JP3281601B2 - プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法 - Google Patents

プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法

Info

Publication number
JP3281601B2
JP3281601B2 JP14397098A JP14397098A JP3281601B2 JP 3281601 B2 JP3281601 B2 JP 3281601B2 JP 14397098 A JP14397098 A JP 14397098A JP 14397098 A JP14397098 A JP 14397098A JP 3281601 B2 JP3281601 B2 JP 3281601B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
spring
needle
resist
probe needle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP14397098A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11337575A (ja
Inventor
辰夫 三渕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Science and Technology Agency
Original Assignee
Japan Science and Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Science and Technology Corp filed Critical Japan Science and Technology Corp
Priority to JP14397098A priority Critical patent/JP3281601B2/ja
Publication of JPH11337575A publication Critical patent/JPH11337575A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3281601B2 publication Critical patent/JP3281601B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は液晶パネルやIC、
プリント基盤などの検査等に使用されるプロ−ブ針にお
いて、これらの微小ピッチの電極層やマトリックス電極
層に適したプロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネ
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液晶パネルを形成するガラス板端縁に並
列配置される電極層やICチップの周辺に並ぶ電極層、
また、フリップチップやCSP(チップサイズパッケ−
ジ)などのようにマトリックス状に配列された電極層は
益々微小ピッチ化、マトリックス化する傾向にあり、そ
れに対応するためプロ−ブ針を微小ピッチ、マトリック
スに配列したプロ−ブユニットの開発が望まれている。
【0003】この種のプロ−ブ針として従来より針先を
曲げたニ−ドルタイプ針、スプリングプロ−ブタイプ
針、板状のブレ−ドタイプ針などがあるが、これらはそ
の構造上マトリックスや微小ピッチには適さなかった。
【0004】又これらのプロ−ブ針をプロ−ブユニット
として組み立てる方法として、ニ−ドルタイプは針をL
型に曲げるためマトリックスには並べることができない
し手作業で位置決めをするため非常なコストがかかる。
スプリングプロ−ブにおいては針、スプリング、パイプ
の組み合わせになるので最大針径が大きくなり微小ピッ
チに対応できない。また接触点が多いため接触抵抗が高
く、高周波測定には向かない。プレ−ドタイプにおいて
は当然マトリックスには対応できないし、その組み立て
においてベ−ス板に各ピッチに溝をスライスしてプロ−
ブ針を嵌め込む方法や、プロ−ブ針とプロ−ブ針との間
に板状のスペ−サ−を噛ませて各ピッチを作り上げて行
く方法があるが、それらはいずれもピッチ精度に問題が
あり実用的ではなかった。
【0005】更にスペ−サ−をプロ−ブ針とプロ−ブ針
との間に噛ませる場合には、スペ−サ−の厚さをピッチ
にその都度合わせないといけないし、全体の締込み圧で
ピッチが変わり望まれる精度が出ない問題がある。
【0006】このような問題点を解消するために特開平
8−15318号「プロ−ブユニットとその製法」が出
願されている。
【0007】この発明は、図12および図13に示すよ
うに、ベ−ス板aの表面に並列してメッキ成長により形
成された多数のリ−ドbを有し、該メッキ成長リ−ドb
の一端を上記ベ−ス板aの一端から突出させて弾性接片
cを形成したプロ−ブユニットである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この上記発明は図14
に示すように、液晶パネルd端に微小ピッチで配列され
た電極層eに対して弾性接片c先端を加圧接触させるも
のである。
【0009】しかしながら近年IC、液晶パネルの微小
ピッチかつ、マトリックス状に配列された電極への接触
では上記構成のプロ−ブユニットでは対応することがで
きない。
【0010】そのために上記マトリックス状に配列され
た電極への検査では図15に示すような構造としたスプ
リングプロ−ブ針fおよび図16に示すような構造とし
たニ−ドルタイプ針gによって垂直からの接触を行おう
するものであるが、上記スプリングプロ−ブ針fでは構
造がパイプ、コイルバネ、針の組み合わせでできている
ため全体の最大針径が大きくなり微小ピッチに対応する
ことができず、又上記ニ−ドルタイプ針gではワイヤ−
を曲げているためにそのスペ−スを必要とするため微小
ピッチに対応できない問題がある。
【0011】即ち垂直方向からのプロ−ブ針による接触
に際しては、そのプロ−ブ針自体にバネ性を持たせた構
造としなければならず、その加工形状のため針径最大ス
ペ−スが必要で微小ピッチでマトリックスの場合には限
界を生じる問題がある。
【0012】そこで本発明では上記問題点を解消するた
めに、機械加工によらず電着方法によって幅と厚さおよ
び形状を自由にコントロ−ルすることができるプロ−ブ
針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は次の
如き製法によって達成できる。即ちその要旨は電着金属
板に任意厚さのレジストをコ−ティングし、該レジスト
面に、任意の形状に指定されたマスクをセットして焼き
付け・現像処理を行い不必要なレジストを取り除き、必
要な部分のレジストをアニ−ル処理をして銅メッキによ
る下地処理を施し、その上にメッキ成長により任意厚さ
のプロ−ブ針を形成し、不必要となったレジストを除去
し、上記電着金属板より銅下地のみを溶かしてプロ−ブ
針を取り外すことを特徴とするプロ−ブ針の製造方法で
ある。更に上記製造方法によってスプリングプロ−ブ用
バネを製造するものである。
【0014】なお上記マスクは光によるリソグラフィの
技術で数ミクロン単位での設計による任意の形状のプロ
−ブ針の製作を可能とするものである。又メッキ素材に
はニッケル・コバルト合金を採用し、硬度が高く(Hv
450〜550)、耐久性、耐磨耗性に優れたプロ−ブ
針の製造が可能となる。又電気的にプロ−ブ針の長さを
短くでき、そのことにより高周波領域測定に適しており
接触点が少ないことにより接触抵抗を低く押さえること
ができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を、その
実施例を示す図面を参酌しながら詳述する。図1〜図6
に本発明の製作工程を示す。
【0016】前工程として任意に指定された形状のプロ
−ブ針のマスク(ネガ)を作製する。この場合、光によ
るリソグラフィの技術でマスクを製作するので数ミクロ
ン単位での設計製作が可能となる。
【0017】図1に示すように、母型(電着金属板)1
にレジスト(感光材)2をコ−ティングする。この場
合、レジスト2の厚さを5ミクロン〜300ミクロンの
範囲内で指定することによりプロ−ブ針の厚さを自由に
コントロ−ルすることができる。
【0018】次に図2に示すように、レジスト2表面に
マスク3をセットして光にて指定された形状(パタ−
ン)を焼き付ける。
【0019】図3に示すように、不必要なレジスト2を
取り除き、必要な部分のレジスト2をアニ−ル処理して
強くする。
【0020】そして電着の下地処理として薄く銅メッキ
を施す。これは最後に銅のみを溶かす溶解液につけて、
部品を母型1から取り外すためのものと、ニッケルが電
着しやすくするためのものである。
【0021】図4に示すように、上記下地処理した母型
1上に、ニッケル・コバルト合金によるメッキ層4を指
定された厚みに形成させる。この時、電着時間、レジス
トの厚さにより部品の厚さをコントロ−ルする。
【0022】図5に示すように、不必要となったレジス
ト2を除去する。そして図6に示すように母型1より銅
下地のみを溶かして部品、即ちプロ−ブ針5のみを取り
外す。
【0023】以上の工程によって製作されたプロ−ブ針
は、任意の形状、例えば図7および図8に示すような形
状に製作することができる。又上記工程により上記図7
および図8に示すプロ−ブ針のバネ部分のみを製作し、
その先端に例えば円錐形状のコンタクト部(図示せ
ず。)を一体的に設けることもできる。これらのプロ−
ブ針5およびバネ部分は図9に示すように、断面は丸形
状ではなく四角形状であるために、幅と厚さの関係より
垂直方向から電極に接触する際に生じる応力の逃がす方
向を指定することができる。即ちバネ特性を持たせるこ
とが可能となる。
【0024】又図10および図11にそれぞれ示すよう
に、プロ−ブ針5に2個以上の穴に対する位置決め突起
6、6を設けることにより、それを並べるベ−ス板7の
位置決めの方法をスライス加工やスペ−サ−を噛ませる
のではなくて、ドリルやレ−ザ−のピッチ精度のよい穴
加工を施すことにより、その2個以上の突起6、6をそ
の穴7、7に嵌め込むことにより、位置精度の優れたプ
ロ−ブカ−ドが可能となる。
【0025】
【発明の効果】以上述べて来た如く本発明によれば、光
によるリソグラフィの技術と電着法によるメッキ技術に
より、機械加工を全く使わない、超微細加工のできる、
精度の優れたプロ−ブ針の製造が可能となる。又幅と厚
さを自由にコントロ−ルすることができ、かつ断面が方
形であるために、バネ性の方向性を持たせることがで
き、微小ピッチかつ、マトリックス状の電極に対して対
応できるプロ−ブ針の製造が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプロ−ブ針の製作工程の第1段階にお
ける説明図である。
【図2】本発明のプロ−ブ針の製作工程の第2段階にお
ける説明図である。
【図3】本発明のプロ−ブ針の製作工程の第3段階にお
ける説明図である。
【図4】本発明のプロ−ブ針の製作工程の第4段階にお
ける説明図である。
【図5】本発明のプロ−ブ針の製作工程の第5段階にお
ける説明図である。
【図6】本発明のプロ−ブ針の製作工程の第6段階にお
ける説明図である。
【図7】本発明のプロ−ブ針の形状の一実施例を示す説
明図である。
【図8】本発明のプロ−ブ針の形状の他の実施例を示す
説明図である。
【図9】本発明のプロ−ブ針の断面形状を示す説明図で
ある。
【図10】本発明のプロ−ブ針とベ−ス板との取り付け
状態を示す説明図である。
【図11】本発明のプロ−ブ針とベ−ス板との取り付け
状態の他の例を示す説明図である。
【図12】従来のプロ−ブユニットの一例を示す断面説
明図である。
【図13】従来のプロ−ブユニットの一例を示す斜視図
である。
【図14】従来のプロ−ブユニットによる使用状態を示
す説明図である。
【図15】従来の垂直形式のプロ−ブ針の一例を示す説
明図である。
【図16】従来の垂直形式のプロ−ブ針の他の例を示す
説明図である。
【符号の説明】
1 母型 2 レジスト 3 マスク 4 メッキ層 5 プロ−ブ針 6 突起 7 ベ−ス板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01R 1/06 - 1/073 G01R 31/26 H01L 21/66

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電着金属板に任意厚さのレジストをコ−
    ティングし、該レジスト面に、任意の形状に指定された
    マスクをセットして焼き付け・現像処理を行い不必要な
    レジストを取り除き、必要な部分のレジストをアニ−ル
    処理をして銅メッキによる下地処理を施し、その上にメ
    ッキ成長により任意厚さのプロ−ブ針を形成し、不必要
    となったレジストを除去し、上記電着金属板より銅下地
    のみを溶かしてプロ−ブ針を取り外すことを特徴とする
    プロ−ブ針の製造方法。
  2. 【請求項2】 電着金属板に任意厚さのレジストをコ−
    ティングし、該レジスト面に、任意の形状に指定された
    マスクをセットして焼き付け・現像処理を行い不必要な
    レジストを取り除き、必要な部分のレジストをアニ−ル
    処理をして銅メッキによる下地処理を施し、その上にメ
    ッキ成長により任意厚さのスプリングプロ−ブ用バネを
    形成し、不必要となったレジストを除去し、上記電着金
    属板より銅下地のみを溶かしてスプリングプロ−ブ用バ
    ネを取り外すことを特徴とするスプリングプロ−ブ用バ
    ネの製造方法。
JP14397098A 1998-05-26 1998-05-26 プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法 Expired - Fee Related JP3281601B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14397098A JP3281601B2 (ja) 1998-05-26 1998-05-26 プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14397098A JP3281601B2 (ja) 1998-05-26 1998-05-26 プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11337575A JPH11337575A (ja) 1999-12-10
JP3281601B2 true JP3281601B2 (ja) 2002-05-13

Family

ID=15351303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14397098A Expired - Fee Related JP3281601B2 (ja) 1998-05-26 1998-05-26 プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3281601B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3773396B2 (ja) 2000-06-01 2006-05-10 住友電気工業株式会社 コンタクトプローブおよびその製造方法
EP1365250B1 (en) 2001-01-29 2007-03-21 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of manufacturing contact probe
DE60236426D1 (de) 2001-04-13 2010-07-01 Sumitomo Electric Industries Kontaktsonde
US6998857B2 (en) 2001-09-20 2006-02-14 Yamaha Corporation Probe unit and its manufacture
EP1780550A1 (en) * 2005-10-31 2007-05-02 Capres A/S A probe for testing electrical properties of test samples
KR102520451B1 (ko) * 2015-04-01 2023-05-04 (주)샘씨엔에스 반도체 검사 장치 및 그 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11337575A (ja) 1999-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6777319B2 (en) Microelectronic spring contact repair
US4952272A (en) Method of manufacturing probing head for testing equipment of semi-conductor large scale integrated circuits
DE60035667T2 (de) Kontaktor mit Kontaktelement auf der LSI-Schaltungsseite, Kontaktelement auf der Testplattinenseite zum Testen von Halbleitergeräten und Herstellungsverfahren dafür
US7548082B2 (en) Inspection probe
JP3696849B2 (ja) 化学的にエッチングした光画定された微小電気接点
TW200841020A (en) Lateral interposer contact design and probe card assembly
US6977515B2 (en) Method for forming photo-defined micro electrical contacts
JP2006222309A (ja) インターポーザ、プローブカードおよびインターポーザの製造方法
US20220043027A1 (en) Probe module having microelectromechanical probe and method of manufacturing the same
US7393594B2 (en) Laminated metal thin plate formed by electrodeposition and method of producing the same
JP3281601B2 (ja) プロ−ブ針およびスプリングプロ−ブ用バネの製造方法
JP2001516812A (ja) 金属被覆物を穏やかに熱処理することにより改良された材料特性を備える構造を製造する方法
US20230408546A1 (en) Method of in situ modulation of structural material properties and/or template shape
US20200116758A1 (en) Probe module having microelectromechanical probe and method of manufacturing the same
KR20050019870A (ko) 마이크로 전자 스프링 접촉부 상의 기준 정렬 마크
JP5034506B2 (ja) メタルマスクおよびその製造方法
JP2004117215A (ja) プローブユニット及びその製造方法
JPH10185951A (ja) コンタクトプローブおよびそれを備えたプローブ装置並びにコンタクトプローブの製造方法
JP2003057266A (ja) コンタクトプローブ及びその製造方法
JP4077665B2 (ja) コンタクトプローブの製造方法
JP2002131335A (ja) プローブカード接点装置及びその製造方法
JP3936600B2 (ja) コンタクトプローブ及びその製造方法
KR100842395B1 (ko) 무전해도금법을 이용한 프로브카드용 탐침구조물 제조 방법
JP5053542B2 (ja) プローブピンとプローブピンの製造方法
JPH11352151A (ja) コンタクトプローブおよびそれを備えたプローブ装置並びにコンタクトプローブの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees