JP3195960B2 - Method for producing 3-hydroxycephem derivative - Google Patents

Method for producing 3-hydroxycephem derivative

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JP3195960B2
JP3195960B2 JP06142891A JP6142891A JP3195960B2 JP 3195960 B2 JP3195960 B2 JP 3195960B2 JP 06142891 A JP06142891 A JP 06142891A JP 6142891 A JP6142891 A JP 6142891A JP 3195960 B2 JP3195960 B2 JP 3195960B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、3−ヒドロキシセフェ
ム誘導体の製造法に関する。
The present invention relates to a method for producing a 3-hydroxycephem derivative.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその問題点】従来、一般式BACKGROUND OF THE INVENTION Conventional technology and its problems

【0003】[0003]

【化3】 Embedded image

【0004】[式中R1 はアミノ基又は保護されたアミ
ノ基、R2 は水素原子又はカルボン酸保護基、R3 は水
素原子又は水酸基の保護基をそれぞれ示す。] で表わされる3−ヒドロキシセフェム誘導体を製造する
方法としては、例えば特公昭62−5919号公報に記
載の方法が知られている。
Wherein R 1 is an amino group or a protected amino group, R 2 is a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group, and R 3 is a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group. As a method for producing the 3-hydroxycephem derivative represented by the following formula, for example, a method described in JP-B-62-5919 is known.

【0005】しかしながら、この方法は、塩基を用いる
閉環反応により3−ヒドロキシセフェム誘導体を製造す
る方法であり、そのために上記方法では一般式(2)で
表わされる目的の3−セフェム体に加えて、一般式
However, this method is a method for producing a 3-hydroxycephem derivative by a ring-closing reaction using a base. Therefore, in the above method, in addition to the target 3-cephem derivative represented by the general formula (2), General formula

【0006】[0006]

【化4】 Embedded image

【0007】[式中R1 、R2 及びR3 は前記に同
じ。] で表わされる2−セフェム体が副生物として生成するを
避け得ず、従ってその混合物を分離して目的の3−セフ
ェム体のみを得るためにはシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー等による精製を行なう必要があるという難点を
有している。そのために工業的実施には困難を伴い、ま
た目的の3−セフェム体の収率が低いという欠点を有し
ている。
[Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above. Cannot be avoided as a by-product of the 2-cephem compound represented by the formula: Therefore, in order to separate the mixture and obtain only the desired 3-cephem compound, purification by silica gel column chromatography or the like is required. It has a drawback. For this reason, there are disadvantages that industrial implementation is difficult and that the yield of the desired 3-cephem compound is low.

【0008】[0008]

【問題点を解決するための手段】本発明の目的は、上記
従来法の如き難点がなく、安全、簡便な操作により、し
かも高収率且つ高純度で、工業的に有利に上記一般式
(2)で表わされる3−ヒドロキシセフェム誘導体を製
造し得る方法を提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide an industrially advantageous compound of the above general formula (III) which is free from the drawbacks of the above-mentioned conventional method, is safe and easy to operate, has a high yield and a high purity. An object of the present invention is to provide a method capable of producing the 3-hydroxycephem derivative represented by 2).

【0009】即ち、本発明は、一般式That is, the present invention provides a compound represented by the general formula

【0010】[0010]

【化5】 Embedded image

【0011】[式中R1 、R2 及びR3 は前記に同じ。
Arは置換基を有することのあるアリール基、Xはハロ
ゲン原子をそれぞれ示す。] で表わされるハロゲン化β−ラクタム化合物を金属沃化
物又はアンモニウム化合物の沃素塩と反応させて、上記
一般式(2)で表わされる3−ヒドロキシセフェム誘導
体を得ることを特徴とする3−ヒドロキシセフェム誘導
体の製造方法に係る。
Wherein R 1 , R 2 and R 3 are as defined above.
Ar represents an aryl group which may have a substituent, and X represents a halogen atom. Reacting a halogenated β-lactam compound represented by the following formula with a metal iodide or an iodine salt of an ammonium compound to obtain a 3-hydroxycephem derivative represented by the above general formula (2). The present invention relates to a method for producing a derivative.

【0012】本発明において、出発原料として用いられ
る一般式(1)のハロゲン化β−ラクタム化合物は、例
えば一般式
In the present invention, the halogenated β-lactam compound of the general formula (1) used as a starting material is, for example,

【0013】[0013]

【化6】 Embedded image

【0014】[式中Ar、R1 、R2 及びXは前記に同
じ。] で表わされるβ−ラクタム化合物をオゾン酸化すること
により製造される。
Wherein Ar, R 1 , R 2 and X are as defined above. ] Is produced by ozone oxidation of a β-lactam compound represented by the following formula:

【0015】本明細書において示される各基は、より具
体的にはそれぞれ次の通りである。
Each group shown in the present specification is more specifically as follows.

【0016】Arで示される置換基を有することのある
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等を例示
できる。Arで示されるフェニル基又はナフチル基に置
換していてもよい置換基の種類としては、例えばハロゲ
ン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原
子等)、C1-4 の直鎖もしくは分枝鎖状アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基等)、C1-4 の直鎖も
しくは分枝鎖状アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、
エチルチオ基等)、C1-4 の直鎖もしくは分枝鎖状アル
キル基(例えばメチル基、エチル基等)、アミノ基、置
換基としてC1-4 の直鎖もしくは分枝鎖状アルキル基を
1個又は2個有するアミノ基(例えばメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基等)、水酸基、R4 COO−(R4
フェニル基、トリル基又はC1-4 の直鎖もしくは分枝鎖
状アルキル基)で表わされるアシルオキシ基(例えばフ
ェニルカルボニルオキシ基、アセチルオキシ基等)、R
4 CO−(R4 は前記に同じ)で表わされるアシル基
(例えばフェニルカルボニル基、アセチル基等)、ニト
ロ基、シアノ基、フェニル基等を例示できる。これらの
置換基は、Arで示されるアリール基がフェニル基であ
る場合は1〜5個、特に1、2又は3個、Arで示され
るアリールがナフチル基である場合は1〜7個、特に
1、2又は3個、同一又は異なる種類で置換されていて
もよい。
Examples of the aryl group which may have a substituent represented by Ar include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the type of the substituent which may be substituted on the phenyl group or the naphthyl group represented by Ar include, for example, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), a C 1-4 straight-chain or A branched alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), a C 1-4 straight-chain or branched alkylthio group (eg, methylthio group,
An ethylthio group), a C 1-4 linear or branched alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, etc.), an amino group, and a C 1-4 linear or branched alkyl group as a substituent. An amino group having one or two (eg, a methylamino group,
Acyloxy groups (for example, phenylcarbonyloxy group, acetyloxy group) represented by a hydroxyl group, R 4 COO— (R 4 is a phenyl group, a tolyl group, or a C 1-4 linear or branched alkyl group) Group), R
An acyl group (eg, phenylcarbonyl group, acetyl group, etc.), nitro group, cyano group, phenyl group, etc. represented by 4 CO- (R 4 is the same as above) can be exemplified. These substituents are 1 to 5, particularly 1, 2 or 3, when the aryl group represented by Ar is a phenyl group, and 1 to 7, particularly when the aryl represented by Ar is a naphthyl group. One, two or three, the same or different types may be substituted.

【0017】R1 で示される保護されたアミノ基として
は、プロテクティブ グループ イン オーガニック
シンセシス(Protective Groups in Organic Synthesi
s、Theodora W.Greene 著、以下単に「文献I」とい
う)の第7章(第218〜287頁)に記載されている
各種の基の他、フェノキシアセトアミド、p−メチルフ
ェノキシアセトアミド、p−メトキシフェノキシアセト
アミド、p−クロロフェノキシアセトアミド、p−ブロ
モフェノキシアセトアミド、フェニルアセトアミド、p
−メチルフェニルアセトアミド、p−メトキシフェニル
アセトアミド、p−クロロフェニルアセトアミド、p−
ブロモフェニルアセトアミド、フェニルモノクロロアセ
トアミド、フェニルジクロロアセトアミド、フェニルヒ
ドロキシアセトアミド、チェニルアセトアミド、フェニ
ルアセトキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセト
アミド、ベンズアミド、p−メチルベンズアミド、p−
メトキシベンズアミド、p−クロロベンズアミド、p−
ブロモベンズアミド、フェニルグリシルアミドやアミノ
基の保護されたフェニルグリシルアミド、p−ヒドロキ
シフェニルグリシルアミドやアミノ基及び水酸基の一方
又は両方が保護されたp−ヒドロキシフェニルグリシル
アミド等を例示できる。フェニルグリシルアミド及びp
−ヒドロキシフェニルグリシルアミドのアミノ基の保護
基としては、上記文献Iの第7章(第218〜287
頁)に記載されている各種基を例示できる。またp−ヒ
ドロキシフェニルグリシルアミドの水酸基の保護基とし
ては、上記文献Iの第2章(第10〜72頁)に記載さ
れている各種基を例示できる。
The protected amino group represented by R 1 includes Protective Group in Organic
Synthesis (Protective Groups in Organic Synthesi)
s, Theodora W. Greene, hereinafter simply referred to as "Document I", Chapter 7 (pp. 218-287), phenoxyacetamide, p-methylphenoxyacetamide, p-methoxy. Phenoxyacetamide, p-chlorophenoxyacetamide, p-bromophenoxyacetamide, phenylacetamide, p
-Methylphenylacetamide, p-methoxyphenylacetamide, p-chlorophenylacetamide, p-
Bromophenylacetamide, phenylmonochloroacetamide, phenyldichloroacetamide, phenylhydroxyacetamide, phenylacetamide, phenylacetoxyacetamide, α-oxophenylacetamide, benzamide, p-methylbenzamide, p-
Methoxybenzamide, p-chlorobenzamide, p-
Examples thereof include bromobenzamide, phenylglycylamide, phenylglycylamide in which an amino group is protected, p-hydroxyphenylglycylamide, and p-hydroxyphenylglycylamide in which one or both of an amino group and a hydroxyl group are protected. . Phenylglycylamide and p
Examples of the protecting group for the amino group of -hydroxyphenylglycylamido include the above-mentioned Reference I, Chapter 7, Chapters 218 to 287.
Page)). Examples of the hydroxyl-protecting group of p-hydroxyphenylglycylamido include various groups described in Chapter 2 of the above-mentioned Document I (pages 10 to 72).

【0018】R2 で示されるカルボン酸の保護基として
は、上記文献Iの第5章(第152〜192頁)に記載
されている各種の基の他、ベンジル基、p−メトキシベ
ンジル基、p−ニトロベンジル基、ジフェニルメチル
基、トリクロロエチル基、tert−ブチル基等を例示でき
る。
Examples of the protecting group for the carboxylic acid represented by R 2 include various groups described in Chapter 5 of the above-mentioned Reference I (pages 152 to 192), a benzyl group, a p-methoxybenzyl group, Examples thereof include a p-nitrobenzyl group, a diphenylmethyl group, a trichloroethyl group, and a tert-butyl group.

【0019】R3 で示される水酸基の保護基としては、
上記文献Iの第2章(第10〜72頁)に記載されてい
る各種の基の他、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、tert−ブチル基、ベンジル基、p−メチルベンジル
基、p−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、ト
リメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、ト
リエチルシリル基、フェニルジメチルシリル基、アセチ
ル基等を例示できる。
The hydroxyl-protecting group represented by R 3 includes
In addition to the various groups described in Chapter 2 (pages 10 to 72) of Document I, methyl, ethyl, isopropyl, tert-butyl, benzyl, p-methylbenzyl, and p-methyl Examples include a methoxybenzyl group, a diphenylmethyl group, a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a phenyldimethylsilyl group, and an acetyl group.

【0020】Xで示されるハロゲン原子としては、塩素
原子、臭素原子、沃素原子等を例示できる。
Examples of the halogen atom represented by X include a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

【0021】一般式(1)の化合物中、R3 が水素原子
を示す化合物は、例えば上記一般式(4)で表わされる
β−ラクタム誘導体をオゾンと反応させて、該誘導体の
エキソメチレン基を酸化的に切断することにより製造さ
れる。
Among the compounds of the general formula (1), those in which R 3 represents a hydrogen atom can be obtained, for example, by reacting a β-lactam derivative represented by the above general formula (4) with ozone to form an exomethylene group of the derivative. Manufactured by oxidative cleavage.

【0022】このオゾン酸化反応は、適当な溶媒中、一
般式(4)で表わされるβ−ラクタム誘導体とオゾンと
を反応させることにより行なわれ、それによって生成す
るオゾニド等の過酸化物を還元的に分解させると、目的
とするR3が水素原子を示す一般式(1)の化合物が製
造される。
This ozone oxidation reaction is carried out by reacting a β-lactam derivative represented by the general formula (4) with ozone in a suitable solvent, and the resulting peroxide such as ozonide is reduced. To produce a compound of the general formula (1) in which R 3 represents a hydrogen atom.

【0023】オゾン酸化反応の際の反応条件としては、
例えば日本化学会編「新実験化学講座」第15巻、第5
93〜603頁に記載されている条件を適用することが
できる。
The reaction conditions for the ozone oxidation reaction include:
For example, The Chemical Society of Japan, “New Experimental Chemistry Course” Vol. 15, No. 5
The conditions described on pages 93 to 603 can be applied.

【0024】具体的には、この反応は、適当な溶媒中で
行なわれる。斯かる溶媒としては、例えばメタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノ
ール、tert−ブタノール等のアルコール類、蟻酸メチ
ル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオ
ン酸メチル、プロピオン酸エチル等の低級カルボン酸の
低級アルキルエステル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類、ジ
エチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、メチルセロソルブ、ジメトキ
シエタン等のエーテル類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の環状エーテル類、アセトニトリル、プロピオニ
トリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、バレロ
ニトリル等のニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロルベンゼン、アニソール等の置換もしくは未置
換の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、クロロホル
ム、ジクロルエタン、トリクロルエタン、ジブロムエタ
ン、プロピレンジクロライド、四塩化炭素、フロン類等
のハロゲン化炭化水素類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、
シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の
シクロアルカン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等を挙
げることができる。これらは1種単独で又は2種以上混
合して使用される。またこれらの有機溶媒には、必要に
応じて水が含有されていてもよい。斯かる溶媒は、一般
式(4)の化合物1kg当り、通常10〜200l程度、
好ましくは20〜100l程度使用されるのがよい。
Specifically, this reaction is performed in a suitable solvent. Such solvents include, for example, methanol,
Alcohols such as ethanol, propanol, isopropanol, butanol, tert-butanol, and lower grades such as methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, and ethyl propionate Lower alkyl esters of carboxylic acids, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether , Ethers such as methyl cellosolve and dimethoxyethane, cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile , Toluene, xylene, chlorobenzene, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane, trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride , Carbon tetrachloride, halogenated hydrocarbons such as fluorocarbons, pentane, hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as octane, cyclopentane,
Examples thereof include cycloalkanes such as cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane; amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; and dimethylsulfoxide. These may be used alone or as a mixture of two or more. Further, these organic solvents may contain water as necessary. Such a solvent is generally used in an amount of about 10 to 200 l per kg of the compound of the general formula (4),
Preferably, about 20 to 100 l is used.

【0025】上記反応の反応温度は、通常−78〜0℃
程度、好ましくは−60〜−25℃程度である。
The reaction temperature of the above reaction is usually -78 to 0 ° C.
Degree, preferably about -60 to -25 ° C.

【0026】上記反応におけるオゾンの使用量として
は、通常原料化合物(4)に対して1当量でよいが、必
要ならば更に原料化合物(4)がなくなるまでオゾンを
通ずるのがよい。オゾンの使用量が1当量を越える場合
には、反応混合物中に乾燥窒素を通じて過剰のオゾンを
追い出した後、後処理を行なうのがよい。
The amount of ozone used in the above reaction is usually 1 equivalent to the starting compound (4), but if necessary, it is preferable to pass ozone until the starting compound (4) is consumed. When the use amount of ozone exceeds 1 equivalent, it is preferable to drive off excess ozone by passing dry nitrogen into the reaction mixture, and then perform post-treatment.

【0027】上記反応によって生成するオゾニド等の過
酸化物を、通常の有機反応に用いられる還元剤によって
還元的に分解させると、目的とする一般式(1)の化合
物が製造される。ここで還元剤としては、例えば白金、
パラジウム、ニッケル、ロジウム等の触媒を用いる接触
水素化、亜リン酸エステル、トリフェニルホスフィン等
の三価のリン化合物、ジメチルスルフィド等が挙げられ
る。
When the peroxide such as ozonide generated by the above reaction is reductively decomposed by a reducing agent used in a usual organic reaction, the desired compound of the general formula (1) is produced. Here, as the reducing agent, for example, platinum,
Examples include catalytic hydrogenation using a catalyst such as palladium, nickel, and rhodium, phosphites, trivalent phosphorus compounds such as triphenylphosphine, and dimethyl sulfide.

【0028】斯くして得られるR3 が水素原子である一
般式(1)の化合物は、ケト−エノール型の互変異性を
とり得る。
The thus-obtained compound of the general formula (1) in which R 3 is a hydrogen atom can have a keto-enol type tautomerism.

【0029】R3 が水酸基の保護基である一般式(1)
で表わされる化合物は、上記のようにして得られた化合
物(R3 が水素原子を示す一般式(1)の化合物)中の
水酸基を公知の方法に従って保護することにより製造さ
れる。斯かる水酸基を保護する反応条件としては、例え
ば上記文献Iの第2章(第10〜72頁)に記載されて
いる各種条件を適用することができる。
Formula (1) wherein R 3 is a hydroxyl-protecting group
The compound represented by is produced by protecting the hydroxyl group in the compound obtained as described above (the compound of the general formula (1) in which R 3 represents a hydrogen atom) according to a known method. As the reaction conditions for protecting the hydroxyl group, for example, various conditions described in the above-mentioned Document I, Chapter 2 (pages 10 to 72) can be applied.

【0030】上記各工程で得られる本発明化合物は、通
常の単離精製手段、例えば濾過、再結晶、カラムクロマ
トグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー
等により反応混合物から単離、精製される。
The compound of the present invention obtained in each of the above steps is isolated and purified from the reaction mixture by a conventional isolation and purification means, for example, filtration, recrystallization, column chromatography, preparative thin-layer chromatography and the like.

【0031】本発明の反応においては、前記原料化合物
(1)と金属沃化物又はアンモニウム化合物の沃素塩と
を有機溶媒中で反応させることにより、目的の上記一般
式(2)の3−ヒドロキシセフェム誘導体が製造され
る。
In the reaction of the present invention, the starting compound (1) is reacted with an iodide salt of a metal iodide or an ammonium compound in an organic solvent to give the desired 3-hydroxycephem of the above general formula (2). A derivative is produced.

【0032】本発明の上記反応に用いられる有機溶媒と
しては、一般式(1)の化合物を溶解し且つ該反応の条
件下で不活性なものである限り従来公知のものを広く使
用でき、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール
等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロ
ピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエステル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
エチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、バレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、
トリクロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロ
ライド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪
族炭化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シク
ロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。こ
れらは1種単独で又は2種以上混合して使用される。ま
たこれらの有機溶媒には、必要に応じて水が含有されて
いてもよい。斯かる溶媒は、一般式(1)の化合物1kg
当り、通常0.5〜200l程度、好ましくは1〜50
l程度使用されるのがよい。
As the organic solvent used in the above reaction of the present invention, conventionally known organic solvents can be widely used as long as they dissolve the compound of the general formula (1) and are inert under the conditions of the reaction. Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, tert-butanol, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, etc. Lower alkyl esters of lower carboxylic acids of
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, diethyl ether, ethyl propyl ether, ethyl butyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, methyl cellosolve, dimethoxyethane, etc. Ethers, tetrahydrofuran, cyclic ethers such as dioxane, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, nitriles such as valeronitrile, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene,
Substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbons such as anisole, dichloromethane, chloroform, dichloroethane,
Halogenated hydrocarbons such as trichloroethane, dibromoethane, propylene dichloride, carbon tetrachloride, and fluorocarbons; aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, and octane; cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane such as cyclooctane Examples thereof include alkanes, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and dimethylsulfoxide. These may be used alone or as a mixture of two or more. Further, these organic solvents may contain water as necessary. Such a solvent contains 1 kg of the compound of the general formula (1).
0.5 to 200 l, preferably 1 to 50
It is preferable to use about l.

【0033】上記反応で用いられる金属沃化物として
は、例えば沃化リチウム、沃化ナトリウム、沃化カリウ
ム等のアルカリ金属塩、沃化マグネシウム、沃化カルシ
ウム、沃化バリウム等のアルカリ土類金属塩等が挙げら
れる。また、アンモニウム化合物の沃素塩としては、例
えば沃化アンモニウム、沃化メチルアンモニウム、沃化
エチルアンモニウム、沃化プロピルアンモニウム、沃化
イソプロピルアンモニウム、沃化ブチルアンモニウム、
沃化sec-ブチルアンモニウム、沃化tert−ブチルアンモ
ニウム、沃化ベンジルアンモニウム、沃化アニリニウム
等の置換もしくは非置換のアルキル又は置換もしくは非
置換のアリールの一級アミンから誘導されるアンモニウ
ム塩、沃化ジメチルアンモニウム、沃化ジエチルアンモ
ニウム、沃化ジプロピルアンモニウム、沃化ジイソプロ
ピルアンモニウム、沃化ジブチルアンモニウム、沃化ジ
sec-ブチルアンモニウム、沃化ジtert−ブチルアンモニ
ウム、沃化ジベンジルアンモニウム、沃化N−メチルア
ニリニウム、沃化ピロリジニウム、沃化2−ピロリニウ
ム、沃化2−イミダゾリニウム、沃化ピペリジニウム、
沃化インドリニウム等の置換もしくは非置換のアルキ
ル、置換もしくは非置換のアリール又は置換もしくは非
置換の複素環式の二級アミンから誘導されるアンモニウ
ム塩、沃化トリメチルアンモニウム、沃化トリエチルア
ンモニウム、沃化トリプロピルアンモニウム、沃化トリ
ブチルアンモニウム、沃化ベンジルジエチルアンモニウ
ム、沃化N,N−ジメチルアニリニウム、沃化ピリジニ
ウム、沃化イミダゾリウム、沃化ピラゾリウム、沃化ベ
ンズイミダゾリウム、沃化N,N−ジメチルシクロヘキ
シルアンモニウム等の置換もしくは非置換のアルキル、
置換もしくは非置換のアリール又は置換もしくは非置換
の複素環式の三級アミンから誘導されるアンモニウム
塩、沃化テトラメチルアンモニウム、沃化テトラエチル
アンモニウム、沃化テトラプロピルアンモニウム、沃化
テトラブチルアンモニウム、沃化ベンジルトリメチルア
ンモニウム、沃化1−メチルピリジニウム、沃化3−メ
チルチアゾリウム、沃化3−エチルベンゾチアゾリウム
等の置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置
換のアリール又は置換もしくは非置換の複素環式の四級
アンモニウム塩等が挙げられる。これら金属沃化物又は
アンモニウム化合物の沃素塩の使用量としては、通常化
合物(1)に対して0.1〜10倍モル、好ましくは
0.9〜5倍モル程度とするのがよい。
Examples of the metal iodide used in the above reaction include alkali metal salts such as lithium iodide, sodium iodide and potassium iodide, and alkaline earth metal salts such as magnesium iodide, calcium iodide and barium iodide. And the like. Examples of the iodine salt of an ammonium compound include, for example, ammonium iodide, methyl ammonium iodide, ethyl ammonium iodide, propyl ammonium iodide, isopropyl ammonium iodide, butyl ammonium iodide,
Ammonium salts derived from substituted or unsubstituted alkyl or substituted or unsubstituted aryl primary amines such as sec-butylammonium iodide, tert-butylammonium iodide, benzylammonium iodide, and anilinium iodide, dimethyl iodide Ammonium, diethyl ammonium iodide, dipropyl ammonium iodide, diisopropyl ammonium iodide, dibutyl ammonium iodide, di iodide
sec-butylammonium, ditert-butylammonium iodide, dibenzylammonium iodide, N-methylanilinium iodide, pyrrolidinium iodide, 2-pyrrolinium iodide, 2-imidazolinium iodide, piperidinium iodide,
Ammonium salts derived from substituted or unsubstituted alkyls such as indolinium iodide, substituted or unsubstituted aryl or substituted or unsubstituted heterocyclic secondary amines, trimethylammonium iodide, triethylammonium iodide, iodine Tripropylammonium iodide, tributylammonium iodide, benzyldiethylammonium iodide, N, N-dimethylanilinium iodide, pyridinium iodide, imidazolium iodide, pyrazolium iodide, benzimidazolium iodide, N, N iodide Substituted or unsubstituted alkyl such as dimethylcyclohexylammonium,
Ammonium salts derived from substituted or unsubstituted aryl or substituted or unsubstituted heterocyclic tertiary amines, tetramethylammonium iodide, tetraethylammonium iodide, tetrapropylammonium iodide, tetrabutylammonium iodide, iodine Substituted or unsubstituted alkyl, substituted or unsubstituted aryl, substituted or unsubstituted, such as benzyltrimethylammonium iodide, 1-methylpyridinium iodide, 3-methylthiazolium iodide, and 3-ethylbenzothiazolium iodide And the like. The amount of the metal iodide or the iodine salt of an ammonium compound to be used is generally 0.1 to 10 moles, preferably about 0.9 to 5 moles, per mole of Compound (1).

【0034】上記反応の反応温度は、原料化合物、使用
される有機溶媒等により異なり一概には言えないが、通
常−20〜100℃程度、好ましくは0〜80℃程度で
ある。
The reaction temperature of the above reaction varies depending on the starting compound, the organic solvent used, and the like, and cannot be determined unconditionally, but is usually about -20 to 100 ° C, preferably about 0 to 80 ° C.

【0035】なお、この反応においては、反応系内に無
機還元剤を存在させることもできる。斯かる無機還元剤
としては、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム
等の亜二チオン酸塩、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、アンモニウム等の亜硫酸塩、ナトリウム、カリウ
ム、カルシウム等の亜硫酸水素塩、ナトリウム、カリウ
ム、アンモニウム等のピロ亜硫酸塩、ナトリウム、カリ
ウム、マグネシウム、鉄等のチオ硫酸塩、ナトリウム等
の二亜硫酸塩、ナトリウム、カリウム、カルシウム、ア
ンモニウム、アルミニウム等の次亜リン酸塩、亜リン酸
ナトリウム、ホスホン酸水素ナトリウム、二亜リン酸ナ
トリウム、次リン酸ナトリウム等が挙げられる。これら
無機還元剤の使用量としては、通常化合物(1)に対し
て0.1〜10倍モル、好ましくは0.5〜5倍モル程
度とするのがよい。
In this reaction, an inorganic reducing agent may be present in the reaction system. Such inorganic reducing agents include, for example, dithionites such as sodium, potassium, and magnesium; sulfites such as sodium, potassium, calcium, and ammonium; bisulfites such as sodium, potassium, and calcium; sodium, potassium, and ammonium. Such as pyrosulfites, thiosulfates such as sodium, potassium, magnesium and iron; disulfites such as sodium; hypophosphites such as sodium, potassium, calcium, ammonium and aluminum; sodium phosphite; phosphonic acid Sodium hydrogen, sodium diphosphite, sodium hypophosphate and the like. The amount of the inorganic reducing agent to be used is generally 0.1 to 10 times mol, preferably about 0.5 to 5 times mol, relative to compound (1).

【0036】上記反応終了後、例えば通常の抽出操作を
行なうことにより、目的とする3−ヒドロキシセフェム
誘導体(2)をほぼ純品の形態で単離し得る。更に精製
の必要があれば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等
の慣用の精製手段を採用すればよい。
After completion of the above reaction, the desired 3-hydroxycephem derivative (2) can be isolated in a substantially pure form, for example, by performing a normal extraction operation. If further purification is necessary, conventional purification means such as recrystallization and column chromatography may be employed.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の一般式(1)のハロゲン化β−
ラクタム化合物を使用すれば、一般式(2)の3−ヒド
ロキシセフェム誘導体が安全、簡便な操作により、しか
も高収率且つ高純度で、工業的に有利な方法で製造され
得る。
According to the present invention, the halogenated β- of the general formula (1)
When a lactam compound is used, the 3-hydroxycephem derivative of the general formula (2) can be produced by a safe and simple operation, in a high yield and a high purity, by an industrially advantageous method.

【0038】[0038]

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明をより一層明ら
かにする。
The present invention will be further clarified with reference to the following examples.

【0039】[0039]

【実施例1】R1 がフェニルアセトアミド基、R2 がp
−メトキシベンジル基、R3 が水素原子、Arがフェニ
ル基且つXが塩素原子である一般式(1)の化合物(以
下「化合物(1a)」という)201mgをテトラヒドロ
フラン5mlに溶解した。これに沃化ナトリウム48mg及
びチオ硫酸ナトリウム・5水和物85mgを加え、室温下
遮光して5時間攪拌しながら反応させた。このようにし
て得られた反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を分液し、水洗後無水硫酸マグネシウム上で
乾燥した後、減圧下に濃縮して、R1 がフェニルアセト
アミド基、R2 がp−メトキシベンジル基且つR3 が水
素原子である一般式(2)の化合物(以下「化合物(2
a)」という)を95%の収率で得た。
Example 1 R 1 is a phenylacetamide group and R 2 is p
201 mg of a compound of the general formula (1) in which -methoxybenzyl group, R 3 is a hydrogen atom, Ar is a phenyl group and X is a chlorine atom (hereinafter referred to as “compound (1a)”) were dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran. To this, 48 mg of sodium iodide and 85 mg of sodium thiosulfate pentahydrate were added, and the mixture was reacted with stirring at room temperature for 5 hours while protecting from light. Water was added to the reaction solution thus obtained, and extracted with ethyl acetate. The organic layer is separated, washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. A general formula in which R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a p-methoxybenzyl group, and R 3 is a hydrogen atom. Compound (2) (hereinafter referred to as “compound (2)
a) ") in 95% yield.

【0040】得られた化合物のスペクトルデータは、別
途合成した化合物のそれと完全に一致した。
The spectral data of the obtained compound completely coincided with that of the separately synthesized compound.

【0041】[0041]

【実施例2】化合物(1a)500mgをアセトン25ml
に溶解させた。これに沃化カリウム295mgを加え、還
流下に1時間反応させた。このようにして得られた反応
液を減圧濃縮し、酢酸エチルに再溶解した後、チオ硫酸
ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を分液し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥した後、減圧濃縮して、化合物(2
a)を90%の収率で得た。
EXAMPLE 2 Compound (1a) (500 mg) was added to acetone (25 ml).
Was dissolved. To this, 295 mg of potassium iodide was added and reacted under reflux for 1 hour. The reaction solution thus obtained was concentrated under reduced pressure, redissolved in ethyl acetate, and washed with an aqueous solution of sodium thiosulfate. The organic layer was separated, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to give compound (2)
a) was obtained in 90% yield.

【0042】[0042]

【実施例3〜9】金属沃化物の種類及び溶媒を下記表1
に示すように変更する以外は実施例2と同様に処理して
化合物(2a)を得た。結果を表1に併せて示す。
Examples 3 to 9 The types and solvents of metal iodides are shown in Table 1 below.
Compound (2a) was obtained by treating in the same manner as in Example 2 except for changing as shown in (2). The results are shown in Table 1.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】[0044]

【実施例10】R1 がフェニルアセトアミド基、R2
ジフェニルメチル基、R3 が水素原子、Arがフェニル
基且つXが塩素原子である一般式(1)の化合物(以下
「化合物(1b)」という)を用い、実施例1と同様に
処理して、R1 がフェニルアセトアミド基、R2 がジフ
ェニルメチル基且つR3 が水素原子である一般式(2)
の化合物(以下「化合物(2b)」という)を93%の
収率で得た。
Example 10 A compound of the general formula (1) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a diphenylmethyl group, R 3 is a hydrogen atom, Ar is a phenyl group and X is a chlorine atom (hereinafter referred to as “compound (1b) ") And treated in the same manner as in Example 1 to obtain a compound represented by the general formula (2) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a diphenylmethyl group, and R 3 is a hydrogen atom.
(Hereinafter referred to as “compound (2b)”) was obtained in a yield of 93%.

【0045】得られた化合物のスペクトルデータは、別
途合成した化合物のそれと完全に一致した。
The spectral data of the obtained compound was completely identical to that of the separately synthesized compound.

【0046】[0046]

【実施例11】R1 がフェニルアセトアミド基、R2
p−メトキシベンジル基、R3 が水素原子、Arがフェ
ニル基且つXが沃素原子である一般式(1)の化合物
(以下「化合物(1c)」という)を用い、実施例1と
同様に処理して、化合物(2a)を94%の収率で得
た。
Example 11 A compound of the general formula (1) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a p-methoxybenzyl group, R 3 is a hydrogen atom, Ar is a phenyl group and X is an iodine atom (hereinafter referred to as “compound ( 1c) ") to give the compound (2a) in a yield of 94%.

【0047】[0047]

【実施例12】R1 がフェニルアセトアミド基、R2
ジフェニルメチル基、R3 が水素原子、Arがフェニル
基且つXが沃素原子である一般式(1)の化合物(以下
「化合物(1d)」という)を用い、実施例1と同様に
処理して、化合物(2b)を93%の収率で得た。
Example 12 A compound of the general formula (1) wherein R 1 is a phenylacetamide group, R 2 is a diphenylmethyl group, R 3 is a hydrogen atom, Ar is a phenyl group and X is an iodine atom (hereinafter referred to as “compound (1d) ") To give compound (2b) in 93% yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笹岡 三千雄 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 城井 敬史 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463大塚化 学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 昭61−257991(JP,A) CHEMISTRY LETTERS (1990),(10),pages1867− 1868 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 501/00 - 501/62 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Michio Sasaoka 463 Otsuka Chemical, Kagasuno, Kawauchi Town, Tokushima City, Tokushima Prefecture (72) Inventor Takashi Joi 463 Otsuka Chemical, Kasuno, Kawauchi Town, Tokushima City, Tokushima Prefecture Inside the Tokushima Research Laboratories Co., Ltd. (72) Inventor Yutaka Kameyama 463 Otsuka Chemical Co., Ltd., Kagasuno, Kawauchi-cho, Tokushima City, Tokushima Prefecture (56) References JP-A-61-257991 (JP, A) CHEMISTRY LETTERS (1990) , (10), pages 1867-1868 (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 501/00-501/62 CA (STN) REGISTRY (STN)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 [式中Arは置換基を有することのあるアリール基、R
1 はアミノ基又は保護されたアミノ基、R2 は水素原子
又はカルボン酸保護基、R3 は水素原子又は水酸基の保
護基、Xはハロゲン原子をそれぞれ示す。] で表わされるハロゲン化β−ラクタム化合物を金属沃化
物又はアンモニウム化合物の沃素塩と反応させて、一般
式 【化2】 [式中R1 、R2 及びR3 は前記に同じ。] で表わされる3−ヒドロキシセフェム誘導体を得ること
を特徴とする3−ヒドロキシセフェム誘導体の製造法。
1. A compound of the general formula [Wherein Ar is an aryl group which may have a substituent, R
1 is an amino group or a protected amino group, R 2 is a hydrogen atom or a carboxylic acid protecting group, R 3 is a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, and X is a halogen atom. Is reacted with a metal iodide or an iodine salt of an ammonium compound to obtain a compound represented by the general formula: Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above. ] A method for producing a 3-hydroxycephem derivative, characterized by obtaining a 3-hydroxycephem derivative represented by the following formula:
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