JP3232915B2 - Inkjet head - Google Patents

Inkjet head

Info

Publication number
JP3232915B2
JP3232915B2 JP25995794A JP25995794A JP3232915B2 JP 3232915 B2 JP3232915 B2 JP 3232915B2 JP 25995794 A JP25995794 A JP 25995794A JP 25995794 A JP25995794 A JP 25995794A JP 3232915 B2 JP3232915 B2 JP 3232915B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pit
substrate
resin layer
dummy
ink
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP25995794A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH08118633A (en
Inventor
豊 森
幸久 小泉
雅樹 片岡
直志 小竹
雅 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd, Fujifilm Business Innovation Corp filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP25995794A priority Critical patent/JP3232915B2/en
Publication of JPH08118633A publication Critical patent/JPH08118633A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3232915B2 publication Critical patent/JP3232915B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、インクを噴射して記録
を行なうインクジェット記録装置に用いるインクジェッ
トに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ink jet used in an ink jet recording apparatus for performing recording by ejecting ink.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より知られているインクジェットヘ
ッドの構造としては、例えば、特開昭62−33648
号公報や、特開平1−148560号公報に記載された
ものがある。図9は、一般的なインクジェットヘッドの
外観の説明図である。図中、1は第1の基板、2は第2
の基板、3は厚膜樹脂層、4はノズル、5はインク流入
口、6はワイヤボンディング、7はインク滴である。第
1の基板1には、ノズル4に対応して発熱素子が配置さ
れ、それぞれの発熱素子に電力を供給する電極が配設さ
れている。電極により電力の供給された発熱素子はイン
クを加熱し、インク中に気泡を発生させる。電極への電
力の供給は、ワイヤボンディング6を介して行われる。
発熱素子、電極の配設された第1の基板1の上層には、
絶縁膜、保護層などが形成され、さらに上層に厚さ10
〜100μm程度の厚膜樹脂層3が形成されている。発
熱素子の上部の厚膜樹脂層3には、発熱素子の発熱によ
って発生する気泡の成長方向を規定する、ピットと呼ば
れる凹部が形成されている。また、例えば、特開平1−
148560号公報に記載されているように、インク流
入口5とインク流路を結ぶ、バイパスピットと呼ばれる
凹部を形成する場合もある。厚膜樹脂層3として感光性
樹脂が用いられ、例えば、フォトマスクなどを用いてピ
ットがパターニングされる。第2の基板2には、複数の
ノズル4となるインク流路が形成されている。また、イ
ンクの取入口となるインク流入口5が設けられている。
記録のためのインクは、インク流入口5から入り、内部
のインク流路を通って、ノズル4からインク滴7として
吐出される。
2. Description of the Related Art The structure of a conventionally known ink jet head is disclosed, for example, in JP-A-62-33648.
And Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-148560. FIG. 9 is an explanatory diagram of the appearance of a general inkjet head. In the figure, 1 is the first substrate, 2 is the second substrate
, 3 is a thick resin layer, 4 is a nozzle, 5 is an ink inlet, 6 is wire bonding, and 7 is an ink droplet. On the first substrate 1, heating elements are arranged corresponding to the nozzles 4, and electrodes for supplying power to the respective heating elements are arranged. The heating element to which power is supplied by the electrodes heats the ink and generates bubbles in the ink. The supply of power to the electrodes is performed via wire bonding 6.
On the upper layer of the first substrate 1 on which the heating elements and the electrodes are arranged,
An insulating film, a protective layer, and the like are formed.
A thick resin layer 3 having a thickness of about 100 μm is formed. In the thick resin layer 3 above the heating element, a concave portion called a pit is formed, which defines a growth direction of bubbles generated by heat generation of the heating element. Further, for example, Japanese Patent Laid-Open No.
As described in JP-A-148560, a recess called a bypass pit may be formed to connect the ink inlet 5 and the ink flow path. A photosensitive resin is used for the thick resin layer 3, and pits are patterned using, for example, a photomask. In the second substrate 2, an ink flow path serving as a plurality of nozzles 4 is formed. Further, an ink inlet 5 serving as an ink inlet is provided.
The ink for recording enters through the ink inlet 5, passes through the internal ink flow path, and is ejected from the nozzles 4 as ink droplets 7.

【0003】図10は、一般的なインクジェットヘッド
の作成方法の説明図である。図中、8は切断ラインであ
る。図9に示したように、インクジェットヘッドは、第
1の基板1と第2の基板2から構成される。第1の基板
1、第2の基板2とも、図5に示すように、ヘッド要素
を多数配置した第1基板1のウェハと第2基板2のウェ
ハを接着剤で接合し、接合後、切断ライン8に沿って切
断分離して、個々のインクジェットヘッドを作成してい
る。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a general ink jet head. In the figure, 8 is a cutting line. As shown in FIG. 9, the inkjet head includes a first substrate 1 and a second substrate 2. As shown in FIG. 5, both the first substrate 1 and the second substrate 2 join the wafer of the first substrate 1 and the wafer of the second substrate 2 on which a large number of head elements are arranged with an adhesive. The individual inkjet heads are formed by cutting and separating along the line 8.

【0004】接着剤によって2枚の基板を接合する場
合、ノズル内が接着剤で埋まらないように薄く、例え
ば、1μm前後の厚さで接着剤を塗布し、かつ設計どお
りの流路形状を形成し、インク漏れなどが起こらないよ
うに、2枚の基板間を隙間なく密着させる必要がある。
しかし、実際には、2枚の基板間を接合すると、密着不
良が発生し、インクジェットヘッドの歩留りの低下及び
寿命の低下を引き起こしている。
When two substrates are bonded by an adhesive, the adhesive is applied with a thickness of, for example, about 1 μm so as not to fill the inside of the nozzle with the adhesive, and a flow path shape as designed is formed. However, it is necessary to closely contact the two substrates without any gap so that ink leakage or the like does not occur.
However, in actuality, when two substrates are bonded together, poor adhesion occurs, which causes a reduction in the yield and life of the inkjet head.

【0005】この2枚の基板間の密着不良の原因の一つ
として、厚膜樹脂層である感光性樹脂層の平坦性の悪さ
がある。感光性樹脂層を平坦に塗布しても、パターニン
グし、硬化させると、パターニング除去した端部が盛り
上がるという現象がある。この盛り上がり部分が第2の
基板に当接し、他の部分と第2の基板との間に隙間が生
じてしまう。
One of the causes of the poor adhesion between the two substrates is the poor flatness of the photosensitive resin layer, which is a thick resin layer. Even if the photosensitive resin layer is applied flat, there is a phenomenon that when patterned and cured, the patterned and removed edges rise. The raised portion comes into contact with the second substrate, and a gap is generated between the other portion and the second substrate.

【0006】この盛り上がりを避けるため、例えば、特
開平4−357041号公報では、第2の基板の、厚膜
樹脂層の盛り上りが発生する部分に対応する部分に凹部
を設け、盛り上り部分が第2の基板に当接しないように
して、密着性を高めている。また、例えば、特開平5−
24203号公報には、第2の基板の接合領域の広い部
分に多数の凹部を設け、接着剤の多数の盛り上り部を形
成して接合面積を広くすることが記載されている。
In order to avoid this swelling, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-357041, a concave portion is provided in a portion of the second substrate corresponding to a portion where the thick film resin layer swells. Adhesion is enhanced by avoiding contact with the second substrate. Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open
Japanese Patent No. 24203 describes that a large number of concave portions are provided in a wide portion of a bonding region of a second substrate, and a large number of raised portions of an adhesive are formed to increase a bonding area.

【0007】このような技術により、2枚の基板間の密
着性は改善されたものの、まだ完全ではなく、ときに
は、図11,図12に示すようなノズル面の密着不良が
発生した。図11,図12は、2枚の基板間の密着不良
の状態の説明図である。図11は平面図、図12はA−
A’断面図である。図中、図9と同様の部分には同じ符
号を付して説明を省略する。9aはピット、9bはダミ
ーピット(ダミーノズルに設けられたピットを「ダミー
ピット」と呼ぶことにする。)、10は接合領域、11
は接着剤である。図11において、ピット9a,9bの
列の端部の接合領域10以外は、ほとんどが接合不良の
状態となっている。このとき、ノズル部分は、図12に
示すように、厚膜樹脂層3と第2の基板2とが接合され
ず、それぞれのインク流路が形成されていない。この状
態では、インクジェットヘッドとして使用することはで
きない。
Although the adhesion between the two substrates has been improved by such a technique, it has not been perfect yet, and at times, poor adhesion of the nozzle surface as shown in FIGS. 11 and 12 has occurred. FIGS. 11 and 12 are explanatory diagrams of a state of poor adhesion between two substrates. FIG. 11 is a plan view, and FIG.
It is A 'sectional drawing. In the figure, the same parts as those in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. 9a is a pit, 9b is a dummy pit (a pit provided in a dummy nozzle is referred to as a "dummy pit"), 10 is a bonding area, and 11 is a joining area.
Is an adhesive. In FIG. 11, most of the connection areas other than the connection area 10 at the end of the row of the pits 9a and 9b are in a poor connection state. At this time, in the nozzle portion, as shown in FIG. 12, the thick film resin layer 3 and the second substrate 2 are not joined, and the respective ink flow paths are not formed. In this state, it cannot be used as an ink jet head.

【0008】図13は、従来のインクジェットヘッドの
構造の説明図であり、図13(A)は平面図、図13
(B)はA−A線断面図である。図中、図9,図11,
図12と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略す
る。12はアドレス電極、13は共通電極、14は発熱
素子、15はガラス層、16は保護層、17は発熱素子
保護層、18はピット間壁、19a,19bはチャネル
溝、20は凸部、21は低部、22はダイシング切断領
域である。ただし、図13(A)ではチャネル溝は省略
して図示していない。
FIG. 13 is an explanatory view of the structure of a conventional ink jet head. FIG. 13 (A) is a plan view and FIG.
(B) is a sectional view taken along line AA. 9, FIG. 11, FIG.
The same parts as those in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. 12 is an address electrode, 13 is a common electrode, 14 is a heating element, 15 is a glass layer, 16 is a protection layer, 17 is a heating element protection layer, 18 is a pit-to-pit wall, 19a and 19b are channel grooves, 20 is a projection, 21 is a lower part, and 22 is a dicing cutting area. However, in FIG. 13A, the channel groove is omitted and not shown.

【0009】図13(B)に示すように、第1の基板1
上には、絶縁性を有するガラス層15が設けられてい
る。図10でも述べたように、複数のインクジェットヘ
ッドをウェハ上に作成し、ダイシングにより切断する
が、ノズル切断品質を向上させるため、図13(A)に
示すように、ダイシング切断領域22にはガラス層を露
出させない構造にしてある。
As shown in FIG. 13B, the first substrate 1
A glass layer 15 having an insulating property is provided thereon. As described in FIG. 10, a plurality of ink jet heads are formed on a wafer and cut by dicing. To improve nozzle cutting quality, as shown in FIG. The structure does not expose the layer.

【0010】ガラス層15の上に、インクを吐出するノ
ズルに対応して発熱素子14が配置され、発熱素子14
にアドレス電極12及び共通電極13が接続されてい
る。図13(A)では、下側がインク吐出方向である。
発熱素子14のインク吐出側に共通電極13が、インク
供給口側にアドレス電極12が、それぞれ接続されてい
る。発熱素子14の駆動を行なう駆動回路等への配線
は、インクジェットヘッドの後方あるいは側方から行な
うので、共通電極13はこの例では後方側、すなわち、
図中上方へ向けて配線されている。
On the glass layer 15, heating elements 14 are arranged corresponding to nozzles for discharging ink.
Are connected to the address electrode 12 and the common electrode 13. In FIG. 13A, the lower side is the ink ejection direction.
The common electrode 13 is connected to the ink ejection side of the heating element 14, and the address electrode 12 is connected to the ink supply port side. Wiring to a drive circuit or the like for driving the heating element 14 is performed from the rear or side of the ink jet head.
It is wired upward in the figure.

【0011】発熱素子14の上層には、発熱素子保護層
17が、また、アドレス電極12、共通電極13など、
他の部分には保護層16が形成される。さらに、その上
層には、厚膜樹脂層3が形成される。そして、発熱素子
8の上部の厚膜樹脂層3には、発熱素子の発熱によって
発生する気泡の成長方向を規定する、ピット9aが設け
られる。このとき、端部のノズルは吐出不良が発生しや
すいため、吐出を目的としないダミーノズルが形成され
る。この例では、ダミーノズルに発熱素子が設けられて
いないが、発熱素子を設けたものもある。ダミーノズル
には、それに対応してダミーピット9bが設けられてい
るが、従来のインクジェットヘッドでは、共通電極13
が、図13(B)に示すように、このダミーピット9b
の端部付近を通過している。
A heating element protection layer 17 is formed on the heating element 14, and the address electrode 12, the common electrode 13, etc.
The protection layer 16 is formed on other portions. Further, a thick film resin layer 3 is formed thereon. The thick resin layer 3 above the heating element 8 is provided with pits 9a for defining the growth direction of bubbles generated by the heating of the heating element. At this time, since the ejection failure is likely to occur in the nozzle at the end, a dummy nozzle not intended for ejection is formed. In this example, the dummy nozzle is not provided with a heating element, but there is also one in which a heating element is provided. The dummy nozzle is provided with a corresponding dummy pit 9b.
However, as shown in FIG. 13B, the dummy pit 9b
Passing near the end of.

【0012】一方、第2の基板2には、チャネル溝19
a,19bが形成される。このチャネル溝も、吐出を目
的としないダミーピット9bに対応したチャネル溝19
bが形成されている。この第2の基板2に接着剤11を
塗布し、第1の基板と接合している。
On the other hand, a channel groove 19 is formed in the second substrate 2.
a, 19b are formed. This channel groove also has a channel groove 19 corresponding to the dummy pit 9b not intended for ejection.
b is formed. An adhesive 11 is applied to the second substrate 2 and joined to the first substrate.

【0013】このような従来のインクジェットヘッドに
おいては、図13(B)に示したように、厚膜樹脂層3
の表面に、ダミーピット9bの端部近傍に凸部20が形
成され、この部分が最も凸であることが判明した。すな
わち、ピット列の端部となるダミーピット9bの端部
は、パターンエッジであるため凸状となるとともに、共
通電極13が重なっているため、さらに盛り上がってし
まう。ピット間壁18は幅が狭いため、多少凸になる程
度である。そして、ヘッド端近くでは、低部21が形成
された。厚膜樹脂層3がこのような形状となるため、ダ
ミーピット9bの端部に形成された共通電極13上の凸
部20は、第2の基板2と密着し接合していても、ピッ
ト間壁18やヘッド端近くの低部21が密着接合不良に
なることがあり、インク流路が形成されず、インクジェ
ットヘッドとして使用することはできなかった。
In such a conventional ink jet head, as shown in FIG.
Is formed on the surface near the end of the dummy pit 9b, and this portion is found to be the most convex. That is, the end of the dummy pit 9b, which is the end of the pit row, becomes convex because of the pattern edge, and further rises because the common electrode 13 overlaps. Since the pit-to-pit wall 18 is narrow, it is only slightly convex. Then, near the head end, a low portion 21 was formed. Since the thick resin layer 3 has such a shape, the protrusions 20 on the common electrode 13 formed at the end portions of the dummy pits 9b can be formed between the pits even if they are in close contact with and bonded to the second substrate 2. In some cases, the wall 18 and the lower portion 21 near the end of the head may have poor adhesion and bonding, the ink flow path was not formed, and the ink jet head could not be used.

【0014】本発明の先行技術である特願平5−303
418号に記載したインクジェットヘッドでは、厚膜樹
脂層のピットのパターン端以外の部分に凸部を配置し
て、厚膜樹脂層の平坦性を向上させ、第1の基板と第2
の基板の密着接合状態の改良を図ることが記載されてい
る。
Japanese Patent Application No. 5-303, which is a prior art of the present invention.
In the ink jet head described in No. 418, a convex portion is arranged at a portion other than the pattern end of the pit of the thick film resin layer to improve the flatness of the thick film resin layer, and the first substrate and the second substrate are formed.
To improve the state of close contact bonding of the substrate.

【0015】図14は、上記先行技術によるインクジェ
ットヘッドの構造の説明図であり、図14(A)は平面
図、図14(B)はA−A線断面図である。図中、図1
3と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略する。
23は凸部である。この先行技術では、ヘッド端部の接
合面積の大きい部分に配置される共通電極13を、ダミ
ーピット9bのパターン端位置から距離W離して配置し
た。距離Wは、一例では100μm以上である。
FIG. 14 is an explanatory view of the structure of the above-mentioned prior art ink jet head. FIG. 14 (A) is a plan view, and FIG. 14 (B) is a sectional view taken along line AA. In the figure, FIG.
The same reference numerals are given to the same portions as 3 and the description is omitted.
23 is a convex part. In this prior art, the common electrode 13 arranged in a portion having a large joining area at the head end is arranged at a distance W from the pattern end position of the dummy pit 9b. The distance W is, for example, 100 μm or more.

【0016】このようにして、両基板を接合すると、図
14(B)に示した状態となる。共通電極13に対応し
た厚膜樹脂層3の凸部23が、ピット列端部の凸部20
と分離して発生するので、凸部20が特別高くなること
はなく、また、凸部23により密着性が良好になった。
また、ピット間壁18の部分も、接着剤11により良好
に接合することができる。
When the two substrates are joined in this way, the state shown in FIG. 14B is obtained. The protrusions 23 of the thick resin layer 3 corresponding to the common electrodes 13 are formed by the protrusions 20 at the end of the pit row.
The protrusions 20 are not particularly high, and the adhesion is improved by the protrusions 23.
Also, the portion of the pit-to-pit wall 18 can be satisfactorily joined by the adhesive 11.

【0017】しかしながら、この先行技術においても、
凸部20の問題を残している。凸部20は、ヘッド端部
の接合面積の大きい部分の端部に生じるから、ピット間
壁18の上部より高くなることは避けられない。したが
って、ヘッド端部近傍のインク流路部分に接着の十分で
ない部分が発生することがあるという問題がある。
However, even in this prior art,
The problem of the protrusion 20 remains. Since the protrusion 20 is formed at the end of the portion having a large joint area at the head end, it is inevitable that the protrusion 20 becomes higher than the upper part of the inter-pit wall 18. Therefore, there is a problem that a portion of the ink flow path near the end of the head may not be sufficiently bonded.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した問
題点に鑑みてなされたもので、2枚の基板間の密着性
を、より改善し、接合品質と作製歩留まりを向上させ
て、良好なインクジェットヘッドを提供することを目的
とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has been found to improve the adhesion between two substrates, improve the bonding quality and the production yield, and It is an object to provide a simple inkjet head.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の発熱素
子と該発熱素子に電力を供給する電極が配設され、その
上部に厚膜樹脂層を形成し、少なくとも前記発熱素子上
部の前記厚膜樹脂層にピットがパターン形成された第1
の基板と、インクの流路となる複数の溝を形成した第2
の基板を接合して作製したインクジェットヘッドにおい
て、最端部のダミーノズルに対応して設けられた前記厚
膜樹脂層のピットの幅を、他のピットの幅よりも狭く形
成するとともに、共通電極を、前記最端部のダミーノズ
ルに対応して設けられた前記厚膜樹脂層のピットの端部
から所定距離以上離して配置することを特徴とするもの
である。
According to the present invention, a plurality of heating elements and an electrode for supplying power to the heating elements are provided, and a thick resin layer is formed on the heating element. The first pattern in which pits are formed in the thick resin layer
And a second substrate formed with a plurality of grooves serving as ink flow paths.
In the ink jet head manufactured by bonding the substrates, the width of the pit of the thick resin layer provided corresponding to the dummy nozzle at the end is formed to be narrower than the width of the other pits, and the common electrode is formed. Are arranged at least a predetermined distance away from the end of the pit of the thick resin layer provided corresponding to the dummy nozzle at the end.

【0020】[0020]

【作用】本発明によれば、最端部のダミーピットの幅を
噴射に使用するピットの幅よりも狭く形成することによ
り、最端部のダミーピットにおける厚膜樹脂層の端部に
生じる凸部をチャネル溝の部分に逃がすことができ、基
板間の密着不良を防止できる。また、最端部のダミーピ
ット端部から共通電極までの距離を所定距離以上離すこ
とにより、共通電極により生じる凸部を、ダミーピット
端部の凸部と離すことができ、厚膜樹脂層の表面平坦性
を改善して、基板間の密着不良を、より防止できる。
According to the present invention, the width of the outermost dummy pit is formed to be smaller than the width of the pit used for jetting, so that the outermost dummy pit is formed at the end of the thick film resin layer. The portion can escape to the channel groove portion, and poor adhesion between the substrates can be prevented. In addition, by increasing the distance from the end of the dummy pit at the extreme end to the common electrode by a predetermined distance or more, the protrusion caused by the common electrode can be separated from the protrusion at the end of the dummy pit. By improving the surface flatness, poor adhesion between the substrates can be further prevented.

【0021】[0021]

【実施例】図1は、本発明のインクジェットヘッドの第
1の実施例の説明図であり、図1(A)は平面図、図1
(B)はA−A線断面図である。図中、図13,図14
と同様の部分には同じ符号を付して説明を省略する。ま
ず、第1の基板1は、LSI等の製造装置、製造方法を
用いて作成される。第1の基板1の材質は、シリコンで
ある。第1の基板1上に、蓄熱層または絶縁層となるガ
ラス層15を形成する。ガラス層15は、例えば、シリ
コンの基板1を熱酸化させて熱酸化膜を形成する方法
や、NSG,BPSG,PSG,などを、大気CVD
(化学気相成長)法、熱CVD法、減圧CVD法、プラ
ズマCVD法、スパッタリング法などにより形成する方
法などで構成される。ガラス層15の上に、発熱素子1
4、アドレス電極12、共通電極13と、保護層16、
発熱素子保護層17等を、例えば、各種CVD法やスパ
ッタリング法などにより積層し、パターニングする。発
熱素子14は、例えば、ポリシリコン、ほう化ハフニウ
ム、窒化タンタル等の抵抗体で構成される。アドレス電
極12、共通電極13は、例えば、アルミニウム等で構
成される。共通電極13は、発熱素子14の同時駆動を
行なうため、電流を1アンペア程度流すように設計され
ており、厚さは1〜2μm程度である。共通電極13
は、図1(A)に示すように、ダミーピット9bのパタ
ーンとヘッド端部の接合面積の大きい部分で、ダミーピ
ット9bのパターン端端との距離Wを70μm以上離し
て構成している。発熱素子保護層17は、酸化シリコ
ン、窒化シリコン、タンタル等を、単層、または複数の
層を積層して構成される。保護層16は、ガラス層15
と同様の材料により構成することができる。これらの層
が積層、パターニングされた後、厚膜樹脂層3として、
感光性ポリイミドをスピンコートし、フォトリソ加工し
て、硬化後の膜厚が20〜50μm、一例では、30μ
mになるようにする。ピットの配列方向の配置ピッチ
は、85μmとした。ピットの寸法は、インク噴射方向
にみた長さは120μm、ピット配列方向にみた幅は、
噴射に用いるピットにおいては60μm、端部のダミー
ピットにおいては30μmとした。
FIG. 1 is an explanatory view of a first embodiment of an ink jet head according to the present invention. FIG. 1 (A) is a plan view and FIG.
(B) is a sectional view taken along line AA. 13 and 14 in the figures.
The same parts as those described above are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted. First, the first substrate 1 is created by using a manufacturing apparatus and a manufacturing method such as an LSI. The material of the first substrate 1 is silicon. On the first substrate 1, a glass layer 15 to be a heat storage layer or an insulating layer is formed. The glass layer 15 is formed, for example, by a method of thermally oxidizing the silicon substrate 1 to form a thermal oxide film, or by using NSG, BPSG, PSG, or the like by atmospheric CVD.
(Chemical vapor deposition), thermal CVD, low pressure CVD, plasma CVD, sputtering, etc. The heating element 1 is placed on the glass layer 15.
4, address electrode 12, common electrode 13, protective layer 16,
The heating element protection layer 17 and the like are laminated and patterned by, for example, various CVD methods or sputtering methods. The heating element 14 is made of, for example, a resistor such as polysilicon, hafnium boride, or tantalum nitride. The address electrode 12 and the common electrode 13 are made of, for example, aluminum or the like. The common electrode 13 is designed to flow a current of about 1 amp to drive the heating element 14 at the same time, and has a thickness of about 1 to 2 μm. Common electrode 13
As shown in FIG. 1A, in the portion where the joint area between the pattern of the dummy pit 9b and the head end is large, the distance W between the pattern end of the dummy pit 9b and the end of the pattern is 70 μm or more. The heating element protection layer 17 is formed by stacking a single layer or a plurality of layers of silicon oxide, silicon nitride, tantalum, or the like. The protective layer 16 is made of a glass layer 15
And the same material as described above. After these layers are laminated and patterned, a thick resin layer 3 is formed.
The photosensitive polyimide is spin-coated, photolithographically processed, and has a cured film thickness of 20 to 50 μm, for example, 30 μm.
m. The arrangement pitch of the pits in the arrangement direction was 85 μm. The dimensions of the pits are 120 μm in length when viewed in the ink ejection direction, and
The pit used for injection was 60 μm, and the dummy pit at the end was 30 μm.

【0022】次に、第2の基板2は、シリコンから構成
される。第2の基板2上に、酸化シリコン、窒化膜等で
マスクを形成する。そして、KOH溶液の中で結晶方位
に依存した選択的エッチング、すなわち、異方性エッチ
ング(ODE)を施し、チャネル溝19a,19bや他
のインク流路を形成する。チャネル溝が形成された第2
基板に、例えば、特開昭63−34152号公報に記載
されている方法で、接着剤11を転写塗布する。接着剤
11としては、エポキシ系とシランカップリング剤等が
用いられる。接着剤の転写塗布厚は、1μm前後であ
る。その後、第1の基板1と第2の基板2は、例えば、
特開昭61−230954号公報に記載されているよう
な、赤外線アライメント法等を用いて整合し、加圧加熱
し、密着させ、接着剤を硬化する。
Next, the second substrate 2 is made of silicon. A mask is formed on the second substrate 2 with a silicon oxide film, a nitride film, or the like. Then, selective etching depending on the crystal orientation in the KOH solution, that is, anisotropic etching (ODE) is performed to form the channel grooves 19a and 19b and other ink flow paths. Second channel groove formed
The adhesive 11 is transferred and applied to the substrate by, for example, a method described in JP-A-63-34152. As the adhesive 11, an epoxy-based and silane coupling agent or the like is used. The transfer coating thickness of the adhesive is about 1 μm. Thereafter, the first substrate 1 and the second substrate 2 are, for example,
The alignment is performed by using an infrared alignment method or the like as described in JP-A-61-230954, and the adhesive is cured by pressing and heating, and the adhesive is cured.

【0023】このようにして、両基板を接合すると、図
1(B)に示した状態となる。最端部のダミーピット9
bの幅を、噴射に使用するピット幅よりも狭く形成する
ことにより、凸部20の位置をチャネル溝19bの下に
置くことができる。このように、盛り上がりの大きい凸
部20をチャネル溝19bの空間に逃すことができ、接
着不良の改善ができる。また、最端部のダミーピット9
bの端部から共通電極13までの距離Wを、70μmと
した。共通電極13の位置を、最端部のダミーピット9
bの端部から離すことによって、共通電極13の上方に
形成される凸部23の位置を、凸部20から離すことに
よって、厚膜樹脂層3の表面の平坦性が改善され、基板
間の密着不良を防止できる。
When the two substrates are joined in this way, the state shown in FIG. 1B is obtained. Dummy pit 9 at the end
By forming the width b to be smaller than the pit width used for injection, the position of the projection 20 can be placed below the channel groove 19b. In this manner, the protruding portion 20 having a large bulge can be escaped into the space of the channel groove 19b, and the bonding failure can be improved. Also, the dummy pit 9 at the extreme end
The distance W from the end of b to the common electrode 13 was 70 μm. The position of the common electrode 13 is changed to the dummy pit 9 at the end.
By separating from the end of “b”, the position of the protrusion 23 formed above the common electrode 13 is separated from the protrusion 20, thereby improving the flatness of the surface of the thick film resin layer 3, and Poor adhesion can be prevented.

【0024】図2は、最端部のダミーピット9bの端部
から共通電極13までの距離Wを変えた場合の、厚膜樹
脂層3の表面平坦性を説明するものである。距離Wを、
30μm,50μm,70μm、とした場合の、厚膜樹
脂層3の表面の平坦性を、概念的に示したものであり、
この図では理解しやすいように、基板の厚み方向を拡大
して図示している。通常のピットの幅を60μm、最端
部のダミーピット9bの幅を30μmとした。
FIG. 2 illustrates the surface flatness of the thick resin layer 3 when the distance W from the end of the outermost dummy pit 9b to the common electrode 13 is changed. Distance W
FIG. 6 conceptually shows the flatness of the surface of the thick film resin layer 3 when the thickness is 30 μm, 50 μm, and 70 μm;
In this figure, the thickness direction of the substrate is shown in an enlarged manner for easy understanding. The width of a normal pit was 60 μm, and the width of the dummy pit 9 b at the end was 30 μm.

【0025】図2(A)は、W=30μmの場合であ
り、ダミーピット端部の凸部と共通電極による凸部が重
なるために、凸部24がピット間壁18に比べて高くな
り、両者の高さの差dは2.0μmと大きく、1μm前
後の接着剤厚みに対して、密着接合不良となっていた。
FIG. 2A shows a case where W = 30 μm. Since the protrusion at the end of the dummy pit overlaps with the protrusion formed by the common electrode, the protrusion 24 is higher than the pit wall 18. The difference d in height between them was as large as 2.0 μm, and the adhesion was poor with respect to the adhesive thickness of about 1 μm.

【0026】図2(B)は、W=50μmの場合であ
り、この場合でも、ダミーピット端部の凸部と共通電極
による凸部の重なりが避けられず、dは1.0μmであ
り、1μm前後の接着剤厚みに対して、密着接合不良と
なる場合が多かった。
FIG. 2B shows the case where W = 50 μm. Even in this case, it is inevitable that the protrusion at the end of the dummy pit and the protrusion due to the common electrode overlap, and d is 1.0 μm. For an adhesive thickness of about 1 μm, adhesion bonding failure often occurred.

【0027】図2(C)は、W=70μmの場合であ
る。この場合は、ダミーピット端部の凸部20と共通電
極による凸部23が離れたために、これら凸部とピット
間壁18の差dは、わずか0.2μmとなり、1μm前
後の接着剤厚みに対し、十分密着接合できた。これらの
結果を表わした図3からも分かるように、Wが70μm
以上の場合に、厚膜樹脂層の表面平坦性が改善された。
FIG. 2C shows the case where W = 70 μm. In this case, since the protrusions 20 at the ends of the dummy pits are separated from the protrusions 23 formed by the common electrode, the difference d between these protrusions and the inter-pit wall 18 is only 0.2 μm, and the thickness of the adhesive is about 1 μm. On the other hand, it was possible to sufficiently adhere. As can be seen from FIG. 3 showing these results, W is 70 μm.
In the above case, the surface flatness of the thick resin layer was improved.

【0028】なお、ダミーピットは、図1で説明したよ
うに、通常のピットの幅の半分程度の流路幅が確保され
ていれば十分であり、ダミーノズルとしての機能を確保
できるので、端部ノズルへのインク供給を安定して行な
うことができ、ヘッド端部の画質不良を改善することが
できる。
As described with reference to FIG. 1, it is sufficient for the dummy pit to have a flow passage width which is about half the width of a normal pit, and the function as a dummy nozzle can be ensured. It is possible to stably supply the ink to the nozzles, and it is possible to improve the poor image quality at the end of the head.

【0029】図4は、本発明のインクジェットヘッドの
第2の実施例の説明図であり、図4(A)は平面図、図
4(B)はA−A線断面図である。図中、図1,図1
3,図14と同様の部分には同じ符号を付して説明を省
略する。9b1,9b2はダミーピット、19b1,1
9b2はチャネル溝である。この実施例では、ダミーピ
ットが、9b1,9b2に示すように2個ある点が第1
の実施例と異なっている。ダミーピット4b1の幅は、
インクを吐出するノズルに対応したピット9aの幅と同
じである。最端部のダミーピット9b2の幅は、ダミー
ピット9b1の幅のほぼ半分である。図4(B)に示す
ように、両基板の接合,密着状態は、図1(B)と同様
であり、効果は、図1で説明した第1の実施例と同様で
あった。
FIG. 4 is an explanatory view of a second embodiment of the ink jet head of the present invention. FIG. 4 (A) is a plan view, and FIG. 4 (B) is a sectional view taken along line AA. 1 and FIG.
3, parts similar to those in FIG. 14 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. 9b1, 9b2 are dummy pits, 19b1, 1
9b2 is a channel groove. In this embodiment, the first point is that there are two dummy pits as shown at 9b1 and 9b2.
Is different from the embodiment. The width of the dummy pit 4b1 is
The width is the same as the width of the pit 9a corresponding to the nozzle for discharging ink. The width of the outermost dummy pit 9b2 is substantially half the width of the dummy pit 9b1. As shown in FIG. 4B, the bonding and adhesion of the two substrates are the same as in FIG. 1B, and the effect is the same as in the first embodiment described with reference to FIG.

【0030】図5は、本発明のインクジェットヘッドの
第3の実施例の説明図であり、図5(A)は平面図、図
5(B)はA−A線断面図である。図中、図1,図4,
図13,図14と同様の部分には同じ符号を付して説明
を省略する。この実施例では、図5(A)に示すよう
に、発生する気泡の成長方向を規定する厚膜樹脂層3の
ピット9aとダミーピット9b1,9b2の形状が、第
2の実施例と異なっている。しかし、図5(B)に示す
ように、両基板の接合,密着状態は、図1(B)と同様
であり、効果は、図1で説明した第1の実施例と同様で
あった。
FIG. 5 is an explanatory view of a third embodiment of the ink jet head of the present invention. FIG. 5 (A) is a plan view, and FIG. 5 (B) is a sectional view taken along line AA. In the figures, FIGS. 1, 4
13 and 14 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In this embodiment, as shown in FIG. 5A, the shapes of the pits 9a and the dummy pits 9b1 and 9b2 of the thick resin layer 3 which define the growth direction of the generated bubbles are different from those of the second embodiment. I have. However, as shown in FIG. 5B, the bonding and adhesion of the two substrates are the same as in FIG. 1B, and the effect is the same as in the first embodiment described with reference to FIG.

【0031】図6は、本発明のインクジェットヘッドの
第4の実施例の説明図であり、図6(A)は平面図、図
6(B)はB−B線断面図である。図中、図1,図4,
図13,図14と同様の部分には同じ符号を付して説明
を省略する。25a,25b1,25bはパイパスピッ
トである。この実施例では、リザーバ部からノズルにイ
ンクを供給するために、各ノズルに個別のパイパスピッ
ト25a,25b1,25b2を設けている。この場合
には、最端部のダミーピット9b2に加えて、さらに最
端部の個別のバイパスピット25b2の幅も、噴射に使
用するバイパスピット17aの幅よりも狭く形成した。
ピット部におけるA−A線断面図は、図4(B)と同様
であり、図示を省略するが、基板間の密着状態は良好で
あった。また、図6(B)に示すように、バイパスピッ
ト部のB−B線断面も、第1の実施例のピット部のA−
A線断面図と同様に、基板間の密着状態は良好であっ
た。
FIG. 6 is an explanatory view of a fourth embodiment of the ink jet head of the present invention. FIG. 6 (A) is a plan view, and FIG. 6 (B) is a sectional view taken along line BB. In the figures, FIGS. 1, 4
13 and 14 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. 25a, 25b1, 25b are bypass pits. In this embodiment, individual bypass pits 25a, 25b1, 25b2 are provided for each nozzle in order to supply ink from the reservoir to the nozzles. In this case, in addition to the dummy pit 9b2 at the end, the width of the individual bypass pit 25b2 at the end is formed to be narrower than the width of the bypass pit 17a used for injection.
The cross-sectional view taken along the line AA in the pit portion is the same as that in FIG. 4B and is not shown, but the state of close contact between the substrates was good. Further, as shown in FIG. 6B, the cross section taken along the line BB of the bypass pit portion is also taken along the line A-B of the pit portion of the first embodiment.
As in the cross-sectional view along the line A, the state of adhesion between the substrates was good.

【0032】図7は、本発明のインクジェットヘッドの
第5の実施例の説明図であり、図7(A)は平面図、図
7(B)はB−B線断面図である。図中、図1,図4,
図13,図14と同様の部分には同じ符号を付して説明
を省略する。25はバイパスピットである。この実施例
では、図6で説明したバイパスピット部を複数のノズル
に対して共通のバイパスピット25として形成した。共
通のバイパスピット25にインク流路が連結されたノズ
ルには、リザーバ部からバイパスピット25を介してイ
ンクが供給される。この実施例の場合には、バイパスピ
ット25の端部は、図6で説明した最端部のダミーピッ
ト9b2の端部と同じ位置とした。ピット部のA−A線
断面図は、図4(B)と同様であり、図示は省略する
が、基板間の密着状態は良好であった。また、図7
(B)に示すように、共通のバイパスピット部のB−B
線断面も、第1の実施例のピット部のA−A線断面図と
同様に、基板間の密着状態は良好であった。
FIG. 7 is an explanatory view of a fifth embodiment of the ink jet head of the present invention. FIG. 7 (A) is a plan view, and FIG. 7 (B) is a sectional view taken along line BB. In the figures, FIGS. 1, 4
13 and 14 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. 25 is a bypass pit. In this embodiment, the bypass pit described in FIG. 6 is formed as a common bypass pit 25 for a plurality of nozzles. Ink is supplied from the reservoir through the bypass pit 25 to the nozzles whose ink flow paths are connected to the common bypass pit 25. In this embodiment, the end of the bypass pit 25 is located at the same position as the end of the outermost dummy pit 9b2 described with reference to FIG. The cross-sectional view taken along the line AA of the pit portion is the same as that of FIG. 4B, and although not shown, the state of close contact between the substrates was good. FIG.
As shown in (B), BB of the common bypass pit portion
In the line cross section, as in the AA cross section of the pit portion in the first embodiment, the state of close contact between the substrates was good.

【0033】図8は、本発明のインクジェットヘッドの
第6の実施例の説明図であり、図8(A)は平面図、図
8(B)はB−B線断面図である。図中、図1,図5,
図6,図13,図14と同様の部分には同じ符号を付し
て説明を省略する。この実施例では、第4の実施例のよ
うに、各ノズルに個別のパイパスピット25a,25b
1,25b2を用いて、リザーバ部からノズルにインク
を供給している。さらに、この実施例では、第3の実施
例と同様に、発生する気泡の成長方向を規定する厚膜樹
脂層3のピット9a,9b1,9b2の形状が、第4の
実施例と異なっている。この実施例の場合にも、最端部
の個別のバイパスピット17b2の幅を、噴射に使用す
るバイパスピット17aの幅よりも狭く形成した。ピッ
ト部のA−A線断面図は、図4(B)と同様であり、図
示は省略するが、基板間の密着状態は良好であった。ま
た、図8(B)に示すように、バイパスピット部のB−
B線断面も、第1の実施例のピット部のA−A線断面図
と同様に、基板間の密着状態は良好であった。
FIG. 8 is an explanatory view of a sixth embodiment of the ink jet head of the present invention. FIG. 8 (A) is a plan view, and FIG. 8 (B) is a sectional view taken along line BB. In the figures, FIG. 1, FIG. 5,
6, 13, and 14 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. In this embodiment, as in the fourth embodiment, individual bypass pits 25a and 25b are provided for each nozzle.
Ink is supplied from the reservoir to the nozzles using 1, 25b2. Further, in this embodiment, similarly to the third embodiment, the shapes of the pits 9a, 9b1, 9b2 of the thick film resin layer 3 for defining the growth direction of the generated bubbles are different from the fourth embodiment. . Also in the case of this embodiment, the width of the individual bypass pit 17b2 at the end is formed to be narrower than the width of the bypass pit 17a used for injection. The cross-sectional view taken along the line AA of the pit portion is the same as that of FIG. 4B, and although not shown, the state of close contact between the substrates was good. Further, as shown in FIG.
As in the cross section taken along the line AA of the pit portion in the first embodiment, the state of close contact between the substrates was good also in the cross section taken along the line B.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、最端部のダミーピット部の幅を、噴射に使用
するピット幅よりも狭く形成し、また、最端部のダミー
ピット端部から共通電極までの距離を、所定距離以上離
すことにより、第1の基板と第2の基板との密着接合状
態が良くなり、作製歩留まりが向上し、インク噴射特性
がより安定化するという効果がある。
As apparent from the above description, according to the present invention, the width of the outermost dummy pit portion is formed smaller than the width of the pit used for injection, and the outermost dummy pit portion is formed. By increasing the distance from the pit end to the common electrode by a predetermined distance or more, the state of close bonding between the first substrate and the second substrate is improved, the production yield is improved, and the ink ejection characteristics are more stabilized. This has the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のインクジェットヘッドの第1の実施
例の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a first embodiment of an ink jet head of the present invention.

【図2】 最端部のダミーピットの端部から共通電極ま
での距離Wを変えた場合の、厚膜樹脂層の表面の平坦性
を説明する断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the flatness of the surface of a thick resin layer when a distance W from an end of a dummy pit at the end to a common electrode is changed.

【図3】 図2の結果の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the result of FIG. 2;

【図4】 本発明のインクジェットヘッドの第2の実施
例の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a second embodiment of the ink jet head of the present invention.

【図5】 本発明のインクジェットヘッドの第3の実施
例の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory view of a third embodiment of the ink jet head of the present invention.

【図6】 本発明のインクジェットヘッドの第4の実施
例の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a fourth embodiment of the ink jet head of the present invention.

【図7】 本発明のインクジェットヘッドの第5の実施
例の説明図である。
FIG. 7 is an explanatory view of a fifth embodiment of the ink jet head of the present invention.

【図8】 本発明のインクジェットヘッドの第6の実施
例の説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of a sixth embodiment of the ink jet head of the present invention.

【図9】 一般的なインクジェットヘッドの外観の説明
図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram of the appearance of a general inkjet head.

【図10】 一般的なインクジェットヘッドの作成方法
の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a method for producing a general inkjet head.

【図11】 2枚の基板間の密着不良の状態の平面図で
ある。
FIG. 11 is a plan view showing a state of poor adhesion between two substrates.

【図12】 2枚の基板間の密着不良の状態の断面図で
ある。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state of poor adhesion between two substrates.

【図13】 従来のインクジェットヘッドの構造の説明
図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram of a structure of a conventional inkjet head.

【図14】 先行技術のインクジェットヘッドの構造の
説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram of a structure of a prior art inkjet head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…第1の基板、2…第2の基板、3…厚膜樹脂層、4
…ノズル、5…インク流入口、6…ワイヤボンディン
グ、7…インク滴、8…切断ライン、9a…ピット、9
b,9b1,9b2…ダミーピット、10…接合領域、
11…接着剤、12…アドレス電極、13…共通電極、
14…発熱素子、15…ガラス層、16…保護層、17
…発熱素子保護層、18…ピット間壁、19a,19
b,19b1,19b2…チャネル溝、20…凸部、2
1…低部、22…ダイシング切断領域、23,24…凸
部、25,25a,25b1,25b…パイパスピッ
ト。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 1st board | substrate, 2 ... 2nd board | substrate, 3 ... thick film resin layer, 4
... nozzle, 5 ... ink inlet, 6 ... wire bonding, 7 ... ink drop, 8 ... cutting line, 9a ... pit, 9
b, 9b1, 9b2: dummy pit, 10: joining area,
11: adhesive, 12: address electrode, 13: common electrode,
14: heating element, 15: glass layer, 16: protective layer, 17
... heat-generating element protective layer, 18 ... pit wall, 19a, 19
b, 19b1, 19b2 ... channel groove, 20 ... convex part, 2
1 low part, 22 dicing cutting area, 23, 24 convex part, 25, 25a, 25b1, 25b ... bypass pit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小竹 直志 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼ ロックス株式会社内 (72)発明者 鈴木 雅 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼ ロックス株式会社内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Naoshi Kotake 2274 Hongo, Fujina Rocks, Ebina-shi, Kanagawa Prefecture (72) Inventor Masaru Suzuki 2274 Hongo, Hongo, Ebina-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Xerox Co., Ltd. (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B41J 2/05

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の発熱素子と該発熱素子に電力を供
給する電極が配設され、その上部に厚膜樹脂層を形成
し、少なくとも前記発熱素子上部の前記厚膜樹脂層にピ
ットがパターン形成された第1の基板と、インクの流路
となる複数の溝を形成した第2の基板を接合して作製し
たインクジェットヘッドにおいて、最端部のダミーノズ
ルに対応して設けられた前記厚膜樹脂層のピットの幅
を、他のピットの幅よりも狭く形成するとともに、共通
電極を、前記最端部のダミーノズルに対応して設けられ
た前記厚膜樹脂層のピットの端部から所定距離以上離し
て配置することを特徴とするインクジェットヘッド。
A plurality of heating elements and electrodes for supplying power to the heating elements are provided, and a thick resin layer is formed thereon, and pits are formed in at least the thick resin layer above the heating elements. In the ink jet head manufactured by joining the formed first substrate and the second substrate in which a plurality of grooves serving as ink flow paths are formed, the thickness provided corresponding to the dummy nozzle at the outermost end is formed. The width of the pit of the film resin layer is formed narrower than the width of the other pits, and the common electrode is formed from the end of the pit of the thick film resin layer provided corresponding to the dummy nozzle at the end. An ink jet head, which is arranged at a predetermined distance or more.
JP25995794A 1994-10-25 1994-10-25 Inkjet head Expired - Fee Related JP3232915B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25995794A JP3232915B2 (en) 1994-10-25 1994-10-25 Inkjet head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25995794A JP3232915B2 (en) 1994-10-25 1994-10-25 Inkjet head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08118633A JPH08118633A (en) 1996-05-14
JP3232915B2 true JP3232915B2 (en) 2001-11-26

Family

ID=17341276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25995794A Expired - Fee Related JP3232915B2 (en) 1994-10-25 1994-10-25 Inkjet head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3232915B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6520233B2 (en) * 2015-03-06 2019-05-29 セイコーエプソン株式会社 Method of manufacturing electronic device, and electronic device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08118633A (en) 1996-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5132707A (en) Ink jet printhead
JPH09109392A (en) Manufacture of ink jet recording head, ink jet recording head manufactured by such manufacturing method and ink jet recorder
JP6422318B2 (en) Liquid discharge head and method of manufacturing liquid discharge head
JPH07186388A (en) Large scale arrangement ink jet print head and its production
JP6439331B2 (en) Method for manufacturing liquid ejection device, and liquid ejection device
JP4195347B2 (en) Inkjet printhead manufacturing method
US7914123B2 (en) Inkjet printhead and manufacturing method thereof
JP3339971B2 (en) How to assemble a thermal ink jet printhead
JP4904910B2 (en) Method for manufacturing liquid jet head and liquid jet head
JP3232915B2 (en) Inkjet head
US6368515B1 (en) Method of manufacturing ink-jet printer head
JP3248964B2 (en) Liquid jet recording head and liquid jet recording apparatus having the same
US6592209B2 (en) Printer, printer head, and method of producing the printer head
JP3861532B2 (en) Inkjet printer head manufacturing method
JP3275600B2 (en) Inkjet recording head
JP2962003B2 (en) Thermal inkjet recording head
JP3109154B2 (en) Method of manufacturing ink jet recording head
JPH05338168A (en) Ink jet recording head
JPH07132605A (en) Ink jet head
JP3019561B2 (en) Thermal inkjet recording head
JP2887971B2 (en) Thermal inkjet head
JPH08187862A (en) Ink jet recording head
KR100522603B1 (en) Monolithic inkjet printhead and method of manufacturing thereof
JP2932808B2 (en) Ink jet recording head and method of manufacturing the same
JP2927083B2 (en) Inkjet recording head

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees