JP3231650B2 - 回折格子パターン - Google Patents
回折格子パターンInfo
- Publication number
- JP3231650B2 JP3231650B2 JP02653897A JP2653897A JP3231650B2 JP 3231650 B2 JP3231650 B2 JP 3231650B2 JP 02653897 A JP02653897 A JP 02653897A JP 2653897 A JP2653897 A JP 2653897A JP 3231650 B2 JP3231650 B2 JP 3231650B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- dot
- pattern
- dots
- grating pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム露光装
置を用いて微小な回折格子（グレーティング）をドット
毎に２次元平面に配置することにより形成されるディス
プレイに関する。
置を用いて微小な回折格子（グレーティング）をドット
毎に２次元平面に配置することにより形成されるディス
プレイに関する。
【０００２】
【従来の技術】２光束干渉法による回折格子パターンを
有するディスプレイ及びその作製方法は特開昭６０−１
５６００４号に開示されている。この従来技術の方法
は、２光束干渉による微小な干渉縞をそのピッチ，方
向，および光強度を変化させて感光性フィルムに次々と
露光するものである。
有するディスプレイ及びその作製方法は特開昭６０−１
５６００４号に開示されている。この従来技術の方法
は、２光束干渉による微小な干渉縞をそのピッチ，方
向，および光強度を変化させて感光性フィルムに次々と
露光するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術におい
ては、レーザー光を利用した２光束干渉によるため、ド
ット内に形成される回折格子の自由度は低いものであっ
た。即ち、回折格子を直線状には形成できても、曲線状
には形成できず、そのため、パターンの視域を広くする
ことができなかった。
ては、レーザー光を利用した２光束干渉によるため、ド
ット内に形成される回折格子の自由度は低いものであっ
た。即ち、回折格子を直線状には形成できても、曲線状
には形成できず、そのため、パターンの視域を広くする
ことができなかった。
【０００４】本発明は、上記従来の問題点を解決するた
めになされたもので、レーザー光を利用した２光束干渉
よりも、ドット内に形成される回折格子の自由度が高
く、特に視域の広いパターンを提供することを目的とす
る。
めになされたもので、レーザー光を利用した２光束干渉
よりも、ドット内に形成される回折格子の自由度が高
く、特に視域の広いパターンを提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の回折格子パターンは、回折格子からなる微小
なドットが、回折格子の空間周波数、回折格子の方向、
各ドットが配置されるピッチ、各ドットの並び方の少な
くとも何れかが変化して、基板表面に複数配置されてな
る回折格子パターンにおいて、２以上の回折格子の方向
を持ち、前記方向に応じて、観察位置・方向の違いによ
っては、それぞれ異なるパターン（画像）が視覚される
と共に、電子ビーム露光により描画される曲線の回折格
子からなる微小なドットを含むことを特徴とする。
の本発明の回折格子パターンは、回折格子からなる微小
なドットが、回折格子の空間周波数、回折格子の方向、
各ドットが配置されるピッチ、各ドットの並び方の少な
くとも何れかが変化して、基板表面に複数配置されてな
る回折格子パターンにおいて、２以上の回折格子の方向
を持ち、前記方向に応じて、観察位置・方向の違いによ
っては、それぞれ異なるパターン（画像）が視覚される
と共に、電子ビーム露光により描画される曲線の回折格
子からなる微小なドットを含むことを特徴とする。
【０００６】本発明の回折格子パターンは、回折格子が
電子ビーム露光装置により描画されて形成されるため、
ドット毎に回折格子の空間周波数，回折格子の方向が制
御でき、回折格子を曲線で形成する場合は、その曲率も
制御できる。 このため、例えば、直線状の回折格子から
なるドットと曲線の回折格子からなるドットを同一パタ
ーン内に混在させることができ、従って、極めて多彩な
パターン表現が可能となる。曲線の回折格子からなる微
小なドットは、回折格子の曲率がドット毎に変化しても
良い。
電子ビーム露光装置により描画されて形成されるため、
ドット毎に回折格子の空間周波数，回折格子の方向が制
御でき、回折格子を曲線で形成する場合は、その曲率も
制御できる。 このため、例えば、直線状の回折格子から
なるドットと曲線の回折格子からなるドットを同一パタ
ーン内に混在させることができ、従って、極めて多彩な
パターン表現が可能となる。曲線の回折格子からなる微
小なドットは、回折格子の曲率がドット毎に変化しても
良い。
【０００７】
【発明の実施の形態】電子ビーム露光装置を用いた、本
発明に係る回折格子パターンを有するディスプレイの作
製方法を第１図乃至第３図を参照して説明する。図１に
示すように電子ビーム露光装置は、電子銃５０、アライ
メント５２、ブランカー５４、コンデンサーレンズ５
６、スティグメータ５８、ディフレクター６０、対物レ
ンズ６２、Ｘ−Ｙステージ２０からなる。Ｘ−Ｙステー
ジ２０上にはＥＢレジスト（乾板）１４が載置されてい
る。ブランカー５４、ディフレクター６０及びＸ−Ｙス
テージ２０はコントロールインターフェイス６４を介し
てコンピュータ６６に接続されている。電子銃５０から
照射された電子ビームは、コンピュータ６６に制御され
て乾板１４上を走査する。
発明に係る回折格子パターンを有するディスプレイの作
製方法を第１図乃至第３図を参照して説明する。図１に
示すように電子ビーム露光装置は、電子銃５０、アライ
メント５２、ブランカー５４、コンデンサーレンズ５
６、スティグメータ５８、ディフレクター６０、対物レ
ンズ６２、Ｘ−Ｙステージ２０からなる。Ｘ−Ｙステー
ジ２０上にはＥＢレジスト（乾板）１４が載置されてい
る。ブランカー５４、ディフレクター６０及びＸ−Ｙス
テージ２０はコントロールインターフェイス６４を介し
てコンピュータ６６に接続されている。電子銃５０から
照射された電子ビームは、コンピュータ６６に制御され
て乾板１４上を走査する。
【０００８】図２はＸ−Ｙステージ２０上に載置された
乾板１４を示している。電子銃５０から発射された電子
ビーム７０はドット１６を単位にして回折格子パターン
１８を描画する。Ｘ−Ｙステージ２０を移動させること
により、次々とドット毎に回折格子パターン１８を描画
する。
乾板１４を示している。電子銃５０から発射された電子
ビーム７０はドット１６を単位にして回折格子パターン
１８を描画する。Ｘ−Ｙステージ２０を移動させること
により、次々とドット毎に回折格子パターン１８を描画
する。
【０００９】以下、図３を参照して操作手順を説明す
る。先ず、ステップａにおいて、イメージスキャナを用
いて画像データを読取り、コンピュータに入力する。ま
たは、コンピュータ・グラフィックスの画像データをコ
ンピュータに入力してもよい。次に、ステップｂにおい
て、入力した画像データの体裁を整えるために画像デー
タを修正する。イメージスキャナにより読取られたまま
の画像データは、エッジの部分がギザギザになっている
ので、コンピュータで画像の修正を行う。次にステップ
ｃにおいて、コンピュータに視域データを入力する。こ
の視域データは、入力した画像データをディスプレイと
して再生したときに、そのディスプレイの見える方向及
び視域を各ドット毎に定めるものである。次にステップ
ｄにおいて、Ｘ−Ｙステージを原点に移動させ、ステッ
プｅでドットデータをコンピュータに入力する。このド
ットデータは、修正した画像データのうち、一つのドッ
トの場所、そのドットの色（空間周波数）、そのドット
の見える方向、そのドットの見える範囲に関するデータ
である。次にステップｅで入力したドットの色を再現す
るように、回折格子のピッチをステップｆで求める。ま
たステップｅで入力したドットの見える方向を再現する
ように、回折格子の方向をステップｇで求める。更に、
ステップｅで入力したドットの見える範囲を再現するよ
うに、回折格子の曲率をステップｈで求める。なおステ
ップｆ、ｇ、ｈの順番はこの例に限られずどのような順
番になってもよい。次にステップｉにおいて、ステップ
ｅで入力したドットの位置までＸ−Ｙステージを移動
し、ステップｊにおいてそのドットの回折格子の描画を
行う。この一連のステップにより、一つのドットに対応
した回折格子の描画が完了する。
る。先ず、ステップａにおいて、イメージスキャナを用
いて画像データを読取り、コンピュータに入力する。ま
たは、コンピュータ・グラフィックスの画像データをコ
ンピュータに入力してもよい。次に、ステップｂにおい
て、入力した画像データの体裁を整えるために画像デー
タを修正する。イメージスキャナにより読取られたまま
の画像データは、エッジの部分がギザギザになっている
ので、コンピュータで画像の修正を行う。次にステップ
ｃにおいて、コンピュータに視域データを入力する。こ
の視域データは、入力した画像データをディスプレイと
して再生したときに、そのディスプレイの見える方向及
び視域を各ドット毎に定めるものである。次にステップ
ｄにおいて、Ｘ−Ｙステージを原点に移動させ、ステッ
プｅでドットデータをコンピュータに入力する。このド
ットデータは、修正した画像データのうち、一つのドッ
トの場所、そのドットの色（空間周波数）、そのドット
の見える方向、そのドットの見える範囲に関するデータ
である。次にステップｅで入力したドットの色を再現す
るように、回折格子のピッチをステップｆで求める。ま
たステップｅで入力したドットの見える方向を再現する
ように、回折格子の方向をステップｇで求める。更に、
ステップｅで入力したドットの見える範囲を再現するよ
うに、回折格子の曲率をステップｈで求める。なおステ
ップｆ、ｇ、ｈの順番はこの例に限られずどのような順
番になってもよい。次にステップｉにおいて、ステップ
ｅで入力したドットの位置までＸ−Ｙステージを移動
し、ステップｊにおいてそのドットの回折格子の描画を
行う。この一連のステップにより、一つのドットに対応
した回折格子の描画が完了する。
【００１０】次にステップｋにおいて次のドットのデー
タを入力するために、データを参照するアドレスを１だ
け増す。そしてステップｌにおいて、このアドレスにお
ける画像データが存在するときには、ステップｅに戻り
別のドットデータを入力し、ステップｆ、ｇ、ｈ、ｉ、
ｋを繰返す。この一連のステップをドットに対応した画
像データがなくなるまで続ける。
タを入力するために、データを参照するアドレスを１だ
け増す。そしてステップｌにおいて、このアドレスにお
ける画像データが存在するときには、ステップｅに戻り
別のドットデータを入力し、ステップｆ、ｇ、ｈ、ｉ、
ｋを繰返す。この一連のステップをドットに対応した画
像データがなくなるまで続ける。
【００１１】電子ビーム露光装置によれば、電子ビーム
を様々な方向に走査することができるので、所望の回折
格子パターンを描画することができる。図４に示すよう
に、空間周波数ｆ１を有するパターンと空間周波数ｆ２
を有するパターンを重ね合せて、空間周波数ｆ１とｆ２
が混在した回折格子パターンを形成できる。このように
複数の周波数を有する回折格子パターンによれば、中間
色を表現できる。また図５に示すように回折格子の方向
をドット毎に変えることができる。図６に示すように、
一つのドットに複数の方向を向いた回折格子を混在させ
ることもできる。図５及び図６のようなパターンによれ
ば、ディスプレイの像を観察者の見る位置によって変化
させることも可能である。
を様々な方向に走査することができるので、所望の回折
格子パターンを描画することができる。図４に示すよう
に、空間周波数ｆ１を有するパターンと空間周波数ｆ２
を有するパターンを重ね合せて、空間周波数ｆ１とｆ２
が混在した回折格子パターンを形成できる。このように
複数の周波数を有する回折格子パターンによれば、中間
色を表現できる。また図５に示すように回折格子の方向
をドット毎に変えることができる。図６に示すように、
一つのドットに複数の方向を向いた回折格子を混在させ
ることもできる。図５及び図６のようなパターンによれ
ば、ディスプレイの像を観察者の見る位置によって変化
させることも可能である。
【００１２】また、図７に示すように曲線状の回折格子
を有するドットを形成することも可能である。このよう
な曲線の回折格子を形成すると視域を広げることができ
る。
を有するドットを形成することも可能である。このよう
な曲線の回折格子を形成すると視域を広げることができ
る。
【００１３】このように、電子ビーム露光装置を用いる
ことにより、２光束のレーザー光線を用いた場合よりも
多彩な表現を持つディスプレイを作製することが可能と
なる。このようにして形成された回折格子を有する乾板
は複製のための原版として使用できる。複製を行うため
にはよく知られているエンボス法を用いる。
ことにより、２光束のレーザー光線を用いた場合よりも
多彩な表現を持つディスプレイを作製することが可能と
なる。このようにして形成された回折格子を有する乾板
は複製のための原版として使用できる。複製を行うため
にはよく知られているエンボス法を用いる。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は、様々な形
状の回折格子からなるドットを面上に形成することによ
り、以下に示すような多彩な表現を有するディスプレイ
を作製できる。 （ａ）空間周波数の異なる微小な回折格子からなるドッ
トの集りによって画像を構成しているので、照明光が拡
散せずに観察者の目に入ってくる。したがって、明るい
ディスプレイを提供できる。 （ｂ）微小なドットの組合せによってパターンを構成し
ているので、０．１ｍｍ以下の精度で色合せが可能とな
る。従って、細紋パターンなどの細かいパターンを作製
できる。 （ｃ）様々な方向を向いた回折格子パターンを提供でき
る。従って、観察者の見る方向によってパターンが変化
するディスプレイの作製が可能となる。このようなディ
スプレイを電子ビーム露光装置により作製すれば、より
容易に作製できる。 （ｄ）曲線の回折格子パターンによりドットを構成して
いるので、従来のディスプレイに比較して非常に広い視
域を持つディスプレイを作製できる。このようなディス
プレイを電子ビーム露光装置により作製すると、より容
易に作製できる。
状の回折格子からなるドットを面上に形成することによ
り、以下に示すような多彩な表現を有するディスプレイ
を作製できる。 （ａ）空間周波数の異なる微小な回折格子からなるドッ
トの集りによって画像を構成しているので、照明光が拡
散せずに観察者の目に入ってくる。したがって、明るい
ディスプレイを提供できる。 （ｂ）微小なドットの組合せによってパターンを構成し
ているので、０．１ｍｍ以下の精度で色合せが可能とな
る。従って、細紋パターンなどの細かいパターンを作製
できる。 （ｃ）様々な方向を向いた回折格子パターンを提供でき
る。従って、観察者の見る方向によってパターンが変化
するディスプレイの作製が可能となる。このようなディ
スプレイを電子ビーム露光装置により作製すれば、より
容易に作製できる。 （ｄ）曲線の回折格子パターンによりドットを構成して
いるので、従来のディスプレイに比較して非常に広い視
域を持つディスプレイを作製できる。このようなディス
プレイを電子ビーム露光装置により作製すると、より容
易に作製できる。
【図１】本発明の回折格子パターンを有するディスプレ
イの作製装置の概略図。
イの作製装置の概略図。
【図２】Ｘ−Ｙステージに載置されたＥＢレジストを示
す図。
す図。
【図３】本発明の回折格子パターンを有するディスプレ
イの作製方法のフローチャート図。
イの作製方法のフローチャート図。
【図４】複数の空間周波数を有する回折格子から形成さ
れたドットを示す図。
れたドットを示す図。
【図５】ドット毎に回折格子の方向が異なるパターンを
示す図。
示す図。
【図６】複数の方向を向いた回折格子を有するドットか
らなるパターンを示す図。
らなるパターンを示す図。
【図７】曲線の回折格子からなるドットを示す図。
１４…乾板 １６…ドット １８…回折格子 ２０…Ｘ−Ｙステージ ５０…電子銃 ５４…ブランカー ６０…ディフレクター ６４…コントロールインターフェイス ６６…コンピュータ ７０…電子ビーム
Claims (2)
- 【請求項１】回折格子からなる微小なドットが、回折格
子の空間周波数、回折格子の方向、各ドットが配置され
るピッチ、各ドットの並び方の少なくとも何れかが変化
して、基板表面に複数配置されてなる回折格子パターン
において、 ２以上の回折格子の方向を持ち、前記方向に応じて、観
察位置・方向の違いによっては、それぞれ異なるパター
ン（画像）が視覚されると共に、 電子ビーム露光により描画される曲線の回折格子からな
る微小なドットを含むことを特徴とする回折格子パター
ン。 - 【請求項２】回折格子の曲率が変化したドットを含むこ
とを特徴とする請求項１記載の回折格子パターン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02653897A JP3231650B2 (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 回折格子パターン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02653897A JP3231650B2 (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 回折格子パターン |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22247888A Division JPH0812285B2 (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 回折格子パターンを有するディスプレイとその作製方法 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5769497A Division JPH09230122A (ja) | 1997-03-12 | 1997-03-12 | 回折格子パターン |
| JP2001237432A Division JP2002122721A (ja) | 2001-08-06 | 2001-08-06 | 回折格子パターン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09189804A JPH09189804A (ja) | 1997-07-22 |
| JP3231650B2 true JP3231650B2 (ja) | 2001-11-26 |
Family
ID=12196281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02653897A Expired - Lifetime JP3231650B2 (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 回折格子パターン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3231650B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6867846B2 (en) * | 2003-01-15 | 2005-03-15 | Asml Holding Nv | Tailored reflecting diffractor for EUV lithographic system aberration measurement |
-
1997
- 1997-02-10 JP JP02653897A patent/JP3231650B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09189804A (ja) | 1997-07-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070914 Year of fee payment: 6 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080914 Year of fee payment: 7 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |