JP3223930B2 - Optical device - Google Patents

Optical device

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JP3223930B2 JP31316792A JP31316792A JP3223930B2 JP 3223930 B2 JP3223930 B2 JP 3223930B2 JP 31316792 A JP31316792 A JP 31316792A JP 31316792 A JP31316792 A JP 31316792A JP 3223930 B2 JP3223930 B2 JP 3223930B2
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    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12166Manufacturing methods
    • G02B2006/12195Tapering

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光通信または光計
測・光交換等に用いられる半導体集積化光源に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated light source used for optical communication, optical measurement, optical exchange, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】光通信、光計測分野の光源としては半導
体レーザが利用されているが、機能の向上をはかるため
には光源、導波路、受光器の集積化が要求される。従来
の集積化モジュールとしては、例えば、石英系導波路で
構成されたPLC回路と半導体発光素子と半導体受光素
子をハイブリッドに集積し、光ファイバを結合したピッ
グテール型部品がある。しかしながら、この半導体発光
素子と受光素子のモジュール化技術は、ミクロンオーダ
ーの位置合わせが必要なので高価となる。このため、半
導体受光素子、発光素子、導波路素子を一元的に半導体
基板上に集積化することが望まれるが、そのためには簡
易な半導体機能素子の作製プロセスの確立とともに、半
導体光機能素子相互の結合効率を高める必要がある。
2. Description of the Related Art A semiconductor laser is used as a light source in the field of optical communication and optical measurement. In order to improve the function, integration of a light source, a waveguide, and a light receiver is required. As a conventional integrated module, for example, there is a pigtail type component in which a PLC circuit formed of a silica-based waveguide, a semiconductor light emitting element, and a semiconductor light receiving element are integrated in a hybrid manner and an optical fiber is coupled. However, this technique of modularizing a semiconductor light emitting element and a light receiving element is expensive because it requires alignment on the order of microns. For this reason, it is desirable to integrate the semiconductor light receiving element, the light emitting element, and the waveguide element integrally on a semiconductor substrate. For this purpose, along with the establishment of a simple semiconductor functional element manufacturing process, the semiconductor optical functional element It is necessary to increase the coupling efficiency of the light.

【0003】さて、半導体基板上に半導体レーザを集積
化した場合、半導体レーザを発振させるには共振器を構
成する必要がある関係上、反射鏡であるべき開面または
回折格子の導入が不可欠である。この場合、回折格子の
導入は作製工程が複雑となるため、結晶端面を用いたフ
ァブリ・ペローレーザが作製プロセスおよび価格の観点
から有利である。しかし、光機能素子の集積回路の作製
において結晶端面を有する半導体レーザを形成すること
は、端面形成用の溝が生じることになり、半導体レーザ
と光導波路や受光素子との間を直接結合することができ
ず、結合部で光強度の大きな損失を生じることになる。
When a semiconductor laser is integrated on a semiconductor substrate, it is necessary to construct a resonator in order to oscillate the semiconductor laser. Therefore, it is indispensable to introduce an open surface or a diffraction grating which should be a reflecting mirror. is there. In this case, the introduction of the diffraction grating complicates the manufacturing process, and therefore, a Fabry-Perot laser using a crystal end face is advantageous from the viewpoint of the manufacturing process and cost. However, forming a semiconductor laser having a crystal end face in the fabrication of an integrated circuit for an optical functional element results in the formation of a groove for forming the end face, which directly couples the semiconductor laser with the optical waveguide or the light receiving element. And a large loss of light intensity occurs at the joint.

【0004】図は、従来の構成よりなる半導体レーザ
1と光導波路2との集積構造で、溝5を介しての結合を
模式的に表した平面図(a)および断面図(b)であ
る。ここでは、半導体レーザ1の片側に光導波路2を示
してあるが、両側に光導波路部を形成する場合や、他方
に導波路型受光素子部を形成する場合もあるが、ここで
は半導体レーザ1とその片側の光導波路2との例を示
す。
[0004] Figure 3 is an integrated structure of the semiconductor laser 1 and the optical waveguide 2 made of conventional configuration, in plan view schematically illustrating the coupling through the grooves 5 (a) and a cross-sectional view (b) is there. Although the optical waveguide 2 is shown on one side of the semiconductor laser 1 here, an optical waveguide section may be formed on both sides, and a waveguide type light receiving element section may be formed on the other side. And an example of the optical waveguide 2 on one side thereof.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このような半導体レー
ザ1と光導波路2との結合においては、それぞれのコア
3,4を構成する半導体材料の屈折率が3.0以上と空
気のそれと比べて大きいため、半導体材料を伝搬するビ
ーム径が小さいほど、反射端面形成用の溝から空気中に
出射した光波は大きな回折効果をうけ、放射状に広がる
ことになる。このため、端面形成用の溝部5では散乱光
が増大し、半導体レーザ1から導波路2への結合効率は
低下してしまう。具体的には、半導体材料としてInP
系の発光波長1.5μmの半導体レーザの場合には、溝
の間隔を5μmにすると、結合効率は10%以下になっ
てしまう。
In the connection between the semiconductor laser 1 and the optical waveguide 2, the refractive index of the semiconductor material forming each of the cores 3 and 4 is 3.0 or more, which is higher than that of air. Since the beam diameter is large, the smaller the diameter of the beam propagating in the semiconductor material is, the larger the light wave emitted into the air from the groove for forming the reflection end face is to have a larger diffraction effect and spread radially. For this reason, the scattered light increases in the groove 5 for forming the end face, and the coupling efficiency from the semiconductor laser 1 to the waveguide 2 decreases. Specifically, InP is used as a semiconductor material.
In the case of a semiconductor laser having a system light emission wavelength of 1.5 μm, the coupling efficiency is reduced to 10% or less when the groove interval is set to 5 μm.

【0006】本発明は、半導体基板上に光機能素子を集
積化する場合において、端面形成用溝を有する半導体レ
ーザと光導波路との結合効率を高めることを目的とする
ものである。
An object of the present invention is to increase the coupling efficiency between a semiconductor laser having a groove for forming an end face and an optical waveguide when an optical functional element is integrated on a semiconductor substrate.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、導体基板上に半導体レーザと、前記半導体レーザ
と結合された光導波路からなる光デバイスにおいて、請
求項記載の発明は、前記半導体レーザと光導波路のコ
ア幅が結合部でテーパ状に縮小しつつ接続され、該結合
部において該半導体レーザ側で光軸に対して垂直な端面
をなし、かつ該先導波路側で該結合部に近づくに従いテ
ーパ状コアに近接するような溝を有するものであり、請
求項記載の発明は、前記半導体レーザと光導波路のコ
ア幅が結合部でテーパ状に縮小しつつ接続され、該結合
部において該半導体レーザ側で光軸に対して垂直な端面
をなし、かつ該導波路側で半導体基板の厚さ方向にV字
形状となる溝を有するものをそれぞれ特徴とする。
To achieve SUMMARY OF to the above objects, a semiconductor laser on a semi-conductor substrate, wherein the optical device comprising a semiconductor laser and the coupling optical waveguides, a first aspect of the present invention, wherein The core width of the semiconductor laser and the optical waveguide is connected while reducing in a tapered shape at the coupling portion, the semiconductor laser side forms an end face perpendicular to the optical axis at the coupling portion, and the coupling portion at the tip waveguide side. 3. The semiconductor device according to claim 2 , wherein the semiconductor laser and the optical waveguide are connected to each other while the core width of the optical waveguide is reduced in a tapered shape at a coupling portion. The semiconductor laser is characterized in that it has an end face perpendicular to the optical axis on the semiconductor laser side and has a V-shaped groove in the thickness direction of the semiconductor substrate on the waveguide side.

【0008】[0008]

【作用】上記の構成をとることにより、端面形成用の溝
部においてテーパ状コアの存在により導波光のモードフ
ィールド径を拡大して回折効果を低減することになり、
半導体レーザと導波路との高い結合効率を実現するもの
である。
With the above construction, the presence of the tapered core in the groove for forming the end face increases the mode field diameter of the guided light, thereby reducing the diffraction effect.
This realizes a high coupling efficiency between the semiconductor laser and the waveguide.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図1、図2を参照して実施例にもとず
いて詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, FIG. 1, also preparative not a have been described in detail in Example with reference to FIG.

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】(実施例) 図に第の発明の実施例を示した平面図(a)および
断面図(b)を示す。半導体レーザ1と導波路2の結合
部にむけて両者のコア幅3および4をテーパコア6Hお
よび6Fに示すように細めていき、所定の最小のコア幅
でコア同士を接続してある。さらに、結合部において
は、半導体レーザ1側で光軸に対して垂直な端面で、導
波路2側で図のように細いテーパコア6Fの横方向に切
り込み(凹)型の溝5が近接するように形成してある。
この溝5の作製は、反応性ガスを用いたイオンエッチン
グや化学溶液によるエッチングで形成できる。
(Embodiment 1 ) FIG. 1 shows a plan view (a) and a sectional view (b) showing an embodiment of the first invention. The core widths 3 and 4 of the semiconductor laser 1 and the waveguide 2 are narrowed as shown by tapered cores 6H and 6F toward the coupling portion, and the cores are connected with a predetermined minimum core width. Further, in the coupling portion, the notch (concave) type groove 5 in the lateral direction of the thin tapered core 6F as shown in the drawing is adjacent to the waveguide 2 at the end face perpendicular to the optical axis on the semiconductor laser 1 side. It is formed in.
The groove 5 can be formed by ion etching using a reactive gas or etching with a chemical solution.

【0018】このような構造においては、半導体レーザ
1からの導波光は伝搬損失が増大することなくそのモー
ドフィールド径が拡大されてテーパコア6H領域を伝搬
する。この時モードフィールド径が拡大されているので
テーパコア6H領域から浸みだした光強度分布について
は、切り込み溝5の端面は、反射面として働く。一方、
導波路2のコア4の軸に対して垂直とならない溝5の導
波路側境界面は、レンズ効果により溝5の空間に放出さ
れた光波を導波路2のコア4結合させる。
In such a structure, the guided light from the semiconductor laser 1 propagates in the tapered core 6H region with its mode field diameter enlarged without increasing the propagation loss. At this time, since the mode field diameter is enlarged, the end face of the cut groove 5 functions as a reflecting surface for the light intensity distribution oozing out of the tapered core 6H region. on the other hand,
Waveguide side boundary surface of the groove 5 which is not perpendicular to the axis of the waveguide 2 of the core 4, by the lens effect coupling the light wave emitted into the space of the groove 5 to the core 4 of the waveguide 2.

【0019】なお、図では、拡大されたモードフィー
ルド径のうち溝5をすり抜けて光導波路部2へ達する光
の分布に整合させて結合効率を高めるために、導波路4
のテーパコア6Fのコア幅と半導体レーザ1のテーパコ
ア6Hのコア幅とは異なる例を示してある。
In FIG. 1 , in order to increase the coupling efficiency by matching the distribution of light that passes through the groove 5 and reaches the optical waveguide portion 2 in the enlarged mode field diameter, the waveguide 4 is increased.
2 shows an example in which the core width of the tapered core 6F and the core width of the tapered core 6H of the semiconductor laser 1 are different.

【0020】本実施例では溝5はコア層にはなく、クラ
ッド層に形成した。一般に、コア層は多重量子井戸層等
を用いる場合が多く、クラッド層はInPあるいはIn
GaAsP等の均一組成の材料で構成される場合が多
い。従って、本実施例の構造は加工しやすいクラッド層
のみを加工すればよいという利点がある。また、溝5が
テーパコア6Fに浸入し、半導体レーザ1と導波路2が
空隙により分離されても本発明の基本的な動作は行われ
る。
In this embodiment, the groove 5 is not formed in the core layer but formed in the clad layer. Generally, the core layer often uses a multiple quantum well layer or the like, and the cladding layer is made of InP or InP.
Often composed of a material of uniform composition such as GaAsP. Therefore, the structure of this embodiment has an advantage that only the clad layer which is easy to process need be processed. Even if the groove 5 penetrates the tapered core 6F and the semiconductor laser 1 and the waveguide 2 are separated by a gap, the basic operation of the present invention is performed.

【0021】(実施例) 図に第の発明の実施例の平面図(a)および断面図
(b)を示す。本実施例では半導体レーザ1と導波路2
の両コアはテーパコア6により互いにそのコア幅を細め
ていき、結合部で所定の最小幅コア9で接続されてい
る。さらに、結合部においては、半導体レーザ側で光軸
に対して垂直な端面をなし、かつ導波路側で半導体基板
に図のような切り込み型のV字型の溝5が厚さ方向に形
成されている。このような構造においては、実施例
同様に、半導体レーザの反射面を形成するとともに、半
導体レーザと導波路との結合を高めることができる。
(Embodiment 2 ) FIG. 2 shows a plan view (a) and a sectional view (b) of an embodiment of the second invention. In this embodiment, the semiconductor laser 1 and the waveguide 2
The two cores are tapered to reduce their core width by a tapered core 6 and are connected by a predetermined minimum width core 9 at a joint. Further, in the coupling portion, a cut-shaped V-shaped groove 5 is formed in the thickness direction as shown in the figure on the semiconductor substrate on the semiconductor laser side, forming an end face perpendicular to the optical axis, and on the waveguide side. ing. In this structure, in the same manner as in Example 1, to form a reflecting surface of the semiconductor laser, it is possible to increase the coupling between the semiconductor laser and the waveguide.

【0022】以上述べた実施例においては、溝の半導体
レーザ側の端面に金属または誘電体多層膜からなる高反
射膜を設けることにより、レーザ共振器の反射率を高め
ることができ、半導体レーザのしきい値電流を減少させ
ることができる。
In the embodiment described above, the reflectivity of the laser resonator can be increased by providing a high-reflection film made of a metal or dielectric multilayer film on the end face of the groove on the side of the semiconductor laser. The threshold current can be reduced.

【0023】また、テーパ構造は半導体レーザ側と導波
路側で非対称でも良い。さらに、実施例においては導波
路幅のみにテーパ形状を有する構成例を示したが、モー
ドフィールド径を拡大すれば導波路幅および厚さの両者
にテーパ形状を持たせても良い。また、半導体レーザお
よび導波路のテーパ状導波路幅の変化を直線的に変化さ
せて示してあるが、放物線や指数関数等の関数形でもよ
い。
The tapered structure may be asymmetrical between the semiconductor laser and the waveguide. Further, in the embodiment, the configuration example in which only the waveguide width has a tapered shape is shown. However, if the mode field diameter is increased, both the waveguide width and the thickness may be tapered. Further, although the change in the tapered waveguide width of the semiconductor laser and the waveguide is linearly changed, it may be a function such as a parabola or an exponential function.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、半
導体基板上への半導体光機能素子の集積化においては、
半導体光機能素子相互の結合を高い光結合効率により実
現することができる。とくに、実用の半導体作製技術に
より光機能素子の集積化が実現できるので、安価で信頼
性の高い光部品を提供することができる。
As described above, according to the present invention, in the integration of a semiconductor optical functional device on a semiconductor substrate,
The coupling between the semiconductor optical functional devices can be realized with high optical coupling efficiency. In particular, since the integration of optical functional elements can be realized by a practical semiconductor manufacturing technique, an inexpensive and highly reliable optical component can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第一の実施例を示す平面図および断面図であ
る。
FIG. 1 is a plan view and a sectional view showing a first embodiment.

【図2】第二の実施例を示す平面図および断面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view and a sectional view showing a second embodiment.

【図3】従来の構成よりなる半導体レーザと導波路との
結合を示した平面図および断面図である。
3A and 3B are a plan view and a cross-sectional view illustrating coupling between a semiconductor laser having a conventional configuration and a waveguide.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体レーザ 2 導波路 3 レーザのコア 4 導波路のコア 5 溝 6,6H,6F テーパコア 7 外部コア 8 クラッド 9 最小幅コア Reference Signs List 1 semiconductor laser 2 waveguide 3 laser core 4 waveguide core 5 groove 6, 6H, 6F taper core 7 external core 8 cladding 9 minimum width core

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 安弘 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 三冨 修 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (72)発明者 永沼 充 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−63606(JP,A) 特開 昭64−32206(JP,A) 特開 平4−97206(JP,A) 特開 平5−60929(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/12 - 6/14 H01S 5/00 - 5/50 H01L 27/15 JICSTファイル(JOIS)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yasuhiro Suzuki 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Osamu Mitomi 1-16-1 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (72) Inventor Mitsuru Naganuma 1-6-1 Uchisaiwai-cho, Chiyoda-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation (56) References JP-A-3-63606 (JP, A) JP-A Sho-64 -32206 (JP, A) JP-A-4-97206 (JP, A) JP-A-5-60929 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02B 6/12- 6/14 H01S 5/00-5/50 H01L 27/15 JICST file (JOIS)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体基板上に半導体レーザと、前記半
導体レーザと結合された導波路からなる光デバイスにお
いて、前記半導体レーザと導波路とのそれぞれのコア幅
が結合部でテーパ状に縮小しつつ接続され、該結合部に
おいて該半導体レーザ側で光軸に対して垂直な端面をな
し、かつ該導波路側で該結合部に近づくに従いテーパ状
のコアに近接するような溝を有することを特徴とする光
デバイス。
In an optical device comprising a semiconductor laser on a semiconductor substrate and a waveguide coupled to the semiconductor laser, the core width of each of the semiconductor laser and the waveguide is reduced in a tapered shape at a coupling portion. Connected to the coupling portion, the semiconductor laser side has an end face perpendicular to the optical axis, and the waveguide side has a groove that is closer to the tapered core as it approaches the coupling portion. And optical devices.
【請求項2】 半導体基板上に半導体レーザと、前記半
導体レーザと結合された導波路からなる光デバイスにお
いて、前記半導体レーザと導波路とのそれぞれのコア幅
が結合部でテーパ状に縮小しつつ接続され、該結合部に
おいて該半導体レーザ側で光軸に対して垂直な端面をな
し、かつ該導波路側で半導体基板の厚さ方向にV字形状
となる溝を有することを特徴とする光デバイス。
2. An optical device comprising a semiconductor laser on a semiconductor substrate and a waveguide coupled to the semiconductor laser, wherein each core width of the semiconductor laser and the waveguide is reduced in a tapered shape at a coupling portion. A light having a V-shaped groove in the thickness direction of the semiconductor substrate on the side of the waveguide, wherein the groove forms an end face perpendicular to the optical axis on the side of the semiconductor laser at the coupling portion; device.
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