JP3220514B2 - Plasma display - Google Patents
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- JP3220514B2 JP3220514B2 JP14480392A JP14480392A JP3220514B2 JP 3220514 B2 JP3220514 B2 JP 3220514B2 JP 14480392 A JP14480392 A JP 14480392A JP 14480392 A JP14480392 A JP 14480392A JP 3220514 B2 JP3220514 B2 JP 3220514B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ペニング混合ガスから
の紫外線によって発光する蛍光体の劣化を防止するため
の保護膜の最適化を図ることにより、輝度及び発光効率
を高めたプラズマディスプレイに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display having improved luminance and luminous efficiency by optimizing a protective film for preventing deterioration of a phosphor which emits light due to ultraviolet rays from a Penning mixed gas.
【0002】[0002]
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(PDP)
は、ネオンを主体とする希ガスを封入した2枚のガラス
板の間に一対の放電電極(陰極及び陽極)を規則的に配
列させ、両電極の交点に形成した放電セルへの電圧印加
によって発生する放電発光現象を利用した表示パネルで
ある。2. Description of the Related Art Plasma display panels (PDPs)
Is generated by regularly arranging a pair of discharge electrodes (cathode and anode) between two glass plates containing a rare gas mainly composed of neon, and applying a voltage to a discharge cell formed at the intersection of both electrodes. This is a display panel utilizing the discharge light emission phenomenon.
【0003】プラズマディスプレイには、低電圧で放電
を開始させるために、放電空間にペニング混合ガスが封
入されている。モノクロ表示では、Ne +Xe (0.1
%)あるいはNe +Ar (0.1%)が用いられてい
る。In a plasma display, a Penning mixed gas is sealed in a discharge space in order to start a discharge at a low voltage. In monochrome display, Ne + Xe (0.1
%) Or Ne + Ar (0.1%).
【0004】プラズマディスプレイのカラー化には、放
電に伴う紫外線放射により蛍光体を励起発光させる方式
が採用されている。封入ガスは、主としてHe +Xe
(1〜2%)のペニング混合ガスが用いられている。[0004] In order to color a plasma display, a method of exciting and emitting a phosphor by ultraviolet radiation accompanying discharge has been adopted. The sealed gas is mainly He + Xe
(1-2%) Penning mixed gas is used.
【0005】プラズマディスプレイは、その電極の構造
上DC形とAC形とに分類される。DC形は電圧印加用
電極が放電空間に露出されており、AC形は電圧印加用
電極が誘電体層で覆われた構造とされている。DC形は
厚膜技術を用いて製造され、AC形は主として薄膜技術
を用いて製造されている。[0005] Plasma displays are classified into DC type and AC type according to the structure of their electrodes. The DC type has a structure in which the voltage application electrode is exposed to the discharge space, and the AC type has a structure in which the voltage application electrode is covered with a dielectric layer. The DC type is manufactured using thick film technology, and the AC type is manufactured mainly using thin film technology.
【0006】AC形を大別すると、対向形、面放電形、
障壁電極形に分けられる。AC形を更に大別すると、蛍
光体の配設箇所の相違等から透過形と反射形とに分けら
れる。The AC type can be roughly classified into an opposed type, a surface discharge type,
It is divided into barrier electrode type. The AC type is further broadly classified into a transmission type and a reflection type due to a difference in the location of the phosphor.
【0007】図1は対向形の基本構造を示すもので、表
面ガラス3a及び背面ガラス板3bの内面には、誘電体
層1a,1bによって被覆されたX電極2a及びY電極
2bが交差状に配設されている。表面ガラス3a及び背
面ガラス板3bとによって形成される放電空間4にはネ
オン又はヘリウム混合ガスが封入されている。誘電体層
1a,1bの表面にはイオン衝撃に強いMgO膜5a,
5bが形成されている。誘電体層1aとMgO膜5aと
の間にはネオン又はヘリウム混合ガスの発生する紫外線
により、励起されて発光する蛍光体6が設けられてい
る。FIG. 1 shows a basic structure of an opposed type, in which an X electrode 2a and a Y electrode 2b covered with dielectric layers 1a and 1b are crossed on the inner surfaces of a front glass 3a and a back glass plate 3b. It is arranged. A neon or helium mixed gas is sealed in a discharge space 4 formed by the front glass 3a and the back glass plate 3b. On the surfaces of the dielectric layers 1a and 1b, an MgO film 5a resistant to ion bombardment is provided.
5b are formed. A phosphor 6 is provided between the dielectric layer 1a and the MgO film 5a, which emits light when excited by ultraviolet light generated by a neon or helium mixed gas.
【0008】このような対向形では、X電極2aとY電
極2bとの間に放電開始電圧を超えるAC電圧を印加す
ると、両電極の交点で放電が生じる。両電極の放電によ
りネオン又はヘリウム混合ガスのXe から147nmの
紫外線が放射される。放射された紫外線により蛍光体6
が励起されて発光する。In such an opposed type, when an AC voltage exceeding the discharge starting voltage is applied between the X electrode 2a and the Y electrode 2b, a discharge occurs at the intersection of the two electrodes. Ultraviolet radiation of 147 nm is emitted from Xe of a neon or helium mixed gas by discharge of both electrodes. Phosphor 6 due to the emitted ultraviolet light
Are excited to emit light.
【0009】このとき、放電によって発生した電子及び
イオンは電界に沿って移動しそれぞれ誘電体層1a,1
bの表面に蓄積される。これにより、逆極性の壁電圧を
生ずるので放電は短時間で終了する。At this time, the electrons and ions generated by the discharge move along the electric field and move to the dielectric layers 1a and 1a, respectively.
b is accumulated on the surface. As a result, a wall voltage of the opposite polarity is generated, so that the discharge is completed in a short time.
【0010】また誘電体層1a,1bの表面の電荷は、
印加電圧を取り去っても残留し、壁電荷としてメモリさ
れるので、次に印加される逆極性の外部電圧に対して、
壁電荷分だけ低い電圧で放電が開始される。このメモリ
を消去するには蓄積電荷を消去するための放電をさせれ
ばよい。The electric charges on the surfaces of the dielectric layers 1a and 1b are:
Even if the applied voltage is removed, it remains and is stored as a wall charge.
Discharge is started at a voltage lower by the wall charge. In order to erase the memory, a discharge for erasing the accumulated charge may be performed.
【0011】更に、MgO膜5a,5bによって蛍光体
6を覆うことにより、陽極から発生するイオンの衝撃に
対して蛍光体6が保護されるので、蛍光体6の劣化が防
止され長寿命化が図られる。Further, by covering the phosphor 6 with the MgO films 5a and 5b, the phosphor 6 is protected against the impact of ions generated from the anode, so that the deterioration of the phosphor 6 is prevented and the life is extended. It is planned.
【0012】図2は、面放電形の基本構造を示すもので
ある。この構造では、X電極2a及びY電極2bがとも
に背面ガラス板3b側に配設されている。蛍光体6は表
面ガラス3a側に配設されている。これにより、蛍光体
6が放電経路から切り離されることから、イオン衝撃に
よる蛍光体6の劣化が少ないという利点がある。FIG. 2 shows a basic structure of a surface discharge type. In this structure, both the X electrode 2a and the Y electrode 2b are disposed on the rear glass plate 3b side. The phosphor 6 is provided on the surface glass 3a side. Thereby, since the phosphor 6 is cut off from the discharge path, there is an advantage that the deterioration of the phosphor 6 due to ion bombardment is small.
【0013】図3は、障壁電極形であり且つ反射形の基
本構造を示すもので、背面ガラス板3bの上部には下部
電極2B及び誘電体層7bが形成されている。FIG. 3 shows a basic structure of a barrier electrode type and a reflection type, in which a lower electrode 2B and a dielectric layer 7b are formed above a rear glass plate 3b.
【0014】誘電体層7bの上部には、光学的なクロス
トーク等を阻止するための高さ約100μmの障壁8が
設けられている。誘電体層7b及び障壁8の上部には、
上部電極2A、誘電体層7a、蛍光体6及びMgO膜5
bが形成されている。Above the dielectric layer 7b, a barrier 8 having a height of about 100 μm for preventing optical crosstalk or the like is provided. On top of the dielectric layer 7b and the barrier 8,
Upper electrode 2A, dielectric layer 7a, phosphor 6, and MgO film 5
b is formed.
【0015】表面ガラス3aには、蛍光体6が配設され
ている。放電空間4内には、He +Xe (1〜2%)の
ペニング混合ガスが封入されている。A phosphor 6 is provided on the surface glass 3a. In the discharge space 4, a Penning mixed gas of He + Xe (1-2%) is sealed.
【0016】このような障壁電極形のものでは、上部電
極2Aと下部電極2Bとの間に駆動電圧を印加すると、
上部電極2Aと下部電極2Bとの間に放電が生じて複数
の放電領域が形成される。In such a barrier electrode type, when a driving voltage is applied between the upper electrode 2A and the lower electrode 2B,
A discharge is generated between the upper electrode 2A and the lower electrode 2B to form a plurality of discharge regions.
【0017】これにより、放電空間4内部で発生したプ
ラズマ放電によりペニング混合ガスのXe から147n
mの紫外線が放射される。放射された紫外線により蛍光
体6が励起されて発光する。As a result, the plasma discharge generated inside the discharge space 4 causes 147n from the Xe of the Penning mixed gas.
m ultraviolet rays are emitted. The phosphor 6 is excited by the emitted ultraviolet light to emit light.
【0018】このような反射形によるものでは、表面ガ
ラス3aに塗布された蛍光体6による発光に障壁8及び
背面ガラス3b側に塗布された蛍光体6による発光が加
わるため、透過形に比して輝度及び発光効率が高い。In the reflection type, the light emission by the phosphor 6 applied to the front glass 3a is added to the light emission by the phosphor 6 applied to the barrier 8 and the back glass 3b side. Brightness and luminous efficiency.
【0019】[0019]
【発明が解決しようとする課題】このように、上述した
各種のプラズマディスプレイでは、イオン衝撃による劣
化を防止するために蛍光体6をMgO膜5a,5bによ
って覆う構造が採用されている。As described above, the above-described various plasma displays employ a structure in which the phosphor 6 is covered with the MgO films 5a and 5b in order to prevent deterioration due to ion bombardment.
【0020】ところで、MgO膜はペニング混合ガスが
発生する147nmの紫外線の吸収損失が高いので、蛍
光体6を効率よく励起発光させるためにはMgO膜を薄
くする必要がある。Incidentally, since the MgO film has a high absorption loss of the 147 nm ultraviolet ray generated by the Penning mixed gas, it is necessary to make the MgO film thin in order to cause the phosphor 6 to efficiently emit light.
【0021】しかしながら、MgO膜を薄くすると、イ
オン衝撃に対する保護及びMgO膜の二次電子放出によ
るプラズマ点火電圧の低減といった役割を十分に果たせ
なくなるという不具合を生じてしまう。However, if the MgO film is made thin, a problem arises in that the role of protection against ion bombardment and reduction of the plasma ignition voltage due to secondary electron emission of the MgO film cannot be fulfilled.
【0022】本発明は、このような事情に対処してなさ
れたもので、蛍光体の保護及び発光効率の向上を共に図
り、高輝度化及び長寿命化を図ることができるプラズマ
ディスプレイを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a plasma display capable of both protecting a phosphor and improving luminous efficiency, and achieving high luminance and long life. The purpose is to:
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、表面ガラス又は背面ガラスの少なくとも
一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、
更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間に形成される放
電空間にペニング混合ガスが充填されてなるプラズマデ
ィスプレイにおいて、前記表面ガラス又は背面ガラスの
少なくとも一方に前記ペニング混合ガスからの紫外線に
よって発光する蛍光体が形成され、この蛍光体を覆って
アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物からなる
第1の誘電体膜を形成し、該第1の誘電体膜の上部には
MgOからなる第2の誘電体膜が形成されていることを
特徴とする。According to the present invention, in order to achieve the above object, an electrode for externally applying a voltage to at least one of a front glass and a rear glass is provided.
Furthermore, in a plasma display in which a Penning mixed gas is filled in a discharge space formed between the front glass and the rear glass, at least one of the front glass and the rear glass emits fluorescent light emitted by ultraviolet rays from the Penning mixed gas. A body is formed , covering this phosphor
Consists of alkali metal or alkaline earth metal fluoride
A first dielectric film is formed, and on the first dielectric film
A second dielectric film made of MgO is formed .
【0024】また、本発明は、上記のプラズマディスプ
レイにおいて、前記第1の誘電体膜の厚さを1000〜
5000Åとし、前記第2の誘電体膜の厚さを100〜
1000Åとしたことを特徴とする。The present invention also relates to the above plasma display.
The thickness of the first dielectric film is 1000 to 1000
5000 °, and the thickness of the second dielectric film is 100 to
It is characterized in that it is 1000 ° .
【0025】[0025]
【作用】本発明のプラズマディスプレイでは、蛍光体を
紫外線の吸収損失の低い誘電体であるアルカリ金属又は
アルカリ土類金属のフッ化物からなる第1の誘電体膜に
よって覆ったものであり、この誘電体を厚めに形成して
も紫外線の透過率が低下せず、しかも充分な厚みによっ
てイオン衝撃にも対処することができる。また、第1の
誘電体膜の上部に二次電子放出の高くイオン衝撃に強い
MgOからなる第2の誘電体膜を形成したことにより、
第1の誘電体膜による二次電子放出割合の低下を補完す
ることができる。 In the plasma display of the present invention, the phosphor is made of an alkali metal or a dielectric having a low absorption loss of ultraviolet rays.
It is covered with a first dielectric film made of an alkaline earth metal fluoride . Even if this dielectric is formed thicker, the transmittance of ultraviolet rays does not decrease, and the thickness is sufficient. This makes it possible to cope with ion bombardment. Also, the first
High secondary electron emission on the dielectric film, resistant to ion bombardment
By forming the second dielectric film made of MgO,
Complements the decrease in the secondary electron emission ratio due to the first dielectric film
Can be
【0026】そして、第1の誘電体膜の厚さを1000
〜5000Åとし、前記第2の誘電体膜の厚さを100
〜1000Åとしたことで、第2の誘電体膜(MgO
膜)による紫外線の吸収損失を最低限に抑えつつ、二次
電子放出によるプラズマ点火電圧の低減を有効に果たし
て、充分な発光効率を確保すると共に、紫外線吸収に影
響しない第1の誘電体膜を厚くすることによって、蛍光
体に対する充分な保護作用を確保することが可能にな
る。Then, the thickness of the first dielectric film is set to 1000
And the thickness of the second dielectric film is 100
By setting the thickness of the second dielectric film (MgO
The first dielectric film which does not affect ultraviolet absorption while ensuring sufficient luminous efficiency by effectively reducing the plasma ignition voltage by secondary electron emission while minimizing the absorption loss of ultraviolet light by the film). By increasing the thickness, it is possible to ensure a sufficient protective effect on the phosphor.
【0027】[0027]
【実施例】以下、本発明の実施例の詳細を図面に基づい
て説明する。なお、以下に説明する図において、図3と
共通する部分には同一符号を付し重複する説明を省略す
る。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the drawings described below, portions common to FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.
【0028】図4は、本発明のプラズマディスプレイの
一実施例を示すもので、背面ガラス板3bの上部には下
部電極2B及び誘電体層7bが形成されている。FIG. 4 shows an embodiment of the plasma display of the present invention, in which a lower electrode 2B and a dielectric layer 7b are formed on the upper part of a back glass plate 3b.
【0029】誘電体層7bの上部には、障壁8が設けら
れている。誘電体層7b及び障壁8の上部には、上部電
極2A、誘電体層7a、蛍光体6が形成されている。A barrier 8 is provided above the dielectric layer 7b. An upper electrode 2A, a dielectric layer 7a, and a phosphor 6 are formed above the dielectric layer 7b and the barrier 8.
【0030】蛍光体6の上部には、アルカリ金属又はア
ルカリ土類金属のフッ化物であるMgF2 膜10が10
00〜5000Åの厚さで形成されている。このMgF
2 膜10は、紫外線の吸収損失の低い透明な膜である。
なお、フッ化物であるMgF2 に変えて、LiF又はC
aF2 等の他のフッ化物を用いてもよい。On the phosphor 6, an MgF 2 film 10 which is a fluoride of an alkali metal or an alkaline earth metal is provided.
It is formed with a thickness of 00 to 5000 °. This MgF
The two films 10 are transparent films having low absorption loss of ultraviolet rays.
Note that LiF or C is used instead of MgF 2 which is a fluoride.
Other fluorides such as aF 2 may be used.
【0031】表面ガラス3aには、蛍光体6が配設され
ている。放電空間4内には、He +Xe (1〜2%)の
ペニング混合ガスが封入されている。The phosphor 6 is disposed on the surface glass 3a. In the discharge space 4, a Penning mixed gas of He + Xe (1-2%) is sealed.
【0032】このような構成では、上部電極2Aと下部
電極2Bとの間に駆動電圧を印加すると、上部電極2A
と下部電極2Bとの間に放電が生じて複数の放電領域が
形成される。In such a configuration, when a driving voltage is applied between the upper electrode 2A and the lower electrode 2B, the upper electrode 2A
A discharge occurs between the first electrode and the lower electrode 2B to form a plurality of discharge regions.
【0033】これにより、放電空間4内部に発生したプ
ラズマ放電によりペニング混合ガスのXe から147n
mの紫外線が放射される。放射された紫外線は吸収損失
の低いMgF2 膜10を透過し蛍光体6に到達する。蛍
光体6は紫外線を受けることによって発光を行う。発光
による可視光は蛍光体6によって反射され、表面ガラス
3aを通して見られる。As a result, the plasma discharge generated inside the discharge space 4 reduces the Penning mixed gas from Xe to 147n.
m ultraviolet rays are emitted. The emitted ultraviolet light passes through the MgF 2 film 10 having a low absorption loss and reaches the phosphor 6. The phosphor 6 emits light by receiving ultraviolet rays. Visible light due to light emission is reflected by the phosphor 6 and is seen through the surface glass 3a.
【0034】なお、MgF2 膜10はその膜厚を厚めに
形成しても紫外線の透過率を低下させることが少なくな
るので、充分な厚みを確保することができイオン衝撃に
対しての蛍光体6の劣化防止を充分に図ることができ
る。Even if the MgF 2 film 10 is formed to have a large thickness, the transmittance of ultraviolet rays is less reduced, so that a sufficient thickness can be secured and the phosphor against ion bombardment can be secured. 6 can be sufficiently prevented from being deteriorated.
【0035】図5は、図4のプラズマディスプレイの構
成を変えた他の実施例を示すもので、厚さ5000Åの
MgF2 膜10の上部に厚さ100〜1000ÅのMg
O膜5bが形成されている。FIG. 5 shows another embodiment in which the configuration of the plasma display shown in FIG. 4 is changed. A MgO 2 film 10 having a thickness of 5000 ° is formed on a MgF 2 film 10 having a thickness of 100 to 1000 °.
An O film 5b is formed.
【0036】MgF2 膜10の二次電子放出の割合がM
gO膜に比して低いのでそれを補完するために薄いMg
O膜を設けることにより、紫外線の吸収損失を低減する
ことに加えて二次電子放出の割合を高め、プラズマ点火
電圧の低減を図っている。The secondary electron emission ratio of the MgF 2 film 10 is M
Since it is low compared to the gO film, thin Mg
By providing the O film, the ratio of secondary electron emission is increased in addition to the reduction of ultraviolet absorption loss, and the plasma ignition voltage is reduced.
【0037】図6は、図4のプラズマディスプレイの構
成を変えた他の実施例を示すもので、この例では表面ガ
ラス3a側に蛍光体6及びMgF2 膜10が形成されて
いる。FIG. 6 shows another embodiment in which the configuration of the plasma display of FIG. 4 is changed. In this embodiment, a phosphor 6 and an MgF 2 film 10 are formed on the surface glass 3a side.
【0038】図7は、図6のプラズマディスプレイの構
成を変えた他の実施例を示すもので、この例ではMgF
2 膜10の上部にMgO膜5aが形成されている。FIG. 7 shows another embodiment in which the configuration of the plasma display of FIG. 6 is changed. In this embodiment, MgF is used.
The MgO film 5a is formed on the upper part of the second film 10.
【0039】以上のように、上述した各実施例において
は、蛍光体6を紫外線の吸収損失の低いフッ化物である
MgF2 膜10によって覆うことにより、このMgF2
膜10の膜厚を厚めに形成しても紫外線の透過率が低下
しないので、充分な厚みを確保することができ、よって
イオン衝撃にも対処することができる。As described above, in each of the above-described embodiments, the phosphor 6 is covered with the MgF 2 film 10 which is a fluoride having a low absorption loss of ultraviolet light, so that the MgF 2
Even if the film 10 is formed to have a large thickness, the transmittance of ultraviolet rays does not decrease, so that a sufficient thickness can be ensured, and accordingly, it is possible to cope with ion bombardment.
【0040】また、紫外線の吸収損失の低いMgF2 膜
10の上部に薄くMgO膜5aを形成したことにより、
発光効率を向上させると共に、二次電子の放出の割合の
低下を補完することができる。Further, by forming a thin MgO film 5a on the MgF 2 film 10 having low absorption loss of ultraviolet light,
The luminous efficiency can be improved, and the decrease in the rate of secondary electron emission can be complemented.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
ディスプレイでは、蛍光体を紫外線の吸収損失の低い誘
電体によって覆うことにより、この誘電体の膜厚を厚め
に形成しても紫外線の透過率を低下させるこもなく、し
かも充分な厚みによってイオン衝撃にも対処することが
できる。As described above, in the plasma display of the present invention, the fluorescent material is covered with the dielectric material having low absorption loss of ultraviolet light so that the ultraviolet light can be transmitted even if the dielectric material is formed to be thicker. The ion bombardment can be dealt with without reducing the rate and with a sufficient thickness.
【0042】また、紫外線の吸収損失の低い誘電体の上
部にイオン衝撃に強い誘電体を形成したことにより、紫
外線の吸収損失の低い誘電体による二次電子の放出の割
合の低下を補完することができる。Further, by forming a dielectric material resistant to ion bombardment on the dielectric material having a low absorption loss of ultraviolet light, a reduction in the rate of secondary electron emission by the dielectric material having a low absorption loss of ultraviolet light is complemented. Can be.
【0043】その結果、蛍光体の保護及び発光効率の向
上を共に図ることができ、高輝度化及び長寿命化を図る
ことができる。As a result, the protection of the phosphor and the improvement of the luminous efficiency can both be achieved, and the higher luminance and the longer life can be achieved.
【図1】従来の対向形のプラズマディスプレイの基本構
造を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a basic structure of a conventional opposed-type plasma display.
【図2】従来の面放電形のプラズマディスプレイの基本
構造を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a basic structure of a conventional surface discharge type plasma display.
【図3】従来の障壁電極形のプラズマディスプレイの基
本構造を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a basic structure of a conventional barrier electrode type plasma display.
【図4】本発明の障壁電極形のプラズマディスプレイの
基本構造を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a basic structure of a barrier electrode type plasma display of the present invention.
【図5】図4の障壁電極形のプラズマディスプレイの基
本構造の構成を変えた場合の他の実施例を示す斜視図で
ある。5 is a perspective view showing another embodiment in which the configuration of the basic structure of the barrier electrode type plasma display of FIG. 4 is changed.
【図6】図4の障壁電極形のプラズマディスプレイの基
本構造の構成を変えた場合の他の実施例を示す斜視図で
ある。FIG. 6 is a perspective view showing another embodiment in which the configuration of the basic structure of the barrier electrode type plasma display of FIG. 4 is changed.
【図7】図6の障壁電極形のプラズマディスプレイの基
本構造の構成を変えた場合の他の実施例を示す斜視図で
ある。FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment in which the configuration of the basic structure of the barrier electrode type plasma display of FIG. 6 is changed.
2A 上部電極 2B 下部電極 3a 表面ガラス 3b 背面ガラス 4 放電空間 5a,5b MgO膜 6 蛍光体層 7a,7b 誘電体膜 8 障壁 10 MgF2 膜2A Upper electrode 2B Lower electrode 3a Surface glass 3b Back glass 4 Discharge space 5a, 5b MgO film 6 Phosphor layer 7a, 7b Dielectric film 8 Barrier 10 MgF 2 film
Claims (2)
一方に外部より電圧を印加するための電極が設けられ、
更に前記表面ガラスと背面ガラスとの間に形成される放
電空間にペニング混合ガスが充填されてなるプラズマデ
ィスプレイにおいて、 前記表面ガラス又は背面ガラスの少なくとも一方に前記
ペニング混合ガスからの紫外線によって発光する蛍光体
が形成され、この蛍光体を覆ってアルカリ金属又はアル
カリ土類金属のフッ化物からなる第1の誘電体膜を形成
し、該第1の誘電体膜の上部にはMgOからなる第2の
誘電体膜が形成されていることを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ。An electrode for applying a voltage from outside to at least one of a front glass and a rear glass is provided,
Further, in a plasma display in which a discharge space formed between the front glass and the rear glass is filled with a Penning mixed gas, at least one of the front glass and the rear glass is fluoresced by ultraviolet rays from the Penning mixed gas. A body is formed and covers the phosphor with an alkali metal or aluminum.
Forming a first dielectric film made of potassium earth metal fluoride
A second layer made of MgO is formed on the first dielectric film.
A plasma display, wherein a dielectric film is formed .
5000Åとし、前記第2の誘電体膜の厚さを100〜
1000Åとしたことを特徴とする請求項1記載のプラ
ズマディスプレイ。2. The method according to claim 1, wherein said first dielectric film has a thickness of 1,000 to 1,000.
5000 °, and the thickness of the second dielectric film is 100 to
2. The plasma display according to claim 1, wherein the angle is set to 1000 [deg .].
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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