JP3310673B2 - 反復動作式遠心機のための充填制御システム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は、回転している遠心バスケットの中へ充填ゲ
ートを介して流入させる原料の流れを制御して、遠心機
の１回の動作サイクルにおいて処理すべき所定の目標量
の原料を正確に且つ迅速にそのバスケットの中へ供給す
るための方法及び装置に関する。

更に詳細に説明するならば、本発明は、充填ゲートを
介して原料を供給することによって遠心バスケットの中
に装填原料の層を形成しつつあるときに、その充填ゲー
トの開度を自動的に調節することによって、その装填原
料層の厚さが目標最終装填層厚さに達して充填ゲートを
閉塞する以前に、その充填ゲートを流れ絞り位置へ移動
させるようにし、しかも、その流れ絞り位置における充
填ゲートの開度を、バスケット充填動作の本体期間部分
で採用しているゲート全開位置での充填ゲートの開度に
応じた開度にするようにしたシステムに関するものであ
る。従ってその流れ絞り位置は、個々のバスケット充填
動作ごとに、そのバスケット充填動作で採用されている
ゲート全開位置の違いに応じて異なったものとなり、そ
れによって、遠心機で処理する装填原料の流動性ないし
粘度等の充填特性にばらつきがある場合に、夫々の充填
特性に対して好適な関係を成すように様々な位置を取る
ものとなる。

発明の背景 本発明のシステムの具体的な用途としては、例えば、
砂糖の製造並びに精製に使用する種類の大容量の反復動
作式遠心分離機の運転動作に関係した用途等がある。

この種の遠心分離器のバスケットへ装填原料を充填す
る充填動作を制御するための公知の様々なシステムはい
ずれも、処理する装填原料の充填特性の変動ないしばら
つきに対して適切な補償を施し得るものではなかった。
充填特性の変動ないしばらつきは、原料バッチごとに充
填特性が異なっているということもしばしばあり、更に
は砂糖−糖蜜混合物（糖マスケット）のような装填原料
の同じ原料バッチでも初期の処理分と後期の処理分とで
は充填特性が異なっていることすらあり得る。充填特性
にばらつきが存在すると、それによって、各々の動作サ
イクルごとに必要とされる効率的な遠心分離処理のため
のバスケットへの充填の均一性に悪影響が及ぶことにな
る。例えば装填原料の流動性が大きい場合には、その装
填原料が過充填されるおそれがあり、場合によってはそ
の装填原料がバスケットから漏逸するおそれすらある。
一方、装填原料が、粘性が大きく流動が緩慢なものであ
る場合には、ゲートを急速に閉塞したときに、バスケッ
ト内の充填状態が不均一になり、遠心分離器の回転動作
がアンバランスになって騒音や振動を発生するおそれが
ある。

投入原料の充填特性に変動ないしばらつきが存在する
という状況は回避が困難なことがしばしばあり、回避が
不可能なことすらある。例えば糖マスケットを処理する
場合には、その糖マスケットを遠心分離機に充填して処
理する際の取扱容易性が様々な要因によって変化し、そ
れら要因のうちには、例えば、そのマスケットの温度、
砂糖粒子の粒径、結晶度、糖蜜純度、それに原料供給タ
ンクの静水圧ヘッド等がある。

遠心バスケットへの充填動作の速度と制御状態とを改
善するための様々な提案がこれまでになされている。米
国特許第2727630号（Hertrich）には、バスケットへの
充填動作中にバスケット装填体積量が増大して行くにつ
れて位置が変位するようにした装填量測定装置を使用し
たシステムが開示されている。バスケット装填量が目標
最終体積量に近い量になるまでは、バスケット内の装填
原料層の厚さが徐々に増大してその装填量測定装置が変
位して行くのに合わせて、充填ゲートを徐々に閉塞して
行くようにしている。目標最終体積量に近くなったなら
ば、充填ゲートを絞り位置へ、即ち閉塞度の大きな位置
へ移動させて、原料の流量を低下させ、この状態を目標
最終体積量に達するまで維持する。目標最終体積量に達
したならば充填ゲートを急速に閉塞して、その充填ゲー
トが絞り位置から全閉位置へ移動する間には、原料が充
填ゲートをごく僅かしか通過できないようにしている。

米国特許第3011641号（Huser）には手動制御式の充填
ゲートを使用している場合にバスケットへの過充填を防
止するための機構が開示されている。

米国特許第3079046号（Goodwin）には、遠心分離処理
を施すべき原料を貯留している供給タンクの充填用投入
部において検出した圧力状態に応じて充填ゲートの開度
を調節することによって、その充填ゲートの開度を供給
タンク内の静水圧の変動に適合させる機構が開示されて
いる。

米国特許第3141846号（Laven,Jr.）には、遠心バスケ
ットの中に装備した各回の充填動作ごとにその遠心バス
ケットの中に形成される装填原料層によって位置が決定
される機械的な装填量探触器を用いて、その遠心バスケ
ットの装填層の厚さを制御するようにしたシステムが開
示されている。

米国特許第4229298号（Bange）には、各回の充填動作
ごとにバスケット内に形成される装填原料層の厚さを制
御するための方法及び装置が開示されており、その方法
及び装置は、そのバスケットの中の装填空間に静電容量
を発生させ、装填原料が流入することによって装填原料
層の厚さが増大する結果として生じるその静電容量の変
化を検出することによって、充填動作を制御する信号を
得るようにしたものである。

発明の概要 本発明の目的は、処理すべき装填原料の例えば流動性
ないし粘度等の充填特性の変動ないしばらつきに関連し
た条件下における、遠心バスケット充填動作の制御状態
及び均一性を改善するためのシステムを提供することに
ある。

本発明の更なる目的は、バスケット充填動作の終了間
近に充填ゲートが流れ絞り位置にあるときのその充填ゲ
ートの開度を、充填動作の本体期間部分でのゲート開度
として選定されたゲート全開位置におけるゲートの開度
に対して所定の関係を成すようにして制御するためのシ
ステムを提供することにある。このようにしているた
め、ゲート全開位置を装填原料の流動特性に適合させる
べく、ゲート全開位置におけるゲート開度をより大きな
値またはより小さな値に設定し直したときには、この制
御システムが、そのゲート全開位置に続いて充填ゲート
の全閉位置に先んじて取るべき充填ゲートの流れ絞り位
置を、装填原料の流れ特性に対して適切な関係を成すこ
とのできる位置に設定する。

本発明の上記目的及び利点並びに更なる目的及び利点
は、次のような充填制御システムを提供することによっ
て達成される。この充填制御システムは、回転遠心バス
ケットと、その充填ゲートを介して前記バスケットへ装
填原料を供給するための、様々な開放位置の間で移動可
能な常閉の充填ゲートとを備えた遠心機に装備するため
の充填制御システムであって、各回のバスケット充填動
作において動作して充填ゲートを閉塞位置から、装填原
料の充填特性に適合させるべく開度を可変としたゲート
全開位置へ移動させる手段と、バスケット内の充填量が
目標最終体積量に近付いたときに動作して、前記充填ゲ
ートを前記ゲート全開位置から絞り位置へ移動させて前
記供給の供給速度を低下させる手段と、前記絞り位置に
おける前記ゲートの開度を、前記ゲート全開位置におけ
る前記ゲートの開度に対して所定の関係を有するように
決定する手段とを備えたものである。

以上の構成によれば、装填原料の濃度ないし粘度が、
遠心機の操作員がゲート全開位置を充填ゲートの可能最
大開度に選定するほどの非常に高い濃度ないし粘度であ
る場合には、バスケット充填動作の最終段階における充
填ゲートの絞り位置がこの制御システムによって比較的
大きなゲート開度に設定される。また、装填原料の流動
性が通常程度のものであるときには、ゲート全開位置が
前記ゲートの可能最大開度より小さく選定されることに
なるが、その場合には、絞り位置におけるゲート開度
も、略々それに比例して小さく設定される。一方、装填
原料の流動性が大きいときには、ゲート全開位置におけ
るゲート開度が非常に小さな開度に選定されることがあ
り得るが、その場合には、バスケット充填動作の最終段
階における絞り位置として常に最小ゲート開度が設定さ
れる。

本発明の係る充填制御システムは、各回の充填動作に
おいて前記バスケット内に充填される装填原料層の厚さ
が必要な最終的厚さに近付いたときに動作状態とされる
絞り位置回路を備えたものとすることが好ましい。この
絞り位置回路は、ゲート全開位置における前記ゲートの
開度を表すゲート全開信号に応答して前記絞り位置にお
ける前記ゲートの開度を決定するものである。

本発明の更なる特徴並びに本発明の好適実施例の構造
及び動作についての詳細は、添付図面を参照しつつ以下
の詳細な説明を考察することによって明らかになる。

図面の簡単な説明 図１は、反復動作式遠心分離機の一部分と、該遠心分
離機のバスケットへ装填原料を供給するための充填ゲー
トとを示した等測図法による模式図に、更に本発明に係
る充填制御システムの構成要素を併せて模式的に示した
図である。

図２及び図３は、図１の充填制御システムのゲート制
御回路のブロック図である。

図４は、図２のブロック図には１つのブロックで表し
た「絞り状態移行」回路の回路図である。

図５は、図３のブロック図には１つのブロックで表し
た絞り位置回路の回路図である。

図６は、例えば糖マスケット等の装填原料を処理する
際の、目標最終装填原料層厚さと、適当な「絞り位置移
行」装填原料層の厚さとの間の関係を示したグラフであ
る。

図７は、例えば糖マスケットのように、その流動性が
大きく変動したりばらついたりする可能性のある装填原
料を処理する際に、本発明に係る充填制御システムによ
って提供される、ゲート全開位置とゲート絞り位置との
間の関係の一例を示したグラフである。図７は更に、図
５の回路の「絞り調節用」素子の調節変更が図示の関係
に対して及ぼす影響を図解している。

図８は、図５の回路の「膝点（KNEE）調節用」素子の
調節変更が図７に示した関係に対して及ぼす影響を図解
した図である。

発明の詳細な説明 図１は、大容量の反復動作式遠心機10の一部と、充填
ゲート機構20と、本発明に係る充填制御システム12とを
模式的に示した図である。

遠心機10は、多数の細孔を有する円筒形状のバスケッ
ト14を備え、このバスケット14はスピンドル16に取り付
けてある。スピンドル16は、ジャイロ機構（不図示）か
ら吊下されて、ジャイロ運動可能に支持されており、ま
た回転駆動機構（同じく不図示）によって回転されるよ
うにしてある。それらスピンドル及びバスケットは、バ
スケット内に充填された装填原料を遠心分離処理してい
るときには高速の遠心分離速度で駆動されており、一
方、この反復動作式遠心機のその他の動作期間にはそれ
より低速で駆動されている。

装填原料は、貯留タンクないし供給タンク18から、全
体を参照符号20で示した充填ゲート機構を介して、バス
ケット14の中へ供給される。充填ゲート機構20は、供給
タンク18から突出した投入部22の投入口に取り付けられ
ている。充填ゲートから流出した原料は、バスケット14
の上板26に形成されている中央開口24を介してバスケッ
ト14の中へ流入し、またこのとき、バスケット14を囲繞
している円筒形状のハウジング構造体32の上板30に形成
されている開口28を介して、そのバスケット14の中へ到
達する。

装填原料は、個体分と液体分との両方を含んでいる。
通常、装填原料をバスケットの中へ供給するときには、
バスケットを比較的低速で回転させており、この回転速
度は、流れ込んでくる装填原料が、遠心力によって、バ
スケットの装填空間Ｓの中に、そのバスケットの周壁に
支持された円筒形状の装填原料層15を形成することので
きる適当な速度である。装填原料を遠心分離処理する
と、個体分が装填原料層15の中の残り、個体分から液体
分が除去される。このとき除去される液体分は、バスケ
ットも網体とバスケットの周壁の多数の細孔（不図示）
とを介して流出する。

充填ゲート機構20は可動のゲート部材23を備え、この
ゲート部材23は、投入部22の投入口の周囲に延展するよ
うに取り付けられている当接板25に、その裏面を摺接さ
せた状態で、様々な開放位置へ及びそれら開放位置から
別の位置へ摺動可能にしてある。このゲート部材23の前
面を横切るようにクロスヘッド部材34が延在しており、
このクロスヘッド部材34はゲート部材23の裏面を当接板
25の表面へ押し付けるようにしてゲート部材23を支持す
ると共に、ゲート部材23を様々な開放位置へ及びそれら
開放位置から別の位置へ摺動させるのを補助しており、
これについては米国特許第2801035号（Hertrich）に詳
述されている。

一般的なバスケット充填動作では、遠心機の各々の動
作サイクルごとに先ず充填ゲート23が上方へ、ゲート全
開位置へ移動される。このゲート全開位置は、遠心機の
操作員が選定する位置であって、充填ゲートの開口を介
して流入する装填原料を、バスケット14内の充填量が目
標最終体積量に近付くまでは比較的高速で流入させて、
急速な充填が行えるようにするための位置である。原料
の充填量が目標最終体積量に近付いたならば、充填ゲー
ト23は下方へ、ある流れ絞り位置へ移動され、それによ
って、充填完了間近の充填動作の最終段階における、バ
スケット内への装填原料の供給の供給速度を低下させ
る。具体的な数値を挙げるならば、ある充填ゲートが、
その可能最大ゲート開度の開き幅が約10インチ（約25c
m）で、その絞り位置でのゲート開度の開き幅が、通常
約２インチ（約5cm）に設定されるものであるならば、
充填動作の本体期間部分でのゲート開度として遠心機の
操作員が選定するゲート全開位置は、装填原料の実際の
流動特性に応じて、２インチから10インチまでの範囲内
の位置とされる。

充填制御システム12は、制御ボックス40を備えてお
り、この制御ボックス40は、エンコーダ42から信号入力
を受け取ると共に、静電容量プロープ44に接続した送信
装置52からも信号入力を受け取っており、更には、操作
員が設定する複数の制御部材46からも信号入力を受け取
るようにしてある。それら制御部材は、夫々が設定つま
みを備えた３個のポテンショメータP1、P2、及びP3を含
んでおり、それらの設定つまみは制御ボックス40の外面
に装備されている。制御ボックス40には更に、その内部
に、操作員が設定する更に２つの制御部材TP1及びTP2が
設けられている。例えばP3について説明すると、操作員
は、このポテンショメータP3によって制御電圧FWTSPを
設定することができ、この制御電圧FWTSPは、ゲートが
閉塞されて各回の充填動作が終了した時点でバスケット
14の中に存在していることが望まれる、目標最終装填層
厚さに対応した制御電圧である。もう１つの制御部材で
あるP1は、それを調節することによって、充填動作にお
ける所望の目標ゲート全開位置を設定することができる
ものである。制御部材P2は、全開位置の大きさに対する
絞り位置の大きさの比を設定するものである。

プロープ44は、導電性の板部材48を含んでおり、この
板部材48は、ハウジング構造体32の上板30に固設されて
いるブラケット50から、管部材49を介して吊下支持され
ている。板部材48はこの支持構造によって、バスケット
14内の、その装填空間Ｓより内側に位置付けられてい
る。この板部材48は、バスケットの周面に対して略々平
行になるように配置することが好ましい。バスケットの
周面と板部材48との間に空間をはさんで電圧を印加する
ことによって電界を発生させるようにしており、この電
界の静電容量は、装填空間Ｓ内の装填原料の装填量に応
じて変化する。プローブ44が、この静電容量の大きさを
検出し、送信装置52が配線54を介して制御装置40へ、そ
の検出された静電容量に対応した、即ちその静電容量を
表す電流信号を送信する。

送信装置52は例えば次のように校正しておく。即ち、
送信装置52に電流信号の大きさが、バスケット14が空の
ときには20mAとなり、バスケット14への充填が進行する
につれてこの電流信号の大きさが減少して行くように
し、具体的には例えば、充填量が「０」のときには20mA
であるものが、バスケットの充填可能な最大充填量にお
いては4mAにまで減少するように校正しておく。このよ
うにバスケット充填量が増加するに従って電流信号が小
さくなるようにしているのは、フェイルセーフの考え方
に則ったものである。充填動作中にシステム故障が発生
したり、電力供給が断たれたりした場合には、制御装置
40はバスケットが満杯になったものと判断し、ゲートを
閉じるように動作することになる。

それら静電容量プローブ44及び送信装置52として用い
るのに適したデバイスの一例としては、米国、ペンシル
ベニア州、Horshamに所在の、Drexelbrook Engineering
CompanyからDREXELBROOKという商品名で市販されてい
るものが挙げられる。

充填ゲート20は常閉であり、通常は密閉状態に保持さ
れている。充填ゲート20は、ゲート・シャフト56の回動
によって、様々な開放位置へ及びそれ開放位置から別の
位置へと移動され、ゲート・シャフト56は、夫々のクラ
ンク・アーム62を介して一対の油圧シリンダ66（図には
一方だけを示した）に連結しており、それら油圧シリン
ダ66は、クランク・アーム62を駆動することによって、
シャフト56を回動させる。シャフト56には一対のゲート
・リフト・アーム64を取り付けてあり、それらゲート・
リフト・アーム64は夫々のリンク68を介してクロスヘッ
ド34に連結している。そのため、油圧シリンダ66がゲー
ト・シャフト56を回動させると、クロスヘッド34が昇動
し、それによって、ゲート部材23が、当接板25に沿って
摺動して開放位置へ移動し、投入部22から装填原料が流
出できるようになる。制御装置40からの指示に従って複
数の弁47が圧油を圧油供給源68から管路70及び管路72を
介して油圧シリンダ66へ供給することにより、充填ゲー
トの開度と閉塞動作とが制御されるようにしてある。

ゲート・シャフト56に装備したエンコーダ手段42が、
このゲート・シャフト56の角位置の検出を行い、その検
出位置に応じて、ゲート部材23がその常位置である閉塞
位置以外の位置にあるときには、充填ゲート部材23の開
度を表すゲート位置信号が発生されるようにしてある。
エンコーダ手段42としては、例えば、市販の「KYTRONIC
Sフィードバック・エンコーダ」等を使用することがで
き、このエンコーダを、例えば、ゲート・シャフト56の
一端58に取り付けるようにすれば良い。この種のエンコ
ーダでは、充填ゲートを開放方向へ移動させる方向にゲ
ート・シャフトが回動したならば、フィールド・エフェ
クト・センサの上を磁気レバーが移動する。これによっ
て検出された回動量が、評価回路によってディジタル信
号のゲート位置表示信号に変換され、この変換された信
号が配線60を介して制御装置40へ供給される。これによ
って、電気的部材どうしが相対的に移動したり摺接した
りする構造を使用することなく、充填ゲートの開度が連
続的に検出されて高い信頼度をもって信号で伝達される
ようにしている。電気的部材どうしが相対的に移動した
り摺接したりする構造は、例えば湿気が多くてべたつき
易い、精糖用遠心分離器の環境のように劣悪な使用状況
下では、信頼性が徐々に低下して行く原因となるもので
ある。

制御装置40は、送信装置52から受け取る装填層厚さ信
号とフィードバック・エンコーダ42から受け取るゲート
位置信号とを用いて、参照符号R1とR2とで示した２つの
電流出力を介して充填ゲートを制御する。それら電流出
力は、例えば、充填ゲートの位置を定める複数の空圧ソ
レノイド弁47を直接駆動することのできるAC120ボルト
の出力とすることができる。ただし、それらゲート制御
信号を、一旦、プログラム可能なロジック制御装置（不
図示であるが、制御ボックス40の一部として装備するこ
とが考えられる）へ入力し、このロジック制御装置が出
力をソレノイド弁47へ送出することによってゲートを制
御するという構成も可能であり、そうすることが望まし
い場合には、そのようにすれが良い。

制御ボックス40の内容を図２及び図３に模式的に示し
た。図２はフリップフロップ80と比較器A9、A10、及びA
11とを使用した回路を示しており、この回路の全体とし
ての機能は、充填ゲート23を閉塞位置から全開位置へ、
そこから更に絞り位置へ、そして最終的には再び閉塞位
置へ戻すように移動させるための条件ないしその時刻を
制御することにある。図３に示した回路の全体としての
機能は、ゲート全開位置における充填ゲートの開度と、
絞り位置における充填ゲートの開度とを決定することに
ある。

図２について更に詳細に説明すると、任意の時刻に充
填ゲートが存在すべき位置は、フリップフロップ80の状
態と、「開放」比較器A11、「閉塞」比較器A10、及び
「絞り」比較器」A9の、夫々の出力とに応じて決定され
る。「閉塞」比較器A10の出力がハイになり、フリップ
フロップ80が「セット」状態にされたならば、充填ゲー
ト23は、閉塞位置へ移動させられる（充填ゲートがその
とき閉塞位置にあったならばその位置にとどめられ
る）。一方、フリップフロップ80がリセット状態にされ
たならば、充填ゲート23は、遠心バスケット内の装填層
厚さのそのときの検出値に応じて、全開位置が絞り位置
かのいずれかへ移動させられる（充填ゲートがそのとき
該当する位置にあったならばその位置にとどめられ
る）。上記の３個の比較器とフリップフロップ80とは、
ピン端子Ａ及びＢのその時点での状態を決定するもので
あり、それらピン端子Ａ及びＢの状態が、目標位置回路
（図３）とインターフェースすることによって、充填ゲ
ートの制御が維持されるようにしている。その真理表は
次の通りである。

ピン端子Ａ ピン端子Ｂ ゲート動作 ロー ハイ 全開 ハイ ロー 絞り ハイ ハイ 閉塞 比較的A9、A10、及びA11の各々は、装填層厚さ信号で
ある電圧入力WTSを受け取り、それを３種類の電圧設定
点のうちの１つと比較している。この電圧WTSは、プロ
ーブ44及び送信装置52が発生している装填層厚さ電流信
号が電流電圧変換部82で変換されることによって発生さ
れる。従ってWTSの大きさは装填層厚さに反比例するよ
うに変化し、なぜならば、装填層厚さが増大するにつれ
て、配線54上の電流が減少し、従ってWTSの電圧が低下
するからである。

「開放」比較器A11は、その「＋」入力のWTS電圧と、
電圧源84から供給されている開放設定点電圧OSPとを比
較している。この開放設定点電圧OSPは、バスケットが
空のときないしは殆ど空のときのWTSの値に対応した値
に選定されている。バスケット14が空になると、WTSがO
SPより大きくなって「開放」比較器A11の出力がハイに
なるため、フリップフロップ80がリセットされ、充填ゲ
ートが開放方向へ移動させられる。このように、初期状
態においてフリップフロップ80がリセットされたときに
は、「絞り」比較器A9の出力が（WTSが大きいため）ロ
ーであるため、ピン端子Ａの電圧はローであり、一方、
ピン端子Ｂの電圧はインバータ90の働きによってハイに
なっている。ＡがローでＢがハイであるため、上掲の真
理表に示したように、充填ゲート23はゲート全開位置へ
移動させられる。

更に緊急開放回路86も備えており、この回路86は、緊
急時にWTSに電圧を追加して比較回路A11の「＋」入力の
電圧をOSPより大きくすることによって充填ゲート23を
開くための回路である。

更に「手動開放」回路88からフリップフロップ80へ、
このフリップフロップ80をリセットし得るだけの十分に
大きな電圧を供給できるようにしてある。ただし、「手
動開放」回路88によってリセットした場合のゲートの動
作は、WTSの電圧の大きさによって示されているバスケ
ット充填状況に応じて異なったものとなり、従って、
「絞り」比較器A9及び「閉塞」比較器A10を介して作用
するWTSの電圧に影響される。「手動開放」回路88を使
用することがあるのは例えば、バスケット14が空の場
合、または部分的にしか充填されていない場合であり、
そのような場合には、「手動開放」回路88を使用するこ
とによって、充填ゲートを開放して、バスケット14を完
全に充填することができる。

バスケットの充填動作が進行して行くにつれてプロー
ブ44が発生する電流は減少して行き、そのためWTSの電
圧も低下して行く。「絞り」比較器A9は、この次第に低
下して行くWTSの電圧を「−」入力に受け取っており、
それを、図２には１つのブロックで示した「絞り移行」
回路92が発生している「絞り設定点」電圧PSPと比較し
ている。この「絞り移行」回路92の詳細な構成は、図４
に回路図の形で示してある。

PSP電圧は、バスケット14内に形成中の装填層の、あ
る厚さに対応した電圧であり、ここでいうある厚さと
は、装填層厚さがその厚さになったならば充填ゲートを
全開位置から絞り位置へ移動させるところの厚さであ
る。この厚さは、目標最終装填層厚さに対する比の形で
選定することができ、これについては後に詳述する。WT
S電圧が、予め設定されているPSP電圧以下にまで低下し
たとき、「絞り」比較器A9の出力がハイになり、そのた
めピン端子Ａがハイ状態になる一方で、インバータ90の
働きによってピン端子Ｂがロー状態になる。Ａがハイで
Ｂがローになるため、上掲の真理表に示したように、充
填ゲート23は絞り位置へ移動させられて、装填原料の供
給速度が低下し、これによってバスケット充填動作の最
終段階における精度と制御状態が改善される。

個々のバスケット充填動作において採用される目標最
終装填層厚さは必ずしも常に同じではなく、例えばマス
ケットの種類やミルの動作条件が異なれば、目標最終装
填層厚さとして、異なった厚さが採用されることにな
る。そのため、例えばポテンショメータP3のように、装
填層厚さがその厚さになったときに充填ゲート23を閉塞
して充填動作を終了させるところの目標最終装填厚さを
操作員が選定できるようにするための手段を備えてい
る。ある目標最終装填層厚さが選定されれば、ポテンシ
ョメータP3は、その選定された厚さに対応した目標最終
装填層厚さ設定点電圧（FWTSP）を提供するようにな
り、バスケット内の装填層の厚さがその目標最終装填厚
さに達したときに−−このとき電圧WTSがFWTSPの電圧よ
り低くなる−−、このFWTSPが、「閉塞」比較器A10及び
フリップフロップ80を介して充填ゲートを閉塞させるこ
とになる。

選定された目標最終装填層厚さが、装填厚さではバス
ケット充填量が異常に少なくなってしまうものである場
合を徐いて、選定された目標最終装填層厚さの各々に対
して、限られた範囲を持つ適切な装填層厚さ範囲が存在
し、この適切な装填層厚さ範囲とは、選択された装填層
厚さより薄い装填層厚さの範囲であって、その範囲内の
装填層厚さが、充填ゲートを絞り位置へ移動させてバス
ケット内へ流入する装填原料の流れの速度を低速にすべ
き時刻の指標として選定し使用することのできる、目標
最終装填層厚さに適切に関連した装填層厚さとなり得る
範囲である。

例えば糖マスケット等の装填原料を処理するのに適し
た、目標最終装填層厚さと「絞り移行」装填層厚さ範囲
との間の関係の典型的な一例を、添付図面の図６に模式
的に示した。同図のグラフの曲線は、バスケット充填動
作中にバスケット内の装填層の厚さが「０」から約７イ
ンチへ増大して行くときに、静電容量センサの電流が、
図示例では約20mAから約4mAまでの範囲で、次第に大き
な低下率で低下して行くことを示している。目標最終装
填層厚さを７インチ（約18cm）とした充填動作では、グ
ラフの記号１が示すように、充填ゲート23を絞り位置へ
移動させる値をその中から選択することのできる、より
薄い装填層厚さの範囲は、図示例では約4.5インチ〜約
６インチ（約13cm〜約15cm）であり、これは静電容量セ
ンサの電流の値の範囲としては約15.5mA〜10.5mAに対応
している。目標最終装填層厚さを５インチとした場合に
は、グラフの記号２が示すように、適当な「絞り移行」
装填層厚さの範囲は約3.5インチ〜約4.25インチ（約9cm
〜約11cm）であり、これは静電容量センサの電流の値の
範囲としては約17mA〜約15.5mAに対応している。

これより図３について詳細に説明して行く。ピン端子
Ａ及びＢに発生した状態に応じて、ゲート全開位置バッ
ファ94及び絞り位置バッファ96の動作が制御される。Ａ
がローでＢがハイのときには、バッファ94が、ゲート全
開位置における目標ゲート開度を表すディジタル信号を
EPROM95から指令ゲート位置バス98上へ送出しており、
このディジタル信号は、ポテンショメータP1によって設
定された電圧に対応した信号である。ＡがハイでＢがロ
ーのときには、バッファ96が、絞り位置における目標ゲ
ート開度を表すディジタル信号をEPROM97からバス98上
へ送出しており、このディジタル信号は、絞り位置回路
112が送出している電圧に対応した信号である。ＡとＢ
との両方がハイのときには、即ち、フリップフロップ80
が「閉塞」比較器A10によってセット状態にされている
ときには、バッファ94とバッファ96とのいずれも信号を
送出することができず、そのため、指令ゲート位置バス
98のディジタル信号状態は、抵抗回路網100の働きによ
ってローに維持され、これによって、充填ゲートの指令
位置が閉塞位置であることが表示される。

電圧GFOの大きさは、充填ゲート23の閉塞位置に対応
した値から充填ゲート23の可能最大開度に対応した値ま
での範囲内の値を取り得るものであり、充填ゲート23の
開度に対して比例関係を有する。ゲート全開位置という
のは、遠心機で遠心処理する個々の装填原料の充填動作
において実際に充填ゲートを開放する範囲内での最大開
度のことである。従ってゲート全開位置は、充填ゲート
の可能最大開度と一致することもあるが、一般的には、
充填ゲートの可能最大開度とは異なった開度である。こ
の電圧GFOを、アナログ・ディジタル・コンバータ110が
それに対応したディジタル電圧信号に変換し、その変換
されたディジタル電圧信号を、EPROM95が、目標ゲート
全開位置を表すディジタル信号に変換している。このデ
ィジタル信号を、ラッチ・バッファ94がバス98上へ送出
できるようにしてあり、またこのディジタル信号を、必
要に応じて、バッファ104を介してディスプレイ108上に
視覚表示できるようにしてある。

絞り位置回路112（図５参照）が発生するゲート絞り
電圧GPは、アナログ・ディジタル・コンバータ114によ
ってディジタル電圧信号に変換され、その変換されたデ
ィジタル電圧信号が更にEPROM97によって、目標ゲート
絞り位置を表すディジタル信号に変換される。このディ
ジタル信号を、ラッチ、バッファ96がバス98上へ送出で
きるようにしてあり、また必要に応じて、このディジタ
ル信号が、バッファ106を介してディスプレイ108に表示
を行わせることができるように、また後に詳述するよう
に、絞り位置回路112は、GPを発生する際にはゲート全
開位置信号GFO（この信号は捜査員が先にポテンショメ
ータP1を介して設定した信号である）の大きさの関数と
して発生し、より詳しくは、そのゲート全開位置信号GF
Oに、入力「Ｖ KNEE」及び入力「PA」による制御を加
えたものとして発生する。入力「Ｖ KNEE」はポテンシ
ョメータTP2によって、また入力「PA」はポテンショメ
ータP2によって、夫々可変に設定することができる。

スイッチ102は、ディスプレイ・バッファ104及び106
を制御して、それからディスプレイ・バッファのうちの
一方もしくは他方を動作状態とすることによって、ゲー
ト全開位置信号GFOに対応した信号と絞り位置信号GPに
対応した信号とのいずれか一方をディスプレイ108へ送
出させ、それによってそれら信号のうちのいずれか一方
の値を視覚表示させるものである。

指令ゲート位置バス98は、バッファ94から送出される
全開位置信号とバッファ96から送出される絞り位置信号
とのいずれを保持することもできるが、ただし一度に保
持することができるのは、それら信号のうちの一方のみ
である。また、それらバッファ94及び96のいずれからも
実効信号が送出されていないときには、この指令ゲート
位置バス98上には、閉塞位置信号が存在している。

ディジタル比較器116（図３）は、バス98上の指令ゲ
ート位置信号を受け取り、その信号を、ゲート位置エン
コーダ42（第１図参照）からバス60を介して受け取って
いる実測ゲート位置信号と比較している。更に、ディジ
タル比較器116からの出力は、充填ゲート制御配線R1を
介して、また配線118を経由して充填ゲート制御配線R2
を介して、夫々に送出されるようにしてある。制御配線
R1及びR2は前述の複数の弁47を作動させ、それら弁47
は、配管70及び72を介してシリンダ66（図１参照）へ伝
達される圧油を制御することによって充填ゲート23の位
置を制御する。即ち、配管72を開放状態にしておき配管
70を介して圧力を印加することによって、油圧シリンダ
66の中のピストンを前方へ移動させて充填ゲート23を開
放方向へ移動させることができる。また、配管70を開放
状態にしておき配管72を介して圧力を印加することによ
って、油圧シリンダ66のピストンを後方へ移動させて充
填ゲートを閉塞位置へ向けて移動させることができる。
充填ゲートが目標位置へ達したならば、配管70及び72を
介して油圧シリンダ66の両端へ印加している油圧を等し
くすることによって、充填ゲートを実際上その位置に保
持することができる。

配線R1は、指令ゲート位置信号（CS）が実測ゲート位
置信号（AS）より大きいとき即ちCS＞ASのときに、活動
状態、即ち「ハイ」になっている。これとは逆に、配線
118は、実測ゲート位置信号が指令ゲート位置信号より
大きいとき即ちAS＞CSのときに、活動状態、即ち「ハ
イ」になっている。指令ゲート位置信号と実測ゲート信
号位置とが等しいときには、配線R1と配線118との両方
がローに、即ち非活動状態になっている。制御配線R2は
ANDゲートU5の出力を保持しており、このANDゲートU5
は、インバータ120を介して配線122から、配線118上の
信号とは逆の状態にある入力を受け取っている。ANDゲ
ートU5は、他方の入力をピン端子Ｃを介して受け取って
おり、この入力はフリップフロップ80（図２）のＱ出力
である。

R1がハイになっているときには、配線118がローに、
そして配線122がハイになっている。このときにはノッ
トＱ出力、即ちピン端子Ｃもハイになっており、それは
フリップフロップ80がリセット状態とされているからで
あり、フリップフロップ80がリセット状態にされている
ということは、「開放」比較器A11が、充填ゲート23を
開放方向へ移動すべきであることを示しているというこ
とに他ならない。従って、ANDゲートU5によって、R2が
ハイになるための条件が満たされているため、充填ゲー
トは開放方向へ移動される。

実測ゲート位置が指令ゲート位置より大きいために配
線118がハイになっているときには、配線122及び配線R1
がローになっている。配線122がローになっているとき
にはR2もローになっており、そのため充填ゲートは閉塞
位置へ向けて移動される。

実測充填ゲート位置と指令ゲート位置とが一致してい
るために、配線R1と配線118との両方がローになってい
るときには、配線122はハイになっているが、ただしこ
のときピン端子Ｃは、ハイとローとのいずれになってい
ることもあり得る。ピン端子Ｃは、フリップフロップ80
がリセット状態にあるときには、即ち充填ゲート23がゲ
ート全開位置または絞り位置にあるときには、ハイにな
っている。ピン端子Ｃがハイであるときには、ANDゲー
トU5のために、R2もハイになっており、そのため、油圧
シリンダ66の中では、配管70の油圧と配管72の油圧とが
拮抗して、充填ゲート23は実際上その現在位置に保持さ
れている。一方、フリップフロップ80が「閉塞」比較器
A10の出力によってセット状態にされているときには、
Ｑ出力とピン端子Ｃとはいずれもロー状態にされてお
り、そのためR2もローになっている。従って、R1とR2と
の両方がローであることから、充填ゲートは閉塞位置へ
移動された上でその閉塞状態に保持されることになり、
この閉塞状態はフリップフロップ80がリセットされて新
たなバスケット充填動作が開始されるまで継続される。

図２に示した回路92の諸機能を好適に果たすことので
きる「絞り移行」回路の一例を図４に更に詳細に示し
た。回路92へ入力したFWTSP電圧は、一連の演算増幅器A
6、A7、及びA8を通過して行く。増幅器A6は「−」入力
にFWTSPを受け取っており、「＋」入力には増幅器A5の
出力を受け取っている。R29とR30とは抵抗値が略々等し
く、そのため増幅器A5の出力は基準電圧の２分の１の電
圧（Vref/2）になっている。このVrefは概念的には、バ
スケットが空のときの装填層厚さ電圧である信号WTSに
対応した電圧である。抵抗R32、R33、R34、及びR35は抵
抗値が略々等しく、そのため増幅器A6の出力は、ポテン
ショメータP3の設定によってはあり得る電圧である、Vr
ef−FWTSPとなっており、これは、バスケットが空であ
ることを表す電圧値からバスケットが可能最大の最終装
填層厚さに充填されていることを表す電圧値までの範囲
内の値を取り得る。抵抗R31、R33、及びR34はバイアス
効果を制限するために使用されている。

絞り設定点調節用ポテンショメータTP2は増幅器A6の
出力を受け取っている。TP2を設定することによってこ
のTP2の出力を、A6の出力に対して比例関係にある例え
ばA6の出力のｍ倍の電圧とすることができ、それによっ
て、信号FWTSPによって定められる目標最終装填層厚さ
に対する、その厚さになったときに充填ゲートをゲート
全開位置から絞り位置へ移行させる装填層厚さの比を、
所望の比とすることができる。

TP2の出力は、ｍ（Vref−FWTSP）で表され、これが増
幅器A8の「−」入力となり、この増幅器A8の「＋」入力
もまた、Vref/2である。抵抗R39、R40、R41、及びR42は
抵抗値が略々等しく、そのため増幅器A8の出力はVref−
ｍ（Vref−FWTSP）で表される値を持ち、この出力が
「絞り移行」設定点電圧信号PSPであり、「絞り」比較
器A9（図２）へ入力している。この信号の大きさは、FW
TSP信号に調節を加えることによって変化するが、その
場合でも、FWTSP信号に対する所定の比例関係は維持さ
れる。従って、FWTSP電圧を変化させると、どれほどの
量の装填原料がバスケット内に装填されたときにゲート
を絞り位置へ移動させるかについての装填原料の量は変
更されるが、TP2によって設定されたタイミング比は変
更されない。

絞り位置回路112の更に詳細な構成について、これよ
り図５、図７、及び図８を参照しつつ説明して行く。

電圧GFOは、ポテンショメータP1から絞り位置回路112
（図５）へ入力されている電圧であり、この電圧GFOの
大きさによって、充填ゲート23がゲート全開位置にある
ときのゲート開度が決定される。抵抗R11とR12とは抵抗
値が略々等しいため、演算増幅器A2の「＋」入力へは電
圧GFO/2が入力している。この増幅器A2の「−」入力へ
は、「Ｖ KNEE」で表される電圧が入力しており、この
電圧「Ｖ KNEE」は、「KNEE調節用」ポテンショメータ
TP1から得られている。「KNEE」は、図７に示したよう
に、ゲート全開位置に対するゲート絞り位置を示したグ
ラフ上の点であって、その点を超えたならば、ゲート全
開位置の増大と共に絞り位置におけるゲート開度を増大
させて行くようにする点である。TP1ポテンショメータ
を調節して、電圧「Ｖ KNEE」を変化させると、ゲート
全開位置の増大と共に絞り位置におけるゲート開度を増
大させて行くようにするゲート全開位置範囲が変化する
が、ただし、異常に小さなゲート全開位置に該当する範
囲では、絞り位置におけるゲート開度を所定の最小値以
下にはしないようにしている（図８参照）。従って正常
なゲート動作状況においては、TP1を調節することによ
り、任意のゲート全開位置におけるゲート開度に対応し
た絞り位置ゲート開度を増減することができる。

この制御回路に使用する増幅器A2をはじめとする種々
の演算増幅器には、片方向性のもの、即ち出力が負にな
らないものを用いることが好ましい。そして、R9、R1
0、R11、及びR12は抵抗値が略々等しいため、A2の出力
である「GFO−Ｖ KNEE」は、一般的に、０ボルトから
１ボルトの範囲内の値であって、電圧GFOの何分の１か
に相当する値を取る。この増幅器A2の出力は演算増幅器
A3の「−」入力へ入力しており、演算増幅器A3の「＋」
入力へは、ポテンショメータP2によって設定された絞り
調節用電圧PAの２分の１の電圧が入力している。この電
圧PAを調節することによって、図７に示したように、動
作曲線の全体を上下に移動させることができる。この増
幅器A3の出力がゲート絞り電圧信号GPであり、この電圧
信号GPの大きさは「PA−（GFO−Ｖ KNEE）」である。G
Pの大きさは、ゲート全開位置における充填ゲート開度
に反比例しており、そのため、絞り位置における最小ゲ
ート開度は、GPの最大値に対応することになる。GPの大
きさは、「GFO−Ｖ KNEE」が「０」のときに、即ち操
作員がP1で選定したGFOの値が「Ｖ KNEE」と等しいか
それ以下であるときに、最大になる。

図７について説明すると、選定されたゲート全開位置
が、KNEE点に対応したゲート開度以下であった場合に
は、絞り位置回路が、自動的に、非常に流動性の大きな
装填原料に対応した正常と認められるゲート全開位置よ
りごく僅かに小さいだけの最小絞り位置ゲート開度を選
択する。一方、選定されたゲート全開位置が、KNEE点に
対応したゲート開度以上であった場合には、絞り位置に
おけるゲート開度は、ゲート全開位置における開度が大
きいほど、それに比例した大きな値とされる。

以上に説明した本発明に係る充填ゲート制御システム
の使用法について説明すると、１台ないし数台の遠心機
を担当している操作員が、処理すべき装填原料の充填特
性を推定した上で、みずからの経験と判断とに従って、
個々の充填動作ごとにポテンショメータP1を設定して、
ゲート全開位置における望ましい充填ゲート開度を選定
することができ、即ちゲート全開位置を選定することが
できる。操作員は更に、ポテンショメータP2を設定する
ことにより、絞り位置の開度として適当な充填ゲート開
度を、先に選定したゲート全開位置に関連させて選定す
る。操作員は更に、ポテンショメータP3を設定すること
によって、遠心バスケット内の装填層がその厚さになっ
たときに充填ゲートを閉じて閉塞状態に維持するところ
の、目標最終装填層厚さを選定する。

処理すべき原料の充填特性が変化してきたならば、操
作員は、ポテンショメータP1で設定するゲート全開位置
に対して、その変化に対する補償のための変更を加え
る。すると、この制御システムの絞り位置回路が自動的
に、その変更に対応した、絞り位置において充填ゲート
が取るべきゲート開度を選定する。その新たなゲート全
開位置が、通常開度の付近の、ゲート全開位置の可能最
大値以下のものであれば、本発明に係る充填ゲート制御
システムは、絞り位置におけるゲート開度が、ゲート全
開位置における開度として選定された充填ゲート開度に
略々比例した開度になるようにする。

以上に本発明を具体的な実施例、具体的な特徴、等々
に即して説明し図面に示したが、多くの変更例並びに改
変例も、当業者にとっては自明であるかないしは容易に
想到し得るものである。本発明は、添付の請求の範囲に
よって規定されるべきものであり、請求の範囲の適正な
解釈によって要件とされる特徴以外のその他の、明細書
に記載しないしは図面に示した具体的な特徴に限定され
るものではない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭33−5199（ＪＰ，Ｂ１) 特表 昭56−500166（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01D 33/06 B01D 33/72 B04B 3/00 B04B 11/04

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】回転遠心バスケットと、閉塞位置と様々な
   開放位置との間で移動可能でありその充填ゲートを介し
   て前記バスケットに充填される装填原料の供給をそれら
   位置の間の移動によって制御する充填ゲートと、前記ゲ
   ートの各々の開放動作に応答して動作して、ある目標最
   終体積の装填原料が前記バスケット内に蓄積したときに
   前記ゲートを閉塞する制御手段とを備えた遠心機におい
   て、前記制御手段が、 前記ゲートを閉塞位置から、前記装填原料の充填特性に
   適合させるべく開度を可変としたゲート全開位置へ移動
   させる手段と、 前記バスケット内の充填量が前記目標最終体積に近づい
   たことに応答して動作して前記ゲートを前記ゲート全開
   位置から絞り位置へ移動させて前記供給の供給速度を低
   下させる手段と、 前記充填量が前記目標最終体積に達したことに応答して
   動作して前記ゲートを前記絞り位置から前記閉塞位置へ
   移動させる手段と、 前記ゲート全開位置に至るまでの前記ゲートの移動量の
   変化に応答して動作して前記絞り位置における前記ゲー
   トの開度を自動的に調節する、絞り位置調節手段と、 を備えた制御手段であることを特徴とする遠心機。
2. 【請求項２】前記絞り位置調節手段が、前記絞り位置に
   おける前記ゲートの開度を決定するための、前記ゲート
   全開位置における前記ゲートの開度に大きさが比例する
   信号を発生する手段を含んでいることを特徴とする請求
   項１記載の遠心機。
3. 【請求項３】前記絞り位置調節手段が、前記ゲート全開
   位置における前記ゲートの開度と前記絞り位置における
   前記ゲートの開度との間の比例関係を調節する手段を含
   んでいることを特徴をする請求項２記載の遠心機。
4. 【請求項４】前記充填ゲートが、その角位置が夫々に前
   記ゲートの前記閉塞位置と前記様々な開放位置とに対応
   する回動可能なゲート作動シャフトを備えており、前記
   ゲート移動手段が、フィールド・エフェクト・デバイス
   を備えており、該フィールド・エフェクト・デバイス
   は、前記シャフトに装備されて、前記ゲートの開放方向
   への移動に際してその移動によって生じた前記ゲートの
   開度を表すディジタル信号を発生するように動作するこ
   とを特徴とする請求項１記載の遠心機。
5. 【請求項５】回転遠心バスケットと、閉塞位置と様々な
   開放位置との間で移動可能でありその充填ゲートを介し
   て前記バスケットに充填される装填原料の供給をそれら
   位置の間の移動によって制御する充填ゲートと、前記ゲ
   ートの各々の開放動作に応答して動作して、ある目標最
   終体積の装填原料が前記バスケット内に蓄積したときに
   前記ゲートを閉塞する制御手段とを備えた遠心機におい
   て、前記制御手段が、 前記ゲートを閉塞位置から、前記装填原料の充填特性に
   適合させるべく開度を可変としたゲート全開位置へ移動
   させる手段と、 前記バスケット内の充填量が前記目標最終体積に近づい
   たことに応答して動作して前記ゲートを前記ゲート全開
   位置から絞り位置へ移動させて前記供給の供給速度を低
   下させる手段と、 前記充填量が前記目標最終体積に達したことに応答して
   動作して前記ゲートを前記絞り位置から前記閉塞位置へ
   移動させる手段と、 所定の移動量範囲内の移動として行われる前記ゲートの
   前記ゲート全開位置への移動における移動量に応答して
   動作して、その移動に続いて行われる該ゲートの前記絞
   り位置への移動における移動量を前記移動量に略々比例
   した移動量にするための絞り位置回路を含んでいる手段
   と、 を備えた制御手段であることを特徴をする遠心機。
6. 【請求項６】前記絞り位置回路が、先に行われた前記ゲ
   ートの前記ゲート全開位置への移動が異常に流動性の高
   い装填原料を前記バスケットに充填するのに適した小さ
   なゲート全開位置への移動であった場合に、そのことに
   応答して、前記絞り位置における前記ゲートの開度を最
   小絞り位置開度にするように動作する手段を含んでいる
   ことを特徴とする請求項５記載の遠心機。
7. 【請求項７】前記絞り位置回路が、前記小さな全開位置
   に対応したゲート開放移動量を調節する手段を含んでい
   ることを特徴とする請求項６記載の遠心機。
8. 【請求項８】回転遠心バスケットと、閉塞位置と様々な
   開放位置との間で移動可能でありその充填ゲートを介し
   て前記バスケットに充填される装填原料の供給をそれら
   位置の間の移動によって制御する充填ゲートと、前記ゲ
   ートの各々の開放動作に応答して動作して、ある目標最
   終体積の装填原料が前記バスケット内に蓄積したときに
   前記ゲートを閉塞する制御手段とを備えた遠心機におい
   て、前記制御手段が、 前記ゲートを閉塞位置から、前記装填原料の充填特性に
   適合させるべく開度を可変としたゲート全開位置へ移動
   させる手段と、 前記閉塞位置から前記ゲート全開位置までの前記ゲート
   の変位量を表すゲート全開信号を発生する手段と、 前記バスケット内の原料の充填量が前記目標最終体積に
   近づいたことに応答して動作状態とされて前記ゲートを
   前記ゲート全開位置から絞り位置へ移動させて前記供給
   の供給速度を低下させる絞り位置回路を含んでいる手段
   と、 前記充填量が前記目標最終体積に達したことに応答して
   動作して前記ゲートを前記絞り位置から前記閉塞位置へ
   移動させる手段と、を備え、 前記絞り位置回路が、前記ゲート全開信号に応答して、
   前記絞り位置における前記ゲートの開度を決定するよう
   にした、 制御手段であることを特徴とする遠心機。
9. 【請求項９】前記制御手段が、前記供給の実行中に前記
   バスケット内に形成されて行く装填原料の層の厚さの変
   化に従って大きさが変化する充填信号を発生する手段を
   含んでおり、前記ゲートを絞り位置へ移動させる前記移
   動手段が、前記充填信号に応答して動作するものである
   ことを特徴とする請求項８記載の遠心機。
10. 【請求項１０】前記充填信号が、前記層の厚さが増大す
    るに従って大きさが小さくなって消滅して行くようにし
    た信号であり、前記制御手段が、前記充填信号の不存在
    に応答して前記充填ゲートを閉塞させる手段を含んでい
    ることを特徴とする請求項９記載の遠心機。
11. 【請求項１１】装填原料の前記層の厚さが前記目標最終
    体積に略々対応する厚さになったことを前記充填信号が
    示したときに前記充填ゲートを閉塞位置へ移動させる手
    段を更に備えたことを特徴とする請求項９記載の遠心
    機。