JP3271426B2 - Synchrotron radiation beam line device - Google Patents

Synchrotron radiation beam line device

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JP3271426B2
JP3271426B2 JP09493994A JP9493994A JP3271426B2 JP 3271426 B2 JP3271426 B2 JP 3271426B2 JP 09493994 A JP09493994 A JP 09493994A JP 9493994 A JP9493994 A JP 9493994A JP 3271426 B2 JP3271426 B2 JP 3271426B2
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元治 丸下
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石川島播磨重工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、放射光ビームライン装
置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation beam line apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】光速に近い速度で移動する電子がその進
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光と呼ばれる電磁波(光)を放出する。
2. Description of the Related Art When an electron moving at a speed close to the speed of light is bent by a magnetic field or an electric field, an electromagnetic wave (light) called a radiation is emitted in a tangential direction of an electron orbit.

【0003】図4は放射光の発生利用手段の一例を示す
もので、1は線形加速装置(粒子加速器)であり、該線
形加速器1は、電子(荷電粒子)eを移送させるための
直管状の加速ダクト2を有している。
FIG. 4 shows an example of a means for generating and utilizing synchrotron radiation. Reference numeral 1 denotes a linear accelerator (particle accelerator). The linear accelerator 1 is a straight tube for transferring electrons (charged particles) e. Has an acceleration duct 2.

【0004】この加速ダクト2は、内部を超高真空に保
持できるように形成され、超高真空状態に保持された加
速ダクト2の内部を移動する電子eに高周波RFを付与
して電子eを加速する高周波加速装置3が設けられてい
る。
[0004] The acceleration duct 2 is formed so that the inside thereof can be maintained in an ultra-high vacuum, and applies a high-frequency RF to the electrons e moving inside the acceleration duct 2 maintained in the ultra-high vacuum state to convert the electrons e. A high-frequency accelerator 3 for accelerating is provided.

【0005】また、前記加速ダクト2の一端には、電子
銃などの電子発生装置4が設けられており、該電子発生
装置4により発生する電子eが加速ダクト2の中空部へ
向かって射出されるようになっている。
An electron generator 4 such as an electron gun is provided at one end of the acceleration duct 2, and electrons e generated by the electron generator 4 are emitted toward the hollow portion of the acceleration duct 2. It has become so.

【0006】さらに、前記加速ダクト2の他端には、湾
曲管状の偏向ダクト5の一端が接続されており、該偏向
ダクト5の湾曲部には、偏向電磁石6が設けられてい
る。
Further, one end of a curved tubular deflecting duct 5 is connected to the other end of the accelerating duct 2, and a deflecting electromagnet 6 is provided at a curved portion of the deflecting duct 5.

【0007】前記の加速ダクト2から偏向ダクト5へ入
射する電子eは、その進行方向を偏向電磁石6の磁場に
より偏向ダクト5に沿って曲げられるようになってい
る。
The traveling direction of the electrons e incident from the acceleration duct 2 to the deflection duct 5 is bent along the deflection duct 5 by the magnetic field of the deflection electromagnet 6.

【0008】7はシンクロトロンであり、該シンクロト
ロン7は前記の電子eに円軌道を形成させるための円形
ダクト8を有しており、該円形ダクト8の所要箇所に
は、前記の偏向ダクト5の他端が接続されている。前記
の円形ダクト8は、その内部を超高真空に保持できるよ
うに構成されている。
Reference numeral 7 denotes a synchrotron. The synchrotron 7 has a circular duct 8 for causing the electrons e to form a circular orbit. 5 is connected to the other end. The circular duct 8 is configured so that the inside thereof can be maintained in an ultra-high vacuum.

【0009】円形ダクト8の湾曲部には、偏向電磁石9
が設けられており、偏向ダクト5から超高真空状態に保
持された円形ダクト8に入射する電子eは、その進行方
向を偏向電磁石9の磁場により円形ダクト8の湾曲部に
沿って曲げられて該円形ダクト8の内部を周回するよう
になっている。
The bending portion of the circular duct 8 has a bending electromagnet 9
The electron e incident from the deflection duct 5 to the circular duct 8 held in an ultra-high vacuum state is bent in the traveling direction along the curved portion of the circular duct 8 by the magnetic field of the bending electromagnet 9. It goes around the inside of the circular duct 8.

【0010】一方、円形ダクト8の所要箇所には、高周
波加速装置10が設けられており、円形ダクト8の内部
を周回する電子eは、前記の高周波加速装置10から高
周波を付与されて、光速に近い速度まで加速されるよう
になっている。
On the other hand, a high-frequency accelerator 10 is provided at a required portion of the circular duct 8, and electrons e orbiting inside the circular duct 8 are supplied with a high frequency from the high-frequency accelerator 10 and have a light speed. It is to be accelerated to a speed close to.

【0011】11,14は直線的に延びる放射光ビーム
ライン本体であり、該放射光ビームライン本体11,1
4の基端部は、前記の円形ダクト8の所要の湾曲部に接
続されている。
Reference numerals 11 and 14 denote linearly extending radiation beam line bodies.
4 is connected to a required curved portion of the circular duct 8.

【0012】この放射光ビームライン本体11,14に
は、前記の円形ダクト8の湾曲部を光速に近い速度で移
動する電子eの進行方向が偏向電磁石9によって曲げら
れる際に放出される放射光ビームSがそれぞれ入射する
ようになっている。
The emitted light beam line bodies 11 and 14 have emitted light emitted when the traveling direction of the electrons e moving through the curved portion of the circular duct 8 at a speed close to the speed of light is bent by the bending electromagnet 9. The beams S are respectively incident.

【0013】一方の放射光ビームライン本体11の先端
部には、回折格子分光器13を介して軟X線(波長が約
10Å以上のX線領域の電磁波X1)を利用する実験を
行なうための実験装置12が接続されており、これらの
放射光ビームライン本体11と回折格子分光器13と実
験装置12とによって軟X線を利用するための放射光ビ
ームライン装置を構成している。
An experiment for using soft X-rays (electromagnetic wave X1 in the X-ray region having a wavelength of about 10 ° or more) through the diffraction grating spectroscope 13 is provided at the end of the main body 11 of the emitted light beam line. An experiment apparatus 12 is connected, and the radiation beam main body 11, diffraction grating spectroscope 13, and experiment apparatus 12 constitute a radiation beam line apparatus for utilizing soft X-rays.

【0014】上記の回折格子分光器13は、図5に示す
ような軟X線領域の電磁波X1を放射光ビームSから取
り出し、この軟X線領域の電磁波X1を一方の実験装置
12に入射させるようになっている。
The diffraction grating spectroscope 13 extracts the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region as shown in FIG. 5 from the emitted light beam S, and makes the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region incident on one experimental device 12. It has become.

【0015】また、他方の放射光ビームライン本体14
の先端部には、二結晶分光器16を介して硬X線(波長
が10Å未満のX線領域の電磁波X2)を利用する実験
を行なうための実験装置15が接続されており、これら
の放射光ビームライン本体14と二結晶分光器16と実
験装置15とによって硬X線を利用するための放射光ビ
ームライン装置を構成している。
The other synchrotron radiation beam line body 14
An experiment device 15 for conducting an experiment using hard X-rays (electromagnetic wave X2 in the X-ray region having a wavelength of less than 10 °) via a double crystal spectroscope 16 is connected to the tip of the. The light beam line main body 14, the double crystal spectroscope 16, and the experimental device 15 constitute a radiation light beam line device for utilizing hard X-rays.

【0016】上記の二結晶分光器16は、図5に示すよ
うな硬X線領域の電磁波X2を放射光ビームSから取り
出し、この硬X線領域の電磁波X2を他方の実験装置1
5に入射させるようになっている。
The above-mentioned double crystal spectroscope 16 extracts the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region from the emitted light beam S as shown in FIG.
5.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】上述した放射光の発生
利用手段においては、軟X線領域の電磁波X1を利用す
る実験装置12と硬X線領域の電磁波X2を利用する実
験装置15とが別個であるため、初期設備費及び保守点
検費が嵩むとともに、2つの放射光ビームライン装置を
設けるために大きなスペースが必要であるという問題が
あった。
In the above-mentioned means for generating and utilizing radiation, the experimental device 12 using the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region and the experimental device 15 using the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region are separate. Therefore, there are problems that initial equipment costs and maintenance and inspection costs increase, and that a large space is required to provide two synchrotron radiation beam line devices.

【0018】本発明は1つの実験装置で軟X線領域の電
磁波X1と硬X線領域の電磁波X2の双方を利用すること
が可能な放射光ビームライン装置を提供することを目的
としてなしたものである。
An object of the present invention is to provide a synchrotron radiation beam line apparatus which can use both an electromagnetic wave X1 in a soft X-ray region and an electromagnetic wave X2 in a hard X-ray region with one experimental apparatus. It is.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は、基端部が放射
光ビームSを発生する装置に接続され且つ先端部が軟X
線領域及び硬X線領域の電磁波X1,X2を利用する実験
装置12に接続された放射光ビームライン本体11と、
該放射光ビームライン本体11の内部に基端側から先端
側へ向って順に配設した反射ミラー19、回折格子2
0、第1の分光結晶21及び第2の分光結晶22を備
え、反射ミラー19の受光面23が放射光ビームSの光
軸に対して所定の角度をなし且つ前記の受光面23に放
射光ビームSが入射し得るように反射ミラー19を移動
可能に支持し、回折格子20の受光面24に前記の反射
ミラー19より射出される放射光ビームSが入射し得ら
れ且つ前記の受光面24より放射光ビームライン本体1
1の先端側へ向って放射光ビームSの光軸と略平行に軟
X線領域の電磁波X1が射出されるように回折格子20
を支持し、第1の分光結晶21の受光面25に放射光ビ
ームSが直接入射し得るように第1の分光結晶21を支
持し、第2の分光結晶22の受光面26に第1の分光結
晶21より射出される硬X線領域の電磁波X2が入射し
得られ且つ前記の受光面26より放射光ビームライン本
体11の先端側へ向って前記の軟X線領域の電磁波X1
の光軸と略同軸に硬X線領域の電磁波X2が射出され得
るように第2の分光結晶22を移動可能に支持した構成
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a proximal end is connected to a device for generating a radiation beam S and a distal end is connected to a soft X.
A synchrotron radiation beam line main body 11 connected to an experimental device 12 using electromagnetic waves X1 and X2 in the X-ray region and the hard X-ray region;
A reflection mirror 19 and a diffraction grating 2 are disposed inside the radiation beam main body 11 in order from the base end to the tip end.
0, a first dispersive crystal 21 and a second dispersive crystal 22, wherein the light receiving surface 23 of the reflection mirror 19 forms a predetermined angle with respect to the optical axis of the emitted light beam S, and the light receiving surface 23 The reflection mirror 19 is movably supported so that the beam S can be incident thereon, and the radiation light beam S emitted from the reflection mirror 19 can be incident on the light reception surface 24 of the diffraction grating 20 and the light reception surface 24 More synchrotron radiation beamline body 1
1 so that the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region is emitted substantially parallel to the optical axis of the radiated light beam S toward the distal end of the diffraction grating 20.
And supports the first dispersive crystal 21 so that the radiation light beam S can directly enter the light receiving surface 25 of the first dispersive crystal 21. An electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region emitted from the spectral crystal 21 can be incident thereon, and the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region is directed from the light receiving surface 26 toward the tip end of the radiation beam main body 11.
The second dispersive crystal 22 is movably supported so that the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region can be emitted substantially coaxially with the optical axis.

【0020】[0020]

【作用】本発明では、放射光ビームSの光軸上に反射ミ
ラー19を位置させ第2の分光結晶22を軟X線領域の
電磁波X1の光軸上から退避させると、放射光ビームラ
イン本体11へ入射する放射光ビームSは反射ミラー1
9の受光面23へ入射し且つ該受光面23から回折格子
20へ射出され、放射光ビームSが入射する回折格子2
0の受光面24からは放射光ビームライン本体11の先
端側へ向って放射光ビームSの光軸と略平行に軟X線領
域の電磁波X1が射出される。
According to the present invention, when the reflection mirror 19 is positioned on the optical axis of the radiation light beam S and the second dispersive crystal 22 is retracted from the optical axis of the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region, the radiation light beam main body The radiation light beam S incident on the reflection mirror 11
9 is incident on the light receiving surface 23 and is emitted from the light receiving surface 23 to the diffraction grating 20, and the diffraction grating 2 on which the radiation light beam S is incident.
The electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region is emitted from the zero light receiving surface 24 toward the distal end side of the emitted light beam line main body 11 substantially in parallel with the optical axis of the emitted light beam S.

【0021】また、反射ミラー19を放射光ビームSの
光軸上から退避させ第2の分光結晶22を軟X線領域の
電磁波X1の光軸上に位置させると、放射光ビームライ
ン本体11へ入射する放射光ビームSは第1の分光結晶
21の受光面25へ直接入射し且つ該受光面25から第
2の分光結晶22へ射出され、放射光ビームSが入射す
る第2の分光結晶22の受光面26からは放射光ビーム
ライン本体11の先端側へ向って放射光ビームSの光軸
と略平行に硬X線領域の電磁波X2が射出される。
When the reflecting mirror 19 is retracted from the optical axis of the radiated light beam S and the second dispersive crystal 22 is positioned on the optical axis of the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region, the light is transmitted to the radiated light beam line main body 11. The incident radiation light beam S is directly incident on the light receiving surface 25 of the first dispersive crystal 21 and is emitted from the light receiving surface 25 to the second dispersive crystal 22, and the second dispersive crystal 22 on which the radiation light beam S is incident From the light receiving surface 26, the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region is emitted substantially in parallel with the optical axis of the radiation light beam S toward the distal end side of the radiation light beam line main body 11.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】図1から図3は本発明の放射光ビームライ
ン装置の一実施例であり、11は放射光ビームライン本
体を示している。
FIGS. 1 to 3 show an embodiment of a radiation beam line apparatus according to the present invention, and reference numeral 11 denotes a radiation beam line main body.

【0024】放射光ビームライン本体11は、その基端
部(図1のA側)が放射光ビームSを発生する装置に接
続され、且つ先端部(図1のB側)が軟X線領域の電磁
波X1及び硬X線領域の電磁波X2を利用する実験装置1
2に接続されている。
The radiation light beam line main body 11 has a base end (A side in FIG. 1) connected to a device for generating a radiation light beam S and a front end (B side in FIG. 1) in a soft X-ray region. Experimental apparatus 1 using electromagnetic wave X1 of the X-ray and electromagnetic wave X2 of the hard X-ray region
2 are connected.

【0025】放射光ビームライン本体11の内部には、
その基端側(図1のA側)から先端側(図1のB側)へ
向って順に、反射ミラー19、回折格子20、第1の分
光結晶21、及び第2の分光結晶22が配置されてい
る。
In the inside of the radiation beam line body 11,
A reflection mirror 19, a diffraction grating 20, a first dispersive crystal 21, and a second dispersive crystal 22 are arranged in this order from the base end side (A side in FIG. 1) to the distal end side (B side in FIG. 1). Have been.

【0026】前記の反射ミラー19は、その受光面23
へ放射光ビームSを発生する装置から入射される放射光
ビームSを受光することができ、受光した放射光ビーム
Sが前記の回折格子20へ向って射出されるように放射
光ビームSの光軸に対して所要の角度をなして放射光ビ
ームライン本体11の内部の所定位置に配置され、且つ
必要に応じて前記の位置から放射光ビームSの光軸を外
れる位置まで退避し得るように放射光ビームライン本体
11の外部から駆動調整し得る制御装置27によって移
動可能に支持されている。
The reflecting mirror 19 has a light receiving surface 23
A radiation light beam S incident from a device for generating a radiation light beam S to the radiation grating, and receiving the radiation light beam S so that the received radiation light beam S is emitted toward the diffraction grating 20. It is disposed at a predetermined position inside the radiation light beam line main body 11 at a required angle with respect to the axis, and can be retracted from the aforementioned position to a position off the optical axis of the radiation light beam S from the aforementioned position as necessary. It is movably supported by a control device 27 that can be driven and adjusted from outside the radiation beam main body 11.

【0027】また、回折格子20は、その受光面24へ
前記の反射ミラー19から射出される放射光ビームSを
受光することができ、且つ前記の受光面24から放射光
ビームライン本体11の先端側へ向って放射光ビームS
の光軸と略平行に軟X線領域の電磁波X1を射出できる
ように放射光ビームSの光軸に対して所要の角度をなし
て放射光ビームライン本体11の内部の所定位置に固定
支持されている。
The diffraction grating 20 can receive the radiated light beam S emitted from the reflection mirror 19 to the light receiving surface 24 thereof. Radiation beam S toward the side
Is fixedly supported at a predetermined position inside the radiation light beam line main body 11 at a required angle with respect to the optical axis of the radiation light beam S so that the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region can be emitted substantially parallel to the optical axis of the radiation light beam line S. ing.

【0028】さらに、第1の分光結晶21は、その受光
面25へ放射光ビームSを発生する装置から入射される
放射光ビームSを受光することができ、受光した放射光
ビームSに含まれる硬X線領域の電磁波X2が前記第2
の分光結晶22へ向って射出されるように放射光ビーム
Sの光軸に対して所要の角度をなして放射光ビームライ
ン本体11の内部の所定位置に配置され固定されてい
る。
Further, the first dispersive crystal 21 can receive a radiation light beam S incident from a device for generating a radiation light beam S on its light receiving surface 25 and is included in the received radiation light beam S. The electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region is
Is arranged at a predetermined angle with respect to the optical axis of the radiated light beam S at a predetermined position inside the radiated light beam line main body 11 so as to be emitted toward the dispersive crystal 22.

【0029】またさらに、第2の分光結晶22は、その
受光面26へ前記第1の分光結晶21から入射される硬
X線領域の電磁波X2を受光することができ、受光した
電磁波X2を前記の受光面26から放射光ビームライン
本体11の先端側へ向って前記の電磁波X1の光軸と略
同軸に射出できるように電磁波X2の光軸に対して所要
の角度をなして放射光ビームライン本体11の内部の所
定位置に配置され、且つ必要に応じて前記の位置から電
磁波X2の光軸を外れる位置まで退避し得るように放射
光ビームライン本体11の外部から駆動調整し得る制御
装置28によって移動可能に支持されている。
Further, the second spectral crystal 22 can receive the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region incident on the light receiving surface 26 from the first spectral crystal 21, and converts the received electromagnetic wave X2 into the light. From the light receiving surface 26 of the main body 11 toward the distal end side of the radiation beam main body 11, the radiation beam line is formed at a required angle with respect to the optical axis of the electromagnetic wave X2 so as to be emitted substantially coaxially with the optical axis of the electromagnetic wave X1. A control device 28 which is arranged at a predetermined position inside the main body 11 and which can be driven and adjusted from the outside of the radiation beam line main body 11 so as to be retracted from the aforementioned position to a position outside the optical axis of the electromagnetic wave X2 as required. It is movably supported by.

【0030】制御装置27を作動することにより反射ミ
ラー19を移動して放射光ビームSの光軸上に位置さ
せ、制御装置28を作動することにより第2の分光結晶
22を移動して電磁波X1の光軸上から退避させると、
図2に示すように、放射光ビームSを発生させる装置か
ら放射光ビームライン本体11へ入射される放射光ビー
ムSは、反射ミラー19の受光面23へ入射し且つ該受
光面23から回折格子20へ射出され、放射光ビームS
が入射された前記の回折格子20の受光面24は、放射
光ビームライン本体11の先端側へ向って放射光ビーム
Sの光軸と略平行に軟X線領域の電磁波X1を射出す
る。
By operating the control device 27, the reflection mirror 19 is moved to be positioned on the optical axis of the radiation light beam S, and by operating the control device 28, the second spectral crystal 22 is moved and the electromagnetic wave X1 is moved. When retracted from the optical axis of
As shown in FIG. 2, the radiation light beam S incident on the radiation light beam line main body 11 from the device for generating the radiation light beam S is incident on the light receiving surface 23 of the reflection mirror 19 and is diffracted from the light receiving surface 23 by the diffraction grating. 20 and the emitted light beam S
Is incident on the light receiving surface 24 of the diffraction grating 20 and emits the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region substantially in parallel with the optical axis of the radiation light beam S toward the distal end of the radiation light beam line main body 11.

【0031】また、制御装置27を作動することにより
反射ミラー19を移動して放射光ビームSの光軸上から
退避させ、制御装置28を作動することにより第2の分
光結晶22を移動して電磁波X1の光軸上に位置させる
と、図3に示すように、放射光ビームSを発生させる装
置から放射光ビームライン本体11へ入射される放射光
ビームSは、第1の分光結晶21の受光面25へ直接入
射し、該受光面25に入射した放射光ビームSから取り
出された硬X線領域の電磁波X2が前記の受光面25か
ら第2の分光結晶22へ射出され、硬X線領域の電磁波
X2が入射された前記の第2の分光結晶22の受光面2
6は、放射光ビームライン本体11の先端側へ向って前
記の電磁波X1の光軸と略同軸上に硬X線領域の電磁波
X2を射出する。
Further, by operating the control device 27, the reflecting mirror 19 is moved to retract from the optical axis of the radiated light beam S, and by operating the control device 28, the second spectral crystal 22 is moved. When positioned on the optical axis of the electromagnetic wave X 1, as shown in FIG. 3, the radiation light beam S incident on the radiation light beam line main body 11 from the device that generates the radiation light beam S The electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region, which is directly incident on the light receiving surface 25 and is extracted from the radiated light beam S incident on the light receiving surface 25, is emitted from the light receiving surface 25 to the second dispersive crystal 22, and is hard X-ray. Light receiving surface 2 of the second dispersive crystal 22 on which the electromagnetic wave X2 of the region is incident
Numeral 6 emits the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region substantially coaxially with the optical axis of the electromagnetic wave X1 toward the distal end side of the radiation beam main body 11.

【0032】上述した構成を有する本実施例において
は、反射ミラー19及び第2の分光結晶22を移動自在
に配置し、必要に応じて放射光ビームSの光軸に対する
反射ミラー19の位置を移動し、或いは又、電磁波X1
の光軸上に対する第2の分光結晶22の位置の移動を行
なうことによって、放射光ビームSを発生させる装置か
ら放射光ビームライン本体11へ入射される放射光ビー
ムSに含まれる軟X線領域の電磁波X1、または硬X線
領域の電磁波X2を放射光ビームライン本体11の先端
側へ射出し得るようにので、1つの実験装置で軟X線領
域の電磁波X1と硬X線領域の電磁波X2の双方を利用す
ることが可能となり、初期設備費及び保守点検費の低減
を図ることができ、放射光ビームライン装置を設けるた
めのスペースを削減することができる。
In this embodiment having the above-described structure, the reflection mirror 19 and the second dispersive crystal 22 are movably arranged, and the position of the reflection mirror 19 with respect to the optical axis of the radiation light beam S is moved as necessary. Or the electromagnetic wave X1
The position of the second dispersive crystal 22 with respect to the optical axis is moved to generate a soft X-ray region included in the radiation light beam S incident on the radiation light beam line main body 11 from the device for generating the radiation light beam S. The electromagnetic wave X1 in the hard X-ray region or the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region can be emitted to the distal end side of the radiation beam main body 11. Can be used, the initial equipment cost and the maintenance and inspection cost can be reduced, and the space for providing the synchrotron radiation beam line device can be reduced.

【0033】なお、本発明は前述の実施例にのみ限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内に
おいて種々変更を加え得ることは勿論である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明の放射光ビームライン装置によれ
ば、下記のごとき種々の優れた効果を奏し得る。
According to the synchrotron radiation beam line device of the present invention, various excellent effects can be obtained as follows.

【0035】1)1つの実験装置12で軟X線領域の電
磁波X1と硬X線領域の電磁波X2の双方を利用すること
ができる。
1) One experimental apparatus 12 can use both the electromagnetic wave X1 in the soft X-ray region and the electromagnetic wave X2 in the hard X-ray region.

【0036】2)従って、初期設備費及び保守点検費の
低減を図ることができ、放射光ビームライン装置を設け
るためのスペースを削減することができる。
2) Therefore, it is possible to reduce the initial equipment cost and the maintenance and inspection cost, and it is possible to reduce the space for providing the radiation beam line device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の放射光ビームライン装置の一実施例の
概略を表す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing an embodiment of a synchrotron radiation beam line device according to the present invention.

【図2】図1に関連する軟X線領域の電磁波を実験装置
へ入射させる場合の反射ミラー及び第2の分光結晶の位
置を示す配置図である。
FIG. 2 is a layout diagram showing positions of a reflection mirror and a second dispersive crystal when an electromagnetic wave in a soft X-ray region related to FIG. 1 is incident on an experimental apparatus.

【図3】図1に関連する硬X線領域の電磁波を実験装置
へ入射させる場合の反射ミラー及び第2の分光結晶の位
置を示す配置図である。
FIG. 3 is a layout diagram showing positions of a reflection mirror and a second dispersive crystal when an electromagnetic wave in a hard X-ray region related to FIG. 1 is incident on an experimental apparatus.

【図4】放射光の発生利用手段の一例の概略を表す構成
図である。
FIG. 4 is a configuration diagram schematically illustrating an example of means for generating and using emitted light.

【図5】図4に関連する軟X線領域の電磁波及び硬X線
領域の電磁波を表す線図である。
FIG. 5 is a diagram showing electromagnetic waves in a soft X-ray region and electromagnetic waves in a hard X-ray region related to FIG. 4;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 放射光ビームライン本体 12 実験装置 19 反射ミラー 20 回折格子 21,22 分光結晶 23,24,25,26 受光面 S 放射光ビーム X1,X2 電磁波 REFERENCE SIGNS LIST 11 synchrotron radiation beam line body 12 experimental apparatus 19 reflecting mirror 20 diffraction grating 21, 22 spectral crystal 23, 24, 25, 26 light receiving surface S synchrotron radiation beam X1, X2 electromagnetic wave

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G21K 5/00 G21K 1/06 H05H 13/04 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G21K 5/00 G21K 1/06 H05H 13/04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基端部が放射光ビーム(S)を発生する
装置に接続され且つ先端部が軟X線領域及び硬X線領域
の電磁波(X1)(X2)を利用する実験装置(12)に
接続された放射光ビームライン本体(11)と、該放射
光ビームライン本体(11)の内部に基端側から先端側
へ向って順に配設した反射ミラー(19)、回折格子
(20)、第1の分光結晶(21)及び第2の分光結晶
(22)とを備え、反射ミラー(19)の受光面(2
3)が放射光ビーム(S)の光軸に対して所定の角度を
なし且つ前記の受光面(23)に放射光ビーム(S)が
入射し得るように反射ミラー(19)を移動可能に支持
し、回折格子(20)の受光面(24)に前記の反射ミ
ラー(19)より射出される放射光ビーム(S)が入射
し得られ且つ前記の受光面(24)より放射光ビームラ
イン本体(11)の先端側へ向って放射光ビーム(S)
の光軸と略平行に軟X線領域の電磁波(X1)が射出さ
れるように回折格子(20)を支持し、第1の分光結晶
(21)の受光面(25)に放射光ビーム(S)が直接
入射し得るように第1の分光結晶(21)を支持し、第
2の分光結晶(22)の受光面(26)に第1の分光結
晶(21)より射出される硬X線領域の電磁波(X2)
が入射し得られ且つ前記の受光面より放射光ビームライ
ン本体(11)の先端側へ向って前記の軟X線領域の電
磁波(X1)の光軸と略同軸に硬X線領域の電磁波(X
2)が射出され得るように第2の分光結晶(22)を移
動可能に支持したことを特徴とする放射光ビームライン
装置。
1. An experimental apparatus (12) in which a base end is connected to a device for generating a radiation light beam (S) and a front end uses electromagnetic waves (X1) and (X2) in a soft X-ray region and a hard X-ray region. ), A reflection mirror (19), a diffraction grating (20) arranged in order from the base end side to the distal end side inside the radiation light beam line main body (11). ), A first dispersive crystal (21) and a second dispersive crystal (22), and a light-receiving surface (2) of a reflection mirror (19).
3) makes the reflection mirror (19) movable at a predetermined angle with respect to the optical axis of the emitted light beam (S) so that the emitted light beam (S) can enter the light receiving surface (23). A radiation light beam (S) emitted from the reflection mirror (19) can be incident on the light receiving surface (24) of the diffraction grating (20), and a radiation light beam line can be transmitted from the light receiving surface (24). Radiation light beam (S) toward the tip of main body (11)
The diffraction grating (20) is supported so that the electromagnetic wave (X1) in the soft X-ray region is emitted substantially in parallel with the optical axis of the first light-splitting crystal (21). S) supports the first dispersive crystal (21) so that S) can be directly incident thereon, and hard X emitted from the first dispersive crystal (21) on the light receiving surface (26) of the second dispersive crystal (22). Electromagnetic wave in the line region (X2)
From the light receiving surface toward the distal end side of the radiation beam main body (11), and the electromagnetic wave (in the hard X-ray region) substantially coaxially with the optical axis of the electromagnetic wave (X1) in the soft X-ray region. X
2. A synchrotron radiation beam line device characterized in that a second dispersive crystal (22) is movably supported so that 2) can be emitted.
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