JP3196742B2 - Liquid crystal optical element and manufacturing method thereof - Google Patents

Liquid crystal optical element and manufacturing method thereof

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、積層型の液晶光学
素子の製造方法に関する。本発明の液晶光学素子は、文
字、図形等を表示する表示装置、入射光の反射や透過な
どを制御するライトバルブ等に利用される。
The present invention relates to a laminated liquid crystal optical device.
The present invention relates to a device manufacturing method . INDUSTRIAL APPLICABILITY The liquid crystal optical element of the present invention is used for a display device for displaying characters, figures and the like, a light valve for controlling reflection and transmission of incident light, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレイを使用した携帯端末に
おける動作時間の向上を図る方法の一つは、液晶光学素
子としてバックライトが不要なデバイス、すなわち反射
型の液晶光学素子を使用することである。この素子の一
つとして、特開平5−134266号公報には、液晶と
高分子材料から構成された反射型の液晶素子が開示され
ている。この液晶光学素子では、規則的に並んだ液晶滴
と高分子材料との屈折率差に起因する光の干渉を利用し
て光の反射/透過を制御しており、この種の素子はホロ
グラフィック高分子分散液晶素子と呼ばれている。
2. Description of the Related Art One of the methods for improving the operation time of a portable terminal using a liquid crystal display is to use a device that does not require a backlight as a liquid crystal optical element, that is, a reflective liquid crystal optical element. As one of such devices, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-134266 discloses a reflective liquid crystal device composed of liquid crystal and a polymer material. In this liquid crystal optical element, the reflection / transmission of light is controlled by using light interference caused by a difference in refractive index between liquid crystal droplets arranged regularly and a polymer material. This type of element is a holographic element. This is called a polymer dispersed liquid crystal element.

【0003】ホログラフィック高分子分散液晶素子で
は、一般に、高分子材料の屈折率は、液晶材料の常光屈
折率近傍に設定されている。液晶材料としては、正の誘
電異方性の液晶が使用されている。電圧無印加状態で
は、液晶滴中の液晶分子はランダムに配向しており、高
分子材料と屈折率差が生じている。この屈折率差と液晶
滴の周期により光が選択的に反射される。また、この液
晶光学素子に電圧を印加していくと、高分子材料と液晶
滴との屈折率差が小さくなり、選択反射光強度が低下し
ていく。
In a holographic polymer-dispersed liquid crystal element, the refractive index of a polymer material is generally set near the ordinary light refractive index of the liquid crystal material. As the liquid crystal material, a liquid crystal having a positive dielectric anisotropy is used. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules in the liquid crystal droplets are randomly oriented, and a difference in refractive index from the polymer material occurs. Light is selectively reflected by the refractive index difference and the period of the liquid crystal droplet. When a voltage is applied to the liquid crystal optical element, the difference in the refractive index between the polymer material and the liquid crystal droplet becomes smaller, and the intensity of the selectively reflected light decreases.

【0004】ホログラフィック高分子分散液晶素子は、
液晶をカプセル化し高分子材料中に分散した透過/散乱
型の液晶光学素子(特公平3−52843号公報等)と
同様に偏光板を要しないため光の利用効率が高いという
利点や、TFT(薄膜トランジスタ)、MIM等のアク
ティブ素子での駆動が可能であるという利点を有してい
る。なお、この液晶光学素子では、液晶滴の間隔の設定
により選択反射波長が異なる液晶光学素子を作製できる
ため、RGBの各波長を選択反射する画素を並置あるい
は積層することにより、マルチカラー化をカラーフィル
タ無しで実現することができる。
A holographic polymer-dispersed liquid crystal device is
Like a transmission / scattering type liquid crystal optical element in which a liquid crystal is encapsulated and dispersed in a polymer material (Japanese Patent Publication No. 3-52843, etc.), there is no need for a polarizing plate, so that the light use efficiency is high and the TFT ( It has an advantage that it can be driven by an active element such as a thin film transistor) and an MIM. In this liquid crystal optical element, a liquid crystal optical element having different selective reflection wavelengths can be manufactured by setting the distance between liquid crystal droplets. It can be realized without a filter.

【0005】前記特開平5−134266号では、赤色
反射、緑色反射、青色反射の各パネルを積層化したホロ
グラフィック高分子分散液晶ディスプレイが提案されて
いるが、画素サイズに比べてパネルが厚くなりすぎる
と、視差が発生するという問題がある。この問題を解決
するために、調光層間の基板を排除した構造が提案され
ている。この場合、電極層を基板等に形成する方法とし
ては、一般に、スパッタ法や蒸着法、あるいは有機溶剤
を利用したキャスト法が利用されている。
Japanese Patent Laid-Open No. 5-134266 proposes a holographic polymer-dispersed liquid crystal display in which red, green and blue reflective panels are laminated, but the panel becomes thicker than the pixel size. If too long, there is a problem that parallax occurs. In order to solve this problem, a structure in which a substrate between light control layers is eliminated has been proposed. In this case, as a method for forming an electrode layer on a substrate or the like, a sputtering method, a vapor deposition method, or a casting method using an organic solvent is generally used.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶材
料とマトリックス樹脂とからなる調光層上に直接スパッ
タ法や蒸着法により電極を形成する方法は、高温や減圧
という電極形成条件のために調光層にダメージを与え、
調光層の電気光学特性が低下してしまうという問題点を
もたらしている。また、有機溶剤中に導電性材料を分散
した溶液を調光層上に塗布後、乾燥させて同様に調光層
上に電極層だけを形成させるキャスト法では、塗布時に
使用される有機溶剤の種類によっては調光層の膨潤、液
晶の抽出を引き起こし、やはり調光層の電気光学特性を
低下させるという問題点を有している。このように、液
晶材料とマトリックス樹脂とからなる調光層に影響を与
えない効果的な電極の製造方法は従来示されていない。
However, the method of forming an electrode directly on a light control layer composed of a liquid crystal material and a matrix resin by a sputtering method or a vapor deposition method has a problem that light control is performed due to high temperature and reduced pressure. Damage the layers,
This causes a problem that the electro-optical characteristics of the light control layer are deteriorated. Further, in a casting method in which a solution in which a conductive material is dispersed in an organic solvent is applied onto the light control layer and then dried to form only the electrode layer on the light control layer in the same manner, the organic solvent used at the time of coating is used. Depending on the type, there is a problem that swelling of the light control layer and extraction of liquid crystal are caused, and the electro-optical characteristics of the light control layer are also deteriorated. As described above, an effective method of manufacturing an electrode that does not affect the light control layer including the liquid crystal material and the matrix resin has not been described.

【0007】本発明は、前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、調光層にダメージを与えることなく、
目的とする厚み、パターン等を有する導電性膜を容易に
調光層に配置することを実現した液晶光学素子の製造方
を提供することにある。本発明は、前記事情に鑑みて
なされたもので、その目的は、調光層にダメージを与え
ることなく、目的とする厚み、パターン等を有する導電
性膜を容易に調光層に配置することを実現した液晶光学
素子の製造方法を提供することにある。
[0007] The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a light control layer without damaging it.
A method for manufacturing a liquid crystal optical element that can easily arrange a conductive film having a desired thickness, pattern, and the like on a light control layer.
Is to provide a law . The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to easily arrange a conductive film having a target thickness, a pattern, and the like on a light control layer without damaging the light control layer. LCD optics that realize
An object of the present invention is to provide a device manufacturing method .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前述の課
題を解決するために鋭意研究を行った結果、導電性膜を
有する剥離基板を用いて液晶とマトリックス樹脂からな
る調光層を作製した後、剥離基板だけを取り除くことに
より、表面に導電性膜を有する調光層を容易に製造でき
ることを見い出し、本発明に至った。固体の膜を転写に
より積層するという技術は一般的に知られているが、液
晶材料とマトリックス樹脂からなる調光層に導電性膜を
転写できることは従来知られていない。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a dimming layer composed of a liquid crystal and a matrix resin is formed by using a release substrate having a conductive film. After manufacturing, it has been found that a dimming layer having a conductive film on the surface can be easily manufactured by removing only the peeling substrate, and the present invention has been achieved. The technique of stacking solid films by transfer is generally known, but it has not been known that a conductive film can be transferred to a light control layer composed of a liquid crystal material and a matrix resin.

【0009】したがって、本発明は、下記(1)〜
(9)に示す液晶光学素子を得るための(10)〜(1
6)に示す液晶光学素子の製造方法を提供する。
Therefore, the present invention provides the following (1) to
(10) to (1) for obtaining the liquid crystal optical element shown in (9).
A method for manufacturing a liquid crystal optical element described in 6) is provided.

【0010】(1)調光層が電極層で挟まれた液晶光学
素子において、調光層を挟む電極層の少なくとも一方が
剥離基板から転写された導電性膜であることを特徴とす
る液晶光学素子。
(1) In a liquid crystal optical element having a light control layer sandwiched between electrode layers, at least one of the electrode layers sandwiching the light control layer is a conductive film transferred from a release substrate. element.

【0011】(2)電極層を有する基板と導電性膜とで
調光層を挟んだ液晶光学素子において、前記導電性膜が
剥離基板から転写された膜であることを特徴とする液晶
光学素子。
(2) A liquid crystal optical element having a light control layer sandwiched between a substrate having an electrode layer and a conductive film, wherein the conductive film is a film transferred from a release substrate. .

【0012】(3)剥離基板から転写された導電性膜上
に光吸収性基板を付加したことを特徴とする(1)又は
(2)の液晶光学素子。
(3) The liquid crystal optical element according to (1) or (2), wherein a light-absorbing substrate is added on the conductive film transferred from the peeling substrate.

【0013】(4)複数の調光層が導電性膜を介して積
層された液晶光学素子において、少なくとも一つの導電
性膜が剥離基板から調光層上に転写された膜であること
を特徴とする液晶光学素子。
(4) In a liquid crystal optical element in which a plurality of light control layers are laminated via a conductive film, at least one conductive film is a film transferred from the peeled substrate onto the light control layer. Liquid crystal optical element.

【0014】(5)第1の電極層、第1の調光層及び第
1の導電性膜を積層した第1の基板と、第2の電極層、
第2の調光層及び第2の導電性膜を積層した第2の基板
と、前記第1の導電性膜と第2の導電性膜との間に設け
られた第3の調光層とを有し、かつ、前記第1の導電性
膜及び第2の導電性膜の一方又は両方が剥離基板から調
光層上に転写された膜であることを特徴とする(4)の
液晶光学素子。
(5) a first substrate on which a first electrode layer, a first dimming layer and a first conductive film are laminated, a second electrode layer,
A second substrate on which a second light control layer and a second conductive film are stacked, and a third light control layer provided between the first conductive film and the second conductive film. (4) wherein one or both of the first conductive film and the second conductive film are films transferred from the peeled substrate onto the light control layer. element.

【0015】(6)剥離基板から転写された導電性膜が
導電性材料と支持材料からなることを特徴とする(1)
〜(5)の液晶光学素子。
(6) The conductive film transferred from the peeled substrate is made of a conductive material and a supporting material (1).
(5) The liquid crystal optical element of (5).

【0016】(7)導電性膜の導電性材料が基板上の電
極層の一部と接していることを特徴とする(6)の液晶
光学素子。
(7) The liquid crystal optical element according to (6), wherein the conductive material of the conductive film is in contact with a part of the electrode layer on the substrate.

【0017】(8)調光層がマトリックス樹脂と液晶材
料からなることを特徴とする(1)〜(7)の液晶光学
素子。
(8) The liquid crystal optical element according to any one of (1) to (7), wherein the light control layer comprises a matrix resin and a liquid crystal material.

【0018】(9)調光層が可視光を反射する干渉構造
を有することを特徴とする(1)〜(8)の液晶光学素
子。
(9) The liquid crystal optical element according to any one of (1) to (8), wherein the light control layer has an interference structure for reflecting visible light.

【0019】(10)前記(2)の液晶光学素子の製造
方法であって、電極層を有する基板と導電性膜を有する
剥離基板とで調光層前駆体を挟持して、前記基板と剥離
基板との間に調光層を製造した後、剥離基板を取り除
き、調光層の一方の表面に剥離基板から導電性膜を転写
することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
(10) The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to the above (2), wherein the light modulating layer precursor is sandwiched between a substrate having an electrode layer and a peeling substrate having a conductive film, and is peeled from the substrate. A method for manufacturing a liquid crystal optical element, comprising manufacturing a light control layer between the light control layer and a substrate, removing the release substrate, and transferring a conductive film from the release substrate to one surface of the light control layer.

【0020】(11)剥離基板を剥離した後、導電性膜
上に光吸収性基板を付加することを特徴とする(10)
に記載の液晶光学素子の製造方法。
(11) A light-absorbing substrate is added on the conductive film after the peeling substrate is peeled off (10).
3. The method for producing a liquid crystal optical element according to item 1.

【0021】(12)前記(5)の液晶光学素子の製造
方法であって、第1の電極層、第1の調光層及び第1の
導電性膜を積層した第1の基板と、第2の電極層、第2
の調光層及び第2の導電性膜を積層した第2の基板と
で、第1の導電性膜と第2の導電性膜とを対向させた状
態で調光層前駆体を挟持した後、第1の導電性膜と第2
の導電性膜との間に第3の調光層を製造することを特徴
とする液晶光学素子の製造方法。
(12) The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to the above (5), wherein a first substrate on which a first electrode layer, a first light control layer and a first conductive film are laminated is provided. 2nd electrode layer, 2nd
After sandwiching the light modulating layer precursor in a state where the first conductive film and the second conductive film face each other with the second substrate on which the light modulating layer and the second conductive film are stacked , The first conductive film and the second
A method for manufacturing a liquid crystal optical element, comprising manufacturing a third dimming layer between the conductive film and the conductive film.

【0022】(13)剥離基板から転写された導電性膜
が導電性材料と支持材料からなることを特徴とする(1
0)〜(12)の液晶光学素子の製造方法。
(13) The conductive film transferred from the peeling substrate is made of a conductive material and a supporting material.
0) to (12).

【0023】(14)導電性膜の導電性材料を基板上の
電極層の一部と接触させることを特徴とする(13)の
液晶光学素子の製造方法。
(14) The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to (13), wherein the conductive material of the conductive film is brought into contact with a part of the electrode layer on the substrate.

【0024】(15)調光層がマトリックス樹脂と液晶
材料からなることを特徴とする(10)〜(14)の液
晶光学素子の製造方法。
(15) The method for producing a liquid crystal optical element according to any one of (10) to (14), wherein the light control layer comprises a matrix resin and a liquid crystal material.

【0025】(16)調光層が可視光を反射する干渉構
造を有することを特徴とする(10)〜(15)の液晶
光学素子の製造方法。
(16) The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to (10) to (15), wherein the light control layer has an interference structure for reflecting visible light.

【0026】本発明の製造方法によって得られる液晶光
学素子によれば、導電性膜を予め剥離基板上に形成する
ことにより、調光層にダメージを与えることなく、目的
とする厚み、パターン等を有する導電性膜を容易に調光
層に配置することができる。また、剥離基板をギャップ
制御時、光照射による調光層製造時に使用するため、調
光層の膜厚を容易に制御することが可能であり、調光層
の均一性もより高いものにすることができる。さらに、
この技術により、前記(4)、(5)の液晶光学素子の
ように調光層の積層化が可能となり、視差が少なく、か
つ一画素でマルチカラーを表示する積層型の液晶光学素
子を得ることができる。本発明の技術は、特に調光層が
ホログラフィック高分子分散液晶である液晶光学素子の
場合に有効であり、視差の少ない高解像度の反射型の液
晶ディスプレイが製造できる。なお、転写した膜を利用
して液晶材料とマトリックス樹脂からなる調光層を積層
するという方法は従来知られていない。
According to the liquid crystal optical element obtained by the manufacturing method of the present invention, by forming a conductive film in advance on a peeled substrate, the desired thickness, pattern and the like can be obtained without damaging the light control layer. The conductive film can be easily disposed on the light control layer. In addition, since the peeled substrate is used at the time of gap control and at the time of manufacturing a light control layer by light irradiation, the film thickness of the light control layer can be easily controlled, and the uniformity of the light control layer is further improved. be able to. further,
According to this technique, a light control layer can be laminated as in the liquid crystal optical elements of (4) and (5), and a laminated liquid crystal optical element that has a small parallax and displays multicolor with one pixel is obtained. be able to. The technique of the present invention is particularly effective in the case of a liquid crystal optical element in which the dimming layer is a holographic polymer-dispersed liquid crystal, and can produce a high-resolution reflective liquid crystal display with little parallax. A method of laminating a light control layer composed of a liquid crystal material and a matrix resin using the transferred film has not been known.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】本発明の前記の目的、特徴及び利
点を明確にすべく、添付した図面を参照しながら、本発
明の実施の形態を以下に詳述する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings in order to clarify the above objects, features and advantages of the present invention.

【0028】図1を参照すると、本発明の一実施例とし
ての液晶光学素子の模式的な断面図が示されている。図
1の液晶光学素子は、調光層が電極層で挟まれた液晶光
学素子において、調光層を挟む電極層の少なくとも一方
が剥離基板から転写された導電性膜であることを特徴と
する液晶光学素子である。この液晶光学素子は、電極層
を有する基板と導電性膜とで調光層を挟んだ液晶光学素
子において、前記導電性膜が剥離基板から転写された膜
であることを特徴とする液晶光学素子でもある。すなわ
ち、図1の液晶光学素子では、マトリックス樹脂41と
液晶材料31からなる調光層51の一方の表面に、剥離
基板91から転写された導電性膜81が設けられてい
る。また、図1において、21は電極層11を有する基
板である。
Referring to FIG. 1, there is shown a schematic sectional view of a liquid crystal optical element as one embodiment of the present invention. The liquid crystal optical element of FIG. 1 is characterized in that at least one of the electrode layers sandwiching the light modulating layer is a conductive film transferred from a peeling substrate in the liquid crystal optical element sandwiching the light modulating layer between the electrode layers. It is a liquid crystal optical element. This liquid crystal optical element is a liquid crystal optical element in which a light control layer is sandwiched between a substrate having an electrode layer and a conductive film, wherein the conductive film is a film transferred from a release substrate. But also. That is, in the liquid crystal optical element of FIG. 1, the conductive film 81 transferred from the separation substrate 91 is provided on one surface of the light control layer 51 made of the matrix resin 41 and the liquid crystal material 31. In FIG. 1, reference numeral 21 denotes a substrate having the electrode layer 11.

【0029】図1の液晶光学素子は、図2及び図3に示
されるように、電極層11を有する基板21と、導電性
膜81を有する剥離基板91との間に調光層前駆体溶液
110、すなわち液晶材料とマトリックス樹脂の前駆体
との混合物を挟持した後、調光層前駆体溶液110に光
100,101を照射して光重合を行わせることにより
調光層51を形成した後、剥離基板91だけを取り除
き、調光層51の一方の表面に導電性膜81を転写する
ことによって製造することができる。また、前記剥離基
板を剥離した後、光吸収性基板を導電性膜81上に付加
することもできる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the liquid crystal optical element shown in FIG. 1 has a light control layer precursor solution between a substrate 21 having an electrode layer 11 and a release substrate 91 having a conductive film 81. 110, that is, after the mixture of the liquid crystal material and the precursor of the matrix resin is sandwiched, the light control layer precursor solution 110 is irradiated with light 100 and 101 to perform photopolymerization, thereby forming the light control layer 51. By removing only the peeling substrate 91 and transferring the conductive film 81 to one surface of the light control layer 51, it can be manufactured. After the release substrate is separated, a light-absorbing substrate can be added on the conductive film 81.

【0030】図4を参照すると、本発明の他の実施例と
しての液晶光学素子の模式的な断面図が示されている。
図4の液晶光学素子は、複数の調光層が導電性膜を介し
て積層された液晶光学素子において、少なくとも一つの
導電性膜が調光層上に剥離基板から転写された膜である
ことを特徴とする液晶光学素子である。すなわち、図4
の液晶光学素子は、第1の電極層11、第1の調光層5
1及び第1の導電性膜81を積層した第1の基板21
と、第2の電極層12、第2の調光層52及び第2の導
電性膜82を積層した第2の基板22とで、導電性膜8
1,82が互いに対向するように第3の調光層53を挟
持した液晶光学素子であり、上記導電性膜81,82
は、第1の調光層51及び第2の調光層52上に剥離基
板から転写された膜である。
Referring to FIG. 4, there is shown a schematic sectional view of a liquid crystal optical element according to another embodiment of the present invention.
The liquid crystal optical element in FIG. 4 is a liquid crystal optical element in which a plurality of light control layers are laminated via a conductive film, and at least one conductive film is a film transferred from the peeling substrate onto the light control layer. The liquid crystal optical element is characterized by the following. That is, FIG.
The first liquid crystal optical element has a first electrode layer 11, a first light control layer 5
First substrate 21 on which first and first conductive films 81 are laminated
And the second substrate 22 on which the second electrode layer 12, the second light control layer 52, and the second conductive film 82 are laminated, the conductive film 8
A liquid crystal optical element having a third dimming layer 53 sandwiched between the conductive films 81 and 82 so that the conductive films 81 and 82 face each other.
Is a film transferred from the separation substrate onto the first light control layer 51 and the second light control layer 52.

【0031】図4の液晶光学素子は、図5及び図6に示
されるように、第1の電極層11、第1の調光層51及
び第1の導電性膜81を積層した第1の基板21と、第
2の電極層12、第2の調光層52及び第2の導電性膜
82を積層した第2の基板22とで、導電性膜81,8
2が互いに対向するようして、調光層前駆体溶液110
を挟持した後、調光層前駆体溶液110に光100,1
01を照射して光重合を行わせることにより第3の調光
層53を形成することによって製造することができる。
ただし、図6では、図5の第2の基板22に代えて、第
3の導電性膜83、第2の調光層52及び第2の導電性
膜82を積層した剥離基板92を使用した場合を図示し
てある。
As shown in FIGS. 5 and 6, the liquid crystal optical element shown in FIG. 4 has a first electrode layer 11, a first light control layer 51, and a first conductive film 81 which are laminated. The substrate 21 and the second substrate 22 on which the second electrode layer 12, the second dimming layer 52, and the second conductive film 82 are stacked are used to form conductive films 81, 8
2 are opposed to each other so that the light control layer precursor solution 110
After the light is sandwiched between the light control layer precursor solution 110 and the light 100, 1
The third light modulating layer 53 can be manufactured by irradiating the photo-polymerization by irradiating 01 with the light-irradiating light.
However, in FIG. 6, a peeled substrate 92 in which a third conductive film 83, a second light control layer 52, and a second conductive film 82 are stacked is used instead of the second substrate 22 in FIG. The case is illustrated.

【0032】図5及び図6に示した製造技術は、積層化
された調光層の製造が可能であり、特に調光層が高分子
分散液晶やホログラフィック高分子分散液晶である場合
に有効である。例えば、前記のように導電性膜/ホログ
ラフィック高分子分散液晶からなる調光層付き透明性基
板を二つ使用し、その基板間に調光層前駆体を注入後、
干渉露光により中間層となる調光層を作製することによ
り、三層構造のホログ
The manufacturing technique shown in FIGS. 5 and 6 enables the production of a laminated light control layer, and is particularly effective when the light control layer is a polymer dispersed liquid crystal or a holographic polymer dispersed liquid crystal. It is. For example, as described above, two transparent substrates with a light control layer composed of a conductive film / holographic polymer dispersed liquid crystal are used, and a light control layer precursor is injected between the substrates.
By producing a light control layer that becomes an intermediate layer by interference exposure, a hologram with a three-layer structure

【0033】本発明の液晶光学素子における調光層は、
マトリックス樹脂中に液晶材料が分散した構成のもので
ある。マトリックス樹脂中に分散する液晶材料はネット
ワーク状に連結していても構わない。調光層の一例とし
てはホログラフィック高分子分散液晶がある。ホログラ
フィック高分子分散液晶においては、可視光を選択反射
するように液晶材料はマトリックス樹脂中に周期性を有
して分散している。このとき液晶材料が滴を形成してい
ても構わないし、マトリックス樹脂が微粒子となり液晶
材料中に存在しても構わない。それらの周期性は目的と
する選択反射波長により任意に設定することができる。
また、特定の波長を反射あるいは吸収する特性を有する
調光層を積層してマルチカラーを表示する場合、その積
層の順番は任意に選択することができる。
The light control layer in the liquid crystal optical element of the present invention comprises:
It has a configuration in which a liquid crystal material is dispersed in a matrix resin. The liquid crystal material dispersed in the matrix resin may be connected in a network. One example of the light control layer is a holographic polymer dispersed liquid crystal. In a holographic polymer-dispersed liquid crystal, a liquid crystal material is dispersed with periodicity in a matrix resin so as to selectively reflect visible light. At this time, the liquid crystal material may form droplets, or the matrix resin may be fine particles and exist in the liquid crystal material. Their periodicity can be arbitrarily set according to the desired selective reflection wavelength.
When a multi-color display is performed by laminating dimming layers having characteristics of reflecting or absorbing a specific wavelength, the order of lamination can be arbitrarily selected.

【0034】本発明の液晶光学素子における剥離基板と
は、少なくとも一方の表面に形成した導電性膜から容易
に剥離することができる基板を示す。剥離基板側からも
光照射を行い調光層を製造する場合は、少なくとも製造
に用いる波長の光を透過させるものであれば材質は限定
されない。この時、光の透過率は10%以上であればよ
いが、30%以上が望ましい。剥離基板の材質はガラス
等の無機物であっても構わないし、高分子フィルム等の
有機物でも構わない。なお、導電性膜の剥離をより容易
にするためにフッ素等のコートを行っても構わない。さ
らに、表面は必ずしも平坦である必要はなく、凹凸を持
たせることにより転写する導電性膜に湾曲あるいは屈曲
した部分を持たせることができる。この際、導電性膜が
対向する基板上にある電極層に接しても構わない。その
例を図11に示す。図11の液晶光学素子では、導電性
膜84が屈曲して対向する基板21上にある電極層11
に接している。
The term “peeling substrate” in the liquid crystal optical element of the present invention refers to a substrate which can be easily peeled from the conductive film formed on at least one surface. In the case where the light control layer is manufactured by irradiating light also from the peeling substrate side, the material is not limited as long as at least light having a wavelength used in the manufacture is transmitted. At this time, the light transmittance may be 10% or more, but is preferably 30% or more. The material of the release substrate may be an inorganic material such as glass or an organic material such as a polymer film. Note that a coat of fluorine or the like may be applied to make the peeling of the conductive film easier. Further, the surface does not necessarily have to be flat, and the conductive film to be transferred can have a curved or bent portion by providing irregularities. At this time, the conductive film may be in contact with the electrode layer on the opposing substrate. An example is shown in FIG. In the liquid crystal optical element shown in FIG. 11, the electrode layer 11 on the substrate 21 where the conductive film 84 is bent and opposed.
Is in contact with

【0035】本発明の液晶光学素子における導電性膜
は、導電性材料と支持材料で構成されるもので、剥離基
板上に製造形成することができ、調光層を形成した後、
剥離基板の剥離により調光層側に転写される膜を示す。
導電性材料としては、導電性を有していればいずれの物
質でも使用することができるが、酸化インジウムと酸化
スズとの混合物又はITO(インジウムチンオキサイ
ド)等が好ましい。また、導電性ポリマーも利用でき
る。支持材料としては、導電性材料を剥離基板や調光層
に支持あるいは固定化できる材料を用いることができ、
例えば通常の高分子材料やガラス等の無機材料を使用で
きる。導電性膜の厚さに特に限定はないが、視差発生を
考慮すると500μm以下が望ましく、特に、0.1μ
mから10μmが望ましい。
The conductive film in the liquid crystal optical element of the present invention is composed of a conductive material and a supporting material, and can be manufactured and formed on a release substrate.
4 shows a film transferred to the light control layer side by peeling of a peeling substrate.
As the conductive material, any substance can be used as long as it has conductivity, but a mixture of indium oxide and tin oxide, ITO (indium tin oxide), or the like is preferable. In addition, a conductive polymer can also be used. As the support material, a material that can support or fix the conductive material to the release substrate or the light control layer can be used,
For example, an ordinary polymer material or an inorganic material such as glass can be used. The thickness of the conductive film is not particularly limited, but is preferably 500 μm or less in consideration of parallax generation, and particularly
m to 10 μm is desirable.

【0036】前記導電性膜において、導電性材料は支持
材料中に分散していてもよいし、膜状の支持材料の表面
上で層状となっていてもよい。後者のように膜状の支持
材料を使用する場合は、膜の表と裏の両面に導電性材料
を固定化しても構わない。また、必要に応じ導電性膜上
に電極をパターニングすることもできる。導電性膜の一
例を図9及び図10に示す。図9の導電性膜84は膜状
の支持材料71の両面に導電性材料61を固定化したも
の、図10の導電性膜85は導電性材料62を支持材料
71中に分散させたものである。
In the conductive film, the conductive material may be dispersed in the support material, or may be layered on the surface of the film-like support material. When a film-like support material is used as in the latter case, a conductive material may be fixed on both the front and back surfaces of the film. Further, if necessary, the electrodes can be patterned on the conductive film. 9 and 10 show examples of the conductive film. The conductive film 84 in FIG. 9 is obtained by fixing the conductive material 61 on both surfaces of a film-shaped support material 71, and the conductive film 85 in FIG. 10 is obtained by dispersing the conductive material 62 in the support material 71. is there.

【0037】本発明の液晶光学素子に用いられる電極層
を有する基板の材質としては、ガラス、プラスチック等
を使用できる。基板は光学的に透明であることが望まし
い。また、電極層は調光層側になるように設置する。電
極層材料としてはITO等が利用できる。また、使用す
る基板自身が導電性を有している場合は、基板を電極と
しても利用することができる。さらに、基板には薄膜ト
ランジスタ等のアクティブ素子を付加することもでき
る。電極層を有する透明性基板は、液晶が配向するよう
に処理されている必要はないが、配向処理がなされてい
ても構わない。これらの配向処理には、TN液晶、ST
N液晶等に用いられるポリイミド等の通常の配向膜が利
用できる。また、ラビング処理を施しても構わない。さ
らに、基板には絶縁膜を付加することもできる。
As the material of the substrate having the electrode layer used in the liquid crystal optical element of the present invention, glass, plastic, or the like can be used. Preferably, the substrate is optically transparent. The electrode layer is provided so as to be on the light control layer side. ITO or the like can be used as the electrode layer material. When the substrate used has conductivity, the substrate can be used as an electrode. Further, an active element such as a thin film transistor can be added to the substrate. The transparent substrate having the electrode layer does not need to be processed so that the liquid crystal is aligned, but may be subjected to an alignment process. These alignment treatments include TN liquid crystal, ST
An ordinary alignment film such as polyimide used for N liquid crystal or the like can be used. Further, a rubbing treatment may be performed. Further, an insulating film can be added to the substrate.

【0038】基板の間隔設定には、通常の液晶デバイス
に用いられるガラス又は高分子樹脂等からなるロッド
状、球状などのスペーサーを使用することができ、その
基板の間隔は3μm以上30μm以下程度が望ましい。
For setting the distance between the substrates, a rod-shaped or spherical spacer made of glass or a polymer resin or the like used for a normal liquid crystal device can be used, and the distance between the substrates is about 3 μm to 30 μm. desirable.

【0039】本発明の液晶光学素子は、反射型及び透過
型のいずれの素子にも構成することができる。なお、調
光層としてホログラフィック高分子分散液晶を用いて反
射型の液晶光学素子とする場合は、光吸収基板を付加す
ることもできる。光吸収基板は、基板の調光層側とは異
なる面に付加させることもできるし、転写した導電性膜
上に付加させることもできる。光吸収基板は、可視光を
吸収する材料で構成されていれば無機材料でも有機材料
でも構わない。吸収強度又は吸収波長は目的とする素子
特性により任意に変更できるが、一般に黒色であること
が望ましい。光吸収基板を付加した本発明液晶光学素子
の一例を図7及び図8に示す。図7は光吸収基板121
を基板21の調光層側とは異なる面に付加した例、図8
は光吸収基板122を剥離基板から転写した導電性膜
(電極層)12上に付加した例である。なお、図8にお
いて130は入射光、140は反射光を示す。
The liquid crystal optical element of the present invention can be configured as either a reflection type or a transmission type element. When a holographic polymer-dispersed liquid crystal is used as the light control layer to form a reflective liquid crystal optical element, a light absorbing substrate can be added. The light absorbing substrate can be added to a surface of the substrate different from the light control layer side, or can be added to the transferred conductive film. The light absorbing substrate may be an inorganic material or an organic material as long as the material is made of a material that absorbs visible light. Although the absorption intensity or the absorption wavelength can be arbitrarily changed depending on the target element characteristics, it is generally desirable that the color is black. An example of the liquid crystal optical element of the present invention to which a light absorbing substrate is added is shown in FIGS. FIG. 7 shows a light absorbing substrate 121.
8 is added to a surface of the substrate 21 different from the light control layer side, FIG.
Is an example in which a light absorbing substrate 122 is added on a conductive film (electrode layer) 12 transferred from a separation substrate. In FIG. 8, 130 indicates incident light, and 140 indicates reflected light.

【0040】本発明の液晶光学素子は、少なくとも一方
が導電性膜を有した剥離基板である二枚のギャップの定
まった基板間に、調光層前駆体、すなわち液晶材料とマ
トリックス樹脂の前駆体との混合物を挟持した後、光照
射を行い調光層を形成させて製造することができる。こ
の際、調光層前駆体の注入は、減圧下でも常圧下でも構
わないが、素子の均一性確保の点、すなわち空気等の混
入を防ぐ点では減圧下が好ましい。だだし、調光層前駆
体が揮発性を有する場合は常圧下で行うことが望ましい
が、この限りではない。また、注入時には必要であれば
加温を行っても構わないし、冷却しても構わない。
The liquid crystal optical element of the present invention comprises a light modulating layer precursor, that is, a precursor of a liquid crystal material and a matrix resin, between two substrates having a fixed gap, at least one of which is a release substrate having a conductive film. , And then irradiating with light to form a dimming layer, thereby producing a layer. At this time, the light control layer precursor may be injected under reduced pressure or normal pressure, but preferably under reduced pressure in order to ensure uniformity of the element, that is, to prevent entry of air or the like. However, when the light control layer precursor has volatility, it is desirable to perform the reaction under normal pressure, but this is not limited. In addition, heating may be performed or cooling may be performed if necessary at the time of injection.

【0041】本発明の液晶光学素子における調光層は、
前記のようにマトリックス樹脂と液晶材料から構成され
ている。調光層前駆体とは、マトリックス樹脂の前駆体
と液晶材料との混合物を示す。マトリックス樹脂の前駆
体とは、光照射によりポリマー化するモノマー、オリゴ
マー又はモノマーとオリゴマーとの混合物等を示す。マ
トリックス樹脂は、その前駆体を重合させること、すな
わちポリマー化させることにより製造される。
The light control layer in the liquid crystal optical element of the present invention comprises:
As described above, it is composed of a matrix resin and a liquid crystal material. The light modulating layer precursor indicates a mixture of a matrix resin precursor and a liquid crystal material. The precursor of the matrix resin refers to a monomer, an oligomer, or a mixture of a monomer and an oligomer, which is polymerized by light irradiation. The matrix resin is produced by polymerizing its precursor, that is, by polymerizing it.

【0042】マトリックス樹脂の前駆体は、アクリロイ
ル基、メタクリロイル基等の通常のビニル基から構成さ
れる光重合性基を有した化合物であればいずれも使用で
きる。光重合性基は、マトリックス樹脂の前駆体一分子
中に複数あっても構わない。例えば、上記前駆体として
は、2−エチルヘキシルアクリレート、ブチルエチルア
クリレート、ブトキシエチルアクリレート、2−シアノ
エチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、2−エトキシエチルアクリレート、N,N−ジエ
チルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミ
ノエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレー
ト、ジシクロペンテニルアクリレート、グリシジルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソ
ボニルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリ
ルアクリレート、モルホリンアクリレート、フェノキシ
エチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコール
アクリレート等の単官能アクリレート化合物、
As the precursor of the matrix resin, any compound having a photopolymerizable group composed of a general vinyl group such as an acryloyl group and a methacryloyl group can be used. A plurality of photopolymerizable groups may be present in one molecule of the precursor of the matrix resin. For example, as the above precursor, 2-ethylhexyl acrylate, butylethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, 2-cyanoethyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, N, N-diethylaminoethyl Acrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, glycidyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobonyl acrylate, isodecyl acrylate, lauryl acrylate, morpholine acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol Monofunctional acrylate compounds such as acrylates,

【0043】2−エチルヘキシルメタクリレート、ブチ
ルエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタクリレー
ト、2−シアノエチルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、2−エトキシエチルアク
リレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
シクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンテニル
メタクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、イソボニルメタクリレ
ート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレ
ート、モルホリンメタクリレート、フェノキシエチルメ
タクリレート、フェノキシジエチレングリコールメタク
リレート等の単官能メタクリレート化合物、
2-ethylhexyl methacrylate, butylethyl methacrylate, butoxyethyl methacrylate, 2-cyanoethyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, N, N -Single unit such as dimethylaminoethyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, isobonyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, morpholine methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxydiethylene glycol methacrylate, etc. Methacrylate compounds,

【0044】ジエチレングリコールジアクリレート、
1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチ
レングリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジ
アクリレート、グリセロールジアクリレート、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシ
ペンタアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー
等の多官能アクリレート化合物、
Diethylene glycol diacrylate,
1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, dicyclopentanyl diacrylate, glycerol diacrylate, 1,6-
Hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate,
Multifunctional acrylate compounds such as pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, urethane acrylate oligomer,

【0045】ジエチレングリコールジメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブ
チレングリコールジメタクリレート、ジシクロペンタニ
ルジメタクリレートグリセロールジメタクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールモノヒドロキシペンタメタクリレート、ウレ
タンメタクリレートオリゴマー等の多官能メタクリレー
ト化合物などが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。
Diethylene glycol dimethacrylate,
1,4-butanediol dimethacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, dicyclopentanyl dimethacrylate glycerol dimethacrylate,
1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, ditrimethylolpropane tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol Examples include polyfunctional methacrylate compounds such as pentaerythritol monohydroxypentamethacrylate and urethane methacrylate oligomer, but are not limited thereto.

【0046】また、マトリックス樹脂の前駆体及びマト
リックス樹脂は光学的に等方性であることに限定され
ず、光学異方性を有していても構わない。すなわち、マ
トリックス樹脂の前駆体は液晶性を有していても構わな
い。
Further, the precursor of the matrix resin and the matrix resin are not limited to being optically isotropic, and may have optical anisotropy. That is, the precursor of the matrix resin may have liquid crystallinity.

【0047】マトリックス樹脂の屈折率及びその異方性
は、目的とする液晶光学素子の反射又は透過特性により
任意に設定できる。一例としては、マトリックス樹脂の
屈折率を液晶材料の常光屈折率又はその近くに設定した
場合がある。このとき、ランダムに配列した液晶滴の屈
折率とマトリックス樹脂の屈折率との間に屈折率差が生
じ、液晶滴が選択反射を起こすような間隔で規則的に配
列していた場合、調光層で選択反射が起こる。この液晶
滴中の液晶材料を電場又は磁場などで配向させて、液晶
滴の屈折率とマトリックス樹脂の屈折率をほぼ一致させ
ると、選択反射光は消失し、光は調光層を透過する。こ
のとき、光吸収基板で透過光を吸収させて黒表示を行う
こともできる。
The refractive index of the matrix resin and its anisotropy can be arbitrarily set according to the intended reflection or transmission characteristics of the liquid crystal optical element. As an example, there is a case where the refractive index of the matrix resin is set at or near the ordinary light refractive index of the liquid crystal material. At this time, if a refractive index difference occurs between the refractive index of the randomly arranged liquid crystal droplets and the refractive index of the matrix resin, and the liquid crystal droplets are regularly arranged at intervals such that selective reflection occurs, the light control is performed. Selective reflection occurs in the layer. When the liquid crystal material in the liquid crystal droplet is oriented by an electric or magnetic field so that the refractive index of the liquid crystal droplet and the refractive index of the matrix resin substantially match, the selectively reflected light disappears, and the light passes through the light control layer. At this time, black display can be performed by absorbing the transmitted light with the light absorbing substrate.

【0048】調光層中のマトリックス樹脂は、液晶材料
に対して10重量%以上90重量%以下、特に20重量
%以上80重量%以下含有されていることが望ましい。
マトリックス樹脂が多すぎると素子の駆動電圧が高くな
り、少なすぎると液晶滴の規則的な配列が形成されず可
視光の反射率が低下する。
It is desirable that the matrix resin in the light control layer is contained in an amount of 10% by weight to 90% by weight, particularly 20% by weight to 80% by weight based on the liquid crystal material.
If the amount of the matrix resin is too large, the driving voltage of the device becomes high. If the amount is too small, the regular arrangement of the liquid crystal droplets is not formed and the reflectance of visible light is reduced.

【0049】マトリックス樹脂の前駆体には、光照射に
よる重合を起こしやすくするために光重合開始剤を添加
することが望ましい。光重合開始剤としては、アセトフ
ェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサ
ンソン系等の通常の光重合開始剤が使用できる。具体的
には、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1フェニルプロパン−1−オン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
4−フェニルベンゾフェノン、2−クロロチオキサンソ
ン、2−メチルチオキサンソン等が挙げられる。光重合
開始剤は、固体でも液体でも構わないが、素子の均一性
の点から液晶中に溶解又は相溶するものが望ましい。光
重合開始剤の濃度は、マトリックス樹脂前駆体の30重
量%以下が好ましい。また、必要に応じてメチルジエタ
ノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸等の光開始
助剤を添加することもできる。
It is desirable to add a photopolymerization initiator to the precursor of the matrix resin in order to easily cause polymerization by light irradiation. Usable photopolymerization initiators include acetophenone-based, benzoin-based, benzophenone-based, and thioxanthone-based photopolymerization initiators. Specifically, for example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1phenylpropan-1-one, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether,
4-phenylbenzophenone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and the like. The photopolymerization initiator may be a solid or a liquid, but is preferably one that is dissolved or compatible with the liquid crystal in view of the uniformity of the device. The concentration of the photopolymerization initiator is preferably 30% by weight or less of the matrix resin precursor. If necessary, a photoinitiating aid such as methyldiethanolamine and 4-dimethylaminobenzoic acid can be added.

【0050】さらに、光重合開始剤の吸収励起波長が光
重合に使用する光源の波長と合わなければ、長波長の
光、例えば可視の光を吸収して重合開始剤にエネルギー
トランスファーをする色素材料を添加することができ
る。色素材料としては、クマリン系色素、ローダミン系
色素、オキサジン系色素、カルボシアニン系色素、ジカ
ルボシアン系色素、トリカルボシアン系色素、テトラカ
ルボシアン系色素、ペンタカルボシアン系色素、オキソ
ノール系色素、スチリル系色素、キサンテン系色素、メ
ロシアニン系色素、ローダシアニン系色素、ポルフィリ
ン系色素、アクリジン系色素等が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。色素材料は可視光により励
起され、エネルギーを光重合開始に移動させるものであ
ればいずれのものでも構わない。
Further, if the absorption excitation wavelength of the photopolymerization initiator does not match the wavelength of the light source used for photopolymerization, a dye material that absorbs long wavelength light, for example, visible light and transfers energy to the polymerization initiator. Can be added. Dye materials include coumarin dyes, rhodamine dyes, oxazine dyes, carbocyanine dyes, dicarbocyan dyes, tricarbocyan dyes, tetracarbocyan dyes, pentacarbocyan dyes, oxonol dyes, and styryl dyes. Examples include, but are not limited to, dyes, xanthene dyes, merocyanine dyes, rhodocyanine dyes, porphyrin dyes, acridine dyes, and the like. Any dye material can be used as long as it is excited by visible light and transfers energy to the start of photopolymerization.

【0051】本発明の液晶光学素子に使用される液晶材
料としては、通常のネマチック液晶、スメクチック液
晶、コレステリック液晶などが挙げられる。また、強誘
電性液晶でも構わないし、必要に応じ二色性色素を添加
することもできる。液晶材料の材料系としては、シアノ
系、フッ素系、塩素系等のいずれでも構わないが、薄膜
トランジスタ(TFT)等の能動素子によりアクティブ
駆動を行うためには、高電荷保持率の高いフッ素系の液
晶が望ましい。
The liquid crystal material used in the liquid crystal optical element of the present invention includes ordinary nematic liquid crystals, smectic liquid crystals, cholesteric liquid crystals and the like. Further, a ferroelectric liquid crystal may be used, and a dichroic dye may be added as necessary. As a material system of the liquid crystal material, any of a cyano system, a fluorine system, a chlorine system, etc. may be used. However, in order to perform active driving by an active element such as a thin film transistor (TFT), a fluorine system having a high charge retention rate and a high Liquid crystals are preferred.

【0052】本発明の液晶光学素子における調光層の形
成において、マトリクッス樹脂前駆体の光重合に用いら
れる光線としては、紫外線や可視光を使用することがで
きる。例えば、調光層としてホログラフィック高分子分
散液晶を製造する場合、光重合はレーザー干渉露光によ
り行う。すなわち、二つのレーザー光を基板に入射し、
レーザー光が干渉した状態で光重合を行う。赤色、緑
色、青色の選択反射を得るためには、レーザーの入射角
度を調整したり、異なる波長のレーザー光源を使用す
る。レーザー光源としては、アルゴンイオンレーザーや
各種の半導体レーザー等が使用できる。光照射時には、
フォトマスク等の光遮蔽膜を使用し、任意のパターンを
形成することもできる。なお、一つの調光層中に二種以
上の回折格子を作製するために二光束以上のレーザー光
束を使用しても構わない。また、調光層製造時、すなわ
ち光照射時に電場あるいは磁場等を調光層前駆体に印加
することもできる。
In the formation of the light control layer in the liquid crystal optical element of the present invention, ultraviolet light or visible light can be used as a light beam used for photopolymerization of the matrix resin precursor. For example, when producing a holographic polymer-dispersed liquid crystal as a light control layer, photopolymerization is performed by laser interference exposure. That is, two laser beams are incident on the substrate,
Photopolymerization is performed in the state where laser light interferes. In order to obtain selective reflection of red, green, and blue, the incident angle of the laser is adjusted, or a laser light source having a different wavelength is used. As a laser light source, an argon ion laser or various semiconductor lasers can be used. During light irradiation,
An arbitrary pattern can be formed using a light shielding film such as a photomask. It should be noted that two or more laser beams may be used to produce two or more types of diffraction gratings in one light control layer. Further, an electric field or a magnetic field or the like can be applied to the light control layer precursor at the time of manufacturing the light control layer, that is, at the time of light irradiation.

【0053】[0053]

【実施例】(実施例1)ITO(インジウムチンオキサ
イド)付きPES(ポリエーテルサルホン)フィルム
(厚さ5μm)を貼ったPMMA(ポリメチルメタクリ
レート)からなる剥離基板と、ITO付き透明ガラス基
板とをITOが対向するように設置し、10μmのスペ
ーサを用いて空セルを作製した。このセルの中に、マト
リックス樹脂の前駆体である紫外線硬化型アクリレート
モノマーと誘電率異方性が正のネマチック液晶BL36
(メルク社製)との混合溶液を常圧下で注入した。この
とき液晶濃度は60重量%とした。この液晶セルに波長
365nmの紫外線を照射し、光重合を行った。製造さ
れた調光層は、電圧無印加時に光散乱状態を示した。剥
離基板を取り除くと、PESフィルムは調光層側に転写
されていた。剥離基板を取り除いた後も、調光層の電気
光学特性の変化は観察されなかった。
(Example 1) A release substrate made of PMMA (polymethyl methacrylate) to which a PES (polyether sulfone) film (thickness: 5 μm) with ITO (indium tin oxide) was attached, and a transparent glass substrate with ITO Was placed so that the ITO faces each other, and an empty cell was produced using a 10 μm spacer. In this cell, a UV curable acrylate monomer which is a precursor of a matrix resin and a nematic liquid crystal BL36 having a positive dielectric anisotropy are provided.
(Manufactured by Merck) under normal pressure. At this time, the liquid crystal concentration was 60% by weight. The liquid crystal cell was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 365 nm to perform photopolymerization. The manufactured light modulating layer exhibited a light scattering state when no voltage was applied. When the release substrate was removed, the PES film was transferred to the light control layer side. Even after the removal of the release substrate, no change in the electro-optical characteristics of the light control layer was observed.

【0054】(実施例2)ITO付きPESフィルム
(厚さ5μm)を貼った剥離基板と、ITO付き透明ガ
ラス基板とをITOが対向するように設置し、5μmの
スペーサを用いて空セルを作製した。このセルの中に、
マトリックス樹脂の前駆体である紫外線硬化型アクリレ
ートモノマーと誘電率異方性が正のネマチック液晶BL
36(メルク社製)との混合溶液(液晶濃度30重量
%)を常圧下で注入した。この液晶セルに二光束干渉法
により波長488nmのアルゴンレーザーを照射し、光
重合を行った。製造された調光層は、電圧無印加時に青
色の反射状態を示した。剥離基板を取り除いた後、PE
Sフィルムは調光層側に転写されていた。剥離基板を取
り除いた後も、調光層の電気光学特性の変化は観察され
なかった。
(Example 2) A peeled substrate on which a PES film with ITO (thickness: 5 μm) was stuck and a transparent glass substrate with ITO were set so that ITO was opposed to each other, and an empty cell was produced using a 5 μm spacer. did. In this cell,
UV curable acrylate monomer which is the precursor of matrix resin and nematic liquid crystal BL with positive dielectric anisotropy
36 (manufactured by Merck) at a normal pressure (liquid crystal concentration: 30% by weight). The liquid crystal cell was irradiated with an argon laser having a wavelength of 488 nm by a two-beam interference method to perform photopolymerization. The manufactured light control layer exhibited a blue reflection state when no voltage was applied. After removing the release substrate, PE
The S film was transferred to the light control layer side. Even after the removal of the release substrate, no change in the electro-optical characteristics of the light control layer was observed.

【0055】(実施例3)実施例2で製造された液晶光
学素子のPESフィルム上に光吸収板を減圧下で貼り付
けた。フィルムと光吸収基板間には熱硬化型接着剤を配
し、密着性を向上させた。透明ガラス基板側から白色光
を入射すると青色の反射が観察された。また、光吸収基
板の設置により青色の視認性が向上した。
(Example 3) A light absorbing plate was adhered under reduced pressure on the PES film of the liquid crystal optical element manufactured in Example 2. A thermosetting adhesive was provided between the film and the light absorbing substrate to improve the adhesion. When white light was incident from the transparent glass substrate side, blue reflection was observed. In addition, the visibility of blue was improved by installing the light absorbing substrate.

【0056】(実施例4)ITO付き透明ガラス基板
と、両面にITOが付いたPESフィルムを貼った剥離
基板とをITOが対向するように設置し、5μmのスペ
ーサを用いて空セルを作製した。このセルの中に、マト
リックス樹脂の前駆体である紫外線硬化型アクリレート
モノマーと誘電率異方性が正のネマチック液晶BL36
(メルク社製)との混合溶液(液晶濃度30重量%)を
常圧下で注入した。この液晶セルに二光束干渉法により
波長488nmのアルゴンレーザー光を直行させて照射
し、光重合を行った。製造された調光層は、電圧無印加
時に緑色の反射状態を示した。剥離基板を取り除き、第
1の調光層を製造した。
(Example 4) A transparent glass substrate with ITO and a peeling substrate with a PES film with ITO attached on both sides were set so that the ITO faces each other, and an empty cell was produced using a 5 μm spacer. . In this cell, a UV curable acrylate monomer which is a precursor of a matrix resin and a nematic liquid crystal BL36 having a positive dielectric anisotropy are provided.
(Made by Merck) (liquid crystal concentration: 30% by weight) was injected under normal pressure. The liquid crystal cell was irradiated with an argon laser beam having a wavelength of 488 nm at right angles by a two-beam interference method to perform photopolymerization. The manufactured light control layer showed a green reflection state when no voltage was applied. The release substrate was removed, and a first dimming layer was manufactured.

【0057】次に、同様にして空セルを作製し、その中
にマトリックス樹脂の前駆体である紫外線硬化型アクリ
レートモノマー、色素及び誘電率異方性が正のネマチッ
ク液晶BL36(メルク社製)の混合溶液(液晶濃度3
0重量%)を常圧下で注入した。この液晶セルに波長5
14.5nmのアルゴンイオンレーザーの光束を60度
以下の角度で二光束干渉させた状態で照射し、光重合を
行った。製造された調光層は、電圧無印加時に赤色の反
射状態を示した。剥離基板を取り除き、第2の調光層を
製造した。
Next, an empty cell was prepared in the same manner as above, and a nematic liquid crystal BL36 (manufactured by Merck) having a positive dielectric anisotropy and an ultraviolet-curable acrylate monomer, a dye as a precursor of the matrix resin was prepared therein. Mixed solution (liquid crystal concentration 3
0% by weight) under normal pressure. This liquid crystal cell has a wavelength of 5
Irradiation was performed with a light beam of an argon ion laser of 14.5 nm at an angle of 60 degrees or less in a state where two light beams interfered with each other, and photopolymerization was performed. The manufactured light control layer showed a red reflection state when no voltage was applied. The release substrate was removed, and a second light control layer was manufactured.

【0058】さらに、第1の調光層と第2の調光層をフ
ィルム上のITOが対向するように設置し、5μmのス
ペーサを用いて空セルを作製した。そのギャップに、マ
トリックス樹脂の前駆体である紫外線硬化型のアクリレ
ートモノマーと誘電率異方性が正のネマチック液晶BL
36(メルク社製)との混合溶液(液晶濃度30重量
%)を常圧下で注入した。この液晶セルに波長488n
mのアルゴンイオンレーザー光を180度の角度で二光
束干渉させた状態で照射し、光重合を行って第1の調光
層と第2の調光層間に第3の調光層を製造した。第3の
調光層単独では、電圧無印加時に青色の反射を示した。
Further, the first light control layer and the second light control layer were set so that ITO on the film was opposed to each other, and an empty cell was formed using a 5 μm spacer. In the gap, an ultraviolet-curable acrylate monomer, which is a precursor of a matrix resin, and a nematic liquid crystal BL having a positive dielectric anisotropy.
36 (manufactured by Merck) at a normal pressure (liquid crystal concentration: 30% by weight). This liquid crystal cell has a wavelength of 488n.
m was irradiated with an argon ion laser beam at an angle of 180 degrees with two beams interfering with each other, and photopolymerization was performed to produce a third light control layer between the first light control layer and the second light control layer. . The third light control layer alone exhibited blue reflection when no voltage was applied.

【0059】(実施例5)第2の調光層の製造時にIT
O付き透明ガラス基板をITOが付いたPESフィルム
を貼った剥離基板に変えたこと以外は、実施例4と同様
にして三層の積層構造を有する液晶光学素子を製造し
た。その後、剥離基板を剥離し、光吸収基板を貼り付け
た。光吸収基板の設置により、反射光の視認性が向上し
た(図8参照)。
(Example 5) When manufacturing the second light control layer,
A liquid crystal optical element having a three-layer laminated structure was manufactured in the same manner as in Example 4, except that the transparent glass substrate with O was changed to a release substrate to which a PES film with ITO was attached. Thereafter, the peeling substrate was peeled off, and a light absorbing substrate was stuck. The visibility of the reflected light was improved by installing the light absorbing substrate (see FIG. 8).

【0060】(実施例6)ITO付きPESフィルムの
代わりに酸化インジウム及び酸化錫が分散したPMMA
フィルムを使用したこと以外は、実施例2と同様の方法
で液晶光学素子を製造した。剥離基板を取り除くと、酸
化インジウムと酸化錫が分散したPMMAフィルムは調
光層側に転写されていた。剥離板を取り除いた後も、調
光層の反射状態に変化は観察されなかった。
(Example 6) PMMA in which indium oxide and tin oxide are dispersed instead of the PES film with ITO
A liquid crystal optical element was manufactured in the same manner as in Example 2 except that a film was used. When the release substrate was removed, the PMMA film in which indium oxide and tin oxide were dispersed was transferred to the light control layer side. Even after removing the release plate, no change was observed in the reflection state of the light control layer.

【0061】なお、本発明は上記実施例に限定されず、
本発明の技術思考の範囲内において、各実施例は適宜変
更され得ることは明らかである。
The present invention is not limited to the above embodiment,
Obviously, each embodiment can be appropriately modified within the scope of the technical idea of the present invention.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
調光層が電極層で挟まれた液晶光学素子において、調光
層を挟む電極層の少なくとも一方が剥離基板から転写さ
れた導電性膜であるという基本構成に基づき、調光層に
ダメージを与えずに、目的とする厚み、パターン等を有
する導電性膜を容易に調光層に配置することができる。
また、本発明によれば、視差が少なく、かつ一画素でマ
ルチカラーを表示する積層型の液晶光学素子を容易に得
ることができる。
As described above, according to the present invention,
In the liquid crystal optical element in which the light control layer is sandwiched between the electrode layers, the light control layer is damaged based on a basic configuration in which at least one of the electrode layers sandwiching the light control layer is a conductive film transferred from a release substrate. Instead, a conductive film having a desired thickness, pattern, and the like can be easily disposed on the light control layer.
Further, according to the present invention, it is possible to easily obtain a laminated liquid crystal optical element which has a small parallax and displays multi-color with one pixel.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶光学素子の一実施例を示す模
式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a liquid crystal optical element according to the present invention.

【図2】本発明に係る液晶光学素子の調光層形成時にお
ける光照射を示す模式的な断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing light irradiation when forming a light control layer of the liquid crystal optical element according to the present invention.

【図3】本発明に係る液晶光学素子の製造における剥離
基板除去を示す模式的な断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing removal of a peeling substrate in manufacturing a liquid crystal optical element according to the present invention.

【図4】本発明に係る液晶光学素子の一実施例を示す模
式的な断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing one embodiment of the liquid crystal optical element according to the present invention.

【図5】本発明に係る液晶光学素子の調光層形成時にお
ける光照射を示す模式的な断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing light irradiation when forming a light control layer of the liquid crystal optical element according to the present invention.

【図6】本発明に係る液晶光学素子の製造における剥離
基板除去を示す模式的な断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing removal of a peeling substrate in manufacturing the liquid crystal optical element according to the present invention.

【図7】光吸収基板を付加した本発明液晶光学素子の一
例を示す模式的な断面図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing an example of the liquid crystal optical element of the present invention to which a light absorbing substrate is added.

【図8】光吸収基板を付加した本発明液晶光学素子の一
例を示す模式的な断面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing an example of the liquid crystal optical element of the present invention to which a light absorbing substrate is added.

【図9】本発明の液晶光学素子における導電性膜の一例
を示す模式的な断面図である。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing an example of a conductive film in the liquid crystal optical element of the present invention.

【図10】本発明の液晶光学素子における導電性膜の一
例を示す模式的な断面図である。
FIG. 10 is a schematic sectional view showing an example of a conductive film in the liquid crystal optical element of the present invention.

【図11】導電性膜の導電性材料が基板上の電極層の一
部と接している本発明液晶光学素子の一例を示す模式的
な断面図である。
FIG. 11 is a schematic sectional view showing an example of the liquid crystal optical element of the present invention in which a conductive material of a conductive film is in contact with a part of an electrode layer on a substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 電極層 12 電極層 21 基板 22 基板 31 液晶滴 32 液晶滴 33 液晶滴 41 マトリックス樹脂 42 マトリックス樹脂 43 マトリックス樹脂 51 調光層 52 調光層 53 調光層 61 導電性材料 62 導電性材料 71 支持材料 81 導電性膜 82 導電性膜 83 導電性膜 84 導電性膜 85 導電性膜 91 剥離基板 92 剥離基板 100 レーザー光 101 レーザー光 110 調光層前駆体溶液 121 光吸収基板 122 光吸収基板 130 入射光 140 反射光 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Electrode layer 12 Electrode layer 21 Substrate 22 Substrate 31 Liquid crystal drop 32 Liquid crystal drop 33 Liquid crystal drop 41 Matrix resin 42 Matrix resin 43 Matrix resin 51 Light control layer 52 Light control layer 53 Light control layer 61 Conductive material 62 Conductive material 71 Support Material 81 conductive film 82 conductive film 83 conductive film 84 conductive film 85 conductive film 91 release substrate 92 release substrate 100 laser light 101 laser light 110 dimming layer precursor solution 121 light absorption substrate 122 light absorption substrate 130 incident Light 140 reflected light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−2824(JP,A) 特開 平2−174011(JP,A) 特開 昭61−243607(JP,A) 特開 平10−222047(JP,A) 特開 平10−206882(JP,A) 特開 平10−48661(JP,A) 特開 平8−297280(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1343 G02F 1/1334 G02F 1/1347 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-58-2824 (JP, A) JP-A-2-17411 (JP, A) JP-A-61-243607 (JP, A) JP-A-10- 222047 (JP, A) JP-A-10-206882 (JP, A) JP-A-10-48661 (JP, A) JP-A 8-297280 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1343 G02F 1/1334 G02F 1/1347

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電極層を有する基板と導電性膜とで調光
層を挟んだ液晶光学素子の製造方法であって、電極層を
有する基板と導電性膜を有する剥離基板とで調光層前駆
体を挟持して、前記基板と剥離基板との間に調光層を製
造した後、剥離基板を取り除き、調光層の一方の表面に
剥離基板から導電性膜を転写することを特徴とする液晶
光学素子の製造方法。
1. Dimming between a substrate having an electrode layer and a conductive film
A method for manufacturing a liquid crystal optical element having a layer interposed therebetween, wherein a dimming layer precursor is sandwiched between a substrate having an electrode layer and a release substrate having a conductive film, and light control is performed between the substrate and the release substrate. A method for manufacturing a liquid crystal optical element, comprising: after manufacturing a layer, removing the release substrate and transferring a conductive film from the release substrate to one surface of the light control layer.
【請求項2】 剥離基板を剥離した後、導電性膜上に光
吸収性基板を付加することを特徴とする請求項に記載
の液晶光学素子の製造方法。
After 2. A was peeled peeling substrate, a manufacturing method of the liquid crystal optical element according to claim 1, characterized in that the addition of light-absorbing substrate a conductive film.
【請求項3】 第1の電極層、第1の調光層及び第1の
導電性膜を積層した第1の基板と、第2の電極層、第2
の調光層及び第2の導電性膜を積層した第2の基板と、
前記第1の導電性膜と第2の導電性膜との間に設けられ
た第3の調光層とを有し、かつ、前記第1の導電性膜及
び第2の導電性膜の一方又は両方が剥離基板から調光層
上に転写された膜である液晶光学素子の製造方法であっ
て、前記第1の基板と、前記第2の基板とで、第1の導
電性膜と第2の導電性膜とを対向させた状態で調光層前
駆体を挟持した後、第1の導電性膜と第2の導電性膜と
の間に第3の調光層を製造することを特徴とする液晶光
学素子の製造方法。
3. A first electrode layer, a first light control layer and a first light control layer.
A first substrate on which a conductive film is laminated; a second electrode layer;
A second substrate on which a light control layer and a second conductive film are stacked;
Provided between the first conductive film and the second conductive film;
A third light modulating layer, and the first conductive film and
One or both of the second conductive film and the light-controlling layer
A method for manufacturing a liquid crystal optical element, which is a film transferred on
Then, after the dimming layer precursor is sandwiched between the first substrate and the second substrate in a state where the first conductive film and the second conductive film face each other, the first substrate A method for manufacturing a liquid crystal optical element, comprising manufacturing a third light control layer between a conductive film and a second conductive film.
【請求項4】 剥離基板から転写された導電性膜が導電
性材料と支持材料からなることを特徴とする請求項1〜
のいずれか1項に記載の液晶光学素子の製造方法。
4. The conductive film transferred from the release substrate comprises a conductive material and a support material .
4. The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to any one of items 3 .
【請求項5】 導電性膜の導電性材料を基板上の電極層
の一部と接触させることを特徴とする請求項に記載の
液晶光学素子の製造方法。
5. The method according to claim 4 , wherein the conductive material of the conductive film is brought into contact with a part of the electrode layer on the substrate.
【請求項6】 調光層がマトリックス樹脂と液晶材料か
らなることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に
記載の液晶光学素子の製造方法。
6. The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to claim 1 , wherein the light control layer comprises a matrix resin and a liquid crystal material.
【請求項7】 調光層が可視光を反射する干渉構造を有
することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記
載の液晶光学素子の製造方法。
7. The method for manufacturing a liquid crystal optical element according to claim 1 , wherein the light modulating layer has an interference structure that reflects visible light.
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