JP3288313B2 - Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same - Google Patents

Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same

Info

Publication number
JP3288313B2
JP3288313B2 JP30998898A JP30998898A JP3288313B2 JP 3288313 B2 JP3288313 B2 JP 3288313B2 JP 30998898 A JP30998898 A JP 30998898A JP 30998898 A JP30998898 A JP 30998898A JP 3288313 B2 JP3288313 B2 JP 3288313B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
ultrasonic
drying
type
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP30998898A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11216436A (en
Inventor
芳樹 橋本
邦夫 河場
達也 青木
公司 輻形
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaijo Corp filed Critical Kaijo Corp
Priority to JP30998898A priority Critical patent/JP3288313B2/en
Publication of JPH11216436A publication Critical patent/JPH11216436A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3288313B2 publication Critical patent/JP3288313B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、超音波洗浄装置と
これを用いた洗浄乾燥装置に係り、フープ式(連続式)
のリードフレームを代表とする薄肉長尺物の洗浄または
洗浄と乾燥に用いて好適な超音波洗浄装置と洗浄乾燥装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus and a cleaning / drying apparatus using the same, and a hoop type (continuous type).
The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus and a cleaning / drying apparatus suitable for use in cleaning or cleaning and drying thin and long objects represented by lead frames.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のフープ式リードフレームのための
超音波洗浄装置は、図6に示すように、洗浄液1で満た
された洗浄槽2内に一対の投げ込み式超音波振動子3
A,3Bを上下に対向配置し、この対向配置した投げ込
み式超音波振動子3A,3Bの間にリードフレーム4を
差し通し、送りローラ5,6によってリードフレーム4
を入口スリット7から出口スリット8に向けて送り出し
ていくことにより、その表裏面を超音波洗浄するもので
あった。なお、入口スリット7と出口スリット8からこ
ぼれ落ちる洗浄液は、洗浄槽2の周囲に配置した洗浄液
回収槽9によって回収し、循環路10、フィルタ(F)
11、ポンプ(P)12、バルブ(V)13を介して再
び洗浄槽2に戻し、再使用している。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 6, a conventional ultrasonic cleaning apparatus for a hoop type lead frame includes a pair of throw-in type ultrasonic vibrators 3 in a cleaning tank 2 filled with a cleaning liquid 1.
A and 3B are vertically opposed to each other, and the lead frame 4 is inserted between the throw-in type ultrasonic transducers 3A and 3B arranged to face each other.
Is sent from the entrance slit 7 to the exit slit 8 to ultrasonically clean the front and rear surfaces thereof. The washing liquid spilling from the inlet slit 7 and the outlet slit 8 is collected by a washing liquid collecting tank 9 arranged around the washing tank 2, and is collected by the circulation path 10, the filter (F).
11, returned to the cleaning tank 2 again via the pump (P) 12 and the valve (V) 13, and reused.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の超音波洗浄装置の場合、投げ込み式超音波振動
子3A,3Bとしては、超音波照射面積の大きな大出力
のものを必要とする。このため、その容積がかなり大き
くなり、これらを収容する洗浄槽2の容積が大きくなる
とともに、これに対応して洗浄液回収槽9の容積も大き
くなり、装置全体が大型化してしまうという問題があっ
た。また、洗浄槽2や洗浄液回収槽9が大きくなるた
め、洗浄液の使用量もそれだけ多くなるとともに、ポン
プ12の消費電力も大きくなるという問題があった。
However, in the case of the above-described conventional ultrasonic cleaning device, the throw-in type ultrasonic transducers 3A and 3B need to have a large ultrasonic irradiation area and a large output. For this reason, the volume becomes considerably large, and the volume of the cleaning tank 2 accommodating them becomes large, and the volume of the cleaning liquid recovery tank 9 correspondingly becomes large, which causes a problem that the whole apparatus becomes large. Was. In addition, since the cleaning tank 2 and the cleaning liquid recovery tank 9 are large, there is a problem that the amount of the cleaning liquid used increases and the power consumption of the pump 12 also increases.

【0004】ちなみに、上記従来の超音波洗浄装置にお
いて、例えば、幅80mm、厚さ0.1〜0.2mmの
リードフレームを10〜20m/分で送りながら洗浄し
た場合、投げ込み式超音波振動子3A,3Bとしては、
それぞれ長さ300×幅80×高さ200mm、出力6
00W(発振周波数38KHz)程度のものが必要であ
った。
In the conventional ultrasonic cleaning apparatus described above, for example, when a lead frame having a width of 80 mm and a thickness of 0.1 to 0.2 mm is cleaned while being fed at a rate of 10 to 20 m / min, a throw-in type ultrasonic vibrator is used. As 3A and 3B,
Each length 300 × width 80 × height 200 mm, output 6
A device of about 00 W (oscillation frequency 38 KHz) was required.

【0005】また、実際の半導体製造工程においては、
図7に示すように、上記構成になる従来の超音波洗浄装
置71を熱風乾燥槽などの乾燥装置72と組み合わせる
ことにより、1つの工程中で洗浄と乾燥を連続的に行な
うようにした洗浄乾燥装置を構成することも多いが、前
述したように超音波洗浄装置71の容積が大きいため、
洗浄乾燥装置全体の容積が大きくなるという問題があっ
た。
In an actual semiconductor manufacturing process,
As shown in FIG. 7, by combining the conventional ultrasonic cleaning device 71 having the above configuration with a drying device 72 such as a hot air drying tank, cleaning and drying are performed continuously in one process. Although the device is often configured, since the volume of the ultrasonic cleaning device 71 is large as described above,
There is a problem that the volume of the entire washing / drying device becomes large.

【0006】また、対向配置した投げ込み式超音波振動
子3A,3B同士の干渉が問題となるような場合には、
図8に示すように、リードフレーム4の搬送方向に沿っ
て超音波振動子を前後にずらして配置することも行なわ
れているが、このような場合には、超音波洗浄装置71
の容積がさらに大きくなるため、洗浄乾燥装置全体の大
きさがさらに大きくなるという問題があった。
In the case where interference between the throw-in type ultrasonic transducers 3A and 3B disposed opposite to each other poses a problem,
As shown in FIG. 8, it is also performed to displace the ultrasonic transducers back and forth along the transport direction of the lead frame 4, but in such a case, the ultrasonic cleaning device 71 is used.
However, there is a problem that the size of the entire washing and drying apparatus is further increased because the volume of the cleaning and drying apparatus is further increased.

【0007】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたもので、装置を小型化できるとともに洗浄
液の使用量も少なくて済む超音波洗浄装置と、これを用
いて構成した洗浄乾燥装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an ultrasonic cleaning apparatus capable of reducing the size of an apparatus and using a small amount of a cleaning liquid, and a cleaning and drying apparatus using the ultrasonic cleaning apparatus. It is intended to provide a device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の超音波洗浄装置は、洗浄対象物たる薄肉長
尺物を洗浄槽内の洗浄液中を潜らせながら超音波洗浄す
るとともに、該洗浄槽からこぼれ落ちる洗浄液を洗浄槽
の周囲に配置した洗浄液回収槽によって回収し、この回
収した洗浄液をフィルタでろ過した後、再び洗浄槽に戻
して循環させるようにした超音波洗浄装置において、前
記洗浄槽内を通過する薄肉長尺物の上面または下面のい
ずれか一方の側に位置して金属ホーン型超音波振動子を
前記薄肉長尺物に向けて配置するとともに、前記薄肉長
尺物を中に挟んで超音波反射板を前記金属ホーン型超音
波振動子に対向配置したものである。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, an ultrasonic cleaning apparatus of the present invention performs ultrasonic cleaning while dipping a thin long object to be cleaned in a cleaning liquid in a cleaning tank, In the ultrasonic cleaning apparatus, the cleaning liquid spilling from the cleaning tank is collected by a cleaning liquid collecting tank disposed around the cleaning tank, and the collected cleaning liquid is filtered by a filter, and then returned to the cleaning tank and circulated again. A metal horn-type ultrasonic vibrator is located on one of the upper surface and the lower surface of the thin long object passing through the cleaning tank, facing the thin long object, and the thin long object is arranged. The ultrasonic reflection plate is disposed opposite to the metal horn type ultrasonic vibrator with the interposed therebetween.

【0009】このような構成の超音波洗浄装置とした場
合、洗浄対象物たる薄肉長尺物の上面または下面のいず
れか一方の側の面は、該面と対向配置された金属ホーン
型超音波振動子21から放射される超音波によって直接
洗浄される。さらに、金属ホーン型超音波振動子21か
ら放射される超音波は、その一部が薄肉長尺物を透過し
てその反対面側にも放射されるので、この透過した超音
波を超音波反射板で反射して薄肉長尺物の他方の面に当
て、薄肉長尺物の他方の面の超音波洗浄を行なう。した
がって、本発明の超音波洗浄装置の場合、ただ1つの超
音波振動子を用いて薄肉長尺物の表裏面の洗浄を行なう
ことができ、超音波洗浄装置を小型化することが可能と
なる。
In the case of an ultrasonic cleaning apparatus having such a configuration, the metal horn type ultrasonic wave is disposed such that one of the upper surface and the lower surface of the thin long object to be cleaned is opposed to the surface. The cleaning is performed directly by the ultrasonic waves emitted from the vibrator 21. Further, part of the ultrasonic wave radiated from the metal horn type ultrasonic vibrator 21 is transmitted through the thin and long object and is also radiated to the opposite surface side. The light reflected by the plate is applied to the other surface of the thin long object, and the other surface of the thin long object is subjected to ultrasonic cleaning. Therefore, in the case of the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention, it is possible to clean the front and back surfaces of a thin long object using only one ultrasonic transducer, and it is possible to reduce the size of the ultrasonic cleaning apparatus. .

【0010】また、本発明の洗浄乾燥装置は、前記構成
になる超音波洗浄装置と、該超音波洗浄装置によって洗
浄された後の薄肉長尺物を乾燥する乾燥装置とから構成
したものである。なお、前記超音波洗浄装置は薄肉長尺
物の進行経路に沿って複数台配置し、また、各超音波洗
浄装置毎に独立に設けられている洗浄液回収槽を1個に
まとめ、1個の洗浄液回収槽を前記複数台の超音波洗浄
装置で共用するように構成してもよい。また、前記乾燥
装置としては、エアノズル式乾燥ユニットと、吸湿ロー
ラ式乾燥ユニットと、熱風式乾燥ユニットを配置するこ
とにより構成し、さらに、超音波式以外の他の洗浄形式
になる洗浄装置を付加してもよいものである。
[0010] The cleaning and drying apparatus of the present invention comprises the ultrasonic cleaning apparatus having the above-described configuration, and a drying apparatus for drying a thin and long object after being cleaned by the ultrasonic cleaning apparatus. . A plurality of the ultrasonic cleaning devices are arranged along a traveling path of a thin and long object, and a cleaning liquid recovery tank independently provided for each ultrasonic cleaning device is integrated into one, and one ultrasonic cleaning device is provided. The cleaning liquid recovery tank may be configured to be shared by the plurality of ultrasonic cleaning apparatuses. Further, as the drying device, an air nozzle type drying unit, a moisture absorbing roller type drying unit, and a hot air type drying unit are arranged, and a cleaning device other than an ultrasonic type is added. It may be.

【0011】このような構成の洗浄乾燥装置とした場
合、超音波洗浄装置が小型化されるので、洗浄乾燥装置
全体を小型に構成することができる。また、超音波洗浄
装置を複数台設置しても全体の容積がそれほど大きくな
ることがない。また、1個の洗浄液回収槽を前記複数台
の超音波洗浄装置で共用するようにした場合には、さら
に洗浄乾燥装置全体の容積増加を少なく抑えることがで
きる。また、乾燥装置として、エアノズル式乾燥ユニッ
トと、吸湿ローラ式乾燥ユニットと、熱風式乾燥ユニッ
トを用いた場合には、洗浄液で濡れた薄肉長尺物をより
迅速に乾燥させることができる。さらに、超音波式以外
の他の洗浄形式になる洗浄装置を付加した場合には、洗
浄効果をより一層高めることができる。
In the case of the cleaning / drying apparatus having such a configuration, the ultrasonic cleaning apparatus is downsized, so that the entire cleaning / drying apparatus can be downsized. Further, even if a plurality of ultrasonic cleaning devices are installed, the overall volume does not become so large. In addition, when one cleaning liquid recovery tank is shared by the plurality of ultrasonic cleaning devices, the increase in the volume of the entire cleaning / drying device can be further reduced. In addition, when an air nozzle type drying unit, a moisture absorbing roller type drying unit, and a hot air type drying unit are used as the drying device, a thin long object wet with the cleaning liquid can be dried more quickly. Further, when a cleaning device of another cleaning type other than the ultrasonic type is added, the cleaning effect can be further enhanced.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は、本発明に係る超音
波洗浄装置の一実施の形態を示す模式断面図である。な
お、図中、従来装置(図6)と同一部分には同一の符号
を付して示した。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention. In the figure, the same parts as those of the conventional device (FIG. 6) are denoted by the same reference numerals.

【0013】この図1に示す実施の形態は、従来の超音
波洗浄装置と同様の構成において、従来用いられていた
一対の投げ込み式超音波振動子3A,3Bに代えて、超
音波を集中して放射可能な金属ホーン型超音波振動子2
1と、この金属ホーン型超音波振動子21から放射され
た超音波を反射する超音波反射板22とを用いたもので
ある。
The embodiment shown in FIG. 1 has a configuration similar to that of a conventional ultrasonic cleaning apparatus, and instead of a pair of throw-in type ultrasonic transducers 3A and 3B conventionally used, ultrasonic waves are concentrated. Horn type ultrasonic vibrator 2 which can emit light
1 and an ultrasonic reflector 22 for reflecting the ultrasonic waves radiated from the metal horn type ultrasonic vibrator 21.

【0014】すなわち、金属ホーン型超音波振動子21
をリードフレーム4の上面側に配置するとともに、リー
ドフレーム4の下面側に位置して超音波反射板22を前
記金属ホーン型超音波振動子21と対向して配置したも
のである。金属ホーン型超音波振動子22としては、従
来と同じ寸法からなる幅80mm、厚さ0.1〜0.2
mmのリードフレームを10〜20m/分で送りながら
洗浄する場合、ホーン先端断面積77×20mm、振動
振幅幅20μmmp−p(発振周波数19.5KHz)
程度のものをリードフレーム4の上面から10mm以内
の距離に配置すればよい。また、超音波反射板22とし
ては、例えばステンレンス鋼などを用いればよく、リー
ドフレーム4の下面から10mm以内の距離に配置すれ
ばよい。
That is, the metal horn type ultrasonic vibrator 21
Are disposed on the upper surface side of the lead frame 4, and the ultrasonic reflection plate 22 is disposed on the lower surface side of the lead frame 4 so as to face the metal horn type ultrasonic vibrator 21. The metal horn type ultrasonic vibrator 22 has a width of 80 mm and a thickness of 0.1 to 0.2 having the same dimensions as the conventional one.
mm lead frame at 10 to 20 m / min for cleaning, horn tip cross-sectional area 77 × 20 mm, vibration amplitude width 20 μmm pp (oscillation frequency 19.5 KHz)
What is necessary is just to arrange | position the thing of about 10 mm or less from the upper surface of the lead frame 4. Further, as the ultrasonic reflection plate 22, for example, stainless steel or the like may be used, and the ultrasonic reflection plate 22 may be disposed within a distance of 10 mm or less from the lower surface of the lead frame 4.

【0015】このような構成とした場合、リードフレー
ム4の上面は金属ホーン型超音波振動子21から放射さ
れる超音波によって直接洗浄される。一方、リードフレ
ーム4の下面側には超音波振動子が配置されていない
が、リードフレーム4は薄い金属の板であるため、金属
ホーン型超音波振動子21から放射される強力な超音波
はこのリードフレーム4の上面を洗浄すると同時に、そ
の一部がリードフレーム4の下面側に透過する。
In such a configuration, the upper surface of the lead frame 4 is directly cleaned by the ultrasonic waves radiated from the metal horn type ultrasonic vibrator 21. On the other hand, no ultrasonic transducer is arranged on the lower surface side of the lead frame 4, but since the lead frame 4 is a thin metal plate, strong ultrasonic waves radiated from the metal horn type ultrasonic transducer 21 At the same time that the upper surface of the lead frame 4 is cleaned, a part of the upper surface is transmitted to the lower surface side of the lead frame 4.

【0016】この透過した超音波は超音波反射板22で
反射されてリードフレーム4の下面に当たり、リードー
ドフレーム4の下面を超音波洗浄する。また、一般にリ
ードフレーム4には半導体チップを載置するために必要
なパターンからなる多数の打ち抜き穴があるため、この
穴から通り抜けた超音波も超音波反射板22で反射さ
れ、リードフレーム4の下面に当たって洗浄する。この
ため、リードフレーム4の下面側に超音波振動子を配置
しなくても、従来の超音波洗浄装置と同等の超音波洗浄
を実現することができる。
The transmitted ultrasonic waves are reflected by the ultrasonic reflecting plate 22 and strike the lower surface of the lead frame 4, and the lower surface of the lead frame 4 is ultrasonically cleaned. In general, the lead frame 4 has a large number of punched holes having a pattern necessary for mounting a semiconductor chip. Ultrasonic waves passing through these holes are also reflected by the ultrasonic reflection plate 22, and the lead frame 4 Wash by touching the lower surface. For this reason, even if the ultrasonic transducer is not arranged on the lower surface side of the lead frame 4, it is possible to realize the same ultrasonic cleaning as the conventional ultrasonic cleaning device.

【0017】ちなみに、前述したホーン先端断面積が7
7×20mmの金属ホーン型超音波振動子21を用いた
場合、洗浄槽2のリードフレーム送り方向の槽長さLを
100mm程度まで小さくすることができた。従来の超
音波洗浄装置の場合、投げ込み式超音波振動子3A,3
B(図6参照)のリードフレーム送り方向の長さ自体が
300mm程度必要であり、従って洗浄槽2のリードフ
レーム送り方向の槽長さは少なくとも340〜350m
m程度以上必要であった。したがって、本発明の超音波
洗浄装置によれば、洗浄槽2の容積を従来の1/3程度
以下に小型化することができる。
The horn tip cross-sectional area is 7
When the metal horn type ultrasonic transducer 21 of 7 × 20 mm was used, the length L of the cleaning tank 2 in the lead frame feed direction could be reduced to about 100 mm. In the case of the conventional ultrasonic cleaning device, the throw-in type ultrasonic transducers 3A, 3
B (see FIG. 6) requires a length of about 300 mm in the lead frame feeding direction. Therefore, the length of the cleaning tank 2 in the lead frame feeding direction is at least 340 to 350 m.
m or more was required. Therefore, according to the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention, the volume of the cleaning tank 2 can be reduced to about 1/3 or less of the conventional one.

【0018】図2に、上記超音波洗浄装置を利用して構
成した本発明のリードフレーム用洗浄乾燥装置の第1の
実施の形態を示す。図中、31は前述した本発明の超音
波洗浄装置、32は超音波洗浄装置31で洗浄されたリ
ードフレーム4の表面に付着している洗浄液を強制乾燥
させるための乾燥装置である。この例の場合、乾燥装置
32は、リードフレーム4の表面に付着した洗浄液を吹
き落とすための高圧エアを吹き出すエアノズル33aか
ら構成されたエアノズル式乾燥ユニット33と、リード
フレーム4の表面に付着した洗浄液を吸い取る吸湿ロー
ラ34aから構成された吸湿ローラ式乾燥ユニット34
と、熱風を吹き付けて乾燥させる熱風式乾燥ユニット3
5とから構成されている。
FIG. 2 shows a first embodiment of the lead frame cleaning / drying apparatus according to the present invention, which is constructed using the above ultrasonic cleaning apparatus. In the figure, reference numeral 31 denotes the above-described ultrasonic cleaning apparatus of the present invention, and reference numeral 32 denotes a drying apparatus for forcibly drying the cleaning liquid adhered to the surface of the lead frame 4 cleaned by the ultrasonic cleaning apparatus 31. In this example, the drying device 32 includes an air nozzle type drying unit 33 including an air nozzle 33a that blows out high-pressure air for blowing down the cleaning liquid attached to the surface of the lead frame 4, and a cleaning liquid attached to the surface of the lead frame 4. Roller-type drying unit 34 composed of a moisture-absorbing roller 34a that absorbs moisture
And hot air drying unit 3 for drying by blowing hot air
And 5.

【0019】この図2の洗浄乾燥装置の場合、前述した
ように超音波洗浄装置31が小型化可能であり、他の乾
燥ユニット33〜35と組み合わせることによってシス
テム化することができ、システム全体を小型化すること
が可能である。
In the case of the cleaning and drying apparatus shown in FIG. 2, the ultrasonic cleaning apparatus 31 can be miniaturized as described above, and can be systemized by combining with other drying units 33 to 35. It is possible to reduce the size.

【0020】図3に、上記超音波洗浄装置を利用して構
成した本発明のリードフレーム用洗浄乾燥装置の第2の
実施の形態を示す。この図3の洗浄乾燥装置は、図2と
同様の構成において、3台の超音波洗浄装置31A、3
1B、31Cをリードフレーム4の進行経路に沿って配
置したものである。このような構成とした場合、洗浄乾
燥全体の容積の増大を抑えながら、洗浄効果を向上させ
ることができる。
FIG. 3 shows a lead frame cleaning / drying apparatus according to a second embodiment of the present invention constructed using the above-mentioned ultrasonic cleaning apparatus. The cleaning and drying apparatus of FIG. 3 has the same configuration as that of FIG.
1B and 31C are arranged along the traveling path of the lead frame 4. With such a configuration, the cleaning effect can be improved while suppressing an increase in the volume of the entire cleaning and drying.

【0021】図4に、上記超音波洗浄装置を利用して構
成した本発明のリードフレーム用洗浄乾燥装置の第3の
実施の形態を示す。この図4の洗浄乾燥装置は、前記図
3の洗浄装置と同様の構成において、各超音波洗浄装置
31A、31B、31C毎に独立に設けられている洗浄
液回収槽9を1個にまとめ、1個の洗浄液回収槽9を複
数台の超音波洗浄装置31A、31B、31Cで共用す
るように構成したものである。このような構成とした場
合、さらに洗浄乾燥装置全体の容積増加を少なく抑える
ことができる。
FIG. 4 shows a third embodiment of the lead frame cleaning / drying apparatus of the present invention which is constructed by using the above ultrasonic cleaning apparatus. The cleaning / drying apparatus of FIG. 4 has the same configuration as the cleaning apparatus of FIG. 3 and combines the cleaning liquid recovery tanks 9 provided independently for each of the ultrasonic cleaning apparatuses 31A, 31B, and 31C into one. The cleaning liquid recovery tank 9 is configured to be shared by a plurality of ultrasonic cleaning devices 31A, 31B, 31C. With such a configuration, the increase in the volume of the entire washing / drying apparatus can be further suppressed.

【0022】図5に、上記超音波洗浄装置を利用して構
成した本発明のリードフレーム用洗浄乾燥装置の第4の
実施の形態を示す。この図5の洗浄乾燥装置は、図2の
洗浄乾燥装置と同様の構成において、超音波式洗浄装置
31の後方に、超音波方式以外の他の洗浄形式になる洗
浄装置36を1台または複数台付設したものである。本
発明の超音波洗浄装置31を用いた場合、洗浄装置全体
の小型化が可能であるため、他の洗浄装置を付加しても
それほど装置が大型化することがない。
FIG. 5 shows a fourth embodiment of the lead frame cleaning / drying apparatus of the present invention constructed using the above ultrasonic cleaning apparatus. The cleaning and drying apparatus shown in FIG. 5 has a configuration similar to that of the cleaning and drying apparatus shown in FIG. It is attached to a stand. When the ultrasonic cleaning device 31 of the present invention is used, the size of the entire cleaning device can be reduced. Therefore, even if another cleaning device is added, the size of the device is not so large.

【0023】なお、上述した各実施の形態では、いずれ
も、金属ホーン型超音波振動子21をリードフレーム4
の上面側に配置し、超音波反射板22をリードフレーム
4の下面側に配置したが、これとは逆に、金属ホーン型
超音波振動子21をリードフレーム4の下面側に、超音
波反射板22をリードフレーム4の上面側に配置しても
よいものである。また、洗浄対象物としてフープ式のリ
ードフレームを用いた場合を例示したが、これに限定さ
れるものではなく、超音波が透過可能な薄肉長尺物であ
れば適用可能である。
In each of the above embodiments, the metal horn type ultrasonic vibrator 21 is connected to the lead frame 4.
And the ultrasonic reflection plate 22 is disposed on the lower surface of the lead frame 4. On the contrary, the metal horn type ultrasonic vibrator 21 is disposed on the lower surface of the lead frame 4 so that The plate 22 may be arranged on the upper surface side of the lead frame 4. Further, the case where a hoop-type lead frame is used as an object to be cleaned has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and any thin and long object that can transmit ultrasonic waves can be applied.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の超
音波洗浄装置によるときは、洗浄槽内を通過する薄肉長
尺物の上面または下面のいずれか一方の側に位置して金
属ホーン型超音波振動子を前記薄肉長尺物に向けて配置
するとともに、前記薄肉長尺物を中に挟んで超音波反射
板を前記金属ホーン型超音波振動子に対向配置したの
で、洗浄のための超音波振動子が1つだけで済む。この
ため、これを収容するための洗浄槽と洗浄液回収槽を小
型化することができるとともに、洗浄液の使用量も低減
することができるので、超音波洗浄装置を従来のものに
比べて格段に小型化することができる。また、洗浄液の
使用量が少なくて済むので、洗浄液循環用のポンプも小
容量のもので済み、電力消費量も低減することができ
る。
As described above, according to the ultrasonic cleaning apparatus of the first aspect, the metal horn is located on one of the upper surface and the lower surface of the thin and long object passing through the cleaning tank. Type ultrasonic transducer is arranged facing the thin and long object, and the ultrasonic reflector is disposed opposite to the metal horn ultrasonic transducer with the thin and long object interposed therebetween, so that it is used for cleaning. Need only one ultrasonic transducer. This makes it possible to reduce the size of the cleaning tank and the cleaning liquid recovery tank for accommodating the cleaning liquid and to reduce the amount of the cleaning liquid used. Can be In addition, since a small amount of the cleaning liquid is required, the capacity of the pump for circulating the cleaning liquid may be small, and the power consumption may be reduced.

【0025】また、請求項2記載の洗浄乾燥装置による
ときは、請求項1記載の超音波洗浄装置と、超音波洗浄
装置によって洗浄された後の薄肉長尺物を乾燥する乾燥
装置とを組み合わせたので、洗浄乾燥装置全体を小型に
構成することができる。
In the case of using the cleaning and drying apparatus according to the second aspect, the ultrasonic cleaning apparatus according to the first aspect is combined with a drying apparatus for drying a thin and long object that has been cleaned by the ultrasonic cleaning apparatus. Therefore, the entire washing / drying apparatus can be made compact.

【0026】また、請求項3記載の洗浄乾燥装置による
ときは、請求項1記載の超音波洗浄装置を薄肉長尺物の
進行経路に沿って複数台配置したので、装置全体の容積
をそれほど大きくすることなく洗浄効果を向上すること
ができる。
Further, in the case of the cleaning and drying apparatus according to the third aspect, since a plurality of ultrasonic cleaning apparatuses according to the first aspect are arranged along the traveling path of the thin and long object, the volume of the entire apparatus is so large. The cleaning effect can be improved without performing.

【0027】また、請求項4記載の洗浄乾燥装置による
ときは、各超音波洗浄装置毎に独立に設けられている洗
浄液回収槽を1個にまとめ、1個の洗浄液回収槽を複数
台の超音波洗浄装置で共用したので、洗浄乾燥装置全体
の容積をさらに小さくすることができる。
In the cleaning and drying apparatus according to the fourth aspect, the cleaning liquid recovery tank independently provided for each ultrasonic cleaning apparatus is integrated into one, and one cleaning liquid recovery tank is provided by a plurality of supersonic cleaning apparatuses. Since the ultrasonic cleaning apparatus is used in common, the volume of the entire cleaning / drying apparatus can be further reduced.

【0028】また、請求項5記載の洗浄乾燥装置による
ときは、乾燥装置として、エアノズル式乾燥ユニット
と、吸湿ローラ式乾燥ユニットと、熱風式乾燥ユニット
を配置したので、洗浄液で濡れた薄肉長尺物をより迅速
に乾燥させることができる。
In the cleaning and drying apparatus according to the fifth aspect, an air nozzle type drying unit, a moisture absorbing roller type drying unit, and a hot air type drying unit are arranged as the drying device, so that the thin and long wall wet with the cleaning liquid is provided. The object can be dried more quickly.

【0029】さらに、請求項6記載の洗浄乾燥装置によ
るときは、超音波方式以外の他の洗浄形式になる洗浄装
置を付加したので、超音波では除去できないゴミやよご
れも効果的に除去することができ、洗浄効果をより一層
高めることができる。
Further, in the case of using the cleaning and drying apparatus according to the sixth aspect, since a cleaning apparatus of another cleaning type other than the ultrasonic method is added, dust and dirt that cannot be removed by ultrasonic waves can be effectively removed. And the cleaning effect can be further enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る超音波洗浄装置の一実施の形態を
示す模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of an ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention.

【図2】本発明の超音波洗浄装置を利用して構成したリ
ードフレーム用洗浄乾燥装置の第1の実施の形態を示す
模式構造図である。
FIG. 2 is a schematic structural view showing a first embodiment of a cleaning and drying apparatus for a lead frame configured by using the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention.

【図3】本発明の超音波洗浄装置を利用して構成したリ
ードフレーム用洗浄乾燥装置の第2の実施の形態を示す
模式構造図である。
FIG. 3 is a schematic structural view showing a second embodiment of a cleaning and drying apparatus for a lead frame configured by using the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention.

【図4】本発明の超音波洗浄装置を利用して構成したリ
ードフレーム用洗浄乾燥装置の第3の実施の形態を示す
模式構造図である。
FIG. 4 is a schematic structural diagram showing a third embodiment of a lead frame cleaning / drying apparatus configured by using the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention.

【図5】本発明の超音波洗浄装置を利用して構成したリ
ードフレーム用洗浄乾燥装置の第4の実施の形態を示す
模式構造図である。
FIG. 5 is a schematic structural view showing a fourth embodiment of a lead frame cleaning / drying apparatus configured by using the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention.

【図6】従来の超音波洗浄装置の構成を示す模式断面図
である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a configuration of a conventional ultrasonic cleaning apparatus.

【図7】従来の超音波洗浄装置を利用して構成したリー
ドフレーム用洗浄乾燥装置の一例を示す模式構造図であ
る。
FIG. 7 is a schematic structural view showing an example of a lead frame cleaning / drying apparatus configured using a conventional ultrasonic cleaning apparatus.

【図8】従来の超音波洗浄装置を利用して構成したリー
ドフレーム用洗浄乾燥装置の他例を示す模式構造図であ
る。
FIG. 8 is a schematic structural view showing another example of a lead frame cleaning / drying apparatus configured using a conventional ultrasonic cleaning apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 洗浄液 2 洗浄槽 4 リードフレーム 5,6 送りローラ 7 入口スリット 8 出口スリット 9 洗浄液回収槽 10 循環路 11 フィルタ 12 ポンプ 13 バルブ 21 金属ホーン型超音波振動子 22 超音波反射板 31,31A〜31C 超音波洗浄装置 32 乾燥装置 33 エアノズル式乾燥ユニット 34 吸湿ローラ式乾燥ユニット 35 熱風式乾燥ユニット 36 超音波方式以外の他の洗浄形式になる洗浄装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning liquid 2 Cleaning tank 4 Lead frame 5, 6 Feed roller 7 Inlet slit 8 Outlet slit 9 Cleaning liquid recovery tank 10 Circulation path 11 Filter 12 Pump 13 Valve 21 Metal horn type ultrasonic transducer 22 Ultrasonic reflection plate 31, 31A-31C Ultrasonic cleaning device 32 Drying device 33 Air nozzle type drying unit 34 Moisture absorbing roller type drying unit 35 Hot air type drying unit 36 Cleaning device that becomes a cleaning type other than the ultrasonic type

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 輻形 公司 東京都羽村市栄町3丁目1番地の5 株 式会社カイジョー内 (56)参考文献 特開 平10−323635(JP,A) 特開 平6−182304(JP,A) 特開 平7−290008(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B08B 3/12 B08B 3/08 H01L 23/50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Koji Katsura 5 Kaiyo Co., Ltd., 3-1-1, Sakaemachi, Hamura-shi, Tokyo (56) References JP-A-10-323635 (JP, A) 6-182304 (JP, A) JP-A-7-290008 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B08B 3/12 B08B 3/08 H01L 23/50

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 洗浄対象物たる薄肉長尺物を洗浄槽内の
洗浄液中を潜らせながら超音波洗浄するとともに、該洗
浄槽からこぼれ落ちる洗浄液を洗浄槽の周囲に配置した
洗浄液回収槽によって回収し、この回収した洗浄液をフ
ィルタでろ過した後、再び洗浄槽に戻して循環させるよ
うにした超音波洗浄装置において、 前記洗浄槽内を通過する薄肉長尺物の上面または下面の
いずれか一方の側に位置して金属ホーン型超音波振動子
を前記薄肉長尺物に向けて配置するとともに、前記薄肉
長尺物を中に挟んで超音波反射板を前記金属ホーン型超
音波振動子に対向配置したことを特徴とする超音波洗浄
装置。
An ultrasonic cleaning of a thin long object to be cleaned is carried out while dipping in a cleaning liquid in a cleaning tank, and a cleaning liquid spilling from the cleaning tank is collected by a cleaning liquid collecting tank disposed around the cleaning tank. Then, after the collected cleaning liquid is filtered by a filter, the ultrasonic cleaning apparatus is configured to return to the cleaning tank and circulate again, wherein either one of the upper surface or the lower surface of the thin long object passing through the cleaning tank. The metal horn-type ultrasonic vibrator is located toward the thin-walled long object and the ultrasonic reflector is opposed to the metal-horn-type ultrasonic vibrator with the thin long object interposed therebetween. An ultrasonic cleaning device characterized by being arranged.
【請求項2】 請求項1記載の超音波洗浄装置と、超音
波洗浄装置によって洗浄された後の薄肉長尺物を乾燥す
る乾燥装置とからなることを特徴とする洗浄乾燥装置。
2. A cleaning / drying apparatus comprising: the ultrasonic cleaning apparatus according to claim 1; and a drying apparatus for drying a thin and long object that has been cleaned by the ultrasonic cleaning apparatus.
【請求項3】 請求項1記載の超音波洗浄装置を薄肉長
尺物の進行経路に沿って複数台配置したことを特徴とす
る請求項2記載の洗浄乾燥装置。
3. The cleaning and drying apparatus according to claim 2, wherein a plurality of the ultrasonic cleaning apparatuses according to claim 1 are arranged along a traveling path of a thin and long object.
【請求項4】 各超音波洗浄装置毎に独立に設けられて
いる洗浄液回収槽を1個にまとめ、1個の洗浄液回収槽
を複数台の超音波洗浄装置で共用したこと特徴とする請
求項3記載の洗浄乾燥装置。
4. The cleaning liquid recovery tank provided independently for each ultrasonic cleaning apparatus is integrated into one, and one cleaning liquid recovery tank is shared by a plurality of ultrasonic cleaning apparatuses. 3. The washing and drying apparatus according to 3.
【請求項5】 前記乾燥装置が、エアノズル式乾燥ユニ
ットと、吸湿ローラ式乾燥ユニットと、熱風式乾燥ユニ
ットを配置してなることを特徴とする請求項2〜4のい
ずれかに記載の洗浄乾燥装置。
5. The washing and drying method according to claim 2, wherein the drying device includes an air nozzle type drying unit, a moisture absorbing roller type drying unit, and a hot air type drying unit. apparatus.
【請求項6】 超音波方式以外の他の洗浄形式になる洗
浄装置を付加したことを特徴とする請求項2〜5のいず
れかに記載の洗浄乾燥装置。
6. The cleaning / drying apparatus according to claim 2, further comprising a cleaning apparatus of a cleaning type other than the ultrasonic type.
JP30998898A 1997-11-21 1998-10-30 Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same Expired - Lifetime JP3288313B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30998898A JP3288313B2 (en) 1997-11-21 1998-10-30 Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-336649 1997-11-21
JP33664997 1997-11-21
JP30998898A JP3288313B2 (en) 1997-11-21 1998-10-30 Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11216436A JPH11216436A (en) 1999-08-10
JP3288313B2 true JP3288313B2 (en) 2002-06-04

Family

ID=26566141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30998898A Expired - Lifetime JP3288313B2 (en) 1997-11-21 1998-10-30 Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3288313B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3876167B2 (en) 2002-02-13 2007-01-31 川崎マイクロエレクトロニクス株式会社 Cleaning method and semiconductor device manufacturing method
CN103341464A (en) * 2013-07-05 2013-10-09 苏州圣利线缆有限公司 Varnished wire cleaning device
CN111910263A (en) * 2020-06-30 2020-11-10 刘辉 Automatic clear board equipment of chemical fiber production

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11216436A (en) 1999-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2900788B2 (en) Single wafer processing equipment
JPH09502388A (en) A stationary megasonic cleaning device for cleaning objects
CN102101118A (en) Ultrasonic dry cleaner using metal medium
JP3288313B2 (en) Ultrasonic cleaning device and cleaning / drying device using the same
TW201916944A (en) Ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning system
JPH07328573A (en) Washing method and apparatus
JPH0449619A (en) Ultrasonic washing tank
JP2000258055A (en) Ultrasonic dryer
JPS60192944A (en) Developing method and apparatus for executing the same
JPH06106144A (en) Ultrasonic cleaning method and device therefor
JP4144201B2 (en) Wet cleaning processing equipment
JP4482799B2 (en) Ultrasonic cleaning device and composite ultrasonic cleaning device
KR102172789B1 (en) Multiple frequency module and Ultrasonic cleaning device with multiple frequency module
JP2001085380A (en) Apparatus for cleaning semiconductor substrate
JP4249604B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JPH0420546Y2 (en)
JPH10128256A (en) Ultrasonic washing device
JPH05267264A (en) Manufacture of liquid-crystal display device
JP3154685B2 (en) Ultrasonic cleaning equipment
JP2989707B2 (en) Ultrasonic cleaning equipment
JP3260586B2 (en) Ultrasonic cleaner with parabolic reflection surface
JP3783174B2 (en) Flowing water type ultrasonic cleaning equipment
JP2008178778A (en) Ultrasonic dust collector
JP3182386B2 (en) Structure of ultrasonic cleaning device and ultrasonic cleaning device provided with the structure
JP3444574B2 (en) Substrate cleaning nozzle

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090315

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100315

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110315

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120315

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130315

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130315

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140315

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term