JP3311033B2 - One-electron tunneling element - Google Patents

One-electron tunneling element

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、極微細トンネル接合
を複数個直列接続して構成される一電子トンネリング素
子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a one-electron tunneling device formed by connecting a plurality of ultrafine tunnel junctions in series.

【0002】[0002]

【従来の技術】単一トンネル接合(接合容量:C、接合
抵抗:R)で電子一個がトンネルする場合、トンネルの
前後で ΔE=e2 /2C 程度の静電エネルギーの変化が問題となる。ΔEは、接
合容量Cが極めて小さい極微細トンネル接合では熱エネ
ルギーより大きくなり得る。トンネル接合部の帯電量に
よっては、電子がトンネルすることがこの程度のエネル
ギーの増加をもたらすため、電子一個のトンネリングと
言えども禁止される。これは、クーロン閉塞(Coulomb
Blockade)と呼ばれる(K.K.Likharev,IBM J.Res.Devel
op.,32,144(1988) 参照)。そのため、トンネル現象は
本来電子の波動性によるものであるにも拘らず、極微細
トンネル接合を用いた素子では電子は粒子的に一個づつ
トンネリングする。
2. Description of the Related Art When one electron tunnels with a single tunnel junction (junction capacitance: C, junction resistance: R), ΔE = e 2 before and after the tunnel. A change in electrostatic energy of about / 2C is a problem. ΔE can be greater than the thermal energy in an ultrafine tunnel junction where the junction capacitance C is very small. Depending on the charge amount of the tunnel junction, tunneling of electrons causes such an increase in energy, so that even tunneling of one electron is prohibited. This is the Coulomb blockage
Blockade) (KKLikharev, IBM J. Res. Devel
op., 32, 144 (1988)). Therefore, although the tunnel phenomenon is originally due to the wave nature of the electrons, in the device using the ultrafine tunnel junction, the electrons are tunneled one by one in particles.

【0003】このような極微細トンネル接合の電子挙動
を利用した一電子トンネリング素子は、構造が簡単であ
り、かつ微細化,高集積化に適した素子として期待され
ている。
A one-electron tunneling device utilizing the electron behavior of such an ultrafine tunnel junction is expected to be a device having a simple structure and suitable for miniaturization and high integration.

【0004】ところで、極微細トンネル接合クーロン閉
塞が明確に現れるには、ΔEが熱的及び量子力学的ゆら
ぎのいづれよりも大きいことが必要である(前掲文献参
照)。すなわち、ボルツマン定数をkB 、プランク定数
をh、絶対温度をTとして、ΔEがkB Tより十分大き
く、かつΔEがh/2πRCより十分大きいという条件
を満たすことが必要である。さらに、トンネル接合一個
からなる素子では、回路全体の電磁モードの励起により
安定したクーロン閉塞は期待できず、トンネル接合を複
数個直列に接続した多重トンネル接合構造(トンネル素
子列構造)が有効であることが知られている(Y.V.Naza
rov,Zh. Eksp. Teor.Fiz.,96,975 (1989) 参照)。
In order to clearly show Coulomb blockade in an ultrafine tunnel junction, ΔE needs to be larger than any of thermal and quantum mechanical fluctuations (see the above-mentioned literature). That is, assuming that the Boltzmann constant is k B , the Planck constant is h, and the absolute temperature is T, it is necessary to satisfy the condition that ΔE is sufficiently larger than k B T and ΔE is sufficiently larger than h / 2πRC. Furthermore, in a device having one tunnel junction, stable Coulomb blockade cannot be expected due to excitation of the electromagnetic mode of the entire circuit, and a multiple tunnel junction structure (tunnel element column structure) in which a plurality of tunnel junctions are connected in series is effective. It is known that (YVNaza
rov, Zh. Eksp. Teor. Fiz., 96, 975 (1989)).

【0005】一電子トンネリング素子は、接合容量Cが
aFオーダーの場合、室温動作の可能性もある。しか
し、この様な極微細,高集積素子では種々の事情から或
る程度低温動作が必要である。その様な場合には、トン
ネリング素子の基本要素の大きさは、電子の非弾性散乱
で決まる位相干渉長 LF =(Dτin1/2 (これは、T-p(p=1〜2)に
比例する) や、熱によるボケの目安である熱拡散長 LT =(1/2)(hD/kB T)1/2 より小さくなる可能性がある(P.A.Lee et al.,Phys.Re
v.B 35,1039 (1987) 参照)。ここで、D、τinはそれ
ぞれ電子の拡散定数、非弾性散乱時間である。
A one-electron tunneling element has a junction capacitance C
In the case of the aF order, there is a possibility of operating at room temperature. Only
However, in such ultra-fine and highly integrated devices, there are various reasons.
Somewhat low temperature operation is required. In such cases, t
The basic element size of the tunneling element is the inelastic scattering of electrons.
Phase interference length L determined byF= (Dτin)1/2 (This is T-p(P = 1 ~ 2)
And the thermal diffusion length L, which is a measure of blurring due to heat.T= (1/2) (hD / kBT)1/2  May be smaller (P.A. Lee et al., Phys.
v.B 35, 1039 (1987)). Where D, τinIs it
These are the electron diffusion constant and the inelastic scattering time, respectively.

【0006】しかし不純物散乱による量子効果は、リー
ド線・電極の電子状態を変え、クーロン閉塞に大きな影
響を与える。リード線・電極の電子の伝導特性はランダ
ムにゆらぎ、クーロン閉塞を利用するトンネル接合素子
の特性もやはりランダムにゆらいでしまう。そのため従
来提案されている機能上の基本単位として極微細トンネ
ル接合を持つ種々の一電子トンネリング素子(K.K.Likh
arev,IBM J.Res.Develop.,32,144(1988)参照)の特性は
ゆらぎ、正常に機能しなくなる。
However, the quantum effect due to impurity scattering changes the electronic state of the lead wire / electrode, and has a great effect on Coulomb blockage. The electron conduction characteristics of the lead wire / electrode fluctuate randomly, and the characteristics of the tunnel junction device utilizing Coulomb blockage also fluctuate randomly. Therefore, various one-electron tunneling devices (KKLikh
arev, IBM J. Res. Develop., 32, 144 (1988)) fluctuates and does not function properly.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来提案
されている一電子トンネリング素子は、リード線・電極
の伝導特性のゆらぎが素子の正常動作を妨げるという問
題があった。
As described above, the conventionally proposed one-electron tunneling device has a problem that fluctuations in the conduction characteristics of the lead wires and electrodes hinder normal operation of the device.

【0008】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、機能上の基本単位に発
生する量子ゆらぎおよび外部回路の影響を低減して特性
向上を図った一電子トンネリング素子を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to improve the characteristics by reducing the effects of quantum fluctuations and external circuits generated in functional basic units. An object of the present invention is to provide an electron tunneling device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、電子一個の充
電エネルギーが動作温度での熱エネルギーよりも大きい
極微細トンネル接合が複数個直列接続されたトンネル素
子列を有し、このトンネル素子列に電荷変調部とこの電
荷変調部を挟んで一対の信号取出し部とが設けられた一
電子トンネリング素子において、電荷変調部,一対の信
号取出し部の各々におけるトンネル接合の直列接続方向
と直交する方向の長さ、および一対の信号取出し部に挟
まれた範囲のトンネル素子列の長さが電子の非弾性散乱
距離と熱拡散長の何れよりも長く設定されていることを
特徴とする。
According to the present invention, there is provided a tunnel element array in which a plurality of ultrafine tunnel junctions in which the charge energy of one electron is larger than the thermal energy at an operating temperature are connected in series. In a one-electron tunneling element provided with a charge modulating section and a pair of signal extracting sections sandwiching the charge modulating section, a series connection direction of a tunnel junction in each of the charge modulating section and the pair of signal extracting sections is provided.
And wherein the orthogonal directions of the length, and the length of the tunnel element row of the range sandwiched between a pair of signal extraction portion is set longer than any of the inelastic scattering length and thermal diffusion length of electrons and I do.

【0010】本発明においてさらに好ましくは、トンネ
ル素子列の一対の信号取出し部に挟まれた領域には2つ
以上のトンネル接合を含み、かつトンネル素子列両端の
電源印加端子部と各信号取出し部の間に少なくとも一つ
以上のトンネル接合を含むようにする。
In the present invention, more preferably, the region between the pair of signal extraction portions of the tunnel element array includes two or more tunnel junctions, and the power supply terminals at both ends of the tunnel element array and each signal extraction section. At least one or more tunnel junctions are included between them.

【0011】[0011]

【作用】電子一個の充電エネルギーが、動作温度での熱
エネルギーよりも大きい極微細トンネル接合を主たる基
本要素とする単一トンネリング素子では、回路全体の電
磁モードの励起により安定したクーロン閉塞は期待でき
ず、したがってトンネル素子を直列に繋いだ構造を有す
る一電子トンネリング素子が有効である。一方、電子波
の位相情報は、電子散乱などの非弾性散乱長である位相
干渉LF または熱拡散長LT に亘って保存されるため、
F やLT よりも小さな系では、位相干渉効果に起因す
る様々な量子効果が顕在化する。とりわけ、伝導体の伝
導特性測定方向の大きさが不純物による弾性散乱距離
(平均自由行程)lよりも大きいときには、電子が不純
物により乱雑な散乱を受けその波動関数の位相を乱雑に
変えることを反映して、伝導体のコンダクタンスはゆら
いでしまう。このゆらぎは不純物のミクロな空間配置を
反映するので、同様に作成した伝導体でもゆらぎは異な
り、同一特性を持つ基本要素としては使えない。
[Function] In a single tunneling element whose main element is an ultrafine tunnel junction in which the charging energy of one electron is larger than the thermal energy at the operating temperature, stable Coulomb blockage can be expected by exciting the electromagnetic mode of the entire circuit. Therefore, a one-electron tunneling element having a structure in which tunnel elements are connected in series is effective. On the other hand, since the phase information of the electronic wave, to be stored over a phase interference L F or thermal diffusion length L T inelastic scattering length of such electron scattering,
In smaller systems than L F and L T, various quantum effects due to phase interference effect becomes obvious. In particular, when the size of the conduction characteristic measurement direction of the conductor is larger than the elastic scattering distance (mean free path) 1 due to impurities, it reflects that electrons are randomly scattered by impurities and the phase of the wave function is randomly changed. As a result, the conductance of the conductor fluctuates. Since this fluctuation reflects the microscopic spatial arrangement of impurities, the fluctuation is different even in a conductor similarly prepared and cannot be used as a basic element having the same characteristics.

【0012】従って、一電子トンネリング素子に於いて
も、基本要素である複数のトンネル接合、電荷変調部、
信号取出し部のそれぞれは、位相干渉長よりも大きなも
のとする必要がある。すなわち、それらの長さをLが、
C = Max{LF ,LT }より十分大きくなるように
基本要素を設計する。それによって、ゆらぎは平均さ
れ、伝導特性のゆらぎは (LC /L)(4-d)/4 の様に減少する(P.A.Lee et al.,Phys.Rev.B 35,1039
(1987) 参照)。但し、dは電子系の次元である。
Therefore, in a one-electron tunneling element,
Are also basic elements such as multiple tunnel junctions, charge modulation sections,
Each of the signal extraction sections is larger than the phase interference length.
It is necessary to do. That is, L is their length,
LC = Max {LF, LTよ う so that it is bigger than
Design basic elements. So the fluctuations are average
And the fluctuation of the conduction characteristics is (LC/ L)(4-d) / 4  (P.A. Lee et al., Phys. Rev. B 35, 1039)
 (1987)). Here, d is the dimension of the electronic system.

【0013】さらに、定電流源、定電圧源など外部電源
端子部とトンネル素子列、電位差などの信号取出し部、
電荷変調部という機能上の基本要素の関係に於いては、
一対の信号取出し部の間に2つ以上のトンネル接合を含
み、かつ電源端子部と信号取出し部の間に少なくとも一
つ以上のトンネル接合をはさむ形とすることにより、外
部回路の素子特性に対する影響を大きく低減できる。
Further, an external power supply terminal section such as a constant current source and a constant voltage source and a tunnel element row, a signal extraction section such as a potential difference,
In relation to the basic functional element called the charge modulation section,
By including two or more tunnel junctions between a pair of signal extraction parts and inserting at least one or more tunnel junctions between a power supply terminal part and a signal extraction part, an influence on element characteristics of an external circuit is obtained. Can be greatly reduced.

【0014】以上のような条件を持つ基本要素によって
素子機能の基本単位を構成する事により、安定した特性
を持つ一電子トンネリング素子、さらにはこれを基本単
位とする複合一電子トンネリング素子を構築する事が可
能となる。
By constructing a basic unit of the element function by the basic elements having the above conditions, a one-electron tunneling element having stable characteristics and a composite one-electron tunneling element using the same as a basic unit are constructed. Things become possible.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の詳細を実施例によって説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below with reference to embodiments.

【0016】図1は本発明の一実施例の一電子トンネリ
ング素子の平面図である。基本要素はリード線電極2
と、隣接するリード線電極2の間に設けられたトンネル
接合部1で構成される極微細トンネル素子であり、これ
が複数個直列接続された形でトンネル素子列が構成され
ている。このトンネル素子列に、一対の信号(電位差)
取出し部5,6が中央電極2から連続する状態で引き出
されている。またこの信号取出し部5,6の間には、ト
ンネル接合部1の帯電状態を容量結合によって外部から
制御する電荷変調部7が設けられている。トンネル素子
列の両端には電源端子部3,4が設けられている。一方
の電源端子部3と信号取出し部4の間、他方の電源端子
部4と信号取出し部6の間にはそれぞれ、この実施例で
は二つのトンネル接合部1が設けられている。
FIG. 1 is a plan view of one electron tunneling element according to one embodiment of the present invention. Basic element is lead wire electrode 2.
And an ultrafine tunnel element composed of a tunnel junction 1 provided between the adjacent lead wire electrodes 2, and a plurality of these are connected in series to form a tunnel element row. A pair of signals (potential difference)
The extraction portions 5 and 6 are drawn out from the center electrode 2 in a continuous state. A charge modulation section 7 for controlling the charge state of the tunnel junction 1 from outside by capacitive coupling is provided between the signal extraction sections 5 and 6. Power supply terminals 3 and 4 are provided at both ends of the tunnel element row. In this embodiment, two tunnel junctions 1 are provided between one power supply terminal 3 and the signal extraction unit 4 and between the other power supply terminal 4 and the signal extraction unit 6, respectively.

【0017】素子両端の電源端子部3,4の間には外部
電源8が接続されている。外部電源8は、電圧源,電流
源いずれでもよい。電荷変調部7にも変調用電圧源9が
接続されている。
An external power supply 8 is connected between the power supply terminals 3 and 4 at both ends of the element. The external power supply 8 may be either a voltage source or a current source. The modulation voltage source 9 is also connected to the charge modulation section 7.

【0018】図2は、図1の要部構造の一例を示してい
る。トンネル接合のリード線電極2は、隣接するものが
一部重なる状態で配設され、その重なり部分にトンネル
絶縁膜を介在させてトンネル接合1が構成されている。
リード線電極2は例えば、線幅0.05μm 、厚み0.
03μm のAl膜であり、トンネル酸化膜は厚み3nmの
Al酸化物である。トンネル接合1の接合面積は例え
ば、0.05×0.01μm 2 )となる。またリード線
電極2に対して絶縁膜11を介して電荷変調部電極7が
積層されている。
FIG. 2 shows an example of the main structure of FIG. Adjacent ones of the lead wires 2 of the tunnel junction are arranged so as to partially overlap each other, and the tunnel junction 1 is configured with a tunnel insulating film interposed between the overlapping portions.
The lead electrode 2 has, for example, a line width of 0.05 μm and a thickness of 0.5 μm.
The tunnel oxide film is an Al oxide having a thickness of 3 nm. The junction area of the tunnel junction 1 is, for example, 0.05 × 0.01 μm 2 ). The charge modulation section electrode 7 is laminated on the lead wire electrode 2 via the insulating film 11.

【0019】図1の素子構成において、各部の大きさは
次の通りである。信号取出し部5,6の長さLA
B 、および電荷変調部7の長さLG はいずれも、0.
2μm 、信号取出し部5,6の間の距離LABは0.37
μm である。これらは、動作温度15Kでの位相干渉長
C (=0.04μm )よりも大きくなっている。
In the device configuration shown in FIG. 1, the size of each part is as follows. The length L A of the signal extraction units 5 and 6,
Both L B and the length L G of the charge modulation section 7 are equal to 0.
2 μm, the distance L AB between the signal extraction units 5 and 6 is 0.37
μm. These are larger than the phase interference length L C (= 0.04 μm) at the operating temperature of 15K.

【0020】実施例では、信号取出し部5,6の間のト
ンネル接合数を13個としているが、これは、LAB>L
C を満たす範囲で2個以上あれば良い。また実施例で
は、信号取出し部5,6と電源端子部3,4の間にそれ
ぞれ2個のトンネル接合が設けられているが、これも少
なくとも一個ずつ設けられればよい。
In the embodiment, the number of tunnel junctions between the signal extraction units 5 and 6 is set to thirteen, which is L AB > L
It suffices if there are two or more in the range satisfying C. In the embodiment, two tunnel junctions are provided between the signal extraction units 5 and 6 and the power supply terminal units 3 and 4, respectively. At least one tunnel junction may be provided.

【0021】図3(a) (b) は、比較例と実施例の素子に
ついて、定電流動作時の電荷変調部の電位Uの変化にと
もなう一対の信号取出し部の電位差Vを示す。図3(a)
の比較例は、信号取出し部間の素子列の長さLABをLC
以下にした場合であり、図3(b) が実施例の場合であ
る。比較例においては、トンネル素子毎に異なるゆらぎ
が電位差の周期変動に現れているのに対して、本実施例
ではこの様なゆらぎが抑えられてきれいな周期変動が得
られている。
FIGS. 3 (a) and 3 (b) show the potential difference V between a pair of signal output portions of the devices of the comparative example and the embodiment according to the change of the potential U of the charge modulation portion during the constant current operation. Fig. 3 (a)
In the comparative example, the length L AB of the element row between the signal extraction units is set to L C
FIG. 3B shows the case of the embodiment. In the comparative example, the fluctuation that differs for each tunnel element appears in the periodic fluctuation of the potential difference, whereas in the present embodiment, such fluctuation is suppressed and a beautiful periodic fluctuation is obtained.

【0022】本発明は上記実施例に限られるものではな
い。例えば実施例では、トンネル接合を金属と金属酸化
物によって構成しているが、金属に代わってシリコンの
様な半導体を用いてもよいし、トンネル絶縁膜もシリコ
ン酸化膜等を用いることができる。すなわちMOSトラ
ンジスタ構造によってトンネル素子列を構成することが
できる。またトンネル接合はシリコンの酸化物やシリコ
ンMOSトランジスタのチャネルの一部を電子の波長程
度に局所的に狭めたいわゆるポイント・コンタクトのピ
ンチ・オフ状態を利用して形成することもできる。その
他本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実
施することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the embodiment, the tunnel junction is formed of a metal and a metal oxide, but a semiconductor such as silicon may be used instead of the metal, and a silicon oxide film or the like can be used as the tunnel insulating film. That is, a tunnel element row can be formed by the MOS transistor structure. The tunnel junction can also be formed using a so-called point contact pinch-off state in which a part of the channel of a silicon oxide or silicon MOS transistor is locally narrowed to about the wavelength of electrons. In addition, the present invention can be variously modified and implemented without departing from the spirit thereof.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、極
微細トンネル接合を用いた一電子トンネリング素子の素
子機能上の基本単位の各部要素を外部回路の影響がない
ように選ぶことにより、ゆらぎの少ない優れた素子特性
を得ることができる。
As described above, according to the present invention, each element of the basic unit on the element function of a one-electron tunneling element using an ultrafine tunnel junction is selected so as not to be affected by an external circuit. And excellent device characteristics with little fluctuation can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例による一電子トンネリング素
子の平面図。
FIG. 1 is a plan view of a one-electron tunneling device according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例の要部構造を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing a main part structure of the embodiment.

【図3】同実施例の素子特性を比較例と共に示す図。FIG. 3 is a view showing element characteristics of the example together with a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…トンネル接合部、 2…リード線電極、 3,4…電源端子部、 5,6…信号取出し部、 7…電荷変調部、 8…定電流源、 10…トンネル絶縁膜、 11…絶縁膜。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Tunnel junction part, 2 ... Lead wire electrode, 3, 4 ... Power terminal part, 5, 6 ... Signal extraction part, 7 ... Charge modulation part, 8 ... Constant current source, 10 ... Tunnel insulating film, 11 ... Insulating film .

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】電子一個の充電エネルギーが、動作温度で
の熱エネルギーよりも大きい極微細トンネル接合が複数
個直列接続されたトンネル素子列を有し、このトンネル
素子列に電荷変調部とこの電荷変調部を挟んで一対の信
号取出し部とが設けられた一電子トンネリング素子にお
いて、前記電荷変調部,一対の信号取出し部の各々にお
けるトンネル接合の直列接続方向と直交する方向の長
、および一対の信号取出し部に挟まれた範囲のトンネ
ル素子列の長さが電子の非弾性散乱距離と熱拡散長の何
れよりも長く設定されていることを特徴とする一電子ト
ンネリング素子。
1. A tunnel element array in which a plurality of ultra-fine tunnel junctions in which the charge energy of one electron is larger than the thermal energy at an operating temperature is connected in series. In a one-electron tunneling element provided with a pair of signal extraction units with a modulation unit interposed therebetween, each of the charge modulation unit and the pair of signal extraction units is provided.
In the direction perpendicular to the series connection direction of the tunnel junction
It is, and single-electron tunneling device, characterized in that the length of the tunnel element row of the range sandwiched between a pair of signal extraction portion is set longer than any of the inelastic scattering length and thermal diffusion length of the electrons.
【請求項2】前記トンネル素子列の前記一対の信号取出
し部に挟まれた領域に2つ以上のトンネル接合を含み、
かつトンネル素子列両端の電源印加端子部と各信号取出
し部の間に少なくとも一つ以上のトンネル接合を含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の一電子トン
ネリング素子。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the tunnel element array includes two or more tunnel junctions in a region between the pair of signal extraction portions,
2. The one-electron tunneling device according to claim 1, wherein at least one or more tunnel junctions are provided between the power supply terminal portions at both ends of the tunnel device row and each signal extraction portion.
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