JP3300139B2 - Pentamethine compound and optical recording material containing the same - Google Patents

Pentamethine compound and optical recording material containing the same

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JP3300139B2
JP3300139B2 JP29791893A JP29791893A JP3300139B2 JP 3300139 B2 JP3300139 B2 JP 3300139B2 JP 29791893 A JP29791893 A JP 29791893A JP 29791893 A JP29791893 A JP 29791893A JP 3300139 B2 JP3300139 B2 JP 3300139B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ペンタメチン化合物、
該化合物の製造方法及び該化合物を含有する光記録材料
に関するものである。
The present invention relates to a pentamethine compound,
The present invention relates to a method for producing the compound and an optical recording material containing the compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報の記録及び読み取りに半導体
レーザを使用する光記録材料において、記録層にテルル
等の金属系物質に代えて、シアニン系化合物、スクワリ
リウム系化合物、フタロシアニン系化合物等の近赤外域
に吸収をもつ有機色素系化合物を用いることが提案され
ている。有機色素系化合物は金属系物質に比べ、融点、
分解温度が低く、熱伝導率も低いので、高感度、高密度
化が可能である。また、低毒性であり、更には塗布法で
記録層を形成できるため、生産性の向上、低コスト化が
期待できる。しかしながら、一般的に近赤外域に吸収を
もつ有機色素系化合物は溶剤溶解性が低いため必要な膜
厚を持つ記録層の形成が困難である。また、有機色素系
化合物を用いた光記録材料はテルル等の金属物質を用い
た光記録材料に比べ反射率が低く、光安定性に劣り再生
光により劣化し易いという欠点を有している。すなわ
ち、半導体レーザ発振域に良好な吸収及び反射を有し、
溶剤溶解性が高く、かつ光安定性の良好な有機色素系化
合物を用いた光記録材料は開発されていないのが現状で
ある。また、最近では、記録密度の向上のため半導体レ
ーザ発振域の短波長化が活発に研究されており、より短
波長の半導体レーザに適する光記録材料が要望されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, in an optical recording material using a semiconductor laser for recording and reading of information, a cyanine-based compound, a squarylium-based compound, a phthalocyanine-based compound or the like is used instead of a metal-based material such as tellurium in a recording layer. It has been proposed to use organic dye compounds having absorption in the infrared region. Organic dye-based compounds have a melting point,
Since the decomposition temperature is low and the thermal conductivity is low, high sensitivity and high density can be achieved. Further, since it has low toxicity and can form a recording layer by a coating method, improvement in productivity and cost reduction can be expected. However, generally, organic dye compounds having absorption in the near infrared region have low solvent solubility, so that it is difficult to form a recording layer having a required film thickness. Further, an optical recording material using an organic dye-based compound has a defect that the reflectance is lower than that of an optical recording material using a metal substance such as tellurium, the light stability is poor, and the optical recording material is easily deteriorated by reproduction light. That is, it has good absorption and reflection in the semiconductor laser oscillation region,
At present, an optical recording material using an organic dye compound having high solvent solubility and good light stability has not been developed. In recent years, research on shortening the wavelength of a semiconductor laser oscillation region has been actively conducted to improve the recording density, and an optical recording material suitable for a semiconductor laser having a shorter wavelength has been demanded.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、半導
体レーザの発振域に良好な吸収及び反射を有し、溶剤溶
解性が高く、かつ光安定性に優れたペンタメチン化合物
及びこれを含有する光記録材料を提供することである。
An object of the present invention is to provide a pentamethine compound which has good absorption and reflection in the oscillation range of a semiconductor laser, has high solvent solubility and is excellent in photostability, and contains the compound. It is to provide an optical recording material.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記した
課題を解決するため鋭意検討した結果、新規なペンタメ
チン化合物を見い出し、本発明の目的を達成した。すな
わち、本発明は、まず、下記一般式(1) により表わ
される新規なペンタメチン化合物に関する。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found a novel pentamethine compound and have achieved the object of the present invention. That is, the present invention firstly relates to a novel pentamethine compound represented by the following general formula (1).

【0005】[0005]

【化8】 (式中、R1,R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のア
ルキル基、炭素数2〜8のアルコキシアルキル基または
炭素数5〜7のシクロアルキル基を示し、R2,R6は、
それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜
7のシクロアルキル基、アリール基または置換アリール
基を示し、R3,R4,R7,R8は、それぞれ独立に水素
原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアル
コキシ基、炭素数5〜7のシクロアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示し、Zは酸性残基を示
す。)
Embedded image (Wherein, R 1 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and R 2 and R 6 Is
Each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, 5 to 5 carbon atoms
7 represents a cycloalkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, wherein R 3 , R 4 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; A cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an aryl group or a substituted aryl group, and Z represents an acidic residue. )

【0006】また、本発明は、前記一般式(1)により
表わされる新規なペンタメチン化合物の製造方法に関す
る。
[0006] The present invention also relates to a method for producing a novel pentamethine compound represented by the general formula (1).

【0007】さらに、本発明は、半導体レーザ対応光記
録材料の有機近赤外線吸収色素として前記一般式(1)
により表される新規なペンタメチン化合物を含有する光
記録材料に関する。
Further, the present invention relates to an organic near-infrared absorbing dye of an optical recording material for a semiconductor laser, which has the general formula (1)
The present invention relates to an optical recording material containing a novel pentamethine compound represented by the following formula:

【0008】本発明の化合物に近い光吸収特性(吸収極
大波長)を有する一般的なシアニン色素として、本発明
のペンタメチン化合物とは全く構造式の異なるものであ
るが、式(6)の化合物(商品名NK−2421;日本
感光色素製)が知られている。しかしながら、式(6)
の化合物は溶剤溶解性が低く、また、これを用いた記録
層は光安定性が低く半導体レーザ用光記録材料として好
適に使用され得るものではない。
As a general cyanine dye having a light absorption characteristic (maximum absorption wavelength) close to that of the compound of the present invention, it has a structural formula completely different from that of the pentamethine compound of the present invention. NK-2421 (trade name, manufactured by Nippon Kogyo Dye) is known. However, equation (6)
The compound of the formula (1) has low solvent solubility, and the recording layer using the compound has low light stability and cannot be suitably used as an optical recording material for a semiconductor laser.

【0009】[0009]

【化9】 Embedded image

【0010】また本発明のペンタメチン化合物とは構造
が異なり、これを用いた記録層の吸収極大波長も異なる
ものであるが、部分的に類似の置換基を有する化合物と
して、特開平1−153753号公報及び特開平2−2
02478号公報に両端がビスインドリル基であるヘプ
タメチン化合物(例えば式(7)の化合物)が、特開平
1−153753号公報に片側がビスインドリル基であ
る非対称のペンタメチン化合物(例えば式(8)の化合
物)が開示されている。
Although the pentamethine compound of the present invention has a different structure and the recording layer using the pentamethine compound also has a different maximum absorption wavelength, a compound having a partially similar substituent is disclosed in JP-A-1-153755. Gazette and Japanese Patent Laid-Open Publication
JP-A-02478 discloses a heptamethine compound having a bis-indolyl group at both ends (for example, a compound of the formula (7)). ) Is disclosed.

【0011】[0011]

【化10】 Embedded image

【0012】しかしながら、式(7)、式(8)の化合
物は溶剤溶解性が低く、また、式(7)、(8)を用い
た記録層は吸収及び反射のバランスが悪い。従って、式
(7)、式(8)の化合物は半導体レーザ用光記録材料
として好適に使用され得るものではない。
However, the compounds of the formulas (7) and (8) have low solvent solubility, and the recording layer using the formulas (7) and (8) has poor absorption and reflection balance. Therefore, the compounds of the formulas (7) and (8) cannot be suitably used as an optical recording material for a semiconductor laser.

【0013】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0014】前記一般式(1)において、R1,R5が炭
素数1〜8のアルキル基であるものとしては、炭素数1
〜6の直鎖、分枝のアルキル基が好ましく、特にメチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル
基、イソヘキシル基が好ましい。炭素数2〜8のアルコ
キシアルキル基であるものとしては、炭素数3〜6のア
ルコキシアルキル基が好ましく、特にメトキシエチル
基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシ
メチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、エ
トキシブチル基が好ましい。炭素数5〜7のシクロアル
キル基であるものとしては、特にシクロヘキシル基が好
ましい。
In the general formula (1), R 1 and R 5 are each an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
To 6 linear or branched alkyl groups are preferred, and in particular, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-
Butyl, isobutyl, sec-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl, n-hexyl and isohexyl are preferred. As the alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 3 to 6 carbon atoms is preferable, and particularly, a methoxyethyl group, a methoxypropyl group, a methoxybutyl group, an ethoxymethyl group, an ethoxyethyl group, and an ethoxypropyl group are preferred. And an ethoxybutyl group are preferred. The cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms is particularly preferably a cyclohexyl group.

【0015】R2,R6が炭素数1〜8のアルキル基であ
るものとしては、炭素数1〜4の直鎖のアルキル基が好
ましく、特にメチル基、エチル基、n−プロピル基、n
−ブチル基が好ましい。炭素数5〜7のシクロアルキル
基であるものとしては、特にシクロヘキシル基が好まし
い。アリール基であるものとしてはフェニル基、ナフチ
ル基が好ましく、特にフェニル基が好ましい。置換アリ
ール基であるものとしては、置換基として、炭素数1〜
4の直鎖のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜4の
アルコキシが好ましく、特にメチル基、エチル基、塩
素原子、メトキシ基が好ましい。
R 2 and R 6 are preferably alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, preferably linear alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, particularly methyl, ethyl, n-propyl and n-propyl.
-Butyl groups are preferred. The cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms is particularly preferably a cyclohexyl group. As the aryl group, a phenyl group and a naphthyl group are preferable, and a phenyl group is particularly preferable. As a substituted aryl group, the substituent has 1 to 1 carbon atoms.
A linear alkyl group of 4, a halogen atom, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms are preferable, and a methyl group, an ethyl group, a chlorine atom and a methoxy group are particularly preferable.

【0016】R3,R4,R7,R8が炭素数1〜8のアル
キル基であるものとしては、炭素数1〜4のアルキル基
が好ましく、特にメチル基、エチル基が好ましい。炭素
数5〜7のシクロアルキル基であるものとしては、特に
シクロヘキシル基が好ましい。炭素数1〜8のアルコキ
シ基であるものとしては、炭素数1〜4のアルコキシ基
が好ましく、特にメトキシ基、エトキシ基、n−プロポ
キシ基、n−ブトキシ基が好ましい。
When R 3 , R 4 , R 7 and R 8 are an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable. The cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms is particularly preferably a cyclohexyl group. As the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, and an n-butoxy group are particularly preferable.

【0017】Zの酸性残基の具体例としては、F-、C
-、Br-、I-、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、SbF6
-、CH3COO-、CH3SO4 -、CF3SO4 -
[0017] Specific examples of acidic residues Z is, F -, C
l -, Br -, I - , ClO 4 -, BF 4 -, PF 6 -, SbF 6
-, CH 3 COO -, CH 3 SO 4 -, CF 3 SO 4 -,

【0018】[0018]

【化11】 等を例示できるが、好ましくはI-、ClO4 -、B
4 -、PF6 -、SbF6 -である。
Embedded image Etc., but preferably I , ClO 4 , B
F 4 , PF 6 , and SbF 6 .

【0019】本発明の一般式(1)で表わされる化合物
の具体例を表1に示す。
Table 1 shows specific examples of the compound represented by the general formula (1) of the present invention.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】本発明の一般式(1)で表わされるペンタ
メチン化合物の製造方法としては、例えば、一般式
(2)で表わされるビスインドリルエチレン化合物
The method for producing the pentamethine compound represented by the general formula (1) according to the present invention includes, for example, a bisindolylethylene compound represented by the general formula (2).

【0022】[0022]

【化12】 (式中、R1〜R8は前記と同じものを示す。)と一般式
(3)で表わされるオルトエステル
Embedded image (Wherein R 1 to R 8 are the same as described above) and the orthoester represented by the general formula (3)

【0023】[0023]

【化13】CH(OR)3 (3) (式中、Rはメチル基またはエチル基を示す。)とを酸
性物質の存在下、脱水性有機酸中にて縮合させることに
より製造される。あるいは、式(3)で表わされるオル
トエステルの代わりに、式(4)で表わされるマロンア
ルデヒドジアニルを用いて製造することもできる。
Embedded image embedded image Condensed with CH (OR) 3 (3) (wherein R represents a methyl group or an ethyl group) in the presence of an acidic substance in a dehydrating organic acid. Alternatively, it can be produced using malonaldehyde dianyl represented by the formula (4) instead of the orthoester represented by the formula (3).

【0024】[0024]

【化14】 Embedded image

【0025】上記縮合反応において、酸性物質として
は、塩酸、硫酸、過塩素酸、メタンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸等が挙げられる。脱水性有機酸としては、
例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、γ−
ブチロラクトン等が挙げられる。斯かる脱水性有機酸
は、一般式(2)の化合物1モル当たり、通常10〜1
00モル程度、好ましくは20〜50モル使用する。一
般式(2)の化合物と、一般式(3)あるいは式(4)
の化合物との使用割合は、通常前者に対して後者を0.
2〜1.5倍モル程度、好ましくは0.4〜0.7倍モル
程度とするのがよい。上記反応は、通常10〜150℃
程度、好ましくは40〜120℃で好適に進行し、一般
に30分〜6時間で完結する。
In the above condensation reaction, examples of the acidic substance include hydrochloric acid, sulfuric acid, perchloric acid, methanesulfonic acid, and toluenesulfonic acid. As dehydrating organic acids,
For example, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, γ-
Butyrolactone and the like. Such a dehydrating organic acid is generally used in an amount of 10 to 1 per mole of the compound of the general formula (2).
It is used in an amount of about 00 mol, preferably 20 to 50 mol. A compound of general formula (2) and a compound of general formula (3) or (4)
The use ratio of the compound to the former is usually 0.
The molar amount is about 2 to 1.5 times, preferably about 0.4 to 0.7 times. The above reaction is usually performed at 10 to 150 ° C.
The reaction proceeds appropriately at about 40 ° C. to 120 ° C., and is generally completed in 30 minutes to 6 hours.

【0026】また、本発明の一般式(1)で表わされる
ペンタメチン化合物の他の製造方法としては、例えば前
記一般式(2)の化合物と一般式(5)の化合物
Further, as another method for producing the pentamethine compound represented by the general formula (1) of the present invention, for example, the compound of the general formula (2) and the compound of the general formula (5)

【0027】[0027]

【化15】 (式中、R1〜R8は前記と同じものを示す。)とを酸性
物質の存在下、脱水性有機酸中にて縮合させることによ
り製造される。
Embedded image (Wherein, R 1 to R 8 are the same as described above) in the presence of an acidic substance in a dehydrating organic acid.

【0028】上記縮合反応において、酸性物質として
は、塩酸、硫酸、過塩素酸、メタンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸等が挙げられる。脱水性有機酸としては、
例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、γ−
ブチロラクトン等が挙げられる。斯かる脱水性有機酸
は、一般式(2)の化合物1モル当たり、通常10〜1
00モル程度、好ましくは20〜50モル程度使用す
る。一般式(2)の化合物と一般式(5)の化合物との
使用割合は、通常前者に対して後者を0.5〜1.5倍モ
ル程度、好ましくは0.8〜1.2倍モル程度とするのが
よい。上記反応は、通常10〜150℃程度、好ましく
は40〜120℃で好適に進行し、一般に30分〜6時
間で完結する。
In the above condensation reaction, examples of the acidic substance include hydrochloric acid, sulfuric acid, perchloric acid, methanesulfonic acid, and toluenesulfonic acid. As dehydrating organic acids,
For example, acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, γ-
Butyrolactone and the like. Such a dehydrating organic acid is generally used in an amount of 10 to 1 per mole of the compound of the general formula (2).
It is used in an amount of about 00 mol, preferably about 20 to 50 mol. The ratio of the compound of the general formula (2) to the compound of the general formula (5) is usually about 0.5 to 1.5 times, preferably 0.8 to 1.2 times, the molar amount of the former. It is good to be about. The above reaction proceeds suitably at generally about 10 to 150 ° C, preferably 40 to 120 ° C, and is generally completed in 30 minutes to 6 hours.

【0029】一般式(2)の化合物は、相当するインド
ール化合物と塩化アセチルをハロゲン化炭化水素中50
〜60℃で数時間反応することにより得られる。
The compound of the general formula (2) is prepared by converting the corresponding indole compound and acetyl chloride to 50
It is obtained by reacting at 6060 ° C. for several hours.

【0030】一般式(5)の化合物は、一般式(2)の
化合物と Vilsmeier試薬をDMF中で反応することによ
り得られる。
The compound of the general formula (5) can be obtained by reacting the compound of the general formula (2) with a Vilsmeier reagent in DMF.

【0031】本発明のペンタメチン化合物は、電子写真
感光体、光ディスク、光カード、液晶表示素子、光吸収
フィルター等の光記録材料に使用される。
The pentamethine compound of the present invention is used for an optical recording material such as an electrophotographic photosensitive member, an optical disk, an optical card, a liquid crystal display, and a light absorption filter.

【0032】本発明のペンタメチン化合物を含有する光
記録材料として、例えば光ディスクは透明基板上に本発
明のペンタメチン化合物を溶剤に溶解した液を塗布する
ことにより製造することができる。
As an optical recording material containing the pentamethine compound of the present invention, for example, an optical disk can be produced by applying a solution of the pentamethine compound of the present invention in a solvent on a transparent substrate.

【0033】透明基板としては、光学的に透明な材料で
あればよい。例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリエチ
レン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、エチレン樹脂、ポリオレフィン共重
合樹脂、塩化ビニル共重合樹脂、塩化ビニリデン共重合
樹脂、スチレン共重合樹脂などが使用される。
The transparent substrate may be any optically transparent material. For example, glass, acrylic resin, polyethylene resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polycarbonate resin, ethylene resin, polyolefin copolymer resin, vinyl chloride copolymer resin, vinylidene chloride copolymer resin, styrene copolymer resin, etc. are used. .

【0034】溶剤としては、ハロゲン化炭化水素(例え
ば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テト
ラクロロエチレン、ジクロロジフルオロメタンなど)、
エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテルなど)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエ
チルケトンなど)、アルコール類(例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ジアセトンアルコール
など)、セルソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブなど)、炭化水素類(ヘキサン、シクロヘキサ
ン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど)が
用いられる。
As the solvent, halogenated hydrocarbons (for example, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, tetrachloroethylene, dichlorodifluoromethane, etc.),
Ethers (eg, tetrahydrofuran, diethyl ether, etc.), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, diacetone alcohol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.) And hydrocarbons (hexane, cyclohexane, octane, benzene, toluene, xylene, etc.).

【0035】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができるが、色素の良好な配向状態を形成するため
の塗布方法としては、スピンコート法が好ましい。光デ
ィスク用の色素記録層の膜厚は、一般的には200〜3
000Åの範囲であり、好ましくは500〜2000Å
の範囲である。
Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method. Is preferably applied by a spin coating method. The thickness of the dye recording layer for an optical disk is generally 200 to 3
000 °, preferably 500-2000 °
Range.

【0036】本発明の光記録材料において、例えば上記
記録層の上に金属からなる反射層を設けてもよい。反射
層を設けることにより、反射率の向上の効果、情報の再
生時におけるS/Nの向上及び記録時における感度の向
上の効果も得ることができる。
In the optical recording material of the present invention, for example, a reflective layer made of metal may be provided on the recording layer. By providing the reflective layer, the effect of improving the reflectance, the S / N at the time of reproducing information, and the effect of improving the sensitivity at the time of recording can be obtained.

【0037】本発明の光記録材料において、例えば上記
記録層中に耐光性を向上させるために、光安定化剤を混
合してもよい。また、必要に応じて成膜性及び塗膜安定
性を考慮しバインダーを混合することもできる。
In the optical recording material of the present invention, for example, a light stabilizer may be mixed in the recording layer in order to improve light resistance. If necessary, a binder can be mixed in consideration of film forming properties and coating film stability.

【0038】本発明の光記録材料において、例えば上記
記録層上に記録及び再生レーザ光に対して透明な保護層
を設けることもできる。
In the optical recording material of the present invention, for example, a protective layer transparent to the recording and reproducing laser light may be provided on the recording layer.

【0039】[0039]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。な
お、下記実施例における化合物番号は、表1中の化合物
の番号を意味する。化学構造式中、Phはフェニル基を
示す。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the compound number in the following Examples means the number of the compound in Table 1. In the chemical structural formula, Ph represents a phenyl group.

【0040】実施例1(化合物1の合成)Example 1 (Synthesis of Compound 1)

【0041】[0041]

【化16】 一般式(2)のエチレン化合物[R1:n−ブチル基、
2:メチル基、R3:水素原子、R4:水素原子、R5
n−ブチル基、R6:メチル基、R7:水素原子、R8
水素原子]7.96g、メタンスルホン酸0.96g及び酢酸ナト
リウム1.64gを無水酢酸20mlに加え、90℃へ昇温した。
オルトギ酸エチル1.48gを同温度で加え、同温度で4.5時
間反応した。冷却後、過塩素酸ナトリウム10gを溶解し
た水溶液500mlへ滴下し、析出した固形物をろ過、水洗
した。得られた固形物をアセトン200mlへ溶解後、水で
再沈して固形物を得た。得られた固形物をアセトン-ヘ
キサン混合液300mlで再結晶して化合物1を2.30g得た。
Embedded image Ethylene compound of the general formula (2) [R 1 : n-butyl group,
R 2 : methyl group, R 3 : hydrogen atom, R 4 : hydrogen atom, R 5 :
n-butyl group, R 6 : methyl group, R 7 : hydrogen atom, R 8 :
[Hydrogen atom] 7.96 g, methanesulfonic acid 0.96 g and sodium acetate 1.64 g were added to acetic anhydride 20 ml, and the temperature was raised to 90 ° C.
1.48 g of ethyl orthoformate was added at the same temperature, and the mixture was reacted at the same temperature for 4.5 hours. After cooling, the solution was added dropwise to 500 ml of an aqueous solution in which 10 g of sodium perchlorate was dissolved, and the precipitated solid was filtered and washed with water. The obtained solid was dissolved in 200 ml of acetone and then reprecipitated with water to obtain a solid. The obtained solid was recrystallized from 300 ml of an acetone-hexane mixed solution to obtain 2.30 g of Compound 1.

【0042】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。この結晶の赤外吸収スペクトルを図1
に示す。 最大吸収波長(λmax):708nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):8.59×104ml/g・cm(in M
eOH) 元素分析値:(C57674ClO4
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis values of the crystals in methanol were as follows. Fig. 1 shows the infrared absorption spectrum of this crystal.
Shown in Maximum absorption wavelength (λmax): 708 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 8.59 × 10 4 ml / g · cm (in M
EOH) Elemental analysis: (C 57 H 67 N 4 ClO 4)

【0043】実施例2(化合物2の合成)Example 2 (Synthesis of Compound 2)

【0044】[0044]

【化17】 一般式(2)のエチレン化合物[R1:エチル基、R2
メチル基、R3:水素原子、R4:水素原子、R5:エチ
ル基、R6:メチル基、R7:水素原子、R8:水素原
子]3.40g、一般式(5)のアルデヒド化合物[R1:エ
チル基、R2:メチル基、R3:水素原子、R4:水素原
子、R5:エチル基、R6:メチル基、R7:水素原子、
8:水素原子]3.70g及びメタンスルホン酸0.96gを無
水酢酸20mlに加え、80℃へ昇温し同温度で1.5時間反応
した。冷却後、過塩素酸ナトリウム2.8gを溶解した水溶
液300mlへ滴下し、析出した固形物をろ過、水洗した。
得られた固形物をアセトン100mlへ溶解後、水で再沈し
て固形物を得た。得られた固形物をアセトン-ヘキサン
混合液150mlで再結晶して化合物2を5.30g得た。
Embedded image An ethylene compound represented by the general formula (2) [R 1 : ethyl group, R 2 :
Methyl group, R 3 : hydrogen atom, R 4 : hydrogen atom, R 5 : ethyl group, R 6 : methyl group, R 7 : hydrogen atom, R 8 : hydrogen atom] 3.40 g, aldehyde compound of general formula (5) [R 1 : ethyl group, R 2 : methyl group, R 3 : hydrogen atom, R 4 : hydrogen atom, R 5 : ethyl group, R 6 : methyl group, R 7 : hydrogen atom,
[R 8 : hydrogen atom] 3.70 g and methanesulfonic acid 0.96 g were added to acetic anhydride 20 ml, and the mixture was heated to 80 ° C. and reacted at the same temperature for 1.5 hours. After cooling, the solution was dropped into 300 ml of an aqueous solution in which 2.8 g of sodium perchlorate was dissolved, and the precipitated solid was filtered and washed with water.
The obtained solid was dissolved in 100 ml of acetone and then reprecipitated with water to obtain a solid. The obtained solid was recrystallized with 150 ml of an acetone-hexane mixed solution to obtain 5.30 g of Compound 2.

【0045】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。 最大吸収波長(λmax):703nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):1.05×105 ml/g・cm(in
MeOH) 元素分析値:(C49514ClO4
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis values of the crystals in methanol were as follows. Maximum absorption wavelength (λmax): 703 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 1.05 × 10 5 ml / g · cm (in
(MeOH) Elemental analysis: (C 49 H 51 N 4 ClO 4 )

【0046】実施例3(化合物3の合成)Example 3 (Synthesis of Compound 3)

【0047】[0047]

【化18】 一般式(2)のエチレン化合物[R1:エチル基、R2
メチル基、R3:メトキシ基、R4:水素原子、R5:エ
チル基、R6:メチル基、R7:メトキシ基、R 8:水素
原子]4.50g、メタンスルホン酸1.40g及び酢酸ナトリウ
ム1.20gを無水酢酸30mlに加え、90℃へ昇温した。マロ
ンアルデヒドジアニル1.10gを同温度で加え、同温度で
2.0時間反応した。冷却後、過塩素酸ナトリウム10gを溶
解した水溶液500mlへ滴下し、析出した固形物をろ過、
水洗した。得られた固形物をアセトン200mlへ溶解後、
水で再沈して固形物を得た。得られた固形物をアセトン
-ヘキサン混合液300mlで再結晶して化合物3を1.30g得
た。
Embedded imageThe ethylene compound represented by the general formula (2) [R1: Ethyl group, RTwo:
Methyl group, RThree: Methoxy group, RFour: Hydrogen atom, RFive: D
Tyl group, R6: Methyl group, R7: Methoxy group, R 8:hydrogen
Atom] 4.50 g, methanesulfonic acid 1.40 g and sodium acetate
Was added to 30 ml of acetic anhydride, and the temperature was raised to 90 ° C. Malo
Add 1.10 g of dialdehyde dianil at the same temperature and
Reacted for 2.0 hours. After cooling, dissolve 10 g of sodium perchlorate
Dropped into 500 ml of the dissolved aqueous solution, the precipitated solid was filtered,
Washed with water. After dissolving the obtained solid in 200 ml of acetone,
Reprecipitation with water gave a solid. The solid obtained is acetone
Recrystallization with 300 ml of a hexane-hexane mixture gave 1.30 g of compound 3.
Was.

【0048】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。 最大吸収波長(λmax):713nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):3.54×104ml/g・cm(in M
eOH) 元素分析値:(C53594ClO8
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis values of the crystals in methanol were as follows. Maximum absorption wavelength (λmax): 713 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 3.54 × 10 4 ml / g · cm (in M
OH) Elemental analysis: (C 53 H 59 N 4 ClO 8 )

【0049】実施例4(化合物4の合成)Example 4 (Synthesis of Compound 4)

【0050】[0050]

【化19】 実施例3において、一般式(2)のエチレン化合物とし
て、[R1:エチル基、R2:メチル基、R3:メチル
基、R4:水素原子、R5:エチル基、R6:メチル基、
7:メチル基、R8:水素原子]4.24gを用いた以外は
実施例3と同様にして、化合物4を1.35g得た。
Embedded image In Example 3, as the ethylene compound of the general formula (2), [R 1 : ethyl group, R 2 : methyl group, R 3 : methyl group, R 4 : hydrogen atom, R 5 : ethyl group, R 6 : methyl Group,
[R 7 : methyl group, R 8 : hydrogen atom] 1.35 g of compound 4 was obtained in the same manner as in Example 3 except that 4.24 g was used.

【0051】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。この結晶の赤外吸収スペクトルを図2
に示す。 最大吸収波長(λmax):711nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):6.34×104ml/g・cm(in M
eOH) 元素分析値:(C53594ClO4
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis values of the crystals in methanol were as follows. Fig. 2 shows the infrared absorption spectrum of this crystal.
Shown in Maximum absorption wavelength (λmax): 711 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 6.34 × 10 4 ml / g · cm (in M
OH) Elemental analysis: (C 53 H 59 N 4 ClO 4 )

【0052】実施例5(化合物5の合成)Example 5 (Synthesis of Compound 5)

【0053】[0053]

【化20】 実施例3において、一般式(2)のエチレン化合物とし
て、[R1:エチル基、R2:フェニル基、R3:水素原
子、R4:水素原子、R5:エチル基、R6:フェニル
基、R7:水素原子、R8:水素原子]4.24gを用いた以
外は実施例3と同様にして、化合物5を0.72g得た。
Embedded image In Example 3, as the ethylene compound of the general formula (2), [R 1 : ethyl group, R 2 : phenyl group, R 3 : hydrogen atom, R 4 : hydrogen atom, R 5 : ethyl group, R 6 : phenyl Group, R 7 : hydrogen atom, R 8 : hydrogen atom], and 0.72 g of compound 5 was obtained in the same manner as in Example 3.

【0054】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。この結晶の赤外吸収スペクトルを図3
に示す。 最大吸収波長(λmax):752nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):7.94×104ml/g・cm(in M
eOH) 元素分析値:(C69594ClO4)
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis values of the crystals in methanol were as follows. The infrared absorption spectrum of this crystal is shown in FIG.
Shown in Maximum absorption wavelength (λmax): 752 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 7.94 × 10 4 ml / g · cm (in M
EOH) Elemental analysis: (C 69 H 59 N 4 ClO 4)

【0055】実施例6(化合物6の合成)Example 6 (Synthesis of Compound 6)

【0056】[0056]

【化21】 実施例1において、一般式(2)のエチレン化合物の代
わりに[R1:エチル基、R2:メチル基、R3:水素原
子、R4:フェニル基、R5:エチル基、R6:メチル
基、R7:水素原子、R8:フェニル基]9.89gを用いた
以外は実施例1と同様にして、化合物6を3.00g得た。
Embedded image In Example 1, instead of the ethylene compound of the general formula (2), [R 1 : ethyl group, R 2 : methyl group, R 3 : hydrogen atom, R 4 : phenyl group, R 5 : ethyl group, R 6 : Methyl group, R 7 : hydrogen atom, R 8 : phenyl group] 3.00 g of compound 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 9.89 g was used.

【0057】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。この結晶の赤外吸収スペクトルを図4
に示す。 最大吸収波長(λmax):718nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):6.40×104ml/g・cm(in M
eOH) 元素分析値:(C73674ClO4
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis values of the crystals in methanol were as follows. The infrared absorption spectrum of this crystal is shown in FIG.
Shown in Maximum absorption wavelength (λmax): 718 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 6.40 × 10 4 ml / g · cm (in M
EOH) Elemental analysis: (C 73 H 67 N 4 ClO 4)

【0058】実施例7(化合物7の合成)Example 7 (Synthesis of Compound 7)

【0059】[0059]

【化22】 実施例1において、一般式(2)のエチレン化合物とし
て[R1:エチル基、R2:フェニル基、R3:水素原
子、R4:水素原子、R5:エチル基、R6:メチル基、
7:水素原子、R8:水素原子]8.09gを用いた以外は
実施例1と同様にして、化合物7を 2.80g 得た。
Embedded image In Example 1, as the ethylene compound of the general formula (2), [R 1 : ethyl group, R 2 : phenyl group, R 3 : hydrogen atom, R 4 : hydrogen atom, R 5 : ethyl group, R 6 : methyl group ,
[R 7 : hydrogen atom, R 8 : hydrogen atom] 2.80 g of compound 7 was obtained in the same manner as in Example 1 except for using 8.09 g.

【0060】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、グラム吸光係数(εg)、元素分析値は下記
の通りであった。この結晶の赤外吸収スペクトルを図5
に示す。 最大吸収波長(λmax):725nm(in MeOH) グラム吸光係数(εg):7.64×104ml/g・cm(in M
eOH) 元素分析値:(C69594ClO4
The maximum absorption wavelength (λmax), gram extinction coefficient (εg), and elemental analysis value of the crystals in methanol were as follows. The infrared absorption spectrum of this crystal is shown in FIG.
Shown in Maximum absorption wavelength (λmax): 725 nm (in MeOH) Gram extinction coefficient (εg): 7.64 × 10 4 ml / g · cm (in M
EOH) Elemental analysis: (C 69 H 59 N 4 ClO 4)

【0061】実施例8(化合物8の合成)Example 8 (Synthesis of Compound 8)

【0062】[0062]

【化23】 実施例3において、一般式(2)のエチレン化合物とし
て、[R1:メトキシエチル基、R2:メチル基、R3
メトキシ基、R4:水素原子、R5:メトキシエチル基、
6:メトキシ基、R7:メトキシ基、R8:水素原子]
4.24gを、過塩素酸ナトリウム10gの代わりにホウフッ化
ナトリウム10gを用いた以外は実施例3と同様にして、
化合物5を0.72g得た。
Embedded image In Example 3, as the ethylene compound of the general formula (2), [R 1 : methoxyethyl group, R 2 : methyl group, R 3 :
A methoxy group, R 4 : hydrogen atom, R 5 : methoxyethyl group,
R 6 : methoxy group, R 7 : methoxy group, R 8 : hydrogen atom]
In the same manner as in Example 3 except that 4.24 g was replaced with 10 g of sodium borofluoride instead of 10 g of sodium perchlorate,
0.72 g of compound 5 was obtained.

【0063】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、元素分析値は下記の通りであった。 最大吸収波長(λmax):715nm(in MeOH) 元素分析値:(C536744BF4
The maximum absorption wavelength (λmax) in methanol and the elemental analysis value of the crystals were as follows. Maximum absorption wavelength (λmax): 715 nm (in MeOH) Elemental analysis: (C 53 H 67 N 4 O 4 BF 4 )

【0064】実施例9(化合物9の合成)Example 9 (Synthesis of Compound 9)

【0065】[0065]

【化24】 実施例3において、一般式(2)のエチレン化合物とし
て、[R1:メトキシエチル基、R2:メチル基、R3
メチル基、R4:水素原子、R5:エチル基、R 6:メト
キシエチル基、R7:メチル基、R8:水素原子]4.24g
を、過塩素酸ナトリウム10gの代わりにヨウ化ナトリウ
ム10gを用いた以外は実施例3と同様にして、化合物9
を1.35g得た。
Embedded imageIn Example 3, an ethylene compound of the general formula (2) was used.
And [R1: Methoxyethyl group, RTwo: Methyl group, RThree:
Methyl group, RFour: Hydrogen atom, RFive: Ethyl group, R 6: Met
Xyethyl group, R7: Methyl group, R8: Hydrogen atom] 4.24g
With sodium iodide instead of 10g of sodium perchlorate
Compound 9 was prepared in the same manner as in Example 3 except that 10 g of Compound 9 was used.
1.35 g was obtained.

【0066】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、元素分析値は下記の通りであった。 最大吸収波長(λmax):713nm(in MeOH) 元素分析値:(C57674IO4
The maximum absorption wavelength (λmax) and the elemental analysis value of the crystals in methanol were as follows. Maximum absorption wavelength (λmax): 713 nm (in MeOH) Elemental analysis: (C 57 H 67 N 4 IO 4 )

【0067】実施例10(化合物10の合成)Example 10 (Synthesis of Compound 10)

【0068】[0068]

【化25】 実施例1の一般式(2)のエチレン化合物の代わりに
[R1:メトキシエチル基、R2:メチル基、R3:シク
ロヘキシル基、R4:水素原子、R5:メトキシエチル
基、R6:メチル基、R7:シクロヘキシル基、R8:水
素原子]9.89g、過塩素酸ナトリウム10gの代わりにヘキ
サフルオロリン酸(HPF6)の60%水溶液15gを用いた
以外は実施例1と同様にして、化合物10を1.05g得
た。
Embedded image Instead of the ethylene compound of the general formula (2) in Example 1, [R 1 : methoxyethyl group, R 2 : methyl group, R 3 : cyclohexyl group, R 4 : hydrogen atom, R 5 : methoxyethyl group, R 6 : Methyl group, R 7 : cyclohexyl group, R 8 : hydrogen atom] 9.89 g, the same as Example 1 except that 15 g of a 60% aqueous solution of hexafluorophosphoric acid (HPF 6 ) was used instead of 10 g of sodium perchlorate. As a result, 1.05 g of Compound 10 was obtained.

【0069】この結晶のメタノール中の最大吸収波長
(λmax)、元素分析値は下記の通りであった。 最大吸収波長(λmax):711nm(in MeOH) 元素分析値:(C7775464P)
The maximum absorption wavelength (λmax) in methanol and the elemental analysis value of the crystals were as follows. Maximum absorption wavelength (λmax): 711 nm (in MeOH) Elemental analysis: (C 77 H 75 N 4 F 6 O 4 P)

【0070】[溶解度の測定]50mlサンプル管へ、実
施例1〜7で合成した各ペンタメチン化合物、式
(6)、(7)、(8)の化合物とメタノールをそれぞ
れ1%、3%、5%(w/v)のメタノール混合液とな
るように調整し、密栓後50℃で10分間超音波振とう
を与えた。次いで室温に30分放置後濾過し、不溶物の
有無を確認した。1%(w/v)調整の混合液にて不溶
物が有るものを溶解度1%以下、1%(w/v)調整の
混合液にて不溶物が無く、3%(w/v)調整の混合液
にて不溶物が有るものを溶解度1%以上〜3%未満、3
%濃度(w/v)調整の混合液にて不溶物が無く、5%
(w/v)調整の混合液にて不溶物が有るものを溶解度
3%以上〜5%未満、5%(w/v)調整の混合液にて
不溶物が無いものを溶解度5%以上とした。結果を表2
に示す。
[Measurement of Solubility] Each of the pentamethine compounds synthesized in Examples 1 to 7, the compounds of formulas (6), (7) and (8) and methanol were added to 50 ml sample tubes at 1%, 3% and 5%, respectively. % (W / v) of a methanol mixture, and the mixture was sealed and subjected to ultrasonic shaking at 50 ° C. for 10 minutes. Next, the mixture was allowed to stand at room temperature for 30 minutes and then filtered to confirm the presence or absence of insolubles. 1% (w / v) mixed solution containing insolubles was adjusted to 1% (w / v) solubilities of 1% (w / v) and 3% (w / v) without insolubles. Insoluble matter in the mixed solution of 1% or more to less than 3%, 3
5% with no insolubles in the mixture of% concentration (w / v) adjustment
(W / v) Adjustable mixed solution with insolubles is 3% or more to less than 5%, and 5% (w / v) adjusted mixed solution without insolubles is 5% or more. did. Table 2 shows the results
Shown in

【0071】[0071]

【表2】 [Table 2]

【0072】実施例11(光記録材料の作製) 前記化合物1(実施例1で合成)1部をジアセトンアル
コール50部に溶解した液を、0.5μmのミリポアフ
ィルターでろ過後、スピンコーター(協栄セミコンダク
ター(株)製スピナー1−H−III−A)を用い、15
00rpmの回転数で厚さ1mmのポリカーボネート基
板に塗布、乾燥し光記録材料を作製した。
Example 11 (Preparation of Optical Recording Material) A solution prepared by dissolving 1 part of the compound 1 (synthesized in Example 1) in 50 parts of diacetone alcohol was filtered through a 0.5 μm millipore filter, and then subjected to spin coating. Using spinner 1-H-III-A manufactured by Kyoei Semiconductor Co., Ltd., 15
An optical recording material was prepared by coating and drying on a 1 mm thick polycarbonate substrate at a rotation speed of 00 rpm.

【0073】実施例12〜17(光記録材料の作製) 実施例11において、化合物1の代わりに化合物2〜7
をそれぞれ1部を用いた以外は実施例11と同様な操作
を行って光記録材料を作製した。
Examples 12 to 17 (Preparation of Optical Recording Material) In Example 11, compounds 2 to 7 were used instead of compound 1.
Was used in the same manner as in Example 11 except that 1 part of each was used to produce an optical recording material.

【0074】比較例1(光記録材料の作製) 実施例11において、化合物1の代わりに前記式(6)
の化合物1部を用いた以外は実施例11と同様な操作を
行って光記録材料を作製した。
Comparative Example 1 (Preparation of Optical Recording Material) In Example 11, the compound of the above formula (6) was used in place of compound 1.
An optical recording material was produced in the same manner as in Example 11, except that 1 part of the compound was used.

【0075】比較例2(光記録材料の作製) 実施例11において、化合物1の代わりに前記式(7)
の化合物1部を用いた以外は実施例11と同様な操作を
行って光記録材料を作製した。
Comparative Example 2 (Preparation of Optical Recording Material) In Example 11, the compound of the above formula (7) was used in place of compound 1.
An optical recording material was produced in the same manner as in Example 11, except that 1 part of the compound was used.

【0076】比較例3(光記録材料の作製) 実施例11において、化合物1の代わりに前記式(8)
の化合物1部を用いた以外は実施例11と同様な操作を
行って光記録材料を作製した。
Comparative Example 3 (Preparation of Optical Recording Material) In Example 11, the compound of the above formula (8) was used in place of compound 1.
An optical recording material was produced in the same manner as in Example 11, except that 1 part of the compound was used.

【0077】[反射率及び吸収率の測定]実施例11〜
17及び比較例1、2、3で作製した光記録材料の78
0nmにおける基板面側からの反射率及び吸収率を島津
製作所(株)製分光光度計UV−365を用いて測定し
た。結果を表3に示す。
[Measurement of Reflectivity and Absorptance]
17 and 78 of the optical recording materials produced in Comparative Examples 1, 2, and 3
The reflectance and the absorptance from the substrate surface side at 0 nm were measured using a spectrophotometer UV-365 manufactured by Shimadzu Corporation. Table 3 shows the results.

【0078】[記録特性]実施例11〜17及び比較例
1、2、3で作製した光記録材料へ半導体レーザーヘッ
ド(レーザーダイーオードLTO24MD;シャープ
製、発振波長780nm、出力30mW)とフォトダイ
オード、パルスジェネレーターを組み合わせた装置を使
用して、基板面側より記録層に記録パワー6mW、パル
ス幅0.2msでレーザを照射し、記録の有無及びピッ
ト形状をオリンパス(株)製光学顕微鏡BHTを用いて
観察した。
[Recording Characteristics] A semiconductor laser head (laser diode LTO24MD; manufactured by Sharp, oscillation wavelength 780 nm, output 30 mW) and a photodiode were applied to the optical recording materials produced in Examples 11 to 17 and Comparative Examples 1, 2, and 3. The recording layer is irradiated with laser at a recording power of 6 mW and a pulse width of 0.2 ms from the substrate surface side using a device combined with a pulse generator, and the presence / absence of recording and the pit shape are measured with an optical microscope BHT manufactured by Olympus Corporation. And observed.

【0079】結果を表3に示す。ピット形状良好とは、
明瞭なピットを形成したものであり、ピット形状やや良
好とは、ピット形成は認められるものやや不明瞭な形状
であったものであり、ピット形状不良とは、ピット形成
がほとんど確認できなかったことを示す。
Table 3 shows the results. Pit shape is good
Clear pits were formed, and the pit shape was slightly good, in which pit formation was recognized or slightly unclear, and a pit shape defect was that pit formation was hardly confirmed. Is shown.

【0080】[耐光性試験]実施例11〜17及び比較
例1、2、3で作製した光記録材料について、カーボン
アークフェードメーターにて40℃で6時間照射した後
の780nmにおける基板面吸収率を測定し、吸収率変
化を求め耐光性を比較した。 吸収率変化(%)={(試験前の吸収率−試験後の吸収
率)/試験前の吸収率}×100 結果を表3に示す。
[Light Resistance Test] The optical recording materials prepared in Examples 11 to 17 and Comparative Examples 1, 2, and 3 were irradiated with a carbon arc fade meter at 40 ° C. for 6 hours and then absorbed at 780 nm on the substrate surface. Was measured to determine a change in absorptance, and the light resistance was compared. Absorption rate change (%) = {(absorption rate before test−absorption rate after test) / absorption rate before test} × 100 The results are shown in Table 3.

【0081】[0081]

【表3】 収率変化:数値が小さい程、記録層の耐光性が高いこ
とを示す。
[Table 3] Absorption Yield changes: smaller value indicates a higher light fastness of the recording layer.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明のペンタメチン化合物は溶剤溶解
性が高く、これを用いた光記録材料は半導体レーザ域に
良好な吸収及び反射を有し、かつ光安定性に優れてい
る。
The pentamethine compound of the present invention has high solvent solubility, and an optical recording material using the pentamethine compound has good absorption and reflection in a semiconductor laser region and is excellent in light stability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1で合成した化合物1の赤外吸収スペク
トルである。
FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of Compound 1 synthesized in Example 1.

【図2】実施例4で合成した化合物4の赤外吸収スペク
トルである。
FIG. 2 is an infrared absorption spectrum of Compound 4 synthesized in Example 4.

【図3】実施例5で合成した化合物5の赤外吸収スペク
トルである。
FIG. 3 is an infrared absorption spectrum of Compound 5 synthesized in Example 5.

【図4】実施例6で合成した化合物6の赤外吸収スペク
トルである。
FIG. 4 is an infrared absorption spectrum of Compound 6 synthesized in Example 6.

【図5】実施例7で合成した化合物7の赤外吸収スペク
トルである。
FIG. 5 is an infrared absorption spectrum of compound 7 synthesized in Example 7.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 縄本 眞三 大阪府八尾市弓削町南一丁目43番地 山 本化成株式会社内 (72)発明者 熊谷 洋二郎 大阪府八尾市弓削町南一丁目43番地 山 本化成株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−83892(JP,A) 特開 昭60−159087(JP,A) 特開 平6−9890(JP,A) 特開 平1−153753(JP,A) 特開 平6−51420(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09B 23/00 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shinzo Nawamoto 1-43, Minami, Yuge-cho, Yao-shi, Osaka Yamamoto Kasei Co., Ltd. JP-A-60-83892 (JP, A) JP-A-60-159087 (JP, A) JP-A-6-9890 (JP, A) JP-A-1-1533753 (JP) (A) JP-A-6-51420 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C09B 23/00 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記一般式(1)により表わされるペン
タメチン化合物。 【化1】 (式中、R1,R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のア
ルキル基、炭素数2〜8のアルコキシアルキル基または
炭素数5〜7のシクロアルキル基を示し、R2,R6は、
それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜
7のシクロアルキル基、アリール基または置換アリール
基を示し、R3,R4,R7,R8は、それぞれ独立に水素
原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアル
コキシ基、炭素数5〜7のシクロアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示し、Zは酸性残基を示
す。)
1. A pentamethine compound represented by the following general formula (1). Embedded image (Wherein, R 1 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and R 2 and R 6 Is
Each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, 5 to 5 carbon atoms
7 represents a cycloalkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, wherein R 3 , R 4 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; A cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an aryl group or a substituted aryl group, and Z represents an acidic residue. )
【請求項2】 R1,R5が炭素数1〜6のアルキル基ま
たは炭素数3〜6のアルコキシアルキル基である請求項
1に記載のペンタメチン化合物。
2. The pentamethine compound according to claim 1 , wherein R 1 and R 5 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 3 to 6 carbon atoms.
【請求項3】 R2,R6がメチル基、エチル基またはフ
ェニル基である請求項1または請求項2に記載のペンタ
メチン化合物。
3. The pentamethine compound according to claim 1, wherein R 2 and R 6 are a methyl group, an ethyl group or a phenyl group.
【請求項4】 R3,R4,R7,R8が水素原子、炭素数
1〜4のアルキル基、炭素数5〜7のシクロアルキル基
または炭素数1〜4のアルコキシ基である請求項1〜3
のいずれか1項に記載のペンタメチン化合物。
4. The method according to claim 1, wherein R 3 , R 4 , R 7 and R 8 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Items 1-3
The pentamethine compound according to any one of the above.
【請求項5】 酸性残基ZがI-、ClO4 -、BF4 -
PF6 -またはSbF6 -である請求項1〜4のいずれか1
項に記載のペンタメチン化合物。
5. The method according to claim 1, wherein the acidic residue Z is I-, ClOFour -, BFFour -,
PF6 -Or SbF6 -5. The method according to claim 1, wherein
The pentamethine compound according to the above item.
【請求項6】 下記一般式(2)で表わされるインドリ
ルエチレン化合物 【化2】 (式中、R1,R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のア
ルキル基、炭素数2〜8のアルコキシアルキル基または
炭素数5〜7のシクロアルキル基を示し、R2,R6は、
それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜
7のシクロアルキル基、アリール基または置換アリール
基を示し、R3,R4,R7,R8は、それぞれ独立に水素
原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアル
コキシ基、炭素数5〜7のシクロアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示す。)と、下記一般式
(3)で表わされるオルトエステル 【化3】CH(OR)3 (3) (式中、Rはメチル基またはエチル基を示す。)とを酸
性物質の存在下、脱水性有機酸中にて縮合させることを
特徴とする請求項1に記載のペンタメチン化合物の製造
方法。
6. An indolylethylene compound represented by the following general formula (2): (Wherein, R 1 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and R 2 and R 6 Is
Each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, 5 to 5 carbon atoms
7 represents a cycloalkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, wherein R 3 , R 4 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; A cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an aryl group or a substituted aryl group. ) And an orthoester represented by the following general formula (3): CH (OR) 3 (3) (wherein R represents a methyl group or an ethyl group) in the presence of an acidic substance. The method for producing a pentamethine compound according to claim 1, wherein the pentamethine compound is condensed in a neutral organic acid.
【請求項7】 下記一般式(2)で表わされるインドリ
ルエチレン化合物 【化4】 (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8は請
求項6に記載したものと同じものを示す。)と、下記式
(4)で表わされるマロンアルデヒドジアニル 【化5】 とを酸性物質の存在下、脱水性有機酸中にて縮合させる
ことを特徴とする請求項1に記載のペンタメチン化合物
の製造方法。
7. An indolylethylene compound represented by the following general formula (2): (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are the same as those described in claim 6) and the following formula (4) Malonaldehyde dianyl represented by Is condensed in a dehydrating organic acid in the presence of an acidic substance, and the pentamethine compound according to claim 1.
【請求項8】 下記一般式(2)で表わされるインドリ
ルエチレン化合物 【化6】 (式中、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8は請
求項6に記載したものと同じものを示す。)と、下記一
般式(5)で表わされる化合物 【化7】 (式中、R1,R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のア
ルキル基、炭素数2〜8のアルコキシアルキル基または
炭素数5〜7のシクロアルキル基を示し、R2,R6は、
それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜
7のシクロアルキル基、アリール基または置換アリール
基を示し、R3,R4,R7,R8は、それぞれ独立に水素
原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアル
コキシ基、炭素数5〜7のシクロアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示す。)とを酸性物質の存在
下、脱水性有機酸中にて縮合させることを特徴とする請
求項1に記載のペンタメチン化合物の製造方法。
8. An indolyl ethylene compound represented by the following general formula (2): (Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are the same as those described in claim 6) and the following general formula (5) A compound represented by the formula (Wherein, R 1 and R 5 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and R 2 and R 6 Is
Each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, 5 to 5 carbon atoms
7 represents a cycloalkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, wherein R 3 , R 4 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms; A cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, an aryl group or a substituted aryl group. 2) is condensed in a dehydrating organic acid in the presence of an acidic substance.
【請求項9】 請求項1に記載のペンタメチン化合物を
含有する記録層を有することを特徴とする光記録材料。
9. An optical recording material comprising a recording layer containing the pentamethine compound according to claim 1.
【請求項10】 基板上に記録層を設けた光記録材料に
おいて、記録層中に請求項1に記載のペンタメチン化合
物を含有することを特徴とする光記録材料。
10. An optical recording material comprising a recording layer provided on a substrate, wherein the pentamethine compound according to claim 1 is contained in the recording layer.
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