JP3217616B2 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Info

Publication number
JP3217616B2
JP3217616B2 JP25545194A JP25545194A JP3217616B2 JP 3217616 B2 JP3217616 B2 JP 3217616B2 JP 25545194 A JP25545194 A JP 25545194A JP 25545194 A JP25545194 A JP 25545194A JP 3217616 B2 JP3217616 B2 JP 3217616B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
region
substrate
alignment film
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP25545194A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH08122787A (en
Inventor
洋二 鈴木
琢也 吉見
泰俊 田坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP25545194A priority Critical patent/JP3217616B2/en
Publication of JPH08122787A publication Critical patent/JPH08122787A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3217616B2 publication Critical patent/JP3217616B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G02F1/133761Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different pretilt angles

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置及びその製
造方法に関し、より詳しくは、広い視角特性を実現する
ため、配向分割された液晶表示装置及びその製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device which is divided to achieve a wide viewing angle characteristic and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータを中心と
して薄型表示装置の需要が拡大している。このような表
示装置として液晶表示装置が注目されている。液晶表示
装置に用いられる液晶パネルは2枚のガラス基板によっ
て液晶を挟み、更にその外側を偏光板等によって挟んだ
構造を有し、液晶分子の配向を制御して液晶層の光の透
過を制御するものである。しかしながら、液晶分子に配
向を付与したときに生ずるプレチルトにより、視角依存
性が生じ、見る方向によって明暗が反転したり、コント
ラストが低下する。例えば、液晶層に電圧を印加すると
液晶分子はプレチルトを持つ方向に立ち上がってくるた
め、この方向から見た場合、最も見えやすくなる。
2. Description of the Related Art In recent years, demand for thin display devices, mainly personal computers, has been increasing. A liquid crystal display device has attracted attention as such a display device. A liquid crystal panel used in a liquid crystal display device has a structure in which liquid crystal is sandwiched between two glass substrates, and the outside of the liquid crystal panel is further sandwiched by a polarizing plate or the like. Is what you do. However, the pretilt that occurs when an orientation is imparted to liquid crystal molecules causes a viewing angle dependency, and the contrast is reduced or the contrast is reduced depending on the viewing direction. For example, when a voltage is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules rise in a direction having a pretilt. Therefore, when viewed from this direction, the liquid crystal molecules are most visible.

【0003】このような視角依存性を改善するため、一
画素を例えば2つの領域に分割し、配向を逆向きにした
り、プレチルト角に差をつけたりすることにより、液晶
分子のねじれ方が互いに逆向きになるようにしている。
このような配向分割方式を用いた液晶表示パネルについ
て、図7を参照しながら説明する。図7は透過型の配向
分割型液晶表示パネルの断面図である。
In order to improve such viewing angle dependence, one pixel is divided into, for example, two regions, and the liquid crystal molecules are twisted in opposite directions by changing the alignment direction or making the pretilt angle different. I am trying to face it.
A liquid crystal display panel using such an orientation division method will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a sectional view of a transmissive alignment division type liquid crystal display panel.

【0004】TFTマトリクスの形成された第1の基板
101とカラーフィルタ層58の形成された第2の基板
102により液晶層62が挟まれた構造を有している。
なお、第1の基板101は透明基板51とゲートバスラ
イン(ゲート電極)52とゲート絶縁膜53と画素電極
54と配向膜とからなり、第2の基板102は透明基板
57とカラーフィルタ58と共通電極59と配向膜とか
らなる。
A liquid crystal layer 62 is sandwiched between a first substrate 101 on which a TFT matrix is formed and a second substrate 102 on which a color filter layer 58 is formed.
The first substrate 101 includes a transparent substrate 51, a gate bus line (gate electrode) 52, a gate insulating film 53, a pixel electrode 54, and an alignment film. The second substrate 102 includes a transparent substrate 57, a color filter 58, It comprises a common electrode 59 and an alignment film.

【0005】第1の基板102及び第2の基板103の
対向面の配向膜は、それぞれ下層の低プレチルト配向膜
55,60上に高プレチルト配向膜56,61が選択的
に形成された2層膜からなる。対向面には低プレチルト
配向領域及び高プレチルト配向領域が交互に並び、かつ
一画素当たり一対の高/低プレチルト配向領域の帯状領
域A,Bが存在するように形成されている。
The alignment film on the opposing surface of the first substrate 102 and the second substrate 103 is a two-layer structure in which high pre-tilt alignment films 56 and 61 are selectively formed on lower low-tilt alignment films 55 and 60, respectively. Consists of a membrane. On the facing surface, low pretilt alignment regions and high pretilt alignment regions are alternately arranged, and a pair of high / low pretilt alignment region strip-shaped regions A and B are formed per pixel.

【0006】しかも、A領域では第1の基板102の高
プレチルト配向膜56と第2の基板103の低プレチル
ト配向膜60とが対向し、B領域では第1の基板102
の低プレチルト配向膜55と第2の基板103の高プレ
チルト配向膜61とが対向している。高/低プレチルト
配向膜が対向したとき、配向膜間に挟まれた液晶分子の
傾きの方向は、高プレチルト配向膜56,61の傾きの
方向に対応する。
In addition, in the region A, the high pretilt alignment film 56 of the first substrate 102 and the low pretilt alignment film 60 of the second substrate 103 face each other.
The low pretilt alignment film 55 of the second substrate 103 and the high pretilt alignment film 61 of the second substrate 103 face each other. When the high / low pretilt alignment films face each other, the direction of tilt of the liquid crystal molecules sandwiched between the alignment films corresponds to the direction of tilt of the high pretilt alignment films 56 and 61.

【0007】従って、両基板102,103の配向膜の
ラビング方向が互いに直交し、かつともに図7上左から
右に向かう方向にあるとすると、第1及び第2の基板1
02,103の高プレチルト配向膜56,61側でラビ
ング方向の先の方、即ち、図7では液晶分子の右側がプ
レチルト角θ1で大きく傾くとともに、捩じれの向きは
上側又は下側から見てA領域とB領域で互いに逆にな
る。なお、低プレチルト配向膜55,60側で液晶分子
は小さいプレチルト角θ2を有する。
Accordingly, assuming that the rubbing directions of the alignment films of the two substrates 102 and 103 are orthogonal to each other and are both in the direction from left to right in FIG.
7, the right side of the liquid crystal molecules is greatly inclined at the pretilt angle θ1 in the rubbing direction on the side of the high pretilt alignment films 56 and 61, and the twisting direction is A when viewed from above or below. The region and the region B are opposite to each other. The liquid crystal molecules on the side of the low pretilt alignment films 55 and 60 have a small pretilt angle θ2.

【0008】更に、画素電極54及び共通電極59への
電圧印加により、液晶分子は高プレチルト配向膜56,
61側のプレチルト角θ1が更に大きくなる方向、即ち
A領域とB領域で互いに相反する方向に立ち上がる。こ
のように一画素に液晶分子の傾きが相反し、かつねじれ
の方向が逆のA領域とB領域が存在するため、視角依存
性が平均化されて視角特性が向上する。
Further, by applying a voltage to the pixel electrode 54 and the common electrode 59, the liquid crystal molecules are turned into a high pretilt alignment film 56,
It rises in the direction in which the pretilt angle θ1 on the 61 side is further increased, that is, in the directions opposite to each other in the region A and the region B. As described above, since the A region and the B region in which the inclination of the liquid crystal molecules are opposite to each other and the directions of the twists are opposite to each other are present, the viewing angle dependency is averaged, and the viewing angle characteristics are improved.

【0009】次に、第1の基板101の配向膜の作成方
法について図8(a)〜(c)を参照しながら説明す
る。なお、図8(a)〜(c)中、符号100は図7に
示した透明基板51,ゲートバスライン52,ゲート絶
縁膜53及び画素電極54からなる基板を示す。まず、
図8(a)に示すように、基板100上に低プレチルト
配向膜55と高プレチルト配向膜56を積層した後、さ
らにその上にレジスト膜63を塗布する。このレジスト
膜63にマスク64を介して紫外線65で露光した後、
現像し、レジストマスク63aを形成する。
Next, a method for forming an alignment film on the first substrate 101 will be described with reference to FIGS. 8A to 8C, reference numeral 100 denotes a substrate including the transparent substrate 51, the gate bus line 52, the gate insulating film 53, and the pixel electrode 54 illustrated in FIG. First,
As shown in FIG. 8A, after a low pretilt alignment film 55 and a high pretilt alignment film 56 are laminated on a substrate 100, a resist film 63 is further applied thereon. After exposing the resist film 63 with ultraviolet rays 65 via a mask 64,
Develop to form a resist mask 63a.

【0010】次に、図8(b)に示すように、レジスト
マスク63aにより高プレチルト配向膜56の不要部分
をエッチングし、除去して、高プレチルト配向膜56の
帯状のパターンを形成する。次いで、図8(c)に示す
ように、レジストマスク63aを剥離し、低プレチルト
配向膜55の露出部分と高プレチルト配向膜56の表面
をナイロン布などで1方向に擦ってラビングする。こう
して、ラビング方向が同じで帯状の低/高プレチルト配
向領域が交互に並んだ配向膜パターンを形成する。
Next, as shown in FIG. 8B, an unnecessary portion of the high pretilt alignment film 56 is etched and removed by a resist mask 63a to form a strip-like pattern of the high pretilt alignment film 56. Next, as shown in FIG. 8C, the resist mask 63a is peeled off, and the exposed portion of the low pretilt alignment film 55 and the surface of the high pretilt alignment film 56 are rubbed in one direction with a nylon cloth or the like. In this way, an alignment film pattern in which the rubbing directions are the same and the band-like low / high pretilt alignment regions are alternately arranged.

【0011】このようなフォトリソグラフィによる配向
膜のパターニング方法は、精度が良いという利点がある
が、露光/現像、エッチング、剥離の工程を必要とする
ために製造工程が複雑になるという不都合があった。ま
た、現像やエッチングに耐える配向膜材料を使用しなけ
ればならないために配向膜材料が限定され、またこの工
程において配向膜材料本来の特性が損なわれるなど、プ
ロセスマージンを狭めるという問題もあった。
The method of patterning an alignment film by photolithography has the advantage of high accuracy, but has the disadvantage of complicating the manufacturing process because it requires exposure / development, etching, and stripping steps. Was. In addition, since an alignment film material that can withstand development and etching must be used, the alignment film material is limited. In addition, the inherent characteristics of the alignment film material are impaired in this process.

【0012】このような問題に対処するため、図9
(a)、(b)の断面図で示すような、グラビア印刷な
どの印刷法による配向膜パターンの形成方法が提案され
た。この方法は、まず、図9(a)に示すように、選択
形成する高プレチルト配向膜の形状を刻んだ感光性樹脂
などの凸版66の凸部に配向膜材料56aを付着させた
後、図9(b)に示すように、低プレチルト配向膜55
上の適切な位置に押し当てて、高プレチルト配向膜56
aを選択的に付着させるものである。このとき、従来凸
版66の凸部の寸法は、ポリイミドの流れを考慮して高
プレチルト配向領域は低プレチルト配向領域が最終的に
1対1となるように決められている。
To address such a problem, FIG.
A method for forming an alignment film pattern by a printing method such as gravure printing as shown in the cross-sectional views of (a) and (b) has been proposed. In this method, first, as shown in FIG. 9A, an alignment film material 56a is attached to the convex portion of a relief plate 66 such as a photosensitive resin engraved with the shape of a selectively formed high pretilt alignment film. As shown in FIG. 9B, the low pretilt alignment film 55
To the appropriate position on the high pretilt alignment film 56.
a is selectively attached. At this time, the size of the convex portion of the conventional relief printing plate 66 is determined such that the high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region are finally one to one in consideration of the flow of polyimide.

【0013】この方法によれば、通常の印刷により配向
膜を選択形成できるので工程が簡略化され、フォトリソ
グラフィのような露光/現像、エッチング及び剥離の工
程が不要なため、配向膜材料本来の特性が損われること
がなく、信頼性の高い特性の配向膜を形成することがで
きる。
According to this method, the alignment film can be selectively formed by ordinary printing, so that the steps are simplified, and the steps of exposure / development, etching, and peeling such as photolithography are not required. An alignment film having highly reliable characteristics can be formed without deterioration of characteristics.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな印刷による配向膜パターンの形成方法は、凸版66
が樹脂製で柔軟性を有し、配向膜材料がポリイミドなど
液状材料であるため、印刷する際に凸版66の凸部が変
形して、高プレチルト配向膜56,61のパターンの縁
が波打ったり、パターンの幅が広がりすぎたりして、1
画素を正確に2分割することができない。
However, such a method of forming an alignment film pattern by printing uses a relief plate 66.
Is made of resin and has flexibility, and since the alignment film material is a liquid material such as polyimide, the projections of the relief plate 66 are deformed during printing, and the edges of the patterns of the high pretilt alignment films 56 and 61 are wavy. Or the width of the pattern is too wide
The pixel cannot be exactly divided into two.

【0015】液晶を挟んでこのような基板を重ね合わせ
ると、高プレチルト配向膜56,61のパターン幅が広
い場合、高プレチルト配向膜56,61同士が対向する
領域が生じる。このような場合、図3(b)に示すよう
に、液晶分子が正常な場合と逆方向に捩じれてしまう逆
ツイスト領域が発生し易くなる。高/低プレチルト配向
膜56/60,55/61に挟まれた領域にある液晶分
子SとWは、通常左回りに90度ツイストしているが、
高プレチルト配向膜56/61に挟まれた領域にある液
晶分子TとVは、正常な方向と逆回りに90度ツイスト
する。このような現象が生じると、部分領域で光の漏れ
や光の非透過領域が生じ、表示品質が低下する。
When such substrates are stacked with a liquid crystal interposed therebetween, when the pattern width of the high pretilt alignment films 56 and 61 is wide, a region where the high pretilt alignment films 56 and 61 face each other is generated. In such a case, as shown in FIG. 3B, a reverse twist region in which the liquid crystal molecules are twisted in a direction opposite to that in a normal case easily occurs. The liquid crystal molecules S and W in the region sandwiched between the high / low pretilt alignment films 56/60 and 55/61 are normally twisted 90 degrees counterclockwise.
The liquid crystal molecules T and V in the region sandwiched by the high pretilt alignment films 56/61 are twisted 90 degrees in a direction opposite to the normal direction. When such a phenomenon occurs, light leakage or light non-transmission region occurs in the partial region, and the display quality is deteriorated.

【0016】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであって、高プレチルト配向膜と低プレチルト配
向膜とを対向させることにより異なる配向を有する領域
に一画素内を分割した液晶表示装置及びその製造方法に
おいて、製造工程を複雑にすることなく、確実に高プレ
チルト配向膜同士が対向しない配向分割領域を形成し、
表示品質を向上させることを目的とするものである。
The present invention has been made in view of such a problem, and a liquid crystal display in which one pixel is divided into regions having different orientations by opposing a high pretilt alignment film and a low pretilt alignment film. In the apparatus and its manufacturing method, without complicating the manufacturing process, to form an alignment division region where the high pretilt alignment films do not face each other,
The purpose is to improve display quality.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記課題は、第1に、液
晶層を挟持する第1の基板及び第2の基板と、電圧を印
加して液晶分子の配向を制御し、前記液晶層の光の透過
を制御する、前記第1の基板に形成された第1の電極及
び前記第2の基板に形成された第2の電極と、前記第1
の基板に形成され、画素内で互いに隣接する高プレチル
ト配向領域及び低プレチルト配向領域を有する第1の配
向膜と、前記第2の基板に形成され、前記画素内で互い
に隣接する高プレチルト配向領域及び低プレチルト配向
領域を有する第2の配向膜とを有し、前記第1の配向膜
の前記高プレチルト配向領域の前記第2の基板への対向
領域には前記第2の配向膜の前記低プレチルト配向領域
が存在し、かつ前記第2の配向膜の前記高プレチルト配
向領域の前記第1の基板への対向領域には前記第1の配
向膜の前記低プレチルト配向領域が存在し、互いに隣接
する前記高プレチルト配向領域及び前記低プレチルト配
向領域との境界領域近傍は、前記第1及び前記第2の配
向膜における低プレチルト配向領域が対向していること
を特徴とする液晶表示装置によって達成され、第2に、
前記第1及び前記第2の配向膜のラビング方向は直交す
ることを特徴とする第1の発明に記載の液晶表示装置に
よって達成され、第3に、前記第1及び前記第2の配向
膜は低プレチルト配向膜上に高プレチルト配向膜が選択
的に形成された2層膜からなることを特徴とする第1又
は第2の発明に記載の液晶表示装置によって達成され、
第4に、前記高プレチルト配向膜は印刷によって形成さ
れていることを特徴とする第3の発明に記載の液晶表示
装置によって達成され、第5に、互いに交差する第1の
バスライン及び第2のバスラインが前記第1の基板に形
成されており、前記第1の配向膜の前記高プレチルト配
向領域の側端部及び前記第2の配向膜の前記高プレチル
ト配向領域の前記第1の基板への対向領域の側端部が、
前記第1又は前記第2のバスラインの長手方向に沿う中
央線と前記第1の電極の側端部との間にあることを特徴
とする第1乃至第4の発明のいずれかに記載の液晶表示
装置によって達成され、第6に、前記第1の基板に前記
画素毎に薄膜トランジスタが形成されており、前記第1
のバスラインは前記薄膜トランジスタのゲート電極と接
続されたゲートバスラインであり、前記第2のバスライ
ンは前記薄膜トランジスタのドレイン電極と接続された
ドレインバスラインであり、前記第1の電極は前記薄膜
トランジスタのソース電極と接続された画素電極である
ことを特徴とする第5の発明に記載の液晶表示装置によ
って達成され、第7に、前記低プレチルト配向膜が液晶
分子に与えるプレチルト角は1度以下であり、前記高プ
レチルト配向膜が液晶分子に与えるプレチルト角は7度
以上であることを特徴とする第1乃至第6の発明のいず
れかに記載の液晶表示装置によって達成され、第8に、
電圧を印加して液晶分子の配向を制御し、液晶層の光の
透過を制御する第1の電極が形成された第3の基板上に
低プレチルト配向膜を形成する工程と、電圧を印加して
前記液晶分子の配向を制御し、前記液晶層の光の透過を
制御する第2の電極が形成された第4の基板上に低プレ
チルト配向膜を形成する工程と、画素内で高プレチルト
配向領域と低プレチルト配向領域とが隣接するように、
前記第3の基板の前記低プレチルト配向膜上に印刷によ
り高プレチルト配向膜を形成する工程と、前記画素内で
高プレチルト配向領域と低プレチルト配向領域とが隣接
するように、前記第4の基板の前記低プレチルト配向膜
上に印刷により高プレチルト配向膜を形成する工程と、
前記第3及び前記第4の基板間に液晶を注入する工程を
含み、前記高プレチルト配向膜は、前記第3の基板の前
記高プレチルト配向領域の前記第4の基板への対向領域
には前記第4の基板の前記低プレチルト配向領域が存在
し、かつ前記第4の基板の前記高プレチルト配向領域の
前記第3の基板への対向領域には前記第3の基板の前記
低プレチルト配向領域が存在し、隣接する前記高プレチ
ルト配向領域及び前記低プレチルト配向領域との境界領
域近傍に前記低プレチルト配向膜が対向するように形成
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法によって
達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION The first object of the present invention is to firstly control the orientation of liquid crystal molecules by applying a voltage to a first substrate and a second substrate which sandwich a liquid crystal layer. A first electrode formed on the first substrate and a second electrode formed on the second substrate for controlling light transmission;
A first alignment film formed on the substrate and having a high pretilt alignment region and a low pretilt alignment region adjacent to each other in a pixel; and a high pretilt alignment region formed on the second substrate and adjacent to each other in the pixel. And a second alignment film having a low pretilt alignment region. The low alignment of the second alignment film is provided in a region where the high pretilt alignment region of the first alignment film faces the second substrate. A pretilt alignment region exists, and the low pretilt alignment region of the first alignment film exists in a region where the high pretilt alignment region of the second alignment film faces the first substrate, and is adjacent to each other. A liquid crystal in which the low pretilt alignment regions in the first and second alignment films face each other near a boundary region between the high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region. Achieved by shown device, the second,
The rubbing direction of the first and second alignment films is achieved by the liquid crystal display device according to the first aspect of the invention, and thirdly, the first and second alignment films are The liquid crystal display device according to the first or second invention, characterized in that the liquid crystal display device is constituted by a two-layer film in which a high pretilt alignment film is selectively formed on a low pretilt alignment film,
Fourth, the high pretilt alignment film is achieved by the liquid crystal display device according to the third invention, wherein the first bus line and the second bus line cross each other. Bus lines are formed on the first substrate, and a side end of the high pretilt alignment region of the first alignment film and the first substrate of the high pretilt alignment region of the second alignment film The side end of the area facing
The invention according to any one of the first to fourth inventions, characterized in that it is located between a center line along the longitudinal direction of the first or second bus line and a side end of the first electrode. Sixth, the invention is achieved by a liquid crystal display device, wherein a thin film transistor is formed for each pixel on the first substrate,
Is a gate bus line connected to the gate electrode of the thin film transistor, the second bus line is a drain bus line connected to the drain electrode of the thin film transistor, and the first electrode is The liquid crystal display device according to the fifth aspect of the present invention is characterized in that the liquid crystal display device is a pixel electrode connected to a source electrode. Seventh, the low pretilt alignment film gives a pretilt angle to liquid crystal molecules of 1 degree or less. The liquid crystal display device according to any one of the first to sixth inventions, wherein the pretilt angle given to the liquid crystal molecules by the high pretilt alignment film is at least 7 degrees.
Applying a voltage to control the alignment of liquid crystal molecules and forming a low pretilt alignment film on a third substrate on which a first electrode for controlling light transmission of the liquid crystal layer is formed; Forming a low pretilt alignment film on a fourth substrate on which a second electrode for controlling the alignment of the liquid crystal molecules and controlling the transmission of light through the liquid crystal layer is provided. As the region and the low pretilt alignment region are adjacent,
Forming a high pretilt alignment film by printing on the low pretilt alignment film of the third substrate; and forming the fourth substrate so that the high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region are adjacent in the pixel. Forming a high pretilt alignment film by printing on the low pretilt alignment film,
A step of injecting a liquid crystal between the third and fourth substrates, wherein the high pretilt alignment film is provided in a region where the high pretilt alignment region of the third substrate faces the fourth substrate. The low pretilt alignment region of the third substrate is provided in the region where the low pretilt alignment region of the fourth substrate is present, and the high pretilt alignment region of the fourth substrate is opposed to the third substrate. The present invention is attained by a method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the low pretilt alignment film is formed so as to face and exist near a boundary region between the high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region adjacent to each other.

【0018】[0018]

【作用】図10は、本願発明者が調査した、液晶層を挟
み、高/中/低のプレチルト角を液晶分子に付与する配
向膜の組み合わせと液晶分子の逆ツイストが発生する印
加電圧との関係を示した表である。この表において、高
プレチルト角として7度のプレチルト角、中プレチルト
角として3度のプレチルト角、および低プレチルト角と
して1度以下のプレチルト角をそれぞれ液晶分子に与え
る配向膜を用いている。
FIG. 10 is a graph showing the relationship between the combination of an alignment film that provides a high / medium / low pretilt angle to liquid crystal molecules sandwiching a liquid crystal layer and the applied voltage at which a reverse twist of the liquid crystal molecules occurs, investigated by the present inventors. It is a table showing the relationship. In this table, an alignment film that gives a liquid crystal molecule a pretilt angle of 7 degrees as a high pretilt angle, a pretilt angle of 3 degrees as a medium pretilt angle, and a pretilt angle of 1 degree or less as a low pretilt angle is used.

【0019】また、各欄の上段はカイラルピッチを75
μmとした場合の逆ツイストが発生する印加電圧、下段
はカイラルピッチを40μmとした場合の逆ツイストが
発生する印加電圧を示す。また、「−」が記された欄
は、逆ツイストが発生しない配向膜の組合せを示す。こ
の表によれば、配向膜のプレチルト角が異なる場合には
逆ツイストは生じないが、配向膜のプレチルト角が等し
い場合に逆ツイストが生じる。
The upper row of each column has a chiral pitch of 75.
The applied voltage at which a reverse twist occurs when the pitch is set to μm, and the lower row shows the applied voltage at which the reverse twist occurs when the chiral pitch is set to 40 μm. The column marked with “-” indicates a combination of alignment films in which reverse twist does not occur. According to this table, no reverse twist occurs when the pretilt angles of the alignment films are different, but a reverse twist occurs when the pretilt angles of the alignment films are equal.

【0020】また、逆ツイストが生じる電圧は、配向膜
のプレチルト角が小さいほど高く、配向膜のプレチルト
角が大きいほど低い。更に、逆ツイストが生じる電圧は
カイラルピッチが小さいほど高くなり、大きいほど低く
なる。ところで、一般に液晶の飽和電圧は5.5V程度
なので、配向膜が高プレチルト角の場合には、液晶の飽
和電圧以下の電圧で逆ツイストが発生し、逆に配向膜が
低プレチルト角の場合には、液晶の飽和電圧よりもかな
り高い電圧を印加しなければ逆ツイストが発生しない。
The voltage at which the reverse twist occurs is higher as the pretilt angle of the alignment film is smaller, and is lower as the pretilt angle of the alignment film is larger. Further, the voltage at which the reverse twist occurs becomes higher as the chiral pitch is smaller, and becomes lower as the chiral pitch is larger. In general, since the saturation voltage of the liquid crystal is about 5.5 V, when the alignment film has a high pretilt angle, reverse twist occurs at a voltage lower than the saturation voltage of the liquid crystal, and conversely, when the alignment film has a low pretilt angle. No reverse twist occurs unless a voltage much higher than the saturation voltage of the liquid crystal is applied.

【0021】本発明によれば、液晶層を挟む第1及び第
2の基板に低プレチルト配向領域と高プレチルト配向領
域が隣接して形成され、互いに隣接する高プレチルト配
向領域及び低プレチルト配向領域との境界領域近傍は、
第1及び第2の配向膜における低プレチルト配向領域が
対向している。即ち、境界領域近傍では高プレチルト配
向領域同士が確実に対向しないようにしている。
According to the present invention, the low pretilt alignment region and the high pretilt alignment region are formed adjacent to each other on the first and second substrates sandwiching the liquid crystal layer, and the high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region adjacent to each other are formed. Near the boundary region of
The low pretilt alignment regions in the first and second alignment films face each other. That is, it is ensured that the high pretilt alignment regions do not face each other near the boundary region.

【0022】従って、液晶層は低プレチルト配向領域に
より挟まれることはあるが、高プレチルト配向領域によ
り挟まれることはない。このため、飽和電圧以下で、確
実に液晶分子の逆ツイストが生じるのを回避することが
できる。これにより、部分領域の光の漏れや非透過領域
の形成、またはコントラストの低下などの表示品質の低
下を回避することができる。
Accordingly, the liquid crystal layer may be sandwiched between the low pretilt alignment regions, but not between the high pretilt alignment regions. Therefore, it is possible to reliably prevent the reverse twist of the liquid crystal molecules from occurring at a saturation voltage or lower. Accordingly, it is possible to avoid a decrease in display quality such as light leakage in a partial region, formation of a non-transmissive region, or a decrease in contrast.

【0023】また、少なくとも第1又は第2の配向膜の
高プレチルト配向領域を印刷で形成することができるの
で、製造工程が簡略化され、またフォリソグラフィによ
るパターニング法とは異なり、現像/露光やエッチング
など配向膜材料に悪影響を与える工程がないので、配向
膜の特性が損なわれることはない。更に、第1及び第2
の配向膜は低プレチルト配向膜上に高プレチルト配向膜
が選択的に形成された2層膜からなり、高プレチルト配
向膜を印刷により作成している。これにより、配向膜材
料の溶剤などにより下層の配向膜のプレチルト角が低下
したり、パターニングした上層の低プレチルト配向膜の
断面形状が崩れたりするような、好ましくない影響を回
避することができる。
Further, since at least the high pretilt alignment region of the first or second alignment film can be formed by printing, the manufacturing process is simplified, and unlike the patterning method by photolithography, development / exposure and Since there is no step that adversely affects the alignment film material such as etching, the characteristics of the alignment film are not impaired. Further, the first and second
Is composed of a two-layer film in which a high pretilt alignment film is selectively formed on a low pretilt alignment film, and the high pretilt alignment film is formed by printing. Thus, it is possible to avoid undesired effects such as a decrease in the pretilt angle of the lower alignment film due to the solvent of the alignment film material and the like, and a reduction in the cross-sectional shape of the patterned lower pretilt alignment film.

【0024】[0024]

【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例に
ついて説明する。図1は、本発明の一実施例に係る90
°ツイストネマティックモードの液晶パネルの構造を概
略的に示した断面図である。アクティブマトリクス回路
の薄膜トランジスタが形成されたTFT側基板(第1の
基板)201と、カラーフィルタ(CF)が形成された
CF側基板(第2の基板)202が液晶層1を挟んで対
向配置している。光は、図示しない光源からTFT側基
板201を介してCF側基板202を透過する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a 90 according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a liquid crystal panel in a twisted nematic mode. A TFT-side substrate (first substrate) 201 on which a thin film transistor of an active matrix circuit is formed, and a CF-side substrate (second substrate) 202 on which a color filter (CF) is formed are opposed to each other with the liquid crystal layer 1 interposed therebetween. ing. Light passes through a CF-side substrate 202 from a light source (not shown) via a TFT-side substrate 201.

【0025】TFT側基板201には、ガラスなどの透
明基板2上にゲートバスライン3、ゲート絶縁膜4およ
びITO膜からなる透明な画素電極(第1の電極)5が
形成されている。更に、これらを被覆してポリイミドか
らなる低プレチルト配向膜6が形成され、低プレチルト
配向膜6上に選択的に高プレチルト配向膜7が積層され
ている。
On the TFT-side substrate 201, a transparent pixel electrode (first electrode) 5 composed of a gate bus line 3, a gate insulating film 4, and an ITO film is formed on a transparent substrate 2 made of glass or the like. Further, a low pretilt alignment film 6 made of polyimide is formed by covering these, and a high pretilt alignment film 7 is selectively laminated on the low pretilt alignment film 6.

【0026】このTFT側基板201を液晶層側から見
た平面図を図2(a)に示す。ゲートバスライン3とド
レインバスライン13が直交し、交差点の近傍にTFT
が形成されている。ゲートバスライン3はTFTのゲー
ト電極と接続され、ドレインバスライン13はTFTの
ドレイン電極と接続されている。ゲートバスライン3と
ドレインバスライン13により区分される領域が画素領
域に相当する。
FIG. 2A is a plan view of the TFT-side substrate 201 as viewed from the liquid crystal layer side. The gate bus line 3 and the drain bus line 13 are orthogonal to each other, and a TFT is provided near the intersection.
Are formed. The gate bus line 3 is connected to the gate electrode of the TFT, and the drain bus line 13 is connected to the drain electrode of the TFT. A region divided by the gate bus line 3 and the drain bus line 13 corresponds to a pixel region.

【0027】この画素領域内に、画素領域毎に分離され
た画素電極5と、これらを被覆して画素領域全面に低プ
レチルト配向膜6が形成されている。画素電極5はTF
Tのソース電極と接続されている。さらにその上に、画
素領域をゲートバスライン3に沿ってほぼ2分した上下
領域のうち下側の領域を覆うように、帯状の高プレチル
ト配向膜7が形成されている。高プレチルト配向膜7
は、画素領域の中央線よりも少し下から下側のゲートバ
スライン3の長手方向に沿う中心線までの範囲に形成さ
れている。
In this pixel region, a pixel electrode 5 separated for each pixel region and a low pretilt alignment film 6 are formed over the entire pixel region so as to cover them. Pixel electrode 5 is TF
It is connected to the source electrode of T. Further thereon, a band-shaped high pretilt alignment film 7 is formed so as to cover a lower region of the upper and lower regions obtained by dividing the pixel region along the gate bus line 3 into approximately two parts. High pretilt alignment film 7
Is formed in a range from slightly below the center line of the pixel region to the center line along the longitudinal direction of the gate bus line 3 below.

【0028】これらの低プレチルト配向膜6と高プレチ
ルト配向膜7のラビング方向は同じであり、図2(a)
の右側に矢印Cで示した。また、低プレチルト配向膜6
と高プレチルト配向膜7が液晶分子に与えるプレチルト
角は異なり、低プレチルト配向膜6のプレチルト角は約
1度、高プレチルト配向膜7のプレチルト角は約7度と
なっている。
The rubbing directions of the low pretilt alignment film 6 and the high pretilt alignment film 7 are the same, as shown in FIG.
Is indicated by arrow C on the right side of. The low pretilt alignment film 6
The pretilt angle given to the liquid crystal molecules by the high pretilt alignment film 7 is different from that of the low pretilt alignment film 6, and the pretilt angle of the high pretilt alignment film 7 is about 7 degrees.

【0029】一方、CF側基板202には、ガラスなど
の透明基板8上にカラーフィルタ膜9と透明電極(第2
の電極;共通電極)10が積層され、さらにその上にポ
リイミドからなる低プレチルト配向膜11が形成され、
低プレチルト配向膜11上に選択的に高プレチルト配向
膜12が形成されている。CF側基板Bを液晶側から見
た平面図を図2(b)に示し、画素領域毎に分離された
矩形状のカラーフィルタ膜9の上に透明電極10が形成
され、これらを被覆して画素領域全面に低プレチルト配
向膜11が形成されている。
On the other hand, on the CF side substrate 202, a color filter film 9 and a transparent electrode (second
Electrode; common electrode) 10 is laminated, and a low pretilt alignment film 11 made of polyimide is further formed thereon,
A high pretilt alignment film 12 is selectively formed on the low pretilt alignment film 11. FIG. 2B is a plan view of the CF-side substrate B as viewed from the liquid crystal side. A transparent electrode 10 is formed on a rectangular color filter film 9 separated for each pixel region. A low pretilt alignment film 11 is formed over the entire pixel region.

【0030】更に、その上に画素領域をゲートバスライ
ン3に沿ってほぼ2分した上下領域のうち上側の領域を
覆うように、帯状の高プレチルト配向膜12が形成され
ている。高プレチルト配向膜12は、画素領域の中心線
よりもわずかに上から上側のゲートバスライン3の長手
方向に沿う中心線までの範囲に形成されている。この図
2(b)に示したCF側基板202を、液晶表示パネル
としてTFT側基板201と重ね合わせたとき、上下は
同じままであるが、左右が逆になる。したがって、CF
側基板202の高プレチルト配向膜12の形成領域のT
FT側基板201への対向領域は、TFT側基板201
の高プレチルト配向膜7の形成領域とは間隔をもって離
隔し、重ならない。この間隔は製造上ばらつきを考慮し
て確実に重ならないような寸法に設定される。
Further, a band-shaped high pretilt alignment film 12 is formed thereon so as to cover the upper region of the upper and lower regions obtained by substantially dividing the pixel region along the gate bus line 3 into two. The high pretilt alignment film 12 is formed in a range slightly above the center line of the pixel region to the center line along the longitudinal direction of the upper gate bus line 3. When the CF-side substrate 202 shown in FIG. 2B is overlapped with the TFT-side substrate 201 as a liquid crystal display panel, the top and bottom remain the same, but the left and right are reversed. Therefore, CF
T of the formation region of the high pretilt alignment film 12 of the side substrate 202
The area facing the FT-side substrate 201 is
And a region where the high pretilt alignment film 7 is formed, and is not overlapped. This interval is set to a dimension that does not overlap with certainty in consideration of manufacturing variations.

【0031】また、低プレチルト配向膜11及び高プレ
チルト配向膜12のラビング方向は、図2(b)の右側
の矢印Dで示したとおり、TFT側基板201と重ね合
わせたときに、低プレチルト配向膜6及び高プレチルト
配向膜7のラビング方向と直交する向きである。以上の
ように、図1に示すように、第1及び第2の基板の高プ
レチルト配向膜7,12は、画素領域を2分した領域よ
りもわずかに狭い領域に形成されているため、低プレチ
ルト配向膜6,11同士は対向する部分があるが、高プ
レチルト配向膜7,12同士は対向することはない。
The rubbing direction of the low pretilt alignment film 11 and the high pretilt alignment film 12 is, as shown by the arrow D on the right side of FIG. This is a direction orthogonal to the rubbing direction of the film 6 and the high pretilt alignment film 7. As described above, as shown in FIG. 1, the high pretilt alignment films 7 and 12 of the first and second substrates are formed in a region slightly smaller than a region obtained by dividing the pixel region into two, and thus have a low level. Although there are portions where the pretilt alignment films 6 and 11 face each other, the high pretilt alignment films 7 and 12 do not face each other.

【0032】次に、図1に示した構造の液晶表示パネル
に電圧を印加したときの、画素領域の境界付近における
液晶分子の配向状態を図3(a)に示す。基板平面方向
で異なる位置にある液晶分子S、T、U、V、Wの配向
状態を示し、TFT側基板201の配向膜からCF側基
板202の配向膜までの位置における基板平面方向に対
する傾きとして表してある。液晶分子は、実際には基板
平面方向にねじれているが、理解しやすくするため図で
はそのねじれを示していない。
Next, FIG. 3 (a) shows an alignment state of liquid crystal molecules near a boundary of a pixel region when a voltage is applied to the liquid crystal display panel having the structure shown in FIG. The alignment state of the liquid crystal molecules S, T, U, V, and W at different positions in the substrate plane direction is shown. The inclination from the alignment film of the TFT side substrate 201 to the alignment film of the CF side substrate 202 with respect to the substrate plane direction is shown. It is shown. The liquid crystal molecules are actually twisted in the plane direction of the substrate, but the twist is not shown in the figure for easy understanding.

【0033】TFT側基板201の画素電極5とCF側
基板202の透明電極10の間に電圧を印加すると、液
晶層1内の液晶分子が立ち上がる。本実施例の液晶表示
パネルでは、低プレチルト配向膜6,8同士は重なって
いるが、高プレチルト配向膜7,12同士は重なってい
ない。したがって、図10の表に関連して説明したよう
に、低プレチルト配向膜が重なっている部分の液晶分子
T,Vの逆ツイストが生じる電圧印加は液晶の飽和電圧
よりもかなり高いため、通常の動作電圧では液晶分子の
逆ツイストは発生しない。
When a voltage is applied between the pixel electrode 5 of the TFT side substrate 201 and the transparent electrode 10 of the CF side substrate 202, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 1 rise. In the liquid crystal display panel of this embodiment, the low pretilt alignment films 6 and 8 overlap, but the high pretilt alignment films 7 and 12 do not overlap. Therefore, as described with reference to the table of FIG. 10, the voltage application that causes the reverse twist of the liquid crystal molecules T and V in the portion where the low pretilt alignment film overlaps is considerably higher than the saturation voltage of the liquid crystal, and therefore, the ordinary At the operating voltage, no reverse twist of the liquid crystal molecules occurs.

【0034】次に、以上説明した本発明による液晶表示
パネルの製造方法を説明する。図4から図6はそれぞ
れ、(a)がTFT側基板201の製造工程、(b)が
CF側基板202の製造工程を概略的に示す断面図であ
る。まず図4の工程では、各基板に画素電極及び共通電
極を形成する。図4(a)では、ガラスなどの透明基板
2にゲートバスライン3、ゲート絶縁膜4および透明な
画素電極5を積層する。これらは第3の基板を構成す
る。また図4(b)では、ガラス基板などの透明基板8
にカラーフィルタ9と透明電極10を積層する。これら
は第4の基板を構成する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the present invention described above will be described. 4A to 6B are cross-sectional views schematically showing a manufacturing process of the TFT-side substrate 201 and FIG. 4B schematically showing a manufacturing process of the CF-side substrate 202. First, in the step of FIG. 4, a pixel electrode and a common electrode are formed on each substrate. In FIG. 4A, a gate bus line 3, a gate insulating film 4, and a transparent pixel electrode 5 are laminated on a transparent substrate 2 such as glass. These constitute a third substrate. In FIG. 4B, a transparent substrate 8 such as a glass substrate is used.
The color filter 9 and the transparent electrode 10 are laminated. These constitute a fourth substrate.

【0035】次に図5の工程では、低プレチルト配向膜
6,11を形成する。図5(a)では、低プレチルト配
向膜6を、ベタパターンで印刷して80℃3分間のプリ
ベークを行い、乾燥する。また図5(b)では、透明電
極10の上の全面に、低プレチルト配向膜11をベタパ
ターンで印刷してプリベークを行い、乾燥する。次に図
6の工程では、高プレチルト配向膜7,12を選択形成
する。図6(a)では、画素電極のほぼ中央からゲート
バスライン3までの領域の低プレチルト配向膜6上に高
プレチルト配向膜7のストライプパターンを印刷し、8
0℃で3分間プリベークし、さらに180℃で1時間焼
成を行う。また図6(b)でも同様に、低プレチルト配
向膜11上に高プレチルト配向膜12のストライプパタ
ーンを印刷した後、上記と同様にプリベークし、焼成す
る。なお、積層する順序を変えて、高プレチルト配向膜
7,12の上に低プレチルト配向膜6,11を印刷によ
り形成すると、配向膜材料の溶剤などにより下層の高プ
レチルト配向膜12のプレチルト角が低下したり、パタ
ーニングした上層の低プレチルト配向膜11の断面形状
が崩れたりするので好ましくない。
Next, in the step of FIG. 5, low pretilt alignment films 6 and 11 are formed. In FIG. 5A, the low pretilt alignment film 6 is printed in a solid pattern, prebaked at 80 ° C. for 3 minutes, and dried. In FIG. 5B, the low pretilt alignment film 11 is printed in a solid pattern on the entire surface on the transparent electrode 10, prebaked, and dried. Next, in the step of FIG. 6, the high pretilt alignment films 7 and 12 are selectively formed. In FIG. 6A, the stripe pattern of the high pretilt alignment film 7 is printed on the low pretilt alignment film 6 in the region from the center of the pixel electrode to the gate bus line 3, and 8
Pre-baking is performed at 0 ° C. for 3 minutes, and baking is performed at 180 ° C. for 1 hour. Similarly, in FIG. 6B, after the stripe pattern of the high pretilt alignment film 12 is printed on the low pretilt alignment film 11, prebaking and firing are performed in the same manner as described above. When the low pretilt alignment films 6 and 11 are formed on the high pretilt alignment films 7 and 12 by printing by changing the stacking order, the pretilt angle of the lower high pretilt alignment film 12 due to the solvent of the alignment film material or the like is reduced. It is not preferable because it lowers or the cross-sectional shape of the patterned low-pretilt alignment film 11 of the upper layer collapses.

【0036】次に、この高プレチルト配向膜7,12の
ストライプパターン印刷について説明する。印刷用の版
は、図9に示したものと同様に感光性樹脂凸版(旭化成
製)を使用し、10.4インチの表示サイズの液晶パネ
ルを作成するために、版幅60μm、ピッチ330μm
の凸状のストライプパターンを刻む。
Next, the printing of the stripe pattern of the high pretilt alignment films 7 and 12 will be described. As a printing plate, a photosensitive resin relief plate (manufactured by Asahi Kasei Corporation) was used in the same manner as that shown in FIG. 9.
Carve a convex stripe pattern.

【0037】この樹脂凸版を用いてグラビア印刷により
配向膜をパターニングするが、樹脂凸版はその材質の性
質上硬度が低く、配向膜材料は粘度が40〜50cpと
低い液状であるため、配向膜材料を付着させて押し付け
た際に、樹脂凸版の台形の凸部が潰れたり凸部の縁に回
りこんで、配向膜材料の幅が樹脂凸版の幅の2〜3倍に
広がり、配向膜のストライプパターンの縁が波うつた
め、印刷されたストライプパターンの幅には±15%の
ばらつきが生じる。
The alignment film is patterned by gravure printing using the resin relief printing plate. The resin relief printing plate has a low hardness due to its material properties, and the alignment film material is a liquid having a low viscosity of 40 to 50 cp. When the resin is pressed and adhered, the trapezoidal convex portion of the resin relief plate is crushed or wrapped around the edge of the convex portion, and the width of the alignment film material is spread two to three times the width of the resin relief plate, and the stripes of the alignment film are formed. Since the edge of the pattern is wavy, the width of the printed stripe pattern varies by ± 15%.

【0038】このようなストライプパターンの幅のばら
つきに対処するために、本実施例では、印刷した後の高
プレチルト配向膜7,12の幅がそれぞれ最大で165
μmとなるようにして、TFT側基板201とCF側基
板202をはり合わせたときに、高プレチルト配向膜
7,12が対向し合うことがないようにしている。この
例では、実際に印刷されるパターン幅が140±20μ
mとなることから、樹脂凸版の版幅の値を60μmにし
ている。
In order to cope with such a variation in the width of the stripe pattern, in this embodiment, the width of each of the high pretilt alignment films 7 and 12 after printing is 165 at the maximum.
When the TFT-side substrate 201 and the CF-side substrate 202 are bonded together so as to have a thickness of μm, the high pretilt alignment films 7 and 12 do not face each other. In this example, the pattern width actually printed is 140 ± 20 μm.
m, the value of the plate width of the resin relief printing plate is set to 60 μm.

【0039】このようにして作成されたTFT側基板2
01とCF側基板202は、図2の(a),(b)に示
した方向にそれぞれラビング処理され、図1に示すよう
に、高/高プレチルト配向膜が対向しないように重ね合
わされた後、液晶1が真空注入される。このとき、液晶
1には、液晶分子のねじれ方向を決めるためのカイラル
剤が添加されるが、本実施例による液晶パネルの液晶分
子は逆ツイストが生じやすいので、カイラルピッチはセ
ルギャップの10倍以下にするのが好ましい。本実施例
の液晶パネルはセルギャップが5μmなので、液晶のカ
イラルピッチを40μmとしている。
The TFT-side substrate 2 thus prepared
1 and the CF-side substrate 202 are rubbed in the directions shown in FIGS. 2A and 2B, respectively, and as shown in FIG. 1, after the high / high pretilt alignment films are overlapped so as not to face each other. The liquid crystal 1 is vacuum-injected. At this time, a chiral agent for determining the twist direction of the liquid crystal molecules is added to the liquid crystal 1. However, since the liquid crystal molecules of the liquid crystal panel according to the present embodiment easily cause reverse twist, the chiral pitch is 10 times the cell gap. It is preferable to set the following. Since the liquid crystal panel of this embodiment has a cell gap of 5 μm, the chiral pitch of the liquid crystal is set to 40 μm.

【0040】上記のように液晶を封入した後、注入口を
封止し、透明基板1と8の外側に偏光板を透過軸が平行
もしくは垂直になるように貼り付けて、液晶表示パネル
が完成する。以上のように、高プレチルト配向膜7,1
2のパターン幅が、画素領域をゲートバスラインに沿っ
て2分した上下領域幅よりも狭くなるようにすることに
より、TFT側基板201とCF側基板202を重ね合
わせたとき、高プレチルト配向膜7の形成領域の対向領
域は高プレチルト配向膜12の形成領域と間隔をあけて
離隔する。
After the liquid crystal has been sealed as described above, the injection port is sealed, and a polarizing plate is attached to the outside of the transparent substrates 1 and 8 so that the transmission axes are parallel or vertical, thereby completing the liquid crystal display panel. I do. As described above, the high pretilt alignment films 7, 1
2 is narrower than the width of the upper and lower regions obtained by dividing the pixel region into two along the gate bus line, so that when the TFT-side substrate 201 and the CF-side substrate 202 are overlapped, a high pretilt alignment film is formed. 7 is separated from the formation region of the high pretilt alignment film 12 with an interval.

【0041】特に、その間隔を印刷ばらつき以上に設計
しておくことにより、印刷ばらつきが生じても、高プレ
チルト配向膜7,12同士が対向することがなく、重な
ることがなくなる。これにより、液晶分子の逆ツイスト
の発生を確実に回避できる。なお、本実施例による液晶
パネルは、全面に形成した低プレチルト配向膜6,11
の上に、高プレチルト配向膜7,12を積層することに
より、基板201,202上に低プレチルト配向膜6,
11と高プレチルト配向膜7,12を形成しているが、
配向膜を2層に積層しないで、それぞれ異なる領域に低
プレチルト配向膜と高プレチルト配向膜を形成してもよ
い。
In particular, by designing the interval to be equal to or greater than the printing variation, even if the printing variation occurs, the high pretilt alignment films 7 and 12 do not face each other and do not overlap. Thereby, the occurrence of reverse twist of the liquid crystal molecules can be reliably avoided. The liquid crystal panel according to the present embodiment has low pretilt alignment films 6, 11 formed on the entire surface.
By stacking the high pretilt alignment films 7 and 12 on the substrate, the low pretilt alignment films 6 and 6 are formed on the substrates 201 and 202.
11 and high pretilt alignment films 7 and 12 are formed.
Instead of stacking the alignment films in two layers, a low pretilt alignment film and a high pretilt alignment film may be formed in different regions.

【0042】また、本実施例による液晶表示パネルの配
向分割領域はゲートバスラインに平行な領域によって分
割されているが、画素領域を分割する形状は特に限定さ
れず、たとえばドレインバスラインに沿った領域によっ
て画素領域を2分し、その分割した領域の形状に合わせ
て配向膜をパターニングしてもよい。更に、画素領域を
2分しているが、2つ以上の複数の配向分割領域に分割
されてもよい。
Further, although the alignment division region of the liquid crystal display panel according to the present embodiment is divided by a region parallel to the gate bus line, the shape for dividing the pixel region is not particularly limited, and for example, along the drain bus line. The pixel region may be bisected by the region, and the alignment film may be patterned according to the shape of the divided region. Further, although the pixel region is divided into two, the pixel region may be divided into two or more alignment division regions.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、液晶層
を挟む第1及び第2の基板に低プレチルト配向領域と高
プレチルト配向領域が隣接して形成され、互いに隣接す
る高プレチルト配向領域及び低プレチルト配向領域との
境界領域近傍は、第1及び第2の配向膜における低プレ
チルト配向領域が対向している。
As described above, according to the present invention, the low pretilt alignment region and the high pretilt alignment region are formed adjacent to each other on the first and second substrates sandwiching the liquid crystal layer, and the high pretilt alignment regions adjacent to each other are formed. Near the boundary region between the region and the low pretilt alignment region, the low pretilt alignment region in the first and second alignment films faces each other.

【0044】従って、高プレチルト配向膜を印刷により
形成する場合等でも、第1及び第2の基板の高プレチル
ト配向領域同士が対向するのを確実に防止することがで
きる。このため、高プレチルト配向領域が対向すること
によって生じる液晶分子の逆ツイストを回避することが
でき、これにより、視角特性が改善されると共にコント
ラストを高める等表示品質の向上を図ることができる。
Therefore, even when the high pretilt alignment film is formed by printing, it is possible to reliably prevent the high pretilt alignment regions of the first and second substrates from facing each other. For this reason, it is possible to avoid reverse twist of liquid crystal molecules caused by the opposing high pretilt alignment regions, thereby improving viewing angle characteristics and improving display quality such as enhancing contrast.

【0045】また、高プレチルト配向膜を印刷により形
成することができるので、液晶表示パネルの製造工程が
簡略化され、同時にフォトリソグラフィによるパターニ
ングのように配向膜の特性を損なうことがなく、液晶表
示パネルの信頼性を高めることができる。
Further, since the high pretilt alignment film can be formed by printing, the manufacturing process of the liquid crystal display panel is simplified, and at the same time, the characteristics of the alignment film are not impaired as in the patterning by photolithography. The reliability of the panel can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の概略的
な断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の液晶層
を挟む各基板の構成を示し、(a)はTFT側基板を液
晶層側から見た平面図、(b)はカラーフィルタ側基板
を液晶層側から見た平面図である。
2A and 2B show the configuration of each substrate sandwiching a liquid crystal layer of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 2A is a plan view of a TFT-side substrate viewed from the liquid crystal layer side, and FIG. FIG. 4 is a plan view of a side substrate as viewed from a liquid crystal layer side.

【図3】液晶表示パネル内の液晶分子の配向状態を示
し、(a)は本発明の液晶表示パネルにおける液晶分子
の配向状態を示す断面図、(b)は従来の液晶表示パネ
ルにおける液晶分子の配向状態を示す断面図である。
FIGS. 3A and 3B show alignment states of liquid crystal molecules in a liquid crystal display panel, FIG. 3A is a cross-sectional view showing alignment states of liquid crystal molecules in a liquid crystal display panel of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view showing an alignment state of the liquid crystal.

【図4】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の各基板
の製造方法を示し、(a)はTFT側基板を示す断面
図、(b)はカラーフィルタ側基板を示す断面図であ
る。
4A and 4B show a method of manufacturing each substrate of the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, wherein FIG. 4A is a cross-sectional view showing a TFT-side substrate, and FIG. .

【図5】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の各基板
の製造方法を示し、(a)はTFT側基板を示す断面
図、(b)はカラーフィルタ側基板を示す断面図であ
る。
5A and 5B show a method of manufacturing each substrate of the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, wherein FIG. 5A is a sectional view showing a TFT side substrate, and FIG. 5B is a sectional view showing a color filter side substrate. .

【図6】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の各基板
の製造方法を示し、(a)はTFT側基板を示す断面
図、(b)はカラーフィルタ側基板を示す断面図であ
る。
6A and 6B show a method of manufacturing each substrate of the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, wherein FIG. 6A is a cross-sectional view showing a TFT-side substrate, and FIG. .

【図7】プレチルト角の制御による配向分割型液晶表示
パネルの原理を説明するための断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining the principle of an alignment division type liquid crystal display panel by controlling a pretilt angle.

【図8】フォトリソグラフィ技術による配向膜の形成方
法を示し、(a)〜(c)はそれぞれ各工程を示す断面
図である。
FIG. 8 shows a method of forming an alignment film by a photolithography technique, and (a) to (c) are cross-sectional views showing respective steps.

【図9】印刷による配向膜の形成方法を示し、(a),
(b)はそれぞれ各工程を示す断面図である。
FIGS. 9A and 9B show a method of forming an alignment film by printing, wherein FIGS.
(B) is sectional drawing which shows each process.

【図10】液晶層を挟む配向膜のプレチルト角と液晶分
子の逆ツイストが発生する電圧との関係を示す表であ
る。
FIG. 10 is a table showing a relationship between a pretilt angle of an alignment film sandwiching a liquid crystal layer and a voltage at which a reverse twist of liquid crystal molecules occurs.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶層、 2、8、51、57 透明基板、 3、52 ゲートバスライン、 4、53 ゲート絶縁膜、 5、54 画素電極(第1の電極)、 6、55 低プレチルト配向膜、 7、56、56a 高プレチルト配向膜、 9、58 カラーフィルタ膜、 10、59 透明電極(共通電極;第2の電極)、 11、60 低プレチルト配向膜、 12、61 高プレチルト配向膜、 13 ドレインバスライン、 63 レジスト膜、 63a レジストマスク、 64 マスク、 65 紫外線、 66 凸版、 201 TFT側基板(第1の基板)、 202 CF側基板(第2の基板)。 Reference Signs List 1 liquid crystal layer, 2, 8, 51, 57 transparent substrate, 3, 52 gate bus line, 4, 53 gate insulating film, 5, 54 pixel electrode (first electrode), 6, 55 low pretilt alignment film, 7, 56, 56a High pretilt alignment film, 9, 58 Color filter film, 10, 59 Transparent electrode (common electrode; second electrode), 11, 60 Low pretilt alignment film, 12, 61 High pretilt alignment film, 13 Drain bus line 63 resist film, 63a resist mask, 64 mask, 65 ultraviolet rays, 66 letterpress, 201 TFT side substrate (first substrate), 202 CF side substrate (second substrate).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−210099(JP,A) 特開 平6−43460(JP,A) 特開 平6−82784(JP,A) 特開 平6−130397(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1337 505 G02F 1/1368 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-5-210099 (JP, A) JP-A-6-43460 (JP, A) JP-A-6-82784 (JP, A) JP-A-6-84784 130397 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1337 505 G02F 1/1368

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 液晶層を挟持する第1の基板及び第2の
基板と、 電圧を印加して液晶分子の配向を制御し、前記液晶層の
光の透過を制御する、前記第1の基板に形成された第1
の電極及び前記第2の基板に形成された第2の電極と、 前記第1の基板に形成され、互いに隣接する高プレチル
ト配向領域及び低プレチルト配向領域を画素内に有する
第1の配向膜と、 前記第2の基板に形成され、互いに隣接する高プレチル
ト配向領域及び低プレチルト配向領域を前記画素内に有
する第2の配向膜とを有し、 前記第1の配向膜の前記高プレチルト配向領域の前記第
2の基板への対向領域には前記第2の配向膜の前記低プ
レチルト配向領域が存在し、かつ前記第2の配向膜の前
記高プレチルト配向領域の前記第1の基板への対向領域
には前記第1の配向膜の前記低プレチルト配向領域が存
在し、互いに隣接する前記高プレチルト配向領域及び前
記低プレチルト配向領域との境界領域近傍は、前記第1
及び前記第2の配向膜における低プレチルト配向領域が
対向していることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate that sandwich a liquid crystal layer, and a first substrate that controls the alignment of liquid crystal molecules by applying a voltage and controls light transmission of the liquid crystal layer. The first formed in
And a second electrode formed on the second substrate, and a first alignment film formed on the first substrate and having a high pretilt alignment region and a low pretilt alignment region adjacent to each other in a pixel. A second alignment film formed on the second substrate and having a high pretilt alignment region and a low pretilt alignment region adjacent to each other in the pixel, wherein the high pretilt alignment region of the first alignment film The low pretilt alignment region of the second alignment film exists in the region facing the second substrate, and the high pretilt alignment region of the second alignment film faces the first substrate. The region includes the low pretilt alignment region of the first alignment film, and the vicinity of a boundary region between the high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region adjacent to each other is the first pretilt alignment region.
And a low pretilt alignment region in the second alignment film faces each other.
【請求項2】 前記第1及び前記第2の配向膜のラビン
グ方向は直交することを特徴とする請求項1に記載の液
晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the rubbing directions of the first and second alignment films are orthogonal.
【請求項3】 前記第1及び前記第2の配向膜は低プレ
チルト配向膜上に高プレチルト配向膜が選択的に形成さ
れた2層膜からなることを特徴とする請求項1又は請求
項2に記載の液晶表示装置。
3. The method according to claim 1, wherein each of the first and second alignment films is a two-layer film in which a high pretilt alignment film is selectively formed on a low pretilt alignment film. 3. The liquid crystal display device according to 1.
【請求項4】 前記高プレチルト配向膜は印刷によって
形成されていることを特徴とする請求項3に記載の液晶
表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the high pretilt alignment film is formed by printing.
【請求項5】 互いに交差する第1のバスライン及び第
2のバスラインが前記第1の基板に形成されており、前
記第1の配向膜の前記高プレチルト配向領域の側端部及
び前記第2の配向膜の前記高プレチルト配向領域の前記
第1の基板への対向領域の側端部が、前記第1又は前記
第2のバスラインの長手方向に沿う中央線と前記第1の
電極の側端部との間にあることを特徴とする請求項1乃
至請求項4のいずれかに記載の液晶表示装置。
5. A first bus line and a second bus line crossing each other are formed on the first substrate, and a side end of the high pretilt alignment region of the first alignment film and the second bus line are formed on the first substrate. The side edge of the high pretilt alignment region of the second alignment film facing the first substrate has a center line extending along a longitudinal direction of the first or second bus line and a first end of the first electrode. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is provided between the liquid crystal display device and a side end.
【請求項6】 前記第1の基板に前記画素毎に薄膜トラ
ンジスタが形成されており、前記第1のバスラインは前
記薄膜トランジスタのゲート電極と接続されたゲートバ
スラインであり、前記第2のバスラインは前記薄膜トラ
ンジスタのドレイン電極と接続されたドレインバスライ
ンであり、前記第1の電極は前記薄膜トランジスタのソ
ース電極と接続された画素電極であることを特徴とする
請求項5に記載の液晶表示装置。
6. A thin film transistor is formed on the first substrate for each pixel, the first bus line is a gate bus line connected to a gate electrode of the thin film transistor, and the second bus line 6. The liquid crystal display device according to claim 5, wherein is a drain bus line connected to a drain electrode of the thin film transistor, and the first electrode is a pixel electrode connected to a source electrode of the thin film transistor.
【請求項7】 前記低プレチルト配向膜が液晶分子に与
えるプレチルト角は1度以下であり、前記高プレチルト
配向膜が液晶分子に与えるプレチルト角は7度以上であ
ることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに
記載の液晶表示装置。
7. A pretilt angle given to liquid crystal molecules by the low pretilt alignment film is 1 degree or less, and a pretilt angle given to liquid crystal molecules by the high pretilt alignment film is 7 degrees or more. The liquid crystal display device according to claim 6.
【請求項8】 電圧を印加して液晶分子の配向を制御
し、液晶層の光の透過を制御する第1の電極が形成され
た第3の基板上に低プレチルト配向膜を形成する工程
と、 電圧を印加して前記液晶分子の配向を制御し、前記液晶
層の光の透過を制御する第2の電極が形成された第4の
基板上に低プレチルト配向膜を形成する工程と、 画素内で高プレチルト配向領域と低プレチルト配向領域
とが隣接するように、前記第3の基板の前記低プレチル
ト配向膜上に印刷により高プレチルト配向膜を形成する
工程と、 前記画素内で高プレチルト配向領域と低プレチルト配向
領域とが隣接するように、前記第4の基板の前記低プレ
チルト配向膜上に印刷により高プレチルト配向膜を形成
する工程と、 前記第3及び前記第4の基板間に液晶を注入する工程を
含み、前記高プレチルト配向膜は、前記第3の基板の前
記高プレチルト配向領域の前記第4の基板への対向領域
には前記第4の基板の前記低プレチルト配向領域が存在
し、かつ前記第4の基板の前記高プレチルト配向領域の
前記第3の基板への対向領域には前記第3の基板の前記
低プレチルト配向領域が存在し、隣接する前記高プレチ
ルト配向領域及び前記低プレチルト配向領域との境界領
域近傍に前記低プレチルト配向膜が対向するように形成
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
8. A step of applying a voltage to control the alignment of liquid crystal molecules and forming a low pretilt alignment film on a third substrate on which a first electrode for controlling light transmission of the liquid crystal layer is formed. Forming a low pretilt alignment film on a fourth substrate on which a second electrode for controlling the alignment of the liquid crystal molecules by applying a voltage and controlling the light transmission of the liquid crystal layer is formed; Forming a high pre-tilt alignment film by printing on the low pre-tilt alignment film of the third substrate so that the high pre-tilt alignment region and the low pre-tilt alignment region are adjacent to each other; Forming a high pretilt alignment film by printing on the low pretilt alignment film of the fourth substrate so that the region and the low pretilt alignment region are adjacent to each other; and a liquid crystal between the third and fourth substrates. The process of injecting In addition, the high pretilt alignment film has a low pretilt alignment region of the fourth substrate in a region of the third substrate facing the high pretilt alignment region to the fourth substrate; The low pretilt alignment region of the third substrate is present in the region of the high pretilt alignment region of the substrate 4 facing the third substrate, and the adjacent high pretilt alignment region and the low pretilt alignment region Wherein the low pretilt alignment film is formed so as to face the boundary region of the liquid crystal display device.
JP25545194A 1994-10-20 1994-10-20 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP3217616B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25545194A JP3217616B2 (en) 1994-10-20 1994-10-20 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25545194A JP3217616B2 (en) 1994-10-20 1994-10-20 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08122787A JPH08122787A (en) 1996-05-17
JP3217616B2 true JP3217616B2 (en) 2001-10-09

Family

ID=17278957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25545194A Expired - Fee Related JP3217616B2 (en) 1994-10-20 1994-10-20 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3217616B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3642634B2 (en) * 1995-12-08 2005-04-27 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社 Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
KR100736661B1 (en) * 2006-01-18 2007-07-06 한양대학교 산학협력단 Liquid crystal display and method of fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH08122787A (en) 1996-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7542120B2 (en) Vertical alignment active matrix liquid crystal display device having particular transparent step films
US8493534B2 (en) Substrate for liquid crystal display, liquid crystal display having the same and method of manufacturing the same
JP4679067B2 (en) Liquid crystal display device
US7595855B2 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
JP2000305086A (en) Liquid crystal display device and its production
US8300192B2 (en) Liquid crystal display and thin film transistor array panel usable with the liquid crystal display
KR101430610B1 (en) Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same.
US6762818B2 (en) Liquid crystal display device and color filter substrate thereof
KR20030082141A (en) Patterned Spacer having a Liquid Crystal Display Device
KR100904526B1 (en) Patterned Spacer having a Liquid Crystal Display Device
US7538838B2 (en) Semi-transmissive liquid crystal display panel
JP2005128324A (en) Electrode pattern of ips liquid crystal display element
US20070042279A1 (en) Method of manufacturing liquid crystal display device and the liquid crystal display device
JP2004151459A (en) Substrate for liquid crystal display and liquid crystal display equipped with the same
US8755014B2 (en) Liquid crystal display and a display panel therefor
JPH11174482A (en) Liquid crystal display device
US20060023151A1 (en) Liquid crystal display and panel therefor
JP3217616B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR100294686B1 (en) Complex field type liquid crystal display device
JP2005084231A (en) Liquid crystal display and its manufacturing method
JP4517624B2 (en) Liquid crystal display device, method for manufacturing liquid crystal display device, electronic device
JPH0682784A (en) Manufacture of liquid crystal panel
JP4121357B2 (en) Liquid crystal display
JPH06337419A (en) Liquid crystal display device
KR20070103158A (en) Liquid crystal display of in-plane switching mode and method for manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010724

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070803

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100803

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130803

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees