JP3237601B2 - Memory LSI inspection apparatus and memory LSI inspection method - Google Patents

Memory LSI inspection apparatus and memory LSI inspection method

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JP3237601B2
JP3237601B2 JP05113498A JP5113498A JP3237601B2 JP 3237601 B2 JP3237601 B2 JP 3237601B2 JP 05113498 A JP05113498 A JP 05113498A JP 5113498 A JP5113498 A JP 5113498A JP 3237601 B2 JP3237601 B2 JP 3237601B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気的なアドレス
と実物観測を一体化したメモリLSI検査装置に関す
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a memory LSI inspection apparatus which integrates an electric address and a real object observation.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、メモリLSIを検査する装置とし
て、電気的なアドレスを検査する場合にはメモリテスタ
が使用されていた。この装置では、メモリLSIに電気
信号を入力して電気的に不良のアドレスを検査すること
ができる。また、メモリテスタ上で物理アドレスによる
電気的検査を行う機能として、アドレススクランブルが
あった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an apparatus for inspecting a memory LSI, a memory tester has been used to inspect an electric address. In this device, it is possible to input an electric signal to the memory LSI and inspect an electrically defective address. In addition, there is an address scramble as a function of performing an electrical test using a physical address on a memory tester.

【0003】また、外観を観測する装置としては、光学
顕微鏡、SEM又はFIB等があり、パターン欠陥又は
パーティクルの観測を行うことができる。
There are optical microscopes, SEMs, FIBs, and the like as devices for observing the appearance, and can observe pattern defects or particles.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来技術には、以下に示す問題点がある。先ず、電気的
に不良のアドレスに対してその外観を観測することが困
難である。つまり、電気的に不良の物理アドレスがわか
っても、それが実際のチップ上のどの場所にあるかは設
計に依存しているので設計のマスク図面等を詳細に調べ
なくてはならない。また、人間の手によって実際に観測
する場合でも、顕微鏡などでメモリセルの個数をアドレ
スの個数分だけ数えながら外観を検査する箇所を探す必
要があった。同様に、外観が異常である箇所に対応する
電気的なアドレスを特定することが困難であった。
However, the above-mentioned prior art has the following problems. First, it is difficult to observe the appearance of an electrically defective address. In other words, even if an electrically defective physical address is known, the actual location on the chip depends on the design, so that the design mask drawing or the like must be examined in detail. In addition, even when actually observing with a human hand, it is necessary to search for a location to inspect the appearance while counting the number of memory cells by the number of addresses using a microscope or the like. Similarly, it has been difficult to specify an electrical address corresponding to a portion having an abnormal appearance.

【0005】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、電気的な不良アドレスと外観の欠陥箇所を
対応させて一括して検査することができるLSI検査装
置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an LSI inspection apparatus capable of inspecting all at once by associating an electrically defective address with a defective portion in appearance. And

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明に係るメモリLS
I検査装置は、メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査装置において、セル論理アドレス記
憶部と、セル物理アドレス記憶部と、前記セル論理アド
レスから前記セル物理アドレスへの変換又は前記セル物
理アドレスから前記セル論理アドレスへの変換を行うア
ドレス変換部と、セルブロックエッジ座標入力部と、セ
ルブロックエッジ座標記憶部と、観測箇所を座標として
記憶する観測座標記憶部と、前記観測座標記憶部におけ
る座標の箇所を観測する観測部と、物理アドレスサイズ
記憶部と、前記セルブロックエッジ座標とセルブロック
の物理アドレスサイズから、セルブロック中を物理アド
レスサイズで等分した大きさのセルユニットを物理アド
レス個数分カウントした箇所の座標を演算し、これを前
記観測座標記憶部に記憶させると共に、前記観測座標記
憶部の観測座標から対応するセル物理アドレスを算出し
て前記セル物理アドレス記憶部に記憶させる演算部と、
チップ中のコントラストをスキャンして、コントラスト
の急激な変化点の座標を複数抽出し、前記座標の間隔の
周期性の破れを検出してセルブロックエッジ座標を自動
的に求める手段と、を有することを特徴とする。また、
本発明に係る他のメモリLSI検査装置は、メモリLS
I上の選択するメモリセルを、アドレスピンによって決
定されるセル論理アドレスと、メモリセルの実際のチッ
プ上の配列順で表されるセル物理アドレスと、場所を示
す寸法の座標と、により表現し、電気的なアドレスと実
物観測を一体化して検査するメモリLSI検査装置にお
いて、セル論理アドレス記憶部と、セル物理アドレス記
憶部と、前記セル論理アドレスから前記セル物理アドレ
スへの変換又は前記セル物理アドレスから前記セル論理
アドレスへの変換を行うアドレス変換部と、セルブロッ
クエッジ座標入力部と、セルブロックエッジ座標記憶部
と、観測箇所を座標として記憶する観測座標記憶部と、
前記観測座標記憶部における座標の箇所を観測する観測
部と、物理アドレスサイズ記憶部と、前記セルブロック
エッジ座標とセルブロックの物理アドレスサイズから、
セルブロック中を物理アドレスサイズで等分した大きさ
のセルユニットを物理アドレス個数分カウントした箇所
の座標を演算し、これを前記観測座標記憶部に記憶させ
ると共に、前記観測座標記憶部の観測座標から対応する
セル物理アドレスを算出して前記セル物理アドレス記憶
部に記憶させる演算部と、電気的不良アドレスの一覧
と、外観の欠陥箇所の一覧とを生成して、相互の対応箇
所を抽出する手段と、を有することを特徴とする。本発
明に係るメモリLSI検査方法は、メモリLSI上の選
択するメモリセルを、アドレスピンによって決定される
セル論理アドレスと、メモリセルの実際のチップ上の配
列順で表されるセル物理アドレスと、場所を示す寸法の
座標と、により表現し、電気的なアドレスと実物観測を
一体化して検査するメモリLSI検査方法において、セ
ル論理アドレスからセル物理アドレスへの変換又は前記
セル物理アドレスから前記セル論理アドレスへの変換を
アドレス変換部で行う工程と、セルブロックエッジ座標
とセルブロックの物理アドレスサイズから、セルブロッ
ク中を物理アドレスサイズで等分した大きさのセルユニ
ットを物理アドレス個数分カウントした箇所の座標を演
算し、これを観測座標記憶部に記憶させると共に、前記
観測座標記憶部の観測座標から対応するセル物理アドレ
スを算出してセル物理アドレス記憶部に記憶させる工程
と、チップ中のコントラストをスキャンして、コントラ
ストの急激な変化点の座標を複数抽出し、前記座標の間
隔の周期性の破れを検出してセルブロックエッジ座標を
自動的に求める工程と、を有することを特徴とする。本
発明に係る他のメモリLSI検査方法は、メモリLSI
上の選択するメモリセルを、アドレスピンによって決定
されるセル論理アドレスと、メモリセルの実際のチップ
上の配列順で表されるセル物理アドレスと、場所を示す
寸法の座標と、により表現し、電気的なアドレスと実物
観測を一体化して検査するメモリLSI検査方法におい
て、セル論理アドレスからセル物理アドレスへの変換又
は前記セル物理アドレスから前記セル論理アドレスへの
変換をアドレス変換部で行う工程と、セルブロックエッ
ジ座標とセルブロックの物理アドレスサイズから、セル
ブロック中を物理アドレスサイズで等分した大きさのセ
ルユニットを物理アドレス個数分カウントした箇所の座
標を演算し、これを観測座標記憶部に記憶させると共
に、前記観測座標記憶部の観測座標から対応するセル物
理アドレスを算出してセル物理アドレス記憶部に記憶さ
せる工程と、電気的不良アドレスの一覧と、外観の欠陥
箇所の一覧とを生成して、相互の対応箇所を抽出する工
程と、を有することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A memory LS according to the present invention
The I inspection apparatus converts a memory cell to be selected on a memory LSI into a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an actual array order of memory cells on a chip, and a size indicating a location. In a memory LSI inspection apparatus that expresses by coordinates and integrates an electrical address and a real object observation, a cell logical address storage unit, a cell physical address storage unit, and the cell logical address to the cell physical address An address conversion unit that performs the conversion of the cell physical address to the cell logical address, a cell block edge coordinate input unit, a cell block edge coordinate storage unit, and an observation coordinate storage unit that stores an observation point as coordinates. An observation unit for observing a coordinate position in the observation coordinate storage unit, a physical address size storage unit, and the cell From the lock edge coordinates and the physical address size of the cell block, calculate the coordinates of the location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses, and store this in the observation coordinate storage unit. An arithmetic unit for storing and calculating a corresponding cell physical address from the observation coordinates of the observation coordinate storage unit and storing the calculated cell physical address in the cell physical address storage unit;
Means for scanning a contrast in a chip, extracting a plurality of coordinates of a sharp change point of the contrast, detecting a break in the periodicity of the coordinate interval, and automatically obtaining cell block edge coordinates. It is characterized by. Also,
Another memory LSI inspection apparatus according to the present invention includes a memory LS
A selected memory cell on I is represented by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in the order of arrangement of the memory cells on the actual chip, and coordinates of dimensions indicating a location. In a memory LSI inspection apparatus for inspecting an electric address and an actual object in an integrated manner, a cell logical address storage unit, a cell physical address storage unit, a conversion from the cell logical address to the cell physical address or the cell physical address An address conversion unit that converts an address to the cell logical address, a cell block edge coordinate input unit, a cell block edge coordinate storage unit, and an observation coordinate storage unit that stores observation points as coordinates.
An observation unit for observing a coordinate position in the observation coordinate storage unit, a physical address size storage unit, and the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block,
Calculate the coordinates of the locations where the cell units of the cell block are equally divided by the physical address size are counted by the number of physical addresses, and store the coordinates in the observation coordinate storage unit, and the observation coordinates in the observation coordinate storage unit. And a calculation unit for calculating a corresponding cell physical address from the above and storing the calculated cell physical address in the cell physical address storage unit, a list of electrically defective addresses, and a list of defective locations in appearance, to extract corresponding locations. Means. According to the memory LSI inspection method of the present invention, a memory cell to be selected on a memory LSI is converted into a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an actual array order of the memory cells on a chip, In a memory LSI inspection method in which an electrical address and an actual object observation are integrated and inspected by expressing the coordinates of dimensions indicating a location and integrating the electrical address and the actual observation, the conversion from a cell logical address to a cell physical address or the cell physical address to the cell logic The step of performing address conversion by the address conversion unit, and a location where the number of physical units equal to the physical unit size in the cell block is counted by the physical address size from the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block. Is calculated and stored in the observation coordinate storage unit. Calculating the corresponding cell physical address from the observed coordinates and storing it in the cell physical address storage unit; scanning the contrast in the chip; extracting a plurality of coordinates of a sharp change point of the contrast; And automatically calculating the cell block edge coordinates by detecting the break of the periodicity. According to another memory LSI inspection method according to the present invention, a memory LSI
The memory cell to be selected is expressed by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an array order of actual memory cells on a chip, and coordinates of dimensions indicating a location, In a memory LSI inspection method for inspecting by integrating an electrical address and a real object observation, a step of performing a conversion from a cell logical address to a cell physical address or a conversion from the cell physical address to the cell logical address in an address conversion unit; From the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, calculate the coordinates of the location where the cell units in the cell block are equally divided by the physical address size by the number of physical addresses, and store this in the observation coordinate storage unit. And calculate the corresponding cell physical address from the observation coordinates in the observation coordinate storage unit. A step of storing the cell physical address storage unit, a list of electrical defective address, to generate a list of the external appearance of the defect sites, and having a step of extracting the corresponding part of the cross, the.

【0007】このメモリLSI検査装置は、LSI製造
工程中の複数の工程での外観欠陥箇所の一覧と、電気的
不良アドレスの一覧とから、各工程での外観欠陥と電気
的不良の対応率を算出する手段を有することが好まし
く、複数の電気的不良アドレスのうち、連続するアドレ
スを大きさを有する1つの電気的不良として、外観の欠
陥箇所と対応させる手段を有することが好ましい。
This memory LSI inspection apparatus uses a list of appearance defect locations in a plurality of steps in an LSI manufacturing process and a list of electrical failure addresses to determine the correspondence rate between appearance defects and electrical failures in each step. It is preferable to have a means for calculating, and it is preferable to have a means for associating a continuous address among a plurality of electrically defective addresses with a single electrical defect having a size with a defective portion in appearance.

【0008】本発明では、セルブロックエッジ座標とセ
ル物理アドレスと物理アドレスサイズを用いて、セルブ
ロック中を物理アドレスサイズで等分した大きさのセル
ユニットを物理アドレス個数分カウントした箇所の座標
を観測座標としている。このため、メモリセルの寸法及
び形状などの詳細な設計データを必要とせずに、簡単に
メモリセルの座標の算出が可能となる。
In the present invention, using the cell block edge coordinates, the cell physical address, and the physical address size, the coordinates of a location where a cell unit having a size equally divided by the physical address size in the cell block is counted by the number of physical addresses are calculated. Observed coordinates. For this reason, it is possible to easily calculate the coordinates of the memory cell without requiring detailed design data such as the size and shape of the memory cell.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例について添
付の図面を参照して具体的に説明する。図1は本実施例
のLSI検査システムの構成を示すブロック図である。
本実施例のLSI検査システムは、共通システム1と製
品データベース2とから構成される。製品データベース
2には、物理アドレスと論理アドレスとの間のアドレス
変換ルール14、物理アドレスサイズ13及びセルブロ
ックエッジ座標12が格納されている。また、共通シス
テム1においては、電気的不良のアドレスがアドレス入
力部3から入力され、論理アドレス記憶部4又は物理ア
ドレス記憶部5に記憶される。これらの記憶部4,5は
ハードディスク又はメモリ等で構成することができ、一
時的な記憶でも良い。入力部3としてはキーボード入
力、メモリテスタからのネットワークによる入力又は不
良アドレスデータベースからのデータ入力等により構成
することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the LSI inspection system of the present embodiment.
The LSI inspection system according to the present embodiment includes a common system 1 and a product database 2. The product database 2 stores an address conversion rule 14 between a physical address and a logical address, a physical address size 13, and a cell block edge coordinate 12. In the common system 1, the address of the electrical failure is input from the address input unit 3 and stored in the logical address storage unit 4 or the physical address storage unit 5. These storage units 4 and 5 can be constituted by a hard disk or a memory, or may be temporary storage. The input unit 3 can be constituted by keyboard input, network input from a memory tester, data input from a defective address database, or the like.

【0010】アドレス表示部6はアドレス入力部3から
入力された電気的不良のアドレス、記憶部4,5に記憶
された論理アドレス及び物理アドレスを表示するもので
あり、CRTディスプレイ又はプリンタ等により構成す
ることができる。論理アドレスから物理アドレスへの変
換及び物理アドレスから論理アドレスへの変換はアドレ
ス変換部7により行う。物理アドレスから観測座標への
変換及び観測座標から物理アドレスへの変換は演算部8
によって行う。
The address display section 6 displays the address of the electrical failure input from the address input section 3, the logical address and the physical address stored in the storage sections 4 and 5, and comprises a CRT display or a printer. can do. The conversion from the logical address to the physical address and the conversion from the physical address to the logical address are performed by the address conversion unit 7. The conversion from the physical address to the observation coordinates and the conversion from the observation coordinates to the physical address are performed by the arithmetic unit 8.
Done by

【0011】演算部8において算出された観測座標は観
測座標記憶部9に一時的に記憶され、観測部10は記憶
部9に記憶された観測座標の場所を観測する。記憶部9
から指定された座標を観測する観測部10の具体的な構
成としては、観測するLSIをX−Yステージにのせ
て、観測座標の箇所をステージでコントロールして観測
するものがある。観測部10における観測手段として
は、光学的な顕微鏡又は電子顕微鏡等がある。観測部1
0によりパターン欠陥を検出された座標は、観測座標記
憶部9に記憶され、更に演算部8にて物理アドレスに変
換される。
The observation coordinates calculated by the arithmetic unit 8 are temporarily stored in the observation coordinate storage unit 9, and the observation unit 10 observes the location of the observation coordinates stored in the storage unit 9. Storage unit 9
As a specific configuration of the observation unit 10 for observing the coordinates designated by the user, there is a configuration in which the LSI to be observed is placed on an XY stage, and the observation coordinates are controlled by the stage. The observation means in the observation unit 10 includes an optical microscope or an electron microscope. Observation unit 1
The coordinates at which a pattern defect is detected by 0 are stored in the observation coordinate storage unit 9 and further converted into physical addresses by the arithmetic unit 8.

【0012】次に、アドレス変換部7におけるアドレス
の変換を図2を参照して説明する。図2(a)に例を示
すように、論理アドレス(LX,LY,IO)は、論理
Xアドレス(LX)と論理Yアドレス(LY)とIOか
らなり、実際のメモリセルの配列の順に定義する物理ア
ドレス(PX,PY)は、物理Xアドレス(PX)と物
理Yアドレス(PY)からなり、各座標値を2進数で表
した場合の各桁の0または1の値として、例えばLXの
1桁目をLX0としLXの2桁目をLX1などのように
表すと、論理アドレスから物理アドレスへの変換ルール
は図2(b)に示すようになる。
Next, address conversion in the address conversion unit 7 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, the logical address (LX, LY, IO) is composed of a logical X address (LX), a logical Y address (LY), and IO, and is defined in the order of the actual memory cell arrangement. The physical address (PX, PY) is composed of a physical X address (PX) and a physical Y address (PY). Each coordinate value is expressed as a value of 0 or 1 in each digit when the coordinate value is represented by a binary number. Assuming that the first digit is LX0 and the second digit of LX is LX1 or the like, the conversion rule from the logical address to the physical address is as shown in FIG. 2B.

【0013】次に、図3を参照して、メモリLSIチッ
プのレイアウトからセルブロックエッジ座標を算出する
方法について説明する。図3はチップ中のセルブロック
配置とセルブロックエッジ座標を説明する図である。
Next, a method of calculating the cell block edge coordinates from the layout of the memory LSI chip will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram for explaining a cell block arrangement in a chip and cell block edge coordinates.

【0014】この例では、チップ内に4つのセルブロッ
クC1,C2,C3,C4がある場合を示している。先
ず、各セルブロックC1,C2,C3,C4のエッジを
検出する。検出方法としては、X−Yステージの上にチ
ップを置いて、顕微鏡で観察しながら、エッジの箇所の
ステージ座標から求める方法、顕微鏡写真から座標を求
める方法、及び後述するように自動的にエッジを検出す
る方法等がある。
In this example, there is shown a case where there are four cell blocks C1, C2, C3 and C4 in a chip. First, the edges of each cell block C1, C2, C3, C4 are detected. As a detection method, a chip is placed on an XY stage, and while observing with a microscope, a method of obtaining the coordinates from the stage coordinates of the edge portion, a method of obtaining the coordinates from the micrograph, and automatically detecting the edge as described later. And the like.

【0015】検出したエッジをチップの原点からの距離
の座標として求める。即ち、セルブロックC1に対し
て、BX11、BX12、BY11、BY12のように
求める。セルブロックC2〜C4については、ブロック
の大きさがセルブロックC1と同一であれば、夫々X方
向とY方向に一個づつの座標値を求めるだけでブロック
エッジを特定できる。即ち、セルブロックC2〜C4に
ついては、BX21,BX31,BX41,BY21,
BY31,BY41のように座標値を求める。複数のチ
ップが存在するウエハーに対しても、1つのチップのみ
についてチップ原点からのセルブロックエッジ座標を検
出していれば、チップのリピートサイズにより全てのチ
ップのセルブロックエッジ座標を求めることができる。
このようにして求めたセルブロックエッジの座標は、入
力部11を介して共通システム1に入力される。また、
一度セルブロックエッジ座標を求めた後は、これを製品
データベース2に、LSI製品固有のデータとして、即
ちセルブロックエッジ座標12として保存しておけば、
次からはエッジを検出する必要は無い。
The detected edge is obtained as coordinates of the distance from the origin of the chip. That is, the cell block C1 is obtained as BX11, BX12, BY11, and BY12. As for the cell blocks C2 to C4, if the block size is the same as the cell block C1, the block edge can be specified only by obtaining one coordinate value in each of the X direction and the Y direction. That is, for the cell blocks C2 to C4, BX21, BX31, BX41, BY21,
Coordinate values are obtained as in BY31 and BY41. Even for a wafer having a plurality of chips, if the cell block edge coordinates from the chip origin are detected for only one chip, the cell block edge coordinates of all chips can be obtained from the chip repeat size. .
The coordinates of the cell block edge thus obtained are input to the common system 1 via the input unit 11. Also,
Once the cell block edge coordinates are obtained, if they are stored in the product database 2 as data unique to the LSI product, that is, as cell block edge coordinates 12,
There is no need to detect edges from next time.

【0016】次に、演算部8において、物理アドレスか
ら観測座標を算出する方法について説明する。図4
(a)は実際のメモリセルのレイアウトの一例を示す。
このようなメモリセルのレイアウトからセルブロックの
エッジを定義するには、X方向にBX1とBX2で示し
た箇所をエッジとする。特に左側のエッジをBX1とし
ているのはメモリセルの繰り返し周期を考慮しているた
めである。しかし、BX0を左側のエッジとしても、メ
モリセルの個数が多数あれば影響はほとんど無い。この
ようにして検出したセルブロックエッジ座標と物理アド
レスサイズとからセル物理アドレスに対する観測座標を
求める。
Next, a method of calculating observation coordinates from physical addresses in the arithmetic section 8 will be described. FIG.
(A) shows an example of the layout of an actual memory cell.
In order to define the edge of the cell block from such a layout of the memory cells, the locations indicated by BX1 and BX2 in the X direction are edges. Particularly, the left edge is set to BX1 because the repetition period of the memory cell is taken into consideration. However, even if BX0 is the left edge, there is almost no effect if the number of memory cells is large. Observation coordinates for the cell physical address are obtained from the cell block edge coordinates and the physical address size thus detected.

【0017】図4(b)はセルブロック内のメモリセル
を矩形に近似した場合のメモリセルのレイアウトを示
す。このように矩形で近似することにより、メモリセル
の詳細な設計情報を必要とすることなく、アドレスの座
標を求めることが可能となる。セルブロック内の物理ア
ドレスサイズ(Nx個×Ny個)のメモリセルがある場
合、物理アドレス(PX,PY)に対する観測座標は下
記数式1により求めることができる。
FIG. 4B shows a layout of the memory cells when the memory cells in the cell block are approximated to a rectangle. By approximating with a rectangle in this way, it is possible to obtain the coordinates of the address without requiring detailed design information of the memory cell. When there are memory cells of the physical address size (Nx × Ny) in the cell block, the observation coordinates for the physical address (PX, PY) can be obtained by the following equation (1).

【0018】[0018]

【数1】X座標が、BX1+(BX2−BX1)×(P
X−PX1)/Nx Y座標が、BY1+(BY2−BY1)×(PY−PY
1)/Ny
## EQU1 ## When the X coordinate is BX1 + (BX2-BX1) × (P
X-PX1) / Nx Y coordinate is BY1 + (BY2-BY1) × (PY-PY
1) / Ny

【0019】但し、PX1、PY1は夫々セルブロック
内の左端及び上端の物理アドレスである。
Here, PX1 and PY1 are the physical addresses of the left end and the upper end in the cell block, respectively.

【0020】メモリセルは大きさを有しているので、単
一の座標のみではメモリセル全体を表すことはできない
が、セル内の1つの基準座標からセルサイズの範囲をセ
ルとみなすことができる。セルサイズはセルブロックの
両端の座標間隔をセルブロックの物理アドレスサイズで
除した値を使用することができる。
Since a memory cell has a size, a single coordinate alone cannot represent the entire memory cell, but a range of cell size from one reference coordinate in the cell can be regarded as a cell. . As the cell size, a value obtained by dividing the coordinate interval at both ends of the cell block by the physical address size of the cell block can be used.

【0021】また、セルブロック内の物理アドレスサイ
ズはセルブロック毎に指定しても良いが、チップ全体の
物理アドレスサイズとセルブロックの個数から算出する
こともできる。同様に、セルブロック端の物理アドレス
(PX1,PY1)も算出することができる。
The physical address size in a cell block may be specified for each cell block, but can also be calculated from the physical address size of the entire chip and the number of cell blocks. Similarly, the physical address (PX1, PY1) of the cell block end can be calculated.

【0022】次に、上述の如く構成されたLSIの検査
装置の動作について説明する。電気的不良のアドレスを
アドレス入力部3から入力し、これを表示部6に表示さ
せると共に、記憶部4,5に夫々その論理アドレス及び
物理アドレスを記憶させる。記憶部4,5に夫々記憶さ
れた論理アドレス及び物理アドレスは図2(b)に示す
ようなアドレス変換ルール14に従って相互に変換され
る。物理アドレス記憶部5に記憶された物理アドレス
は、演算部8にて観測座標に変換され、観測座標記憶部
9に記憶される。演算部8はこの変換演算に当たって物
理アドレスサイズ13と、セルブロックエッジ座標12
又は入力部11から入力されたセルブロック座標とを参
照する。観測部10はこの記憶部9に記憶された観測座
標の場所を観測し、パターン欠陥の有無を検出する。観
測部10によりパターン欠陥が検出された部位の座標
は、観測座標記憶部9に記憶され、更に、演算部8にて
物理アドレスに変換された後、記憶部5に記憶される。
この外観のパターン欠陥が検出された観測箇所の物理ア
ドレスはアドレス表示部6に表示され、電気的不良のア
ドレス結びつけられて、共に表示される。
Next, the operation of the LSI inspection apparatus configured as described above will be described. The address of the electrical failure is input from the address input unit 3 and is displayed on the display unit 6, and the logical addresses and the physical addresses are stored in the storage units 4 and 5, respectively. The logical addresses and physical addresses stored in the storage units 4 and 5 are mutually converted according to an address conversion rule 14 as shown in FIG. The physical address stored in the physical address storage unit 5 is converted into observation coordinates by the operation unit 8 and stored in the observation coordinate storage unit 9. The arithmetic unit 8 performs a physical address size 13 and a cell block edge coordinate 12
Alternatively, reference is made to the cell block coordinates input from the input unit 11. The observation unit 10 observes the location of the observation coordinates stored in the storage unit 9 and detects the presence or absence of a pattern defect. The coordinates of the part where the pattern defect is detected by the observation unit 10 are stored in the observation coordinate storage unit 9, further converted into physical addresses by the calculation unit 8, and then stored in the storage unit 5.
The physical address of the observation point where the pattern defect having this appearance is detected is displayed on the address display unit 6, and is displayed together with the address of the electrical failure.

【0023】上述のアドレス変換ルール、物理アドレス
サイズ、セルブロックエッジ座標はLSI製品固有のパ
ラメータであり、検査システムの汎用性の障害となり得
るものであるが、これらの製品のパラメータであるアド
レス変換ルール14、物理アドレスサイズ13及びセル
ブロックエッジ座標12は製品データベース2として保
存しておき、その他の部分を共通システム1とすること
により、異なるLSI製品の品種に対しても、製品デー
タベースのみを作成することにより、簡単に検査を行う
ことができる。
The above-described address conversion rules, physical address sizes, and cell block edge coordinates are parameters unique to LSI products, which can be obstacles to the versatility of the inspection system. 14, the physical address size 13 and the cell block edge coordinates 12 are stored as the product database 2, and the other parts are set as the common system 1, so that only the product database is created for different LSI product types. Thus, the inspection can be easily performed.

【0024】なお、セルブロックエッジ座標は自動的に
求めることができる。図5はこのセルブロックのエッジ
を自動的に検出する方法を示す。先ず、チップ中のコン
トラストをスキャンして、コントラストが急激に変化す
る箇所を探す。コントラストが急激に変化する箇所はセ
ルブロック内の配線のエッジの場合とセルブロックエッ
ジの場合とがある。セルブロックエッジのみを抽出する
ためには、それをセルブロック内の配線のエッジから区
別する必要があるが、セルブロック内の配線は周期的に
ならんでいるので、周期性を判断することにより、セル
ブロックエッジとセルブロック内配線とを区別すること
ができる。つまり、対象とするエッジと1つ手前のエッ
ジとの間隔値をセルブロック内の全対象エッジについて
ならべると、これらの間隔値は最小の繰り返し単位が存
在して、その繰り返し単位で繰り返すものとなる。従っ
て、この繰り返しが成立しなくなるエッジの1つ手前の
エッジ、又は繰り返しが成立する最後のエッジをセルブ
ロックのエッジとして求めることができる。
The cell block edge coordinates can be automatically obtained. FIG. 5 shows a method for automatically detecting the edge of the cell block. First, the contrast in the chip is scanned to find a place where the contrast changes rapidly. There are cases where the contrast changes abruptly at the edge of the wiring in the cell block and at the edge of the cell block. In order to extract only the cell block edge, it is necessary to distinguish it from the edge of the wiring in the cell block, but since the wiring in the cell block is arranged periodically, by determining the periodicity, It is possible to distinguish between the cell block edge and the wiring in the cell block. That is, when the interval values between the target edge and the immediately preceding edge are arranged for all the target edges in the cell block, these interval values have a minimum repetition unit and are repeated in the repetition unit. . Therefore, the edge just before the edge where the repetition is not established or the last edge where the repetition is established can be obtained as the edge of the cell block.

【0025】また、図6に示すように、電気的不良アド
レスの一覧と、外観の欠陥アドレスの一覧とを、図1乃
至4に示した実施例により、同一の座標上に表すことが
可能となり、それらの対応関係を調べることが可能とな
る。電気的不良アドレス1は欠陥1と重なっているが、
電気的不良アドレス2と電気的不良アドレス3はいずれ
の欠陥とも重なっていない。更に、欠陥2はいずれの電
気的不良アドレスとも重なっていない。
As shown in FIG. 6, a list of electrically defective addresses and a list of defective addresses in appearance can be represented on the same coordinates by the embodiment shown in FIGS. , It is possible to check their correspondence. Electrically defective address 1 overlaps with defect 1,
The electrically defective address 2 and the electrically defective address 3 do not overlap with any of the defects. Furthermore, defect 2 does not overlap with any of the electrically defective addresses.

【0026】これらの関係を個数で表すと、電気的不良
が3個、外観の欠陥が2個、重なっているものが1個と
なる。これらから、例えば、外観の欠陥に対する電気不
良率が1/2で50%であることがわかる。この場合、
重なっているか否かを判断するときに、メモリセルの大
きさ、欠陥の大きさ、目ズレ、重ねあわせ精度等の要素
を含めた重なりマージンを設定することが有効である。
When these relationships are represented by numbers, three electrical defects, two appearance defects, and one overlapping one. From these, it can be seen that, for example, the electrical failure rate for appearance defects is 1/2, that is, 50%. in this case,
When determining whether or not they overlap, it is effective to set an overlap margin that includes factors such as the size of the memory cell, the size of the defect, misalignment, and overlay accuracy.

【0027】更に、図7に示すように、製造工程の各段
階で外観の欠陥を検査し、各段階の外観の欠陥に対して
電気不良率又は対応する電気的不良個数を算出すると、
最も電気的不良を引き起こしやすい製造工程を抽出する
ことが可能となる。
Further, as shown in FIG. 7, the appearance defect is inspected at each stage of the manufacturing process, and the electrical defect rate or the corresponding number of electrical defects is calculated for the appearance defect at each stage.
It becomes possible to extract a manufacturing process that is most likely to cause an electrical failure.

【0028】更にまた、図8に示すように、物理的に並
べられた複数の電気的不良アドレスは電気的不良アドレ
ス一覧1に示すように4ビットの不良アドレスが存在す
る。しかし、これらの電気的不良1〜4の不良アドレス
のうち、不良3と不良4は同一の欠陥によってもたらさ
れていると考えられる。従って、この電気的不良アドレ
ス一覧1と観測する欠陥一覧との対応率を計算すると、
対応率は実際よりも低くみえてしまう。
Further, as shown in FIG. 8, a plurality of physically defective electrical defective addresses have a 4-bit defective address as shown in the electrical defective address list 1. However, among the defective addresses of the electrical defects 1 to 4, it is considered that the defect 3 and the defect 4 are caused by the same defect. Therefore, when the correspondence ratio between the electrically defective address list 1 and the observed defect list is calculated,
The response rate looks lower than it really is.

【0029】これを解決する手段として、連続するアド
レスを大きさを有する1つの電気的不良とみなして電気
的不良アドレス一覧2のような電気的不良の一覧を作成
する。このようにして作成された電気的不良と外観の欠
陥箇所と対応させることにより、より精度の高い対応を
得ることができる。
As a means for solving this, a list of electrical failures such as an electrical failure address list 2 is created by regarding continuous addresses as one electrical failure having a size. By associating the thus formed electrical defect with the appearance defect, a more accurate response can be obtained.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明により、詳
細な設計情報を必要とせずに電気的な不良のアドレスに
対する外観上の欠陥箇所を抽出することができる。この
ため、検査システムの汎用性を確保しながら、個々のL
SI製品に対しても最小限の操作で検査が可能となる。
As described above, according to the present invention, it is possible to extract a defective portion in appearance with respect to an electrically defective address without requiring detailed design information. For this reason, while ensuring the versatility of the inspection system, individual L
Inspection of SI products is possible with minimum operations.

【0031】なお、請求項3のように、チップ上のコン
トラストをスキャンすることにより、セルブロック座標
を自動的に求めることができる。また、請求項4に記載
のように、電気的な不良アドレスと外観上の欠陥との対
応がとれることにより、電気不良をひきおこす外観欠陥
を抽出することができ、製造歩留まりの向上に寄与す
る。更に、請求項5においては、複数の製造工程の中か
ら電気的に不良となる工程を抽出することが可能とな
り、製造歩留まりを向上させることができる。更にま
た、請求項6においては、電気不良と外観欠陥の対応率
を正確に算出することができる。
It is to be noted that the cell block coordinates can be automatically obtained by scanning the contrast on the chip. Further, as described in the fourth aspect, the correspondence between the electrically defective address and the appearance defect can be taken, whereby the appearance defect causing the electric failure can be extracted, which contributes to the improvement of the manufacturing yield. Furthermore, according to the fifth aspect, it becomes possible to extract a step that becomes electrically defective from a plurality of manufacturing steps, and it is possible to improve the manufacturing yield. Furthermore, according to the present invention, it is possible to accurately calculate the correspondence rate between the electrical failure and the appearance defect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例の構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の論理アドレスと物理アドレスの変換方
法を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a method of converting a logical address and a physical address according to the present invention.

【図3】チップ中のセルブロック配置とセルブロックエ
ッジ座標とを説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a cell block arrangement in a chip and cell block edge coordinates.

【図4】セルブロックエッジとセルとの関係を説明する
図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between a cell block edge and a cell.

【図5】セルブロックエッジを自動的に求める方法を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a method for automatically obtaining a cell block edge.

【図6】電気不良と外観欠陥を対応させる場合の説明図
である。
FIG. 6 is an explanatory diagram in a case where an electrical defect is associated with an appearance defect.

【図7】製造工程毎の電気不良と外観欠陥との対応を説
明する図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining the correspondence between an electrical defect and an appearance defect in each manufacturing process.

【図8】電気的不良一覧を求める方法を説明する図であ
る。
FIG. 8 is a diagram illustrating a method for obtaining a list of electrical defects.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:共通システム 2:製品データベース 3:アドレス入力部 4:論理アドレス記憶部 5:物理アドレス記憶部 6:アドレス表示部 7:アドレス変換部 8:演算部 9:観測座標記憶部 10:観測部 11:セルブロックエッジ座標入力部 12:セルブロックエッジ座標 13:物理アドレスサイズ 14:アドレス変換ルール 1: Common system 2: Product database 3: Address input unit 4: Logical address storage unit 5: Physical address storage unit 6: Address display unit 7: Address conversion unit 8: Operation unit 9: Observation coordinate storage unit 10: Observation unit 11 : Cell block edge coordinate input unit 12: Cell block edge coordinate 13: Physical address size 14: Address conversion rule

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−225252(JP,A) 特開 平6−148283(JP,A) 特開 昭62−169342(JP,A) 特開 平9−167500(JP,A) 特開 平1−319866(JP,A) 特開 平9−319658(JP,A) 特開 平9−232388(JP,A) 特開 平10−92883(JP,A) 特開 平6−275688(JP,A) 特開 平8−339945(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01R 31/28 G11C 29/00 655 Continuation of front page (56) References JP-A-4-225252 (JP, A) JP-A-6-148283 (JP, A) JP-A-62-169342 (JP, A) JP-A-9-167500 (JP) JP-A-1-319866 (JP, A) JP-A-9-319658 (JP, A) JP-A-9-232388 (JP, A) JP-A-10-92883 (JP, A) 6-275688 (JP, A) JP-A-8-339945 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/66 G01R 31/28 G11C 29/00 655

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査装置において、 セル論理アドレス記憶部と、 セル物理アドレス記憶部と、 前記セル論理アドレスから前記セル物理アドレスへの変
換又は前記セル物理アドレスから前記セル論理アドレス
への変換を行うアドレス変換部と、 セルブロックエッジ座標入力部と、 セルブロックエッジ座標記憶部と、 観測箇所を座標として記憶する観測座標記憶部と、 前記観測座標記憶部における座標の箇所を観測する観測
部と、 物理アドレスサイズ記憶部と、 前記セルブロックエッジ座標とセルブロックの物理アド
レスサイズから、セルブロック中を物理アドレスサイズ
で等分した大きさのセルユニットを物理アドレス個数分
カウントした箇所の座標を演算し、これを前記観測座標
記憶部に記憶させると共に、前記観測座標記憶部の観測
座標から対応するセル物理アドレスを算出して前記セル
物理アドレス記憶部に記憶させる演算部と、 チップ中のコントラストをスキャンして、コントラスト
の急激な変化点の座標を複数抽出し、前記座標の間隔の
周期性の破れを検出してセルブロックエッジ座標を自動
的に求める手段と、 を有することを特徴とするメモリLSI検査装置。
1. A memory cell to be selected on a memory LSI has a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an array order of memory cells on an actual chip, and a dimension indicating a location. In a memory LSI inspection apparatus which expresses an electric address and a real object observation integrally by expressing by using coordinates, a cell logical address storage unit, a cell physical address storage unit, and from the cell logical address to the cell physical address An address conversion unit that performs the conversion of the cell physical address to the cell logical address, a cell block edge coordinate input unit, a cell block edge coordinate storage unit, and an observation coordinate storage unit that stores observation points as coordinates. An observation unit that observes a coordinate location in the observation coordinate storage unit; a physical address size storage unit; From the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, the coordinates of a location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses are calculated, and this is calculated as the observation coordinate storage unit. And an arithmetic unit for calculating a corresponding cell physical address from the observation coordinates in the observation coordinate storage unit and storing the calculated cell physical address in the cell physical address storage unit. Means for extracting a plurality of point coordinates, detecting a break in the periodicity of the coordinate interval, and automatically obtaining cell block edge coordinates.
【請求項2】 メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査装置において、 セル論理アドレス記憶部と、 セル物理アドレス記憶部と、 前記セル論理アドレスから前記セル物理アドレスへの変
換又は前記セル物理アドレスから前記セル論理アドレス
への変換を行うアドレス変換部と、 セルブロックエッジ座標入力部と、 セルブロックエッジ座標記憶部と、 観測箇所を座標として記憶する観測座標記憶部と、 前記観測座標記憶部における座標の箇所を観測する観測
部と、 物理アドレスサイズ記憶部と、 前記セルブロックエッジ座標とセルブロックの物理アド
レスサイズから、セルブロック中を物理アドレスサイズ
で等分した大きさのセルユニットを物理アドレス個数分
カウントした箇所の座標を演算し、これを前記観測座標
記憶部に記憶させると共に、前記観測座標記憶部の観測
座標から対応するセル物理アドレスを算出して前記セル
物理アドレス記憶部に記憶させる演算部と、 電気的不良アドレスの一覧と、外観の欠陥箇所の一覧と
を生成して、相互の対応箇所を抽出する手段と、 を有することを特徴とするメモリLSI検査装置。
2. A memory cell to be selected on a memory LSI is defined by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an array order of memory cells on an actual chip, and a dimension indicating a location. In a memory LSI inspection apparatus which expresses an electric address and a real object observation integrally by expressing by using coordinates, a cell logical address storage unit, a cell physical address storage unit, and from the cell logical address to the cell physical address An address conversion unit that performs the conversion of the cell physical address to the cell logical address, a cell block edge coordinate input unit, a cell block edge coordinate storage unit, and an observation coordinate storage unit that stores observation points as coordinates. An observation unit that observes a coordinate location in the observation coordinate storage unit; a physical address size storage unit; From the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, the coordinates of a location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses are calculated, and this is calculated as the observation coordinate storage unit. An arithmetic unit for calculating a corresponding cell physical address from the observation coordinates of the observation coordinate storage unit and storing the calculated cell physical address in the cell physical address storage unit; a list of electrical failure addresses; And a means for generating a corresponding part and extracting a corresponding part from each other.
【請求項3】 メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査装置において、 セル論理アドレス記憶部と、 セル物理アドレス記憶部と、 前記セル論理アドレスから前記セル物理アドレスへの変
換又は前記セル物理アドレスから前記セル論理アドレス
への変換を行うアドレス変換部と、 セルブロックエッジ座標入力部と、 セルブロックエッジ座標記憶部と、 観測箇所を座標として記憶する観測座標記憶部と、 前記観測座標記憶部における座標の箇所を観測する観測
部と、 物理アドレスサイズ記憶部と、 前記セルブロックエッジ座標とセルブロックの物理アド
レスサイズから、セルブロック中を物理アドレスサイズ
で等分した大きさのセルユニットを物理アドレス個数分
カウントした箇所の座標を演算し、これを前記観測座標
記憶部に記憶させると共に、前記観測座標記憶部の観測
座標から対応するセル物理アドレスを算出して前記セル
物理アドレス記憶部に記憶させる演算部と、 電気的不良アドレスの一覧と、外観の欠陥箇所の一覧と
を生成して、相互の対応箇所を抽出する手段と、 LSI製造工程中の複数の工程での外観欠陥箇所の一覧
と、電気的不良アドレスの一覧とから、各工程での外観
欠陥と電気的不良の対応率を算出する手段と、を有する
ことを特徴とするメモリLSI検査装置。
3. A memory cell to be selected on a memory LSI is defined by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an actual array order of memory cells on a chip, and a size indicating a location. In a memory LSI inspection apparatus which expresses an electric address and a real object observation integrally by expressing by using coordinates, a cell logical address storage unit, a cell physical address storage unit, and from the cell logical address to the cell physical address An address conversion unit that performs the conversion of the cell physical address to the cell logical address, a cell block edge coordinate input unit, a cell block edge coordinate storage unit, and an observation coordinate storage unit that stores observation points as coordinates. An observation unit that observes a coordinate location in the observation coordinate storage unit; a physical address size storage unit; From the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, the coordinates of a location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses are calculated, and this is calculated as the observation coordinate storage unit. An arithmetic unit for calculating a corresponding cell physical address from the observation coordinates of the observation coordinate storage unit and storing the calculated cell physical address in the cell physical address storage unit; a list of electrical failure addresses; Means for extracting corresponding parts from each other; a list of appearance defect locations in a plurality of steps in the LSI manufacturing process; A means for calculating a response rate of a target failure.
【請求項4】 メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査装置において、 セル論理アドレス記憶部と、 セル物理アドレス記憶部と、 前記セル論理アドレスから前記セル物理アドレスへの変
換又は前記セル物理アドレスから前記セル論理アドレス
への変換を行うアドレス変換部と、 セルブロックエッジ座標入力部と、 セルブロックエッジ座標記憶部と、 観測箇所を座標として記憶する観測座標記憶部と、 前記観測座標記憶部における座標の箇所を観測する観測
部と、 物理アドレスサイズ記憶部と、 前記セルブロックエッジ座標とセルブロックの物理アド
レスサイズから、セルブロック中を物理アドレスサイズ
で等分した大きさのセルユニットを物理アドレス個数分
カウントした箇所の座標を演算し、これを前記観測座標
記憶部に記憶させると共に、前記観測座標記憶部の観測
座標から対応するセル物理アドレスを算出して前記セル
物理アドレス記憶部に記憶させる演算部と、 電気的不良アドレスの一覧と、外観の欠陥箇所の一覧と
を生成して、相互の対応箇所を抽出する手段と、 複数の電気的不良アドレスのうち、連続するアドレスを
大きさを有する1つの電気的不良として、外観の欠陥箇
所と対応させる手段と、 を有することを特徴とするメモリLSI検査装置。
4. A memory cell to be selected on a memory LSI is defined by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an actual array order of memory cells on a chip, and a size indicating a location. In a memory LSI inspection apparatus which expresses an electric address and a real object observation integrally by expressing by using coordinates, a cell logical address storage unit, a cell physical address storage unit, and from the cell logical address to the cell physical address An address conversion unit that performs the conversion of the cell physical address to the cell logical address, a cell block edge coordinate input unit, a cell block edge coordinate storage unit, and an observation coordinate storage unit that stores observation points as coordinates. An observation unit that observes a coordinate location in the observation coordinate storage unit; a physical address size storage unit; From the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, the coordinates of a location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses are calculated, and this is calculated as the observation coordinate storage unit. An arithmetic unit for calculating a corresponding cell physical address from the observation coordinates of the observation coordinate storage unit and storing the calculated cell physical address in the cell physical address storage unit; a list of electrical failure addresses; Means for generating corresponding ones of the plurality of electrically defective addresses, and means for associating a continuous address among the plurality of electrically defective addresses with one having a size as a defective part in appearance, A memory LSI inspection device, comprising:
【請求項5】 前記電気的不良アドレスと前記外観の欠
陥とが重なっているか否かを判断するときに、重なりマ
ージンを設定することを特徴とする請求項2乃至4のい
ずれか1項に記載のメモリLSI検査装置。
5. The apparatus according to claim 2, wherein an overlap margin is set when judging whether or not the electrically defective address and the appearance defect overlap. Memory LSI inspection device.
【請求項6】 メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査方法において、 セル論理アドレスからセル物理アドレスへの変換又は前
記セル物理アドレスから前記セル論理アドレスへの変換
をアドレス変換部で行う工程と、 セルブロックエッジ座標とセルブロックの物理アドレス
サイズから、セルブロック中を物理アドレスサイズで等
分した大きさのセルユニットを物理アドレス個数分カウ
ントした箇所の座標を演算し、これを観測座標記憶部に
記憶させると共に、前記観測座標記憶部の観測座標から
対応するセル物理アドレスを算出してセル物理アドレス
記憶部に記憶させる工程と、 チップ中のコントラストをスキャンして、コントラスト
の急激な変化点の座標を複数抽出し、前記座標の間隔の
周期性の破れを検出してセルブロックエッジ座標を自動
的に求める工程と、 を有することを特徴とするメモリLSI検査方法。
6. A memory cell to be selected on a memory LSI is defined by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in the order in which the memory cells are actually arranged on a chip, and a size indicating a location. In a memory LSI inspection method for expressing an electric address and a real object observation in an integrated manner by expressing by coordinates, the conversion from a cell logical address to a cell physical address or the conversion from the cell physical address to the cell logical address is performed. The process performed by the address conversion unit, and from the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, the coordinates of the location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses are calculated. Are stored in the observation coordinate storage unit, and the corresponding coordinates are stored from the observation coordinates in the observation coordinate storage unit. Calculating the cell physical address and storing it in the cell physical address storage unit; scanning the contrast in the chip to extract a plurality of coordinates of a sharp change point of the contrast; Detecting the cell block edge coordinates automatically by detecting the cell block edge coordinates.
【請求項7】 メモリLSI上の選択するメモリセル
を、アドレスピンによって決定されるセル論理アドレス
と、メモリセルの実際のチップ上の配列順で表されるセ
ル物理アドレスと、場所を示す寸法の座標と、により表
現し、電気的なアドレスと実物観測を一体化して検査す
るメモリLSI検査方法において、 セル論理アドレスからセル物理アドレスへの変換又は前
記セル物理アドレスから前記セル論理アドレスへの変換
をアドレス変換部で行う工程と、 セルブロックエッジ座標とセルブロックの物理アドレス
サイズから、セルブロック中を物理アドレスサイズで等
分した大きさのセルユニットを物理アドレス個数分カウ
ントした箇所の座標を演算し、これを観測座標記憶部に
記憶させると共に、前記観測座標記憶部の観測座標から
対応するセル物理アドレスを算出してセル物理アドレス
記憶部に記憶させる工程と、 電気的不良アドレスの一覧と、外観の欠陥箇所の一覧と
を生成して、相互の対応箇所を抽出する工程と、 を有することを特徴とするメモリLSI検査方法。
7. A memory cell to be selected on a memory LSI is defined by a cell logical address determined by an address pin, a cell physical address expressed in an actual array order of memory cells on a chip, and a size indicating a location. In a memory LSI inspection method for expressing an electric address and a real object observation in an integrated manner by expressing by coordinates, the conversion from a cell logical address to a cell physical address or the conversion from the cell physical address to the cell logical address is performed. The process performed by the address conversion unit, and from the cell block edge coordinates and the physical address size of the cell block, the coordinates of the location where the cell unit in the cell block is equally divided by the physical address size by the number of physical addresses are calculated. Are stored in the observation coordinate storage unit, and the corresponding coordinates are stored from the observation coordinates in the observation coordinate storage unit. Calculating a cell physical address and storing the cell physical address in a cell physical address storage unit; generating a list of electrically defective addresses and a list of defective locations in appearance to extract corresponding locations from each other; A memory LSI inspection method characterized by the above-mentioned.
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