JP3230680U - 基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置 - Google Patents

Abstract

【課題】全体の体積を縮小する、基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置を提供する。【解決手段】剥離剤濾過装置１は、（１）剥離剤２を充填する薬剤槽１１と、薬剤槽の上方に設置されるスプレー機構１２を含み、剥離剤がスプレー機構を通じて基板３に対し膜剥離作業を実行する膜剥離機１０、（２）振動台２１と、振動台に設置される振動機構２２を含み、振動機構が、薬剤槽の対向する側に位置する一対のアクチュエータ２２１、一対のアクチュエータにより駆動される一対の偏心機構２２２、及び一対の偏心機構に接続される接続ロッドを含む振動機２０、及び（３）振動台に設置されており、フィルタネット４１と、フィルタネットを取り囲むフィルタフレーム４２を含み、フィルタフレームは接続ロッドに接続されており、且つ一部が薬剤槽とスプレー機構の間まで延伸して膜剥離作業を経た廃棄膜薬剤を受け止める濾過構造４０、を含む。【選択図】図１

Description

本考案は基板のウェットプロセスに関し、特に、基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置に関する。

一般的に、回路基板のウェットプロセスには、成膜、製板及び膜洗浄等のフローが含まれる。膜洗浄とは、化学薬剤を用い、回路の表面に成型されたドライフィルムをスプレー洗浄方式で剥離することをいう。また、前記化学薬剤には、膜洗浄のあと、通常は化学薬剤とドライフィルム等の剥離された固体が含まれる。そのため、膜洗浄後の化学薬剤は、濾過することで化学薬剤とドライフィルム等の廃棄物とを分離しなければ回収して再利用することができない。

現在のところ、膜洗浄後の化学薬剤を濾過する方式としては、基板のウェットプロセスデバイス（膜剥離槽）の近傍に濾過槽を別途接続し、濾過デバイスによって化学薬剤とドライフィルム廃棄物を分離するプロセスを実行している。また、ドライフィルム廃棄物を除去した化学薬剤溶液は、収集後にポンプを利用して膜剥離槽のスプレーデバイスに戻すことが可能であり、これにより循環利用の目的を達成している。しかし、従来の基板のウェットプロセスデバイスには濾過槽が別途接続されるため全体の体積が非常に大きくなる。その結果、あまりにも多くのスペースを占有し、設置しにくいことから、改良が必要とされている。

以上に鑑みて、上記の従来技術について研究に勤しむとともに、学術理論を運用し、上記の課題の解決に尽力することが本考案者の改良目標となった。

本考案の目的の一つは、全体の体積を縮小するとの目的を達成するために、基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置を提供することである。

上記の目的を達成するために、本考案の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置は、膜剥離機、振動機及び濾過構造を含む。膜剥離機は、剥離剤を充填する薬剤槽と、薬剤槽の上方に設置されるスプレー機構を含む。剥離剤は、スプレー機構を通じて基板に対し膜剥離作業を実行する。振動機は、振動台と、振動台に設置される振動機構を含む。振動機構は、薬剤槽の対向する側に位置する一対のアクチュエータ、当該一対のアクチュエータにより駆動される一対の偏心機構、及び当該一対の偏心機構に接続される接続ロッドを含む。濾過構造は振動台に設置されている。また、濾過構造は、フィルタネットと、フィルタネットを取り囲むフィルタフレームを含む。フィルタフレームは接続ロッドに接続されており、且つ一部が薬剤槽とスプレー機構の間まで延伸して膜剥離作業を経た廃棄膜薬剤を受け止める。

本考案の目的の一つは、振動機が振動台の底部に設置されるダンパーであって、振動機構の動作によって振動台に発生した振動を吸収することで騒音を低減可能な基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置を提供することである。

従来と比較して、本考案の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置は、振動機を膜剥離機の一方の側に設置し、濾過構造を膜剥離機と振動機の間に設置している。また、ガイド構造がスプレー機構と基板の下方に設置されており、膜剥離作業後に形成される剥離膜を有する薬剤を受け止めるとともに、剥離剤を回収して再利用するために、廃棄膜薬剤を濾過構造に案内して濾過作業を実行する。これにより、剥離剤濾過装置全体の体積を縮小するとの目的が達せられ、本考案の実用性が向上する。

図１は、本考案の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置の側面図である。 図２は、本考案の濾過構造の平面図である。 図３は、本考案のスプレー機構の平面図である。 図４は、本考案の振動機の一部の側面図である。

本考案の詳細な説明及び技術内容について、図面を組み合わせて以下に述べる。ただし、添付の図面は参考及び説明のためのものにすぎず、本考案を限定するものではない。

本考案の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置の側面図である図１、濾過構造の平面図である図２及びスプレー機構の平面図である図３を参照する。本考案の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置１は、膜剥離機１０、振動機２０及び濾過構造４０を含む。当該振動機２０は、当該膜剥離機１０の一方の側に設置されている。また、当該濾過構造４０は当該膜剥離機１０と当該振動機２０の間に設置されている。当該濾過構造４０は、当該振動機２０に駆動されて振動を繰り返す。これにより、当該濾過構造４０の振動で廃棄膜薬剤を濾過することで、剥離剤を回収して再利用するとの目的を達成する。当該基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置１の構造については、後により詳細に記載する。

図１を参照して、当該膜剥離機１０は、剥離剤２を充填する薬剤槽１１と、当該薬剤槽１１の上方に設置されるスプレー機構１２を含む。当該剥離剤２は、当該スプレー機構１２を通じて基板３に対し膜剥離作業を実行する。好ましくは、当該スプレー機構１２は、平行に間隔を置いて配列される複数のノズル１２１を含む（図３参照）。また、説明すべき点として、当該スプレー機構１２から吐出される剥離剤２は、膜剥離作業後に剥離膜を含む薬剤（以下、廃棄膜薬剤と称する）を形成する。

当該振動機２０は、振動台２１と、当該振動台２１に設置される振動機構２２を含む。当該振動機構２２は、当該薬剤槽１１の対向する側に位置する一対のアクチュエータ２２１、当該一対のアクチュエータ２２１により駆動される一対の偏心機構２２２、及び当該一対の偏心機構２２２に接続される接続ロッド２２３を含む。好ましくは、当該一対のアクチュエータ２２１は、当該薬剤槽１１の対向する両外側に位置している。

本考案の一実施例において、当該一対のアクチュエータ２２１はそれぞれ電動モータである。また、当該振動機構２２は更に一対のベルト２２４を含む。当該一対のアクチュエータ２２１は、当該一対のベルト２２４を介して当該一対の偏心機構２２２を駆動する。具体的に、当該偏心機構２２は、ＣＮＣ旋盤加工によって形成される偏心構造である。

好ましくは、当該振動機２０は更にダンパー２３を含む。当該ダンパー２３は当該振動台２１の底部に設置されており、当該振動機構２２の動作によって当該振動台２１に発生した振動を吸収することで、騒音を低減可能とする。

また、当該濾過構造４０は当該振動台２１上に設置されている。図２に示すように、当該濾過構造４０は、フィルタネット４１と、当該フィルタネット４１を取り囲むフィルタフレーム４２を含んでいる。当該フィルタフレーム４２は当該振動機構２２の接続ロッド２２３に接続されている。且つ、当該フィルタフレーム４２の一部が当該薬剤槽１１と当該スプレー機構１２の間まで延伸して廃棄膜薬剤を受け止める。

より詳細には、当該フィルタフレーム４２は更に一対のガイドプレート４２１を含む。当該一対のガイドプレート４２１は、当該フィルタフレームにおける当該ガイド構造から離間する一端に設置されている。剥離膜を収集して廃棄するために、当該一対のガイドプレート４２１は、対向して斜め向きに当該フィルタネット４１に設置されることで、当該フィルタフレーム４２の一方の側の開口４２０を縮小している。

好ましくは、当該剥離剤濾過装置１は、当該廃棄膜薬剤を受け止めるガイド構造３０を更に含む。本実施例において、当該ガイド構造３０は当該スプレー機構１２と当該基板３の下方に設置されており、廃棄膜薬剤を受け止めて当該濾過構造４０に案内する。

具体的に、当該ガイド構造３０は、交差して連結される２つのガイド斜片３１を含む。当該ガイド構造３０は、膜剥離作業を経た廃棄膜薬剤（図示しない）を受け止めると、剥離剤２を回収して再利用するために、廃棄膜薬剤を当該濾過構造４０に案内して濾過作業を実行する。

本考案の振動機の一部の側面図である図４を参照する。本実施例において、当該振動機２０は受領トレイ２４及び還流管２５を更に含む。当該受領トレイ２４は、当該フィルタネット４１の下方に対応して設置されている。当該還流管２５は、一端が当該受領トレイ２４に接続されており、他端が当該薬剤槽１１に接続されている。つまり、当該濾過構造４０で廃棄膜薬剤の濾過作業を実行すると、剥離膜が当該フィルタネット４１上に残留する。また、濾過された剥離剤２は一部が当該薬剤槽１１にそのまま落下するが、残りは当該受領トレイ２４に落下し、最後に当該還流管２５を経由して当該薬剤槽１１に流れ込む。これにより、剥離剤２が回収されて再利用される。

更に、当該振動機２０は、支持フレーム２６と少なくとも１つの緩衝部材２７を含む。本実施例において、当該支持フレーム２６は当該振動台２１に接続されており、且つ当該フィルタフレーム４２の下方まで延伸している。また、当該緩衝部材２７は圧縮バネである。且つ、当該緩衝部材２７は、当該支持フレーム２６に設置されて当該フィルタフレーム４２に弾性的に当接することで、当該薬剤槽１１の一方の側への当該フィルタフレーム４２の伸入を支持する。

このほか、説明すべき点として、本考案の一実施例において、当該振動機２０は更に一対のガイドホイール２８と一対の邪魔板２９を含む。好ましくは、各当該邪魔板２９は突出部２９１を有し、当該突出部２９１の断面形状が三角形となっている。また、当該一対のガイドホイール２８は当該フィルタフレーム４２の対向する両外側に設置されている。且つ、各当該邪魔板２９は当該支持フレーム２６に固定されて、各当該ガイドホイール２８の一方の側に対向するよう位置している。

これにより、当該濾過構造４０は、当該振動機２０の駆動により振動した場合に、当該一対のガイドホイール２８を介して当該一対の邪魔板２９に当接するため後退することがない。また、廃棄剥離膜が一定量収集された場合、或いは洗浄を要する場合には、当該濾過構造４０を取り出して廃棄又は洗浄すればよい。このとき、当該フィルタフレーム４２は、当該一対のガイドホイール２８を介して当該突出部２９１の辺縁に沿って上昇し、当該薬剤槽１１から抜き出すことが可能である。これにより、労力を節減しつつ当該濾過構造４０を当該膜剥離機１０から引き出せるため、本考案の使用上の利便性が向上する。

以上は本考案の好ましい実施例にすぎず、本実用新案登録請求の範囲を限定するものではない。よって、本考案の精神を運用するその他の等価の変形は、いずれも本実用新案登録請求の範囲に属するものとする。

１ 剥離剤濾過装置
２ 剥離剤
３ 基板
１０ 膜剥離機
１１ 薬剤槽
１２ スプレー機構
１２１ ノズル
２０ 振動機
２１ 振動台
２２ 振動機構
２２１ アクチュエータ
２２２ 偏心機構
２２３ 接続ロッド
２２４ ベルト
２３ ダンパー
２４ 受領トレイ
２５ 還流管
２６ 支持フレーム
２７ 緩衝部材
２８ ガイドホイール
２９ 邪魔板
２９１ 突出部
３０ ガイド構造
３１ ガイド斜片
４０ 濾過構造
４１ フィルタネット
４２ フィルタフレーム
４２０ 開口
４２１ ガイドプレート

Claims (12)

1. 基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置であって、
   剥離剤を充填する薬剤槽と、当該薬剤槽の上方に設置されるスプレー機構を含み、当該剥離剤が当該スプレー機構を通じて基板に対し膜剥離作業を実行する膜剥離機、
   振動台と、当該振動台に設置される振動機構を含み、当該振動機構が、当該薬剤槽の対向する側に位置する一対のアクチュエータ、当該一対のアクチュエータにより駆動される一対の偏心機構、及び当該一対の偏心機構に接続される接続ロッドを含む振動機、及び
   当該振動台に設置されており、フィルタネットと、当該フィルタネットを取り囲むフィルタフレームを含み、当該フィルタフレームは当該接続ロッドに接続されており、且つ一部が当該薬剤槽と当該スプレー機構の間まで延伸して当該膜剥離作業を経た廃棄膜薬剤を受け止める濾過構造、を含む装置。
2. 更に、当該廃棄膜薬剤を受け止めるガイド構造を含み、当該ガイド構造は当該スプレー機構と当該基板の下方に設置されている請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
3. 当該振動機はダンパーを更に含み、当該ダンパーは当該振動台の底部に設置されている請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
4. 当該振動機は受領トレイと還流管を更に含み、当該受領トレイは当該フィルタネットの下方に対応して設置されており、当該還流管は、一端が当該受領トレイに接続されており、他端が当該薬剤槽に接続されている請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
5. 当該振動機構は更に一対のベルトを含み、当該一対のアクチュエータは当該一対のベルトを介して当該一対の偏心機構を駆動する請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
6. 当該一対のアクチュエータは、それぞれ電動モータである請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
7. 当該振動機は、支持フレームと少なくとも１つの緩衝部材を更に含み、当該支持フレームは、当該振動台に接続されており、且つ当該フィルタフレームの下方まで延伸しており、当該少なくとも１つの緩衝部材は当該支持フレームに設置されて当該フィルタフレームに弾性的に当接する請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
8. 当該緩衝部材は圧縮バネである請求項７に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
9. 当該振動機は一対のガイドホイールと一対の邪魔板を更に含み、当該一対のガイドホイールは当該フィルタフレームの対向する両外側に設置されており、当該一対の邪魔板は、当該支持フレームに固定され、且つ当該一対のガイドホイールの一方の側に対向するよう位置している請求項７に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
10. 各当該邪魔板は突出部を有し、当該突出部の断面は三角形である請求項９に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
11. 当該ガイド構造は、交差して連結される２つのガイド斜片を含む請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。
12. 当該フィルタフレームは更に一対のガイドプレートを含み、当該一対のガイドプレートは当該フィルタフレームにおける当該ガイド構造から離間する一端に設置されており、当該一対のガイドプレートは、対向して斜め向きに当該フィルタネット上に設置されることで、当該フィルタフレームの一方の側の開口を縮小する請求項１に記載の基板のウェットプロセスにおける剥離剤濾過装置。