JP3241707B2 - Laser processing equipment - Google Patents

Laser processing equipment

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JP3241707B2 JP2000121481A JP2000121481A JP3241707B2 JP 3241707 B2 JP3241707 B2 JP 3241707B2 JP 2000121481 A JP2000121481 A JP 2000121481A JP 2000121481 A JP2000121481 A JP 2000121481A JP 3241707 B2 JP3241707 B2 JP 3241707B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は効率良く、品質の
良いレーザ加工を行うことができるレーザ加工装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus capable of performing efficient and high-quality laser processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は、例えばレーザ学会編,「レーザ
ハンドブック」,第222頁,オーム社,(1982年)に
示された、従来のレーザ加工装置に使用される固体レー
ザ装置を示す断面図である。図において、1は全反射ミ
ラー、2は部分反射ミラーで、これら両者によりレーザ
共振器が構成されている。また、3は固体レーザのレー
ザ媒質となる固体素子、4は固体素子3を励起するアー
クランプ等の励起光源、5は励起光源4を点灯する電
源、6は励起光源4の集光器、7は固体素子3の周面と
集光器6の接触部を封止するOリングなどのシール材、
8は基台、14はこのレーザ共振器内で発生するレーザ
光、15はこのレーザ装置から射出されるレーザビーム
である。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is a sectional view showing a solid-state laser device used in a conventional laser processing device, for example, shown in "Laser Handbook", pp. 222, Ohmsha (1982), edited by The Laser Society of Japan. FIG. In the figure, 1 is a total reflection mirror, 2 is a partial reflection mirror, and these both constitute a laser resonator. Reference numeral 3 denotes a solid-state device serving as a laser medium of a solid-state laser, 4 denotes an excitation light source such as an arc lamp for exciting the solid-state device 3, 5 denotes a power supply for turning on the excitation light source 4, 6 denotes a condenser of the excitation light source 4, 7 Is a sealing material such as an O-ring that seals a contact portion between the peripheral surface of the solid-state element 3 and the condenser 6;
Reference numeral 8 denotes a base, 14 denotes a laser beam generated in the laser resonator, and 15 denotes a laser beam emitted from the laser device.

【0003】固体素子3はレーザ活性物質を含み、YA
G(Yttrium Aluminum Garnet)固体レーザの場合は、レ
ーザ活性物質としてNd3+をドーピングしたNd:YA
G結晶を用いる。集光器6は、例えば断面形状が楕円
で、その2つの焦点にそれぞれ固体素子3と励起光源4
を配置し、内面を光反射面とすることにより励起光源4
からの光を固体素子3に集光する。
The solid-state device 3 contains a laser active material,
In the case of G (Yttrium Aluminum Garnet) solid-state laser, Nd: YA doped with Nd 3+ as a laser active material
A G crystal is used. The light collector 6 has, for example, an elliptical cross-sectional shape, and the solid-state element 3 and the excitation light source 4
And the inner surface is made to be a light reflecting surface, so that the excitation light source 4
Is collected on the solid-state device 3.

【0004】次に動作について説明する。固体素子3
は、励起光源4から所定波長の光を吸収すると、レーザ
遷移によりレーザ光14を発生するが、このレーザ光1
4は、レーザ共振器内で2つのミラー1,2間を往復す
る間に増幅され、一定の強度に達すると、指向性のよい
レーザビーム15として、部分反射ミラー2を通して外
部に放出される。
Next, the operation will be described. Solid element 3
When absorbing light of a predetermined wavelength from the excitation light source 4, a laser beam 14 is generated by laser transition.
The laser beam 4 is amplified while reciprocating between the two mirrors 1 and 2 in the laser resonator, and is emitted to the outside through the partially reflecting mirror 2 as a laser beam 15 having good directivity when reaching a certain intensity.

【0005】また、図3は、例えば米国特許第3,80
3,509号に示された従来のレーザ加工装置に使用さ
れる固体レーザ装置を示す断面図である。図3におい
て、1,2,4,5,6,7,8,14,15は、図2
のレーザ装置と同一のものである。3は活性固体媒質を
含む固体素子で、寄生発振を防ぐために、その表面は5
0μインチRMS程度にあらされている。ここで、RM
S(Root Mean Square)はあらさの単位で、2乗平均値
を表す。例えば、「50μインチRMS」とは、「1イ
ンチの間のあらさの2乗平均値が50ミクロン」という
ことである。また、9、900は光源4、活性媒質を含
む固体素子3の周囲を冷却する媒体70の流れを整える
筒管で、900については、その表面があらされてい
る。81、82は冷却媒体70の流入口、流出口であ
る。
FIG. 3 shows, for example, US Pat.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a solid-state laser device used in the conventional laser processing device shown in No. 3,509. 3, 1, 2, 4, 5, 6, 7, 8, 14, and 15 correspond to FIG.
It is the same as the laser device of the above. Reference numeral 3 denotes a solid-state element including an active solid medium, the surface of which is 5 to prevent parasitic oscillation.
The size is about 0 μm RMS. Where RM
S (Root Mean Square) is a unit of roughness and represents a root mean square value. For example, “50 μ inch RMS” means that the mean square value of roughness during one inch is 50 microns. Reference numerals 9 and 900 denote cylindrical tubes for adjusting the flow of the medium 70 that cools the periphery of the solid-state element 3 including the light source 4 and the active medium. 81 and 82 are an inlet and an outlet of the cooling medium 70.

【0006】次に動作について説明する。上記構成の固
体レーザ装置では、励起光源4と固体素子3は、断面形
状が楕円状の集光器6の焦点に配置され、電源5により
点灯された光源4から発せられた光は、その表面があら
された筒管900を通過する段階で拡散され、固体媒質
中に周囲から均一に入射する。固体素子3は、この光に
より励起されレーザ媒質となる。レーザ媒質より発生さ
れた自然放出光は、ミラー1と2により構成される共振
器間を往復する間に増幅され、一定以上の大きさに達す
ると指向性の良いレーザビーム15として外部に放出さ
れる。また光源4と固体素子3は、周囲から筒管900
のなかを循環する冷却媒体70により周囲より冷却され
ている。
Next, the operation will be described. In the solid-state laser device having the above-described configuration, the excitation light source 4 and the solid-state element 3 are arranged at the focal point of the concentrator 6 having an elliptical cross section, and the light emitted from the light source 4 turned on by the power supply 5 has the surface thereof. Are diffused at the stage of passing through the exposed cylindrical tube 900 and uniformly enter the solid medium from the surroundings. The solid state element 3 is excited by this light and becomes a laser medium. Spontaneous emission light generated from the laser medium is amplified while reciprocating between the resonators constituted by the mirrors 1 and 2, and when it reaches a certain size or more, is emitted to the outside as a laser beam 15 having good directivity. You. The light source 4 and the solid-state element 3 are separated from the tube
It is cooled from the surroundings by a cooling medium 70 circulating inside.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来のレーザ加工装置
は以上のように構成されているので、使用する固体レー
ザ装置の固体素子3に吸収される励起光源4の光(エネ
ルギー)は、特定の波長のもののみがレーザ出力に利用
されるのであり、他の波長のものは固体素子3に吸収さ
れて固体素子3を加熱する。このため、固体素子3は冷
却の必要があるが、固体レーザ装置の構造上、固体素子
3はその周囲から冷却せざるを得ない。その結果、固体
素子3の断面には、中央部が高温で、周辺部はそれより
低温という温度分布が生ずる。すると、固体素子3の屈
折率は、断面内でこの温度分布に対応した分布を有する
ようになり、固体素子3を通過するレーザ光14の波面
には歪みが生ずる。このため、共振器内のレーザ光14
は一般には集光されるようになる。このような固体素子
3によるレーザビーム集光作用は、「固体素子の熱レン
ズ作用」と呼ぶが、この固体素子3の熱レンズ作用は、
レーザ共振器の動作を不安定にする。その結果、レーザ
共振器内のレーザ光14の断面積は小さくなり、さらに
射出レーザビーム15は、電源5における投入電力の変
化に伴うこの熱レンズ差容量の変化により、不規則に発
散することになる。このため、伝送ミラーを使ってレー
ザビームをこれを利用する加工ステージ等へ導く際、レ
ーザビーム15が伝送ミラーからはみ出したり、レーザ
ビーム15をレンズで集光して加工に用いる際、熱レン
ズ作用が安定するまでは、レーザビーム15の焦点の位
置を正確に定められず安定な加工ができない等の問題点
があった。
Since the conventional laser processing apparatus is configured as described above, the light (energy) of the excitation light source 4 absorbed by the solid-state element 3 of the solid-state laser device to be used is a specific light. Only the wavelengths are used for the laser output, and the other wavelengths are absorbed by the solid state element 3 and heat the solid state element 3. For this reason, the solid state element 3 needs to be cooled. However, due to the structure of the solid state laser device, the solid state element 3 must be cooled from the periphery. As a result, in the cross section of the solid-state element 3, a temperature distribution is generated in which the temperature is high at the center and lower at the periphery. Then, the refractive index of the solid state element 3 has a distribution corresponding to this temperature distribution in the cross section, and the wavefront of the laser light 14 passing through the solid state element 3 is distorted. Therefore, the laser light 14 in the resonator
Will generally be focused. Such a laser beam focusing action by the solid state element 3 is referred to as “thermal lens action of the solid state element”.
Destabilizes the operation of the laser cavity. As a result, the cross-sectional area of the laser beam 14 in the laser resonator becomes small, and the emitted laser beam 15 diverges irregularly due to the change in the thermal lens difference capacity accompanying the change in the input power in the power supply 5. Become. Therefore, when the laser beam is projected to a processing stage or the like using the transmission mirror using the transmission mirror, the laser beam 15 protrudes from the transmission mirror. Until is stabilized, there has been a problem that the position of the focal point of the laser beam 15 cannot be accurately determined and stable processing cannot be performed.

【0008】この発明は固体レーザ装置から発生するレ
ーザビームを用いて、効率良く、品質の良いレーザ加工
を行うことができるレーザ加工装置を提供することを目
的とする。
An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of performing efficient and high-quality laser processing using a laser beam generated from a solid-state laser apparatus.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明に係るレーザ加
工装置は、レーザ装置から発生されたレーザビームを、
加工物近傍まで伝送する光学系と、この光学系から出射
されたレーザビームを集光する第1集光光学系と、この
第1集光光学系の焦点近傍に配置された開口と、この開
口の後に広がったレーザビームを加工物上に集光する第
2集光光学系とを備えるものである。
A laser processing apparatus according to the present invention provides a laser beam generated by a laser apparatus.
An optical system for transmitting to the workpiece near a first condensing optical system for condensing the laser beam emitted from the optical system, an opening disposed in the vicinity of the focal point of the first condensing optical system, the opening
Focus the laser beam spread after the mouth on the workpiece
And two condensing optical systems .

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1(a)はこの発明の実施の形態1に
よるレーザ加工装置を示す構成図、(b)は固体レーザ
装置部分の横断面図である。図において、2、4、5、
6、7、8、14、15、70、81、82は、前述し
た図3に示した従来装置と同一のものである。また、9
は活性媒質を含む固体素子300の周囲を冷却する媒体
70の流れを整える筒管で、透明ガラスからなる。11
は曲率半径Rの全反射ミラー、11aは部分反射ミラー
2を通過したレーザビーム15を集光レンズ12a2に
導く全反射ミラー、12は固体レーザ装置のレーザ共振
器を構成する集光レンズ、12a1は固体レーザ装置か
ら出射されたレーザビームを集光する集光レンズ(第1
集光光学系)、12a2は開口500を通過した後に再
び広がったレーザビームを集光して加工物に導く集光レ
ンズ(第2集光光学系)、13a,13bはそれぞれ全
反射ミラー11と集光レンズ12a1を部分反射ミラー
2に対して前後に移動させるための移動ステージであ
る。300は表面があらされた固体素子、500は金
属、セラミック、ガラスの筒、光ファイバーなどからな
り、レーザビーム15の光路上に配置してこれを端切り
する開口、800は加工物、810は加工ノズル、82
0は加工ガスの導入口である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below. Embodiment 1 FIG. FIG. 1A is a configuration diagram showing a laser processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view of a solid-state laser device. In the figure, 2, 4, 5,
Reference numerals 6, 7, 8, 14, 15, 70, 81, and 82 are the same as those of the conventional apparatus shown in FIG. Also, 9
Is a cylindrical tube for regulating the flow of the medium 70 for cooling the periphery of the solid state element 300 containing the active medium, and is made of transparent glass. 11
Is a total reflection mirror having a radius of curvature R, 11a is a total reflection mirror that guides the laser beam 15 passing through the partial reflection mirror 2 to a condenser lens 12a2, 12 is a condenser lens forming a laser resonator of a solid-state laser device, and 12a1 is A condensing lens (first) for condensing a laser beam emitted from a solid-state laser device.
A condensing lens (second condensing optical system) 12a2 condenses the laser beam that has spread again after passing through the opening 500 and guides the laser beam to a workpiece, and 13a and 13b are total reflection mirrors 11 and 12, respectively. This is a moving stage for moving the condenser lens 12a1 back and forth with respect to the partial reflection mirror 2. Reference numeral 300 denotes a solid-state element having a roughened surface, 500 denotes a metal, ceramic, glass tube, optical fiber, or the like, is disposed on the optical path of the laser beam 15 and cuts off the opening, 800 denotes a workpiece, and 810 denotes a processing object. Nozzle, 82
0 is a processing gas inlet.

【0011】次に動作について説明する。固体レーザ装
置から発生されたレーザビーム15を、大気中を離れた
場所まで伝送し、全反射ミラー11aにより方向を変え
た後、集光レンズ12a1により集光し、この集光され
たレーザビーム15を、金属、セラミック、ガラスの
筒、光ファイバーなどからなる開口500を通過させて
端切りした後、さらに集光レンズ12a2により集光
し、この集光されたレーザビームを用いて加工物800
のレーザ加工を行うものである。
Next, the operation will be described. The laser beam 15 generated from the solid-state laser device is transmitted to a place distant from the atmosphere, the direction is changed by the total reflection mirror 11a, and then the light is collected by the condenser lens 12a1. Is passed through an opening 500 made of a metal, ceramic, glass tube, optical fiber, or the like, and cut off, and further condensed by a condensing lens 12a2.
Laser processing.

【0012】また、固体素子300表面をあらすことに
より、固体素子300の断面内の収差が小さいために、
本実施例の固体レーザ装置から発生されたレーザビーム
15は、小さいスポットに集光される。したがって、こ
の小さく集光されたレーザビーム15により、加工物8
00のレーザ加工を行うことができる。
Further, since the surface of the solid state element 300 is roughened, the aberration in the cross section of the solid state element 300 is small.
The laser beam 15 generated from the solid-state laser device of this embodiment is focused on a small spot. Therefore, the work piece 8 is formed by the small focused laser beam 15.
00 laser processing can be performed.

【0013】以上のように、この実施の形態1によれ
ば、レーザ装置から発生されたレーザビーム15を、加
工物800近傍まで伝送する部分反射ミラー2や全反射
ミラー11aなどからなる光学系と、この光学系から出
射されたレーザビーム15を集光する集光レンズ12a
1と、この集光レンズ12a1の焦点近傍に配置された
開口500と、この開口500の後の再び広がったレー
ザビーム15を再度集光して加工物800に導く集光レ
ンズ12a2とを備えるので、レーザビーム15を光路
上で集光すると同時に開口500に通過させ、この開口
500により回折波を切り去るようにしているので、回
折波のないレーザビーム15によりレーザ加工を行うこ
とができる。
As described above, according to the first embodiment, the optical system including the partial reflection mirror 2 and the total reflection mirror 11a for transmitting the laser beam 15 generated from the laser device to the vicinity of the workpiece 800 is used. A condenser lens 12a for condensing the laser beam 15 emitted from the optical system.
1, an aperture 500 arranged near the focal point of the condenser lens 12a1, and a condenser lens 12a2 for condensing the laser beam 15 spread again after the aperture 500 and guiding the laser beam 15 to the workpiece 800. The laser beam 15 is condensed on the optical path and passed through the opening 500 at the same time, and the diffraction wave is cut off by the opening 500. Therefore, laser processing can be performed with the laser beam 15 without the diffraction wave.

【0014】なお、この実施の形態1は、レーザ共振器
内にミラーの端部が存在する固体レーザ装置を用いた場
合に、特に有効に作用する。
The first embodiment works particularly effectively when a solid-state laser device having a mirror end in a laser resonator is used.

【0015】また、上記実施の形態において、特に説明
しなかったが、光学素子のうち特に指示のない部分に
も、レーザビームが通過する部分には通常の光学素子の
ように無反射薄膜を施せば、共振器内のロスが減少し、
効率の良いレーザ発振を実現することができる。
Although not specifically described in the above embodiment, a non-reflective thin film is applied to a part of the optical element, which is not particularly indicated, and to a part through which the laser beam passes as in a normal optical element. If the loss in the resonator is reduced,
Efficient laser oscillation can be realized.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、レー
ザ装置から発生されたレーザビームを、加工物近傍まで
伝送する光学系と、この光学系から出射されたレーザビ
ームを集光する第1集光光学系と、この第1集光光学系
の焦点近傍に配置された開口と、この開口の後に広がっ
たレーザビームを加工物上に集光する第2集光光学系と
を備えるので、レーザビームの集光点での回折波の影響
である周辺ビームを除去して、効率良く、品質の高いレ
ーザ加工を実現することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, an optical system for transmitting a laser beam generated from a laser device to the vicinity of a workpiece and a laser beam for condensing the laser beam emitted from the optical system are provided. (1) a condensing optical system, an opening disposed near the focal point of the first condensing optical system, and an opening extending after the opening.
And a second focusing optical system for focusing the laser beam on the workpiece, so that the peripheral beam, which is the effect of the diffracted wave at the focusing point of the laser beam, is removed, and There is an effect that high-quality laser processing can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1によるレーザ加工装
置の構成図であり、(a)は側断面図、(b)は固体レ
ーザ装置部分の横断面図である。
FIGS. 1A and 1B are configuration diagrams of a laser processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, in which FIG. 1A is a side sectional view, and FIG.

【図2】 従来のレーザ加工装置に使用される固体レー
ザ装置を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a solid-state laser device used in a conventional laser processing device.

【図3】 従来のレーザ加工装置に使用される固体レー
ザ装置の他の例を示す構成図であり、(a)は側断面
図、(b)は横断面図である。
3A and 3B are configuration diagrams illustrating another example of a solid-state laser device used in a conventional laser processing apparatus, where FIG. 3A is a side sectional view, and FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 部分反射ミラー、3,300 固体素子、4 励起
光源、5 電源、6集光器、7 シール材、8 基台、
9 筒管、11 全反射ミラー、12,12a1,12
a2 集光レンズ(熱レンズ修正光学系、像転写光学
系、第1集光光学系、第2集光光学系)、13a,13
b 移動ステージ、14 レーザ光、15,36 レー
ザビーム、70 冷却媒体、81 流入口、82 流出
口、500 開口、800 加工物、810 加工ノズ
ル、820 導入口。
2 Partially reflecting mirror, 3,300 solid state device, 4 excitation light source, 5 power supply, 6 condenser, 7 sealing material, 8 bases,
9 tube, 11 total reflection mirror, 12, 12a1, 12
a2 condenser lenses (thermal lens correction optical system, image transfer optical system, first condenser optical system, second condenser optical system), 13a, 13
b Moving stage, 14 laser light, 15, 36 laser beam, 70 cooling medium, 81 inlet, 82 outlet, 500 opening, 800 workpiece, 810 processing nozzle, 820 inlet.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石森 彰 尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三菱電 機株式会社 中央研究所内 (72)発明者 小島 哲夫 尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三菱電 機株式会社 中央研究所内 (56)参考文献 特開 平1−313195(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23K 26/00 - 26/073 H01S 3/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Akira Ishimori 8-1-1 Tsukaguchi Honcho, Amagasaki City Mitsubishi Electric Corporation Central Research Laboratory (72) Inventor Tetsuo Kojima 8-1-1 Honcho Tsukaguchi Amagasaki City Mitsubishi (56) References JP-A-1-313195 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B23K 26/00-26/073 H01S 3 / 00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 レーザ装置から発生されたレーザビーム
を、加工物近傍まで伝送する光学系と、 この光学系から出射されたレーザビームを集光する第1
集光光学系と、 この第1集光光学系の焦点近傍に配置された開口と、この開口の後に広がったレーザビームを加工物上に集光
する第2集光光学系と を備えたレーザ加工装置。
1. An optical system for transmitting a laser beam generated from a laser device to a position near a workpiece, and a first system for condensing the laser beam emitted from the optical system.
A condensing optical system, an opening arranged near the focal point of the first condensing optical system, and a laser beam spread after the opening is condensed on a workpiece.
A laser processing apparatus provided with a second focusing optical system .
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