JP3245901U - 風味注入システム及び関連する真空装置 - Google Patents

Abstract

【課題】風味注入が完了するまでに時間がかかりすぎることを防止可能な、風味注入システム及び関連する真空装置を提供する。【解決手段】風味注入システム１は、容器キットと真空装置１２とを備えている。容器キットは、制御バルブ１１２と、受容空間Ｓと開口Ｏとを有する容器１１１とを含む。真空装置は、開口を通して受容空間から流出するように内部空気を送ることができ、又は開口を通して受容空間に流入するように外部空気を導入することができる。制御バルブが第１位置Ｐ１にある場合に、開口は、内部空気が受容空間から流出し、外部空気が受容空間に流入することを可能にするために、制御バルブによって完全には覆われない。制御バルブが第２位置にある場合に、開口は、内部空気が受容空間から流出することを可能にし、外部空気が受容空間に流入することを防止するために、制御バルブによって完全に覆われる。真空装置は、容器キットに適合する。【選択図】図６

Description

本考案は真空製品に関し、さらに具体的には、風味注入システム及び関連する真空装置に関する。

食品を保存したり、食品に風味を注入したりするには、容器、例えば袋や箱と真空装置、例えば真空ポンプを有する真空システムを使用することが、一般的な方式である。しかしながら、従来の真空システムを用いても、風味注入が完了するまでに時間がかかりすぎる。そのため、改良が求められている。

本考案の目的は、風味注入システム及び関連する真空装置を提供することである。

前述の目的を達成するために、本考案は、風味注入システムを提供する。風味注入システムは、容器キットであり、容器と；容器の内側に形成されている受容空間と；容器に形成されて受容空間と連通する開口と；容器に着脱可能に取り付けられ、第１使用位置と第２使用位置との間で容器に対して移動可能である制御バルブであり、制御バルブが第１使用位置にある場合に、開口は、制御バルブによって完全には覆われず、内部空気が開口を通して受容空間から流出することを可能にし、外部空気が開口を通して受容空間に流入することを可能にする、制御バルブであり、また制御バルブが第２使用位置にある場合に、開口は、制御バルブによって完全に覆われ、内部空気が開口を通して受容空間から流出することを可能にし、外部空気が開口を通して受容空間に流入することを防止する、制御バルブとを含む、容器キットと；開口を通して受容空間から流出するように内部空気を送り、又は開口を通して受容空間に流入するように外部空気を導入する真空装置とを備えている。

本考案の実施形態によれば、容器は、受容部と；受容部に着脱可能に取り付けられている被覆部とを含み；開口は、被覆部に形成され、受容空間は、受容部と被覆部との間に形成されている。

本考案の実施形態によれば、凹状構造が被覆部に形成され、開口は凹状構造の壁に形成されている。

本考案の実施形態によれば、制御バルブが容器に取り付けられた場合に、制御バルブは、開口を通って配置され、部分的に凹状構造の内側に受容される。

本考案の実施形態によれば、突出リングが被覆部に形成され、凹状構造の外周を取り囲み、突出リングは、真空装置のシール構成要素とシール方式で係合するように構成されている。

本考案の実施形態によれば、制御バルブは１ピースの構造であり、弾性材料又は変形可能な材料で形成されている。

本考案の実施形態によれば、制御バルブは、ベース部と、第１蓋部と、第２蓋部とを備え、第１蓋部は、第２蓋部とベース部との間に一体的に接続され；第１蓋部とベース部とは、それぞれ容器の外面側と内面側とに隣接して配置され、制御バルブが第１使用位置にある場合に、開口は、容器の外面側にある第１蓋部によって完全には覆われず、開口を通して受容空間から内部空気が流出することを可能にし、開口を通して受容空間に外部空気が流入することを可能にし；第１蓋部と第２蓋部とは、それぞれ容器の外面側と内面側とに隣接して配置され、制御バルブが第２使用位置にある場合に、開口は、容器の外面側にある第２蓋部によって完全に覆われ、開口を通して受容空間から内部空気が流出することを可能にし、開口を通して受容空間に外部空気が流入することを防止する。

本考案の実施形態によれば、開口の寸法は、第２蓋部の寸法よりも小さく、第１蓋部の寸法よりも大きい。

本考案の実施形態によれば、真空装置は、回路基板と、回路基板に電気的に接続されている真空ポンプとを含み；真空装置が第１動作モードになっている場合に、回路基板は、真空ポンプを制御して、内部空気を受容空間から送り、次いで、内部空気を受容空間から送ることを複数回繰り返して停止させ；真空装置が第２動作モードになっている場合に、回路基板は、真空ポンプを制御して、内部空気を受容空間から送り、次いで、内部空気を受容空間から送ることを１回だけ停止させ；真空装置は、制御バルブが第１使用位置にある場合に、第１動作モードになっていて、真空装置は、制御バルブが第２使用位置にある場合に、第２動作モードになっている。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、回路基板に電気的に接続されている電磁弁を含み；真空装置が第１動作モードになっている場合に、真空ポンプが受容空間から内部空気を送ることを停止する期間中に、回路基板はさらに、受容空間に流入するように外部空気を導入するために電磁弁を開放するように制御する。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、真空ポンプの吸引端に結合されている一方向バルブを含む。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、回路基板に電気的に接続され、回路基板が圧力制御を達成することを可能にする圧力センサを含む。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、回路基板に電気的に接続され、回路基板が時間制御を達成することを可能にするタイマを含む。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、真空ポンプの排出端に結合されているドレインチューブを含む。

本考案の実施形態によれば、風味注入システムはさらに、アイソレータと液面検知機構とを備え、アイソレータは、真空装置と容器との間に結合され、受容空間から流出する液体を収容する隔離空間を設けるように構成され、液面検知機構は、隔離空間の中の液体の液面を検知するように構成されている。

本考案の実施形態によれば、容器は、可撓性のバッグ又は硬質の箱である。

前述の目的を達成するために、本考案はさらに、風味注入のための容器キットに適合された真空装置を提供する。真空装置は、回路基板と；回路基板に電気的に接続されている真空ポンプとを備え；真空装置が第１動作モードになっている場合に、回路基板は、真空ポンプを制御して、内部空気を容器キットの容器の内側に形成された受容空間から送り、次いで、内部空気を容器の内側に形成された受容空間から送ることを複数回繰り返して停止させ；真空装置が第２動作モードになっている場合に、回路基板は、真空ポンプを制御して、内部空気を容器の内側に形成された受容空間から送り、次いで、内部空気を容器の内側に形成された受容空間から送ることを１回だけ停止させる。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、回路基板に電気的に接続されている電磁弁を含み；真空装置が第１動作モードになっている場合に、真空ポンプが受容空間から内部空気を送ることを停止する期間中に、回路基板はさらに、受容空間に流入するように外部空気を導入するために電磁弁を開放するように制御する。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、真空ポンプの吸引端に結合されている一方向バルブを備えている。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、回路基板に電気的に接続され、回路基板が圧力制御を達成することを可能にする圧力センサを備えている。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、回路基板に電気的に接続され、回路基板が時間制御を達成することを可能にするタイマを備えている。

本考案の実施形態によれば、真空装置はさらに、真空ポンプの排出端に結合されているドレインチューブを備えている。

要約すると、本考案で、真空装置は、異なる目的のために異なる動作モードで使用することが可能である。食品に風味を注入することが望まれる場合に、真空装置を第１動作モードに切り替えて、容器の中に形成された受容空間から内部空気を送り、次いで、受容空間から内部空気を送ることを停止するか、又は、受容空間の中に流入するように外部空気を複数回繰り返し導入することが可能である。これにより、受容空間の中に振動する負圧環境を形成し、食品が風味付けされることを促進し、即ち、風味の注入を加速する。さらに、真空装置は、通常の真空使用のために受容空間の中に圧力振動のない安定した負圧環境を形成するために、第２動作モードに切り替えることが可能である。

さまざまな図及び図面に示された好ましい実施形態に関する以下の詳細な説明を読めば、本考案のこれらの目的及び他の目的は、当業者には間違いなく明らかになる。

本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの概略図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの容器キットの図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの容器キットの分解図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの容器キットの制御バルブの図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの容器キットの容器の被覆部分の上面図である。 本考案の第１実施形態に係る制御バルブが第１使用位置にある場合の、風味注入システムの図である。 本考案の第１実施形態に係る制御バルブが第２使用位置にある場合の、風味注入システムの図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの真空装置の断面図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの真空装置の分解図である。 本考案の第１実施形態に係る風味注入システムの真空装置の機能ブロック図である。 本考案の第２実施形態に係る風味注入システムの概略図である。 本考案の第２実施形態に係る風味注入システムの分解図である。 本考案の第２実施形態に係る風味注入システムの部分断面図である。 本考案の第２実施形態に係る風味注入システムの部分機能図である。 本考案の第３実施形態に係る風味注入システムの部分断面図である。 本考案の第３実施形態に係る風味注入システムの部分機能図である。

本明細書の一部を構成し、本考案が実施可能である具体的な実施形態が例示として示される添付図面を、以下の好ましい実施形態の詳細な説明で参照する。これに関して、「上」、「下」、「左」、「右」、「前」、「後」などの方向用語は、説明される図の向きを参照して使用される。本考案の構成要素は、多数の異なる方向に配置されてよい。そのため、方向用語は、例示の目的で使用され、決して限定はしない。従って、図面及び記載は、本質的に例示的なものとみなされ、制限的なものとはみなされない。また、特定されない場合に、「接続する」という用語は、間接的又は直接的な電気・機械的接続のいずれかを意味することが意図される。従って、第１装置が第２装置に接続された場合に、その接続は、直接的な電気・機械的接続、又は、他の装置や接続部を介した間接的な電気・機械的接続によるものであってよい。

図１ないし３を参照すると、図１は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の概略構成図である。図２は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の容器キット１１の図である。図３は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の容器キット１１の分解図である。図１ないし３に示すように、風味注入システム１は、容器キット１１と真空装置１２とを備えている。容器キット１１は、容器１１１と制御バルブ１１２とを含む。受容空間Ｓが、食品及び香味物質を受容するために、容器１１１の内側に形成されている。開口Ｏが容器１１１に形成され、受容空間Ｓと連通する。制御バルブ１１２は、開口Ｏを介して一方向の空気連通又は双方向の空気連通を可能にするために、容器１１１に着脱可能に取り付けられている。真空装置１２は、開口Ｏを介して受容空間Ｓから流出するように内部空気を送る（給気する，ｄｒａｗ）か、又は開口Ｏを介して受容空間Ｓに流入するように外部空気を導入するためのものである。

具体的には、図２及び３に示すように、容器１１１は、受容部１１１１と、受容部１１１１に着脱可能に取り付けられている被覆部（ｃｏｖｅｒｉｎｇ ｐｏｒｔｉｏｎ）１１１２とを含む。さらに具体的には、本実施形態で、容器１１１は、硬質の箱である。しかし、本考案はこれに限定されない。開口Ｏが、被覆部１１１２に形成され、受容空間Ｓが、受容部１１１１と被覆部１１１２との間に形成されている。好ましくは、凹状構造Ｃが、被覆部１１１２に形成され、開口Ｏが、凹状構造Ｃの壁に形成されている。制御バルブ１１２が容器１１１に取り付けられた場合に、制御バルブ１１２は開口Ｏを通って配置され、一部が凹状構造Ｃの内側に受容される。

図４ないし７を参照すると、図４は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の容器キット１１の制御バルブ１１２の図である。図５は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の容器キット１１の容器１１１の被覆部１１１２の上面図である。図６は、本考案の第１実施形態に係る制御バルブ１１２が第１使用位置Ｐ１にある場合の、風味注入システム１の図である。図７は、本考案の第１実施形態に係る制御バルブ１１２が第２使用位置Ｐ２にある場合の、風味注入システム１の図である。制御バルブ１１２は、図６に示す第１使用位置Ｐ１と、図７に示す第２使用位置Ｐ２との間で移動可能である。図６に示すように、制御バルブ１１２が第１使用位置Ｐ１にある場合に、開口Ｏが制御バルブ１１２によって完全には覆われず、内部空気が開口Ｏを通して受容空間Ｓから流出することを可能にし、外部空気が開口Ｏを通して受容空間Ｓに流入することを可能にし、双方向の空気連通を実現する。図７に示すように、制御バルブ１１２が第２使用位置Ｐ２にある場合に、開口Ｏが制御バルブ１１２によって完全に覆われ、開口Ｏを通して受容空間Ｓから内部空気が流出することを可能にし、開口Ｏを通して受容空間Ｓに外部空気が流入することを防止し、一方向の空気連通を実現する。

制御バルブ１１２の前述の機能を実現するために、図４に示すように、制御バルブ１１２は、１ピースの構造であり、弾性材料又は変形可能な材料で形成されている。具体的には、制御バルブ１１２は、第１蓋部１１２１と、第２蓋部１１２２と、ベース部１１２３とを含む。第１蓋部１１２１は、第２蓋部１１２２とベース部１１２３との間に一体的に接続されている。さらに具体的には、図４及び５に示すように、ベース部１１２３の寸法、例えば直径Ｄ３は、第１蓋部１１２１の寸法、例えば直径Ｄ１よりも大きく、第２蓋部１１２２の寸法、例えば直径Ｄ２よりも小さい。その上、開口Ｏの寸法、例えば、その２つの末端の間の距離Ｄ０は、第２蓋部１１２２の寸法、例えば、直径Ｄ２よりも小さく、また、第１蓋部１１２１の寸法、例えば、直径Ｄ１よりも大きく、かつベース部１１２３の寸法、例えば、直径Ｄ３よりも大きい。図６に示すように、制御バルブ１１２が第１使用位置Ｐ１にある場合に、第１蓋部１１２１とベース部１１２３とは、それぞれ、容器１１１の外面側と内面側、例えば凹状構造Ｃの壁の外面側と内面側とにそれぞれ隣接して配置されている。開口Ｏを通して受容空間Ｓから内部空気が流出することを可能にし、開口Ｏを通して受容空間Ｓに外部空気が流入することを可能にするために、容器１１１の外面側にある第１蓋部１１２１によっても、第２蓋部１１２２によっても、開口Ｏは完全には覆われていない。図７に示すように、制御バルブ１１２が第２使用位置Ｐ２にある場合に、第１蓋部１１２１と第２蓋部１１２２とは、それぞれ容器１１１の外面側と内面側とに隣接して位置する。開口Ｏは、容器１１１の外面側にある第２蓋部１１２２によって完全に覆われ、第１蓋部１１２１によって完全には覆われていない。このとき、容器１１１の外面側にある第２蓋部１１２２は、真空装置１２によって送られた内部空気によって弾力的に持ち上げられることができ、内部空気が開口Ｏを通して受容空間Ｓから流出することを可能にする。第２蓋部１１２２は、外部空気によって容器１１１の外面側に弾力的に押し付けられて、外部空気が開口Ｏを通して受容空間Ｓに流入することを防止するために、開口Ｏをシールすることができる。

好ましくは、図２，３，６及び７に示すように、突出リングＲが被覆部１１１２に形成され、凹状構造Ｃの外周を取り囲む。真空装置１２が容器１１１、例えば容器１１１の被覆部１１１２に取り付けられた場合に、真空装置１２と容器１１１との気密係合を達成するために、突出リングＲは、真空装置１２のシール構成要素１２０とシール方式で係合するように構成されている。シール構成要素１２０は弾性材料で形成されてよく、シール構成要素１２０を弾力的に変形させて、空気連通を可能にし、真空装置１２と容器１１１の気密係合を解除して、真空装置１２を容器１１１から容易に取り外せるようにしてよい。

図８ないし１０を参照すると、図８は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の真空装置１２の断面図である。図９は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の真空装置１２の分解図である。図１０は、本考案の第１実施形態に係る風味注入システム１の真空装置１２の機能ブロック図である。図８ないし１０に示すように、真空装置１２は、回路基板１２１と、回路基板１２１に電気的に接続されている真空ポンプ１２２とを備えている。真空装置１２が第１動作モード、例えば、風味注入モードになっている場合に、回路基板１２１は、真空ポンプ１２２を制御して内部空気を受容空間Ｓから送り、次いで、内部空気を受容空間Ｓから送ることを複数回繰り返して停止させる。真空装置１２が第２動作モード、例えば、通常モードになっている場合に、回路基板１２１は、真空ポンプ１２２をさらに制御して内部空気を受容空間Ｓから送り、次いで、内部空気を受容空間Ｓから送ることを１回だけ停止させる。

図８ないし１０に示すように、真空装置１２はさらに、回路基板１２１に電気的に接続された電磁弁（ソレノイドバルブ）１２３を備えている。真空装置１２が第１動作モードになっている場合に、真空ポンプ１２２が受容空間Ｓから内部空気を送ることを停止する期間中に、回路基板１２１はさらに、受容空間Ｓに流入するように外部空気を導入するために電磁弁１２３を開放するように制御する。理解可能なように、電磁弁１２３は、任意の他の圧力調整器と置き換えられてよい。

好ましくは、図９に示すように、空気流量制御を達成するために、真空装置１２はさらに、一方向バルブ１２４を備え、一方向バルブ１２４は、外部空気が真空ポンプ１２２を通して受容空間Ｓに流入することを防止するために、真空ポンプ１２２の吸引端に結合されている。

好ましくは、図９に示すように、真空装置１２の内部部品の損傷を防止するために、真空装置１２はさらに、ドレインチューブ１２５を備え、ドレインチューブ１２５は、粒子及び／又は湿気を含む可能性のある内部空気を、真空装置１２から直接流出するようにガイドするために、真空ポンプ１２２の排出端と真空装置１２の出口ポートＥとに結合され、真空装置１２の内部部品が粒子又は湿気にさらされることを防止するようにする。

その上、回路基板１２１が圧力制御を達成することを可能にするために、図９及び１０に示すように、真空装置１２はさらに、圧力センサ１２６を備え、圧力センサ１２６は、回路基板１２１に電気的に接続され、受容空間Ｓの中の圧力を検出するように構成されている。

さらに、回路基板１２１が時間制御を達成することを可能にするために、図１０に示すように、真空装置１２はさらに、タイマ１２７を備え、タイマ１２７は、回路基板１２１に電気的に接続され、時間、分、又は秒単位でカウントするように構成されている。タイマ１２７は、ユーザ又は製造者によってセットされてよい。

圧力センサ１２６とタイマ１２７とによって、例えば、第１動作モードでの１サイクルの間、回路基板１２１は、真空ポンプ１２２をオンにし、電磁弁１２３を閉鎖して、内部空気を受容空間Ｓから送り、３分の間だけ、受容空間Ｓの中の圧力を第１所定圧力、例えば－８．５ｐｓｉまで減少させることができる。その後、回路基板１２１は、真空ポンプ１２２をオフにし、電磁弁１２３を開放して外部空気を受容空間Ｓに導入し、３０秒の間だけ、受容空間Ｓの中の圧力を第２所定圧力、例えば－６．５ｐｓｉまで上昇させることができる。さらに、第２動作モードでは、回路基板１２１は、真空ポンプ１２２をオンにし、電磁弁１２３を閉鎖して、受容空間Ｓの中の圧力を第３所定圧力、例えば、－６ｐｓｉまで低下させることができ、次いで、真空ポンプ１２２をオフにして、内部空気を送ることを停止することができる。

制御バルブ１１２は、システムが適切に作動することを確実にするために、真空装置１２の作動モードに応じて、適切な位置に調整されなければならないことに留意するものとする。

図６に示すように、第１動作モードで真空装置１２を動作させることが望まれる場合に、第１動作モードでの真空装置１２が、受容空間Ｓから流出するように内部空気を導入し、受容空間Ｓに流入するように外部空気を導入することによって、受容空間Ｓの中に振動する負圧環境を形成することができるように、制御バルブ１１２は第１使用位置Ｐ１に配置される必要がある。振動する負圧環境により、食品が圧力の振動で膨張及び圧縮されることを可能にし、食品が風味付けされることを促進し、即ち、風味の注入を加速する。図７に示すように、真空装置１２を第２動作モードで動作させることが望まれる場合に、第２動作モードでの真空装置１２が、通常の真空使用のために受容空間Ｓの中に圧力振動のない安定した負圧環境を作り出すことができるように、制御バルブ１１２は第２使用位置Ｐ２に配置される必要がある。

図１１ないし１４を参照すると、図１１は、本考案の第２実施形態に係る風味注入システム１’の概略図である。図１２は、本考案の第２実施形態に係る風味注入システム１’の分解図である。図１３は、本考案の第２実施形態に係る風味注入システム１’の部分断面図である。図１４は、本考案の第２実施形態に係る風味注入システム１’の部分機能図である。第２実施形態に係る風味注入システム１’は、第１実施形態に係る風味注入システム１と類似する。図１１ないし１４に示すように、第１実施形態と異なり、第２実施形態で、容器１１１’がシーラーを有する可撓性のバッグであり、風味注入システム１’はさらに、アイソレータ１３’と液面検知機構１４’とを備えている。アイソレータ１３’は、真空装置１２’と容器１１１’との間に結合され、例えば、着脱可能に接続され、容器１１１’の内側に形成された受容空間から流出する液体を収容する隔離空間１３１’を設けるように構成されている。好ましくは、容器１１１’での突出リングＲ１’が、アイソレータ１３’のシール構成要素１３０’とシール方式で係合するように構成されている。アイソレータ１３’での係合構造Ｒ２’が、真空装置１２’のシール構成要素１２０’とシール方式で係合するように構成されている。液面検知機構１４’は、隔離空間１３１’の内側の液体の液面を検知するように構成されている。この実施形態で、液面検知機構１４’は、アイソレータ１３’に配置された導体１４１’と、真空装置１２’の内側に配置され、真空装置１２’の回路基板１２１’に結合された非接触液面センサ１４２’とを含んでよい。液面が導体１４１’の底部に達した場合に、真空装置１２’に液体が進入することを防止するように、回路基板１２１’が液面制御を達成することを可能にするために、非接触式液面センサ１４２’は、導体１４１’と協働して、変化した静電容量信号を感知することができる。例えば、液面が導体１４１’の底部に達した場合に、回路基板１２１’は、実際上の要求に従って、真空ポンプ１２２’が作動を停止するように制御し、及び／又は、電磁弁１２３’が開放されるように制御してよい。第２実施形態の他の詳細は、第１実施形態のものと同じである。本明細書では簡素化のため詳細な説明は省略する。

図１５及び１６を参照すると、図１５は、本考案の第３実施形態に係る風味注入システム１’’の部分断面図である。図１６は、本考案の第３実施形態に係る風味注入システム１’’の部分機能図である。第３実施形態に係る風味注入システム１’’は、第２実施形態に係る風味注入システム１’と類似する。図１５及び１６に示すように、第２実施形態とは異なり、第３実施形態で、液面検知機構１４’’は、アイソレータ１３’’の隔離空間１３１’’の内側に配置された浮遊構成要素１４１’’を含んでよい。隔離空間１３１’’の内側の液体が増加すると、浮遊構成要素１４１’’は、アイソレータ１３’’の空気出口１３３’’を塞ぐために、アイソレータ１３’’の出口シール構成要素１３２’’に突き当たるように、液体によって徐々に上昇することができる。浮遊構成要素１４１’’がアイソレータ１３’’の空気出口１３３’’を塞いだ場合に、圧力センサ１２６’’は異常な高圧を感知することができ、回路基板１２１’’はそれに応じて液面制御を達成することができ、例えば、実際上の要求に従って、回路基板１２１’’は、真空ポンプ１２２’’を制御して作動を停止させ、及び／又は電磁弁１２３’’を制御して開放させることができる。第２（第３）実施形態の他の詳細は、第１（第２）実施形態のものと同じである。本明細書では簡素化のため詳細な説明は省略する。

背景技術とは対照的に、本考案で、真空装置は、異なる目的のために異なる動作モードで使用することが可能である。食品に風味を注入することが望まれる場合に、真空装置を第１動作モードに切り替えて、容器の内側に形成された受容空間から内部空気を送り、次いで、受容空間から内部空気を送ることを停止するか、又は、受容空間の中に流入するように外部空気を複数回繰り返し導入することが可能である。これにより、受容空間の中に振動する負圧環境を形成し、食品が風味付けされることを促進し、即ち、風味の注入を加速する。さらに、真空装置は、通常の真空使用のために受容空間の中に圧力振動のない安定した負圧環境を形成するために、第２動作モードに切り替えることが可能である。

本考案の教示を保持しつつ、装置及び方法の多数の修正及び変更が可能であることを、当業者であれば容易に理解することである。従って、上記の開示は、添付の請求項の範囲によってのみ限定されると解釈されるものとする。

Claims (22)

1. 風味注入システムであって、
   容器キットであり、
   容器と、
   前記容器の内側に形成されている受容空間と、
   前記容器に形成されて前記受容空間と連通する開口と、
   前記容器に着脱可能に取り付けられ、第１使用位置と第２使用位置との間で前記容器に対して移動可能である制御バルブであり、制御バルブが前記第１使用位置にある場合に、前記開口は、制御バルブによって完全には覆われず、内部空気が前記開口を通して前記受容空間から流出することを可能にし、外部空気が前記開口を通して前記受容空間に流入することを可能にする、制御バルブであり、また制御バルブが前記第２使用位置にある場合に、前記開口は、制御バルブによって完全に覆われ、内部空気が前記開口を通して前記受容空間から流出することを可能にし、外部空気が前記開口を通して前記受容空間に流入することを防止する、制御バルブとを含む、
   容器キットと、
   前記開口を通して前記受容空間から流出するように内部空気を送り、又は前記開口を通して前記受容空間に流入するように外部空気を導入する真空装置とを備えている、
   風味注入システム。
2. 前記容器は、
   受容部と、
   前記受容部に着脱可能に取り付けられている被覆部とを含み、
   前記開口は、前記被覆部に形成され、前記受容空間は、前記受容部と前記被覆部との間に形成されている、請求項１記載の風味注入システム。
3. 凹状構造が前記被覆部に形成され、前記開口は前記凹状構造の壁に形成されている、請求項２記載の風味注入システム。
4. 前記制御バルブが前記容器に取り付けられた場合に、前記制御バルブは、前記開口を通って配置され、部分的に前記凹状構造の内側に受容される、請求項３記載の風味注入システム。
5. 突出リングが前記被覆部に形成され、前記凹状構造の外周を取り囲み、前記突出リングは、前記真空装置のシール構成要素とシール方式で係合するように構成されている、請求項３記載の風味注入システム。
6. 前記制御バルブは１ピースの構造であり、弾性材料又は変形可能な材料で形成されている、請求項１記載の風味注入システム。
7. 前記制御バルブは、ベース部と、第１蓋部と、第２蓋部とを備え、前記第１蓋部は、前記第２蓋部と前記ベース部との間に一体的に接続され、
   前記第１蓋部と前記ベース部とは、それぞれ前記容器の外面側と内面側とに隣接して配置され、前記制御バルブが前記第１使用位置にある場合に、前記開口は、前記容器の前記外面側にある前記第１蓋部によって完全には覆われず、前記開口を通して前記受容空間から内部空気が流出することを可能にし、前記開口を通して前記受容空間に外部空気が流入することを可能にし、
   前記第１蓋部と前記第２蓋部とは、それぞれ前記容器の前記外面側と前記内面側とに隣接して配置され、前記制御バルブが前記第２使用位置にある場合に、前記開口は、前記容器の前記外面側にある前記第２蓋部によって完全に覆われ、前記開口を通して前記受容空間から内部空気が流出することを可能にし、前記開口を通して前記受容空間に外部空気が流入することを防止する、請求項１記載の風味注入システム。
8. 前記開口の寸法は、前記第２蓋部の寸法よりも小さく、前記第１蓋部の寸法よりも大きい、請求項７記載の風味注入システム。
9. 前記真空装置は、回路基板と、前記回路基板に電気的に接続されている真空ポンプとを含み、
   前記真空装置が第１動作モードになっている場合に、前記回路基板は、前記真空ポンプを制御して、内部空気を前記受容空間から送り、次いで、内部空気を前記受容空間から送ることを複数回繰り返して停止させ、
   前記真空装置が第２動作モードになっている場合に、前記回路基板は、前記真空ポンプを制御して、内部空気を前記受容空間から送り、次いで、内部空気を前記受容空間から送ることを１回だけ停止させ、
   前記真空装置は、前記制御バルブが前記第１使用位置にある場合に、前記第１動作モードになっていて、前記真空装置は、前記制御バルブが前記第２使用位置にある場合に、前記第２動作モードになっている、請求項１記載の風味注入システム。
10. 前記真空装置はさらに、前記回路基板に電気的に接続されている電磁弁を含み、
    前記真空装置が前記第１動作モードになっている場合に、前記真空ポンプが前記受容空間から内部空気を送ることを停止する期間中に、前記回路基板はさらに、前記受容空間に流入するように外部空気を導入するために前記電磁弁を開放するように制御する、請求項９記載の風味注入システム。
11. 前記真空装置はさらに、前記真空ポンプの吸引端に結合されている一方向バルブを含む、請求項９記載の風味注入システム。
12. 前記真空装置はさらに、前記回路基板に電気的に接続され、前記回路基板が圧力制御を達成することを可能にする圧力センサを含む、請求項９記載の風味注入システム。
13. 前記真空装置はさらに、前記回路基板に電気的に接続され、前記回路基板が時間制御を達成することを可能にするタイマを含む、請求項９記載の風味注入システム。
14. 前記真空装置はさらに、前記真空ポンプの排出端に結合されているドレインチューブを含む、請求項９記載の風味注入システム。
15. さらに、アイソレータと液面検知機構とを備え、前記アイソレータは、前記真空装置と前記容器との間に結合され、前記受容空間から流出する液体を収容する隔離空間を設けるように構成され、前記液面検知機構は、前記隔離空間の内側の前記液体の液面を検知するように構成されている、請求項９記載の風味注入システム。
16. 前記容器は、可撓性のバッグ又は硬質の箱である、請求項１記載の風味注入システム。
17. 風味注入のための容器キットに適合された真空装置であって、
    回路基板と、
    前記回路基板に電気的に接続されている真空ポンプとを備え、
    真空装置が第１動作モードになっている場合に、前記回路基板は、前記真空ポンプを制御して、内部空気を前記容器キットの容器の内側に形成された受容空間から送り、次いで、内部空気を前記容器の内側に形成された前記受容空間から送ることを複数回繰り返して停止させ、
    真空装置が第２動作モードになっている場合に、前記回路基板は、前記真空ポンプを制御して、内部空気を前記容器の内側に形成された前記受容空間から送り、次いで、内部空気を前記容器の内側に形成された前記受容空間から送ることを１回だけ停止させる、
    真空装置。
18. さらに、前記回路基板に電気的に接続されている電磁弁を含み、
    真空装置が前記第１動作モードになっている場合に、前記真空ポンプが前記受容空間から内部空気を送ることを停止する期間中に、前記回路基板はさらに、前記受容空間に流入するように外部空気を導入するために前記電磁弁を開放するように制御する、請求項１７記載の真空装置。
19. さらに、前記真空ポンプの吸引端に結合されている一方向バルブを備えている、請求項１７記載の真空装置。
20. さらに、前記回路基板に電気的に接続され、前記回路基板が圧力制御を達成することを可能にする圧力センサを備えている、請求項１７記載の真空装置。
21. さらに、前記回路基板に電気的に接続され、前記回路基板が時間制御を達成することを可能にするタイマを備えている、請求項１７記載の真空装置。
22. さらに、前記真空ポンプの排出端に結合されているドレインチューブを備えている、請求項１７記載の真空装置。