配置されている。In the capacitor array layer 3 a with wiring on the upper surface of the insulating substrate 30, Ta serving as a dielectric film of the capacitor 31 is formed.
Wiring patterns 32a and 32b including electrodes and wiring made of a conductive material such as Al and Cu are formed so as to sandwich the O 2 (tantalum oxide) thin film 31a in the vertical direction in the drawing.
The capacitor element 31 is constituted. An insulating film 33 made of a resin material or the like is disposed on the wiring patterns 32a and 32b except for a connection portion (contact portion) with the second substrate layer 2 disposed on the upper portion.
【0025】また、絶縁基板30の下面の配線付抵抗ア
レイ層3cでは、Wなどの抵抗性材料から成る抵抗膜3
4を図面水平方向両側から挟むように、Al,Cuなど
の導電性材料から成る電極および配線を含む配線パター
ン35が形成されている。In the resistance array layer 3c with wiring on the lower surface of the insulating substrate 30, the resistance film 3 made of a resistive material such as W is formed.
A wiring pattern 35 including an electrode and a wiring made of a conductive material such as Al or Cu is formed so as to sandwich 4 from both sides in the horizontal direction in the drawing.
【0026】これらの配線付コンデンサアレイ層3aの
配線パターン32a,32bの一部と配線付抵抗アレイ
層3cの配線パターン35の一部とは、絶縁基板30の
内部に形成されたビアホール36により結線され、絶縁
基板30が結線層3bとして機能する。A part of the wiring patterns 32a and 32b of the wiring capacitor array layer 3a and a part of the wiring pattern 35 of the wiring resistor array layer 3c are connected by a via hole 36 formed inside the insulating substrate 30. Thus, the insulating substrate 30 functions as the connection layer 3b.
【0027】なお、図1において、コンデンサ素子も抵
抗素子も単一しか示していないが、実際には、同様のも
のが複数アレイ状に形成されるものである。Although only one capacitor element and one resistance element are shown in FIG. 1, actually, a plurality of similar elements are formed in an array.
【0028】本実施形態は上記のように構成されている
ので、配線付コンデンサアレイ層3aでは、配線パター
ン32のバターニングにより、目的とする回路に合うよ
うにコンデンサ素子を選択的に配線することにより、こ
れらのコンデンサ素子の組合せによって、回路上必要な
定数としての容量値を得ることができる。Since the present embodiment is configured as described above, in the wiring capacitor array layer 3a, by selectively wiring the capacitor elements so as to match the intended circuit by patterning the wiring pattern 32. Accordingly, a capacitance value as a constant required in a circuit can be obtained by a combination of these capacitor elements.
【0029】さらに、配線付抵抗アレイ層3cでは、配
線パターン35のバターニングにより、目的とする回路
に合うように抵抗素子を選択的に配線し、これらの抵抗
素子を組合せることによって、回路上必要な定数として
の抵抗値を得ることができる。Further, in the resistor array layer 3c with wiring, by patterning the wiring pattern 35, the resistive elements are selectively wired so as to match the target circuit, and these resistive elements are combined to form a circuit. It is possible to obtain a resistance value as a necessary constant.
【0030】このような第3基板層3の上部には、第2
基板層2が積層される。第2基板層2は、絶縁基板20
の下部に、接地伝導層23が形成されるとともに、第3
基板層3との接続端子24が形成される。この接続端子
24は、第3基板層3の配線付コンデンサアレイ層3a
の配線パターン32の絶縁膜33が形成されていない部
分と、電気的に接続されるものである。The upper part of the third substrate layer 3 has the second
The substrate layer 2 is laminated. The second substrate layer 2 includes an insulating substrate 20
The ground conductive layer 23 is formed below the
The connection terminal 24 with the substrate layer 3 is formed. The connection terminal 24 is connected to the wiring-attached capacitor array layer 3 a of the third substrate layer 3.
Is electrically connected to the portion of the wiring pattern 32 where the insulating film 33 is not formed.
【0031】そして、絶縁基板20の上部には、絶縁基
板20の内部に形成されたスルーホール22を介して接
続端子24と電気的に接続され、第1基板層1と電気的
接続を行なうための接続端子21が形成されている。The upper portion of the insulating substrate 20 is electrically connected to the connection terminal 24 via a through hole 22 formed inside the insulating substrate 20, so that the upper portion of the insulating substrate 20 is electrically connected to the first substrate layer 1. Are formed.
【0032】この第2基板層2の上部には、第1基板層
1(トップ基板層)が積層される。第1基板層1は、絶
縁基板10の下部に、ストリップライン14が完成され
るとともに、第2基板層2との接続端子15が形成され
る。この接続端子15は、第2基板層2の接続端子21
と、電気的に接続されるものである。The first substrate layer 1 (top substrate layer) is laminated on the second substrate layer 2. In the first substrate layer 1, a strip line 14 is completed and a connection terminal 15 with the second substrate layer 2 is formed below the insulating substrate 10. The connection terminals 15 are connected to the connection terminals 21 of the second substrate layer 2.
And are electrically connected.
【0033】そして、絶縁基板10の上部には、能動電
気部品11およびそれらを配線する準パターン12が形
成される。この配線パターン12の一部は、絶縁基板1
0内部に形成されたスルーホール13を介して、接続端
子15と電気的に接続さる。On the insulating substrate 10, active electric components 11 and a quasi-pattern 12 for wiring them are formed. A part of the wiring pattern 12 is
0, and is electrically connected to the connection terminal 15 through the through hole 13 formed inside.
【0034】また、上記のような第3基板層3の下部に
は、第4基板層4が積層される。第4基板層4は、絶縁
基板40の上部に、第3基板層3の配線付抵抗アレイ層
3cの配線パターン35の一部と電気的に接続する接続
端子41が形成される。A fourth substrate layer 4 is laminated below the third substrate layer 3 as described above. In the fourth substrate layer 4, a connection terminal 41 that is electrically connected to a part of the wiring pattern 35 of the wiring array 35 of the third substrate layer 3 is formed on the insulating substrate 40.
【0035】そして、絶縁基板40の下部には、グラン
ド面43が形成されるとともに、絶縁基板40の内部に
形成されたスルーホール42を介して接続端子41と電
気的に接続される接続端子44が形成される。A ground surface 43 is formed below the insulating substrate 40, and a connection terminal 44 electrically connected to the connection terminal 41 via a through hole 42 formed inside the insulating substrate 40. Is formed.
【0036】なお、図1に示した配線パターン、接続端
子および接続部分、スルーホール、ビアホール等は、概
念的に描いたものであり、上記に限定されるものではな
く、適宜配線や結線等が施されるものである。The wiring patterns, connection terminals and connection portions, through holes, via holes, and the like shown in FIG. 1 are conceptually drawn and are not limited to the above. It will be applied.
【0037】次に、本実施形態の高周波モジュールにつ
いて、それを概念的に示した概略斜視図である図2を用
いて説明する。Next, the high-frequency module of this embodiment will be described with reference to FIG. 2, which is a schematic perspective view conceptually showing the high-frequency module.
【0038】抵抗アレイ56は複数の抵抗素子がアレイ
状に形成されたものであり、抵抗用配線パターン55は
この抵抗アレイ56の配線パターンである。抵抗アレイ
56および抵抗用配線パターン55は、上記図1の第3
基板層3の配線付抵抗アレイ層3に相当する。そして、
コンデンサアレイ54は複数のコシデンサ素子がアレイ
状に形成されたものであり、配線パターン53a,53
bはコンデンサアレイ54の配線パターンである。コン
デンサアレイ54およびコンデンサ用の配線パターン5
3a,53bが図1の配線付コンデンサアレイ層に相当
する。なお、図2では、分かりやすいように、配線パタ
ーン55,53a,53bをコンデンサアレイ54およ
び抵抗アレイから分離して別の層として描いている。コ
ンデンサアレイ用の配線パターン53aと抵抗アレイ用
の配線パターン55との間には、図1に示した結線層3
bに対応する結線層58が介在している。The resistance array 56 is formed by forming a plurality of resistance elements in an array. The resistance wiring pattern 55 is a wiring pattern of the resistance array 56. The resistor array 56 and the resistor wiring pattern 55 are the third
It corresponds to the resistance-equipped resistance array layer 3 of the substrate layer 3. And
The capacitor array 54 includes a plurality of capacitor elements formed in an array.
b is a wiring pattern of the capacitor array 54. Capacitor array 54 and wiring pattern 5 for capacitor
Reference numerals 3a and 53b correspond to the capacitor array layer with wiring in FIG. In FIG. 2, the wiring patterns 55, 53a, and 53b are illustrated as separate layers separated from the capacitor array 54 and the resistor array for easy understanding. The connection layer 3 shown in FIG. 1 is provided between the wiring pattern 53a for the capacitor array and the wiring pattern 55 for the resistor array.
A connection layer 58 corresponding to “b” is interposed.
【0039】本実施形態によれば、このように構成する
ことにより、例えば抵抗アレイ54、コンデンサアレイ
54として構成する抵抗素子、コンデンサ素子はそれぞ
れ一定の抵抗値、容量値の素子のアレイでよく、これら
の素子の組合せで回路上必要な定数を得ることができ
る。特定用途のモジュールであれば、通常回路定数の変
更で対処できるため、配線パターン55,53a,53
bのみの変更によって、各種要望に対応できる。According to the present embodiment, with this configuration, for example, the resistor element and the capacitor element configured as the resistor array 54 and the capacitor array 54 may be an array of elements having constant resistance and capacitance, respectively. A constant required for the circuit can be obtained by a combination of these elements. In the case of a module for a specific use, it can usually be dealt with by changing the circuit constants, so that the wiring patterns 55, 53a, 53
Various requests can be met by changing only b.
【0040】上記コンデンサ用配線パターン53bの上
部には、ストリップライン52(図1の第1基板1のス
トリップライン14に対応)が配置され、更にその上部
に上面シールド基板51(図1に図示なし)が配置され
ている。そして、抵抗アレイ56の下部には、下面シー
ルド層57(図1の第1の第4基板層4のグランド面4
3に相当)が配置されている。A strip line 52 (corresponding to the strip line 14 of the first substrate 1 in FIG. 1) is disposed above the capacitor wiring pattern 53b, and a top shield substrate 51 (not shown in FIG. 1) is further disposed thereon. ) Is arranged. A lower surface shield layer 57 (the ground surface 4 of the first fourth substrate layer 4 in FIG.
3).
【0041】なお、上記実施形態において、図1の配線
付コンデンサアレイ層3a又は図2のコンデンサアレイ
54を構成する複数のコンデンサ素子の容量値、あるい
は、図1の配線付抵抗アレイ層3c又は図2の抵抗アレ
イ56を構成する複数の抵抗素子の抵抗値は、すべて同
じものでもよい。また、設計上必要な場合には、アレイ
を構成する複数のコンデンサ素子または複数の抵抗素子
を数種類のグループに分けて、各グループごとに異なる
値の容量値または抵抗値に設定しておいてもよい。この
ように素子の定数(容量値,抵抗値,インダクタンス
等)を設定しても、基本的に配線パターンの選択だけ
で、設計された回路の定数に合わせることが可能とな
る。In the above embodiment, the capacitance values of the plurality of capacitor elements constituting the capacitor array layer 3a with wiring in FIG. 1 or the capacitor array 54 in FIG. 2 or the resistance array layer 3c with wiring in FIG. The resistance values of the plurality of resistance elements constituting the two resistance arrays 56 may all be the same. Also, if necessary for design, a plurality of capacitor elements or a plurality of resistance elements constituting the array may be divided into several groups, and each group may be set to a different capacitance value or resistance value. Good. Even when the element constants (capacitance value, resistance value, inductance, etc.) are set in this way, it is basically possible to match the designed circuit constants only by selecting the wiring pattern.
【0042】上記実施形態では、図1の第3基板層3の
ように、配線付コンデンサアレイ層3aと配線付抵抗ア
レイ層3cとを一枚の絶縁基板30の両面に構成した。
しかしながら、目的とする回路の規模に応じて、これら
のアレイを片面に構成することも可能である。この場合
には、同一面内に、抵抗アレイおよびコンデンサアレイ
やそれらの配線パターンを形成して、更にそれらに結線
を施せばよい。これは、抵抗アレイやコンデサアレイの
集積度を余り求められないような回路規模の場合に、有
効なものであり、積層数を低減することができる。In the above embodiment, as in the third substrate layer 3 of FIG. 1, the capacitor array layer with wiring 3a and the resistor array layer with wiring 3c are formed on both sides of one insulating substrate 30.
However, it is also possible to configure these arrays on one side, depending on the desired circuit size. In this case, a resistor array, a capacitor array, and a wiring pattern thereof may be formed on the same plane, and further connected thereto. This is effective in the case of a circuit scale in which the degree of integration of the resistor array and the capacitor array is not so required, and the number of stacked layers can be reduced.
【0043】更に、上記実施形態では、コンデンサ素子
又は抵抗素子の配線パターンによ選択性について述べて
きたが、回路要素としては、図1の第1基板層1のスト
リッププライン14や図2のストリップライン52によ
るインダクタの配線選択による手法も当然考えられる。Further, in the above embodiment, the selectivity has been described based on the wiring pattern of the capacitor element or the resistance element. However, as the circuit element, the strip line 14 of the first substrate layer 1 of FIG. Naturally, a method of selecting the wiring of the inductor by the line 52 is also conceivable.
【0044】また、上記実施形態のコンデンサアレイや
抵抗アレイを形成する手段としては、IC分野でよく利
用されているリソグラフイ技術,真空蒸着手法,めっき
手段による配線層などの厚膜化などの技術のほかに、ハ
イブリッドIC技術で用いられ印刷技術が利用される。As means for forming the capacitor array or the resistor array of the above-mentioned embodiment, techniques such as lithography, vacuum deposition, and thickening of a wiring layer or the like by plating are commonly used in the IC field. In addition, printing technology is used in hybrid IC technology.
【0045】本実施形態のものは、図8に示した従来の
もののように、チップ部品を用いた部品実装と比較し
て、チップ高さが膜厚オーダーで構成できることにな
り、圧倒的に薄く仕上げることができる。In the present embodiment, the chip height can be configured in the order of the film thickness as compared with the component mounting using the chip components as in the conventional device shown in FIG. Can be finished.
【0046】また、マスクレベルでの配線精度とコンデ
ンサや抵抗の寸法精度が向上するため、より設計値に近
い特性を得ることができるとともに小型化が図れる。ま
たプロセスがICと以た構成を取れるので、大量生産に
向き、配線マスクだけの交換というマイナーチェンジで
容易に対処できる。Further, since the wiring accuracy at the mask level and the dimensional accuracy of the capacitor and the resistor are improved, characteristics closer to the design values can be obtained and the size can be reduced. In addition, since the process can have a configuration similar to that of an IC, it is suitable for mass production and can be easily dealt with by a minor change such as replacement of only a wiring mask.
【0047】以上のように、本発明によれば、高周波モ
ジュールにおいて、薄型化、小型化、設備の低減、更に
は開発時間の短縮などを容易に実現することができる。As described above, according to the present invention, in the high-frequency module, thinning, miniaturization, reduction of equipment, and development time can be easily realized.
【0048】次に、上記実施の形態の第3基板層3に関
して、予め造り置き可能な汎用性を有する構造と、それ
に配線パターンの変更を加えて、目的とする具体的な回
路を形成した後の構造とについて、それぞれ2つの実施
例を図4〜図7に基づいて説明する。Next, with respect to the third substrate layer 3 of the above-described embodiment, after a structure having general versatility that can be preliminarily formed and a wiring pattern being changed to form a desired specific circuit, The two embodiments will be described with reference to FIGS.
【0049】(実施例1)まず、実施例1として、本発
明の考え方を適用して、絶縁基板30の上面にコンデン
サアレイ31およびコンデンサ用配線パターン32a,
32bを形成し、絶縁基板の下面に抵抗アレイ34およ
び抵抗用配線パターン35を形成した構造に関して、図
3〜図5を参照して説明する。(Embodiment 1) First, as Embodiment 1, the concept of the present invention is applied, and a capacitor array 31 and capacitor wiring patterns 32a,
The structure in which the resistor array 32b is formed and the resistor array 34 and the resistor wiring pattern 35 are formed on the lower surface of the insulating substrate will be described with reference to FIGS.
【0050】図3は、本実施例の具体的な回路を形成す
る前段階の、予め造り置き可能な構造を示している。こ
の状態で、絶縁基板30の上面には、コンデンサアレイ
31の誘電体膜となるTaO2薄膜31aと、このTa
O2薄膜31aを図面垂直方向に挟むように形成される
配線パターン32a,32bのうちの、下層側の配線パ
ターン32aのみが形成されている。また、絶縁基板3
0の下面には、抵抗アレイ34を構成する抵抗膜34a
のみが形成されている。FIG. 3 shows a structure which can be preliminarily formed before forming a specific circuit of this embodiment. In this state, a TaO 2 thin film 31 a serving as a dielectric film of the capacitor array 31 is formed on the upper surface of the insulating substrate 30.
Of the wiring patterns 32a and 32b formed so as to sandwich the O 2 thin film 31a in the direction perpendicular to the drawing, only the lower wiring pattern 32a is formed. Also, the insulating substrate 3
0, a resistance film 34a constituting the resistance array 34
Only are formed.
【0051】予め準備されたこのような構造に対して、
絶縁基板30の上面において、TaO2薄膜31aの上
面からビアホール36にかけて、目的とする回路に応じ
た配線パターン32bを形成し、さらに、絶縁基板30
の下面において、抵抗膜34aを水平方向両側から挟む
位置に、目的とする回路に応じた配線パターン35を形
成することにより、図4に示した構造を得ることができ
る。For such a structure prepared in advance,
On the upper surface of the insulating substrate 30, a wiring pattern 32 b corresponding to a target circuit is formed from the upper surface of the TaO 2 thin film 31 a to the via hole 36.
By forming a wiring pattern 35 corresponding to a target circuit on the lower surface of the substrate at positions sandwiching the resistance film 34a from both sides in the horizontal direction, the structure shown in FIG. 4 can be obtained.
【0052】図4に示した構造は、形成される回路のご
く一部のみを示したものであり、実際には、これを縦横
に多数配列した、たとえば図5に示すような断面構造を
有する回路が形成される。The structure shown in FIG. 4 shows only a very small part of the circuit to be formed. Actually, a large number of such circuits are arranged vertically and horizontally, for example, having a sectional structure as shown in FIG. A circuit is formed.
【0053】(実施例2)次に、実施例2として、本発
明の考え方を適用して、絶縁基板30の上面に、コンデ
ンサアレイ31およびコンデンサ用配線パターン32
a,32bと、絶縁基板の下面に抵抗アレイ34および
抵抗用配線パターン35との両方を形成した構造に関し
て、図6,図7を参照して説明する。(Embodiment 2) Next, as Embodiment 2, the concept of the present invention is applied, and the capacitor array 31 and the capacitor wiring pattern 32 are formed on the upper surface of the insulating substrate 30.
a and 32b and a structure in which both the resistor array 34 and the resistor wiring pattern 35 are formed on the lower surface of the insulating substrate will be described with reference to FIGS.
【0054】図6は、本実施例の具体的な回路を形成す
る前段階の、予め造り置き可能な構造を示している。こ
の状態で、絶縁基板30の上面には、コンデンサアレイ
31の誘電体膜となるTaO2薄膜31aと、このTa
O2薄膜31aを図面垂直方向に挟むように、TaO2薄
膜31aの上方とその近傍のみに形成された配線パター
ン32a,32bとが形成されている。また、本実施例
においては、抵抗アレイ34を構成する抵抗膜34a、
および、それを水平方向両側から挟むように各抵抗膜3
4aの近傍のみに形成された配線パターン35について
も、絶縁基板の上面に形成されている。また、絶縁基板
30を貫通して設けられたビアホールの内周面およびそ
の近傍の絶縁基板上下両面にも、導電膜37が形成され
ている。FIG. 6 shows a structure which can be preliminarily formed before forming a specific circuit of this embodiment. In this state, a TaO 2 thin film 31 a serving as a dielectric film of the capacitor array 31 is formed on the upper surface of the insulating substrate 30.
Wiring patterns 32a and 32b are formed only above and in the vicinity of the TaO 2 thin film 31a so as to sandwich the O 2 thin film 31a in the direction perpendicular to the drawing. Further, in the present embodiment, a resistance film 34a constituting the resistance array 34,
And each resistive film 3 sandwiching it from both sides in the horizontal direction.
The wiring pattern 35 formed only in the vicinity of 4a is also formed on the upper surface of the insulating substrate. Further, conductive films 37 are also formed on the inner peripheral surface of the via hole provided through the insulating substrate 30 and on the upper and lower surfaces of the insulating substrate in the vicinity thereof.
【0055】予め準備されたこのような構造に対して、
絶縁基板30の上面において、配線パターン32a,3
2b,35,37のうちの特定の配線間を電気的に接続
するように、目的とする回路に応じた配線パターン38
を形成することにより、図7に示した構造を得ることが
できる。For such a structure prepared in advance,
On the upper surface of the insulating substrate 30, the wiring patterns 32a, 3
2b, 35, and 37, a wiring pattern 38 corresponding to a target circuit so as to electrically connect specific wirings.
Is formed, the structure shown in FIG. 7 can be obtained.
【0056】なお、上記実施の形態は、本発明を具現化
した単なる例示に過ぎず、本発明は,特許請求の範囲に
記載した構成に均等の範囲で変更を加えた種々の態様を
含むものである。The above embodiment is merely an embodied example of the present invention, and the present invention includes various modes in which the configurations described in the claims are modified within an equivalent scope. .
【0057】[0057]
【発明の効果】本発明によれば、アレイとして構成する
受動素子は、高周波モジュールが適用される具体的な用
途とは無関係に予め定められた、所定の回路定数値を有
する素子のアレイを形成し、配線パターンのみの変更に
よるこれらの素子の組合せによって、所望の用途に必要
な回路定数を得ることができる。このような高周波モジ
ュールは、幅広い用途に適用可能であることから、各種
要望に対応できる標準的な高周波モジュールとして設計
することを可能とする。その結果、大量生産につながっ
て製造コストの大幅な低減が実現される。また、設計変
更を行なうのに、回路設計以外に、各アレイ層の配線パ
ターンのみの変更で済むため、開発時間が短縮されると
ともに、開発費用が削減される。According to the present invention, the passive elements configured as an array form an array of elements having predetermined circuit constant values that are predetermined regardless of the specific application to which the high-frequency module is applied. However, a circuit constant required for a desired application can be obtained by a combination of these elements by changing only the wiring pattern. Since such a high-frequency module can be applied to a wide range of applications, it can be designed as a standard high-frequency module that can respond to various requests. As a result, a large reduction in manufacturing cost is realized, which leads to mass production. In addition, only the wiring pattern of each array layer needs to be changed in addition to the circuit design to make the design change, so that the development time is shortened and the development cost is reduced.
【図1】 本発明の実施の形態の高周波モジュールの概
略構造を示す要部断面図である。FIG. 1 is a fragmentary cross-sectional view showing a schematic structure of a high-frequency module according to an embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の実施の形態の高周波モジュールを概
念的に示した概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view conceptually showing the high-frequency module according to the embodiment of the present invention.
【図3】 実施例1の具体的な回路を形成する前段階
の、予め造り置き可能な構造を示す図であり、そのうち
(a)は平面図、(b)はそのIIIB−IIIB断面
図、(c)は底面図をそれぞれ示している。FIGS. 3A and 3B are views showing a structure which can be preliminarily formed before forming a specific circuit of Example 1, in which FIG. 3A is a plan view, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line IIIB-IIIB, (C) has shown the bottom view, respectively.
【図4】 実施例1の具体的な回路を形成した後の構造
を示す図であり、そのうち(a)は平面図、(b)はそ
のIVB−IVB断面図、(c)は底面図をそれぞれ示
している。4A and 4B are diagrams showing a structure after a specific circuit of Example 1 is formed, wherein FIG. 4A is a plan view, FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line IVB-IVB, and FIG. Each is shown.
【図5】 図4に示した実施例1の回路が、横方向に3
列配列された場合の構造を示す断面図である。FIG. 5 is a circuit diagram of the first embodiment shown in FIG.
It is sectional drawing which shows the structure at the time of column arrangement.
【図6】 (a)(b)は、実施例2の具体的な回路を
形成する前段階の、予め造り置き可能な2とおりの構造
を示す図である。FIGS. 6A and 6B are diagrams showing two types of structures that can be preliminarily formed before forming a specific circuit of Example 2. FIGS.
【図7】 (a)は実施例2の具体的な回路を形成した
後の構造を示す平面レイアウト図、(b)はその等価回
路図である。FIG. 7A is a plan layout diagram showing a structure after a specific circuit of Example 2 is formed, and FIG. 7B is an equivalent circuit diagram thereof.
【図8】 従来の高周波モジュールの概略構造を示す要
部斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of a main part showing a schematic structure of a conventional high-frequency module.
3a 配線付きコンデンサアレイ層(配線付き第1受動
素子アレイ層)、3b結線層、3c 配線付き抵抗アレ
イ層(配線付き第2受動素子アレイ層)、11 能動電
子部品、14 ストリップライン、31 コンデンサ素
子(第1受動素子)、32a,32b コンデンサ用配
線パターン層(第1受動素子用配線パターン)、34
抵抗素子(第2受動素子)、35 抵抗素子用配線パタ
ーン層(第2受動素子用配線パターン)。3a capacitor array layer with wiring (first passive element array layer with wiring), 3b connection layer, 3c resistor array layer with wiring (second passive element array layer with wiring), 11 active electronic components, 14 strip line, 31 capacitor element (First passive element), 32a, 32b Capacitor wiring pattern layer (first passive element wiring pattern), 34
Resistance element (second passive element), 35 Resistance element wiring pattern layer (second passive element wiring pattern).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01P 3/08 H01G 4/40 301A H05K 1/02 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 1/16 H05K 1/02 H01L 25/00 H01G 4/40 H01C 17/22 H01P 3/08 ──────────────────────────────────────────────────の Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI H01P 3/08 H01G 4/40 301A H05K 1/02 (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 1 / 16 H05K 1/02 H01L 25/00 H01G 4/40 H01C 17/22 H01P 3/08
Claims (8)
子、および、該複数の第1受動素子間の電気的接続を行
なう第1受動素子用配線パターンを含む、配線付き第1
受動素子アレイ層と、 アレイ状に形成された複数の第2受動素子、および、該
複数の第2受動素子間の電気的接続を行なう第2受動素
子用配線パターンを含む、配線付き第2受動素子アレイ
層とを備え、 前記複数の第1受動素子および前記複数の第2受動素子
はそれぞれ、前記第1および第2受動素子用配線パター
ンの変更によって、任意の組合せで相互に配線接続する
ことにより、所望の回路定数を得ることができるように
なっている、高周波モジュール。A first passive element including a plurality of first passive elements formed in an array and a first passive element wiring pattern for electrically connecting the plurality of first passive elements;
A second passive element with wiring, including a passive element array layer, a plurality of second passive elements formed in an array, and a second passive element wiring pattern for electrically connecting the plurality of second passive elements; An element array layer, wherein the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements are mutually interconnected in any combination by changing the first and second passive element wiring patterns. , A high-frequency module capable of obtaining a desired circuit constant.
デンサ素子およびインダクタ素子のいずれかであり、前
記第2の受動素子が、抵抗素子、コンデンサ素子および
インダクタ素子のいずれかである、請求項1記載の高周
波モジュール。2. The method according to claim 1, wherein the first passive element is any one of a resistance element, a capacitor element, and an inductor element, and the second passive element is any one of a resistance element, a capacitor element, and an inductor element. Item 7. The high-frequency module according to Item 1.
前記配線付き第2受動素子アレイ層とが、互いに異なる
面に形成され、前記第1受動素子用配線パターンと前記
第2受動素子用配線パターンとの電気的接続を行なう結
線が、前記配線付き第1受動素子アレイ層と前記配線付
き第2受動素子アレイ層との間に介在している、請求項
1記載の高周波モジュール。3. The wiring-provided first passive element array layer,
The wiring-attached second passive element array layer is formed on different surfaces from each other, and the connection for electrically connecting the first passive element wiring pattern and the second passive element wiring pattern is formed by the wiring-attached second wiring. The high-frequency module according to claim 1, wherein the high-frequency module is interposed between one passive element array layer and the second passive element array layer with wiring.
前記配線付き第2受動素子アレイ層とが、1枚の基板の
表裏面にそれぞれ形成され、前記第1受動素子用配線パ
ターンと前記第2受動素子用配線パターンとの電気的接
続は、前記基板を貫通して設けられたスルーホールに形
成された導電層により行なわれている、請求項3記載の
高周波モジュール。4. The first passive element array layer with wiring,
The wiring-attached second passive element array layer is formed on each of the front and back surfaces of a single substrate, and the electrical connection between the first passive element wiring pattern and the second passive element wiring pattern is performed by the substrate. 4. The high-frequency module according to claim 3, wherein the high-frequency module is formed by a conductive layer formed in a through hole provided through the substrate.
前記配線付き第2受動素子アレイ層とが同一の面に形成
され、前記第1受動素子用配線パターンと前記第2受動
素子用配線パターンとの電気的結線を行なう結線が、前
記配線付き第1受動素子アレイ層と前記配線付き第2受動
素子アレイ層とを接続するように介在している、請求項
1記載の高周波モジュール。5. The first passive element array layer with wiring,
The wiring-attached second passive element array layer is formed on the same surface, and the connection for electrically connecting the first passive element wiring pattern and the second passive element wiring pattern is formed by the first wiring-attached first wiring pattern. The high-frequency module according to claim 1, wherein the high-frequency module is interposed so as to connect a passive element array layer and the second passive element array layer with wiring.
なくとも上下のいずれか一方に、ストリップラインおよ
び能動電子部品の少なくとも一方が配置されている、請
求項2記載の高周波モジュール。6. The high-frequency module according to claim 2, wherein at least one of a stripline and an active electronic component is arranged on at least one of upper and lower sides of the first passive element array layer with wiring.
数の第2の受動素子の少なくとも一方の全数が、同一の
抵抗値,容量値,またはインダクタンス値を有する、請求
項2記載の高周波モジュール。7. The high-frequency module according to claim 2, wherein the total number of at least one of the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements has the same resistance value, capacitance value, or inductance value. .
数の第2の受動素子の少なくとも一方が、複数の群をな
し、該複数の群のそれぞれにおいて、構成する受動素子
の全数が、同一の抵抗値,容量値,またはインダクタンス
値を有する、請求項2記載の高周波モジュール。8. At least one of the plurality of first passive elements and the plurality of second passive elements forms a plurality of groups, and in each of the plurality of groups, the total number of constituent passive elements is the same. 3. The high-frequency module according to claim 2, having a resistance value, a capacitance value, or an inductance value.
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