JP3191415B2 - Chisso reflow device - Google Patents

Chisso reflow device

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はチッソリフロー装置に係
り、詳しくは、両面実装基板の下面に実装されたチップ
が再加熱されて熱ダメージを受けるのを回避できるチッ
ソリフロー装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nitrogen reflow apparatus, and more particularly, to a nitrogen reflow apparatus capable of preventing a chip mounted on a lower surface of a double-sided mounting substrate from being reheated and damaged by heat.

【0002】[0002]

【従来の技術】チップマウンタなどにより基板にチップ
を搭載した後、基板はリフロー装置の加熱室へ送られ、
半田を加熱して溶融させた後、冷却して固化させること
により、チップの電極は基板の電極に半田付けされる。
2. Description of the Related Art After a chip is mounted on a substrate by a chip mounter or the like, the substrate is sent to a heating chamber of a reflow device.
The electrodes of the chip are soldered to the electrodes of the substrate by heating and melting the solder and then cooling and solidifying the solder.

【0003】リフロー装置は加熱室内の空気をヒータで
加熱するエアリフロー装置と、加熱室にチッソガスを送
り、チッソガスをヒータで加熱するチッソリフロー装置
に大別される。エアリフロー装置は構造が簡単でコスト
が安価な利点があるが、基板に形成された回路パターン
などの金属部分が酸化されやすい欠点がある。これに対
し、チッソリフロー装置は不活性ガス雰囲気中で基板を
加熱するので、回路パターンなどが酸化されにくい利点
があるが、ランニングコストを含めたコストがかなり高
いため、まだあまり普及していない現状にある。しかし
ながら近年、基板の高品質化が益々要求されるようにな
ってきたことから、チッソリフロー装置が次第に注目さ
れてきている。
[0003] Reflow devices are roughly classified into an air reflow device that heats air in a heating chamber with a heater and a nitrogen reflow device that sends nitrogen gas to the heating chamber and heats the nitrogen gas with the heater. The air reflow device has an advantage of a simple structure and low cost, but has a disadvantage that a metal part such as a circuit pattern formed on a substrate is easily oxidized. In contrast, the Chisso reflow device heats the substrate in an inert gas atmosphere, which has the advantage that circuit patterns and the like are not easily oxidized.However, the cost, including running costs, is quite high, so it is not yet widely used. It is in. However, in recent years, high quality substrates have been increasingly required, and therefore, Chisso reflow apparatuses have been attracting attention.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板の高集
積化を図るために、基板の上面と下面に共にチップを実
装する両面実装基板が多用される。両面実装基板では、
まず基板の一方の面にチップを搭載してリフロー装置へ
送り、半田を加熱処理してチップを半田付けした後、基
板を上下反転させて他方の面にチップを搭載し、再度リ
フロー装置へ送って半田を加熱処理し、チップを半田付
けするようになっている。したがって先きに基板の一方
の面に搭載されたチップやこのチップを半田付けする半
田は、リフロー装置により2度加熱されることとなる。
By the way, in order to achieve high integration of a substrate, a double-sided mounting substrate in which chips are mounted on both upper and lower surfaces of the substrate is often used. On a double-sided mounting board,
First, the chip is mounted on one side of the substrate and sent to the reflow device, the solder is heated and the chip is soldered, then the substrate is turned upside down, the chip is mounted on the other surface, and sent to the reflow device again. Then, the solder is heated and the chip is soldered. Therefore, the chip previously mounted on one surface of the substrate and the solder for soldering the chip are heated twice by the reflow device.

【0005】しかしながらチップは耐熱性が小さいこと
から、2度加熱されることにより熱ダメージを受けやす
く、また2度目のリフロー時に、基板の下面にチップを
半田付けした半田が再加熱されて再溶融し、チップが基
板から落下しやすいという問題点があった。そこで従来
のエアリフロー装置では、外部の空気を加熱室の内部に
導入し、コンベアに搬送される基板の下面に低温の空気
を吹き付けることにより、下面のチップや半田が過度に
加熱されるのを回避していた。しかしながらチッソリフ
ロー装置では、外部の空気を加熱室に導入すると、チッ
ソガス濃度が著しく低下するので、その性格上このよう
な手段は採用できない。
However, since the chip has low heat resistance, it is susceptible to thermal damage by being heated twice, and during the second reflow, the solder that has been soldered to the lower surface of the substrate is reheated and re-melted. However, there is a problem that the chip easily falls from the substrate. Therefore, in the conventional air reflow device, external air is introduced into the heating chamber, and low-temperature air is blown on the lower surface of the substrate conveyed to the conveyor, thereby preventing the chips and solder on the lower surface from being excessively heated. Had avoided. However, in a nitrogen reflow apparatus, when external air is introduced into the heating chamber, the nitrogen gas concentration is significantly reduced, and thus such means cannot be adopted due to its characteristics.

【0006】そこで本発明は、2度目の加熱時に、基板
下面のチップが熱ダメージを受けたり、半田が再溶融す
るのを回避できるチッソリフロー装置を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a nitrogen reflow apparatus capable of preventing a chip on the lower surface of a substrate from being thermally damaged or remelting solder during a second heating.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このために本発明は、加
熱室の内部に配設されて両面実装基板を搬送するコンベ
アの下方に熱交換パイプを配設し、且つこの熱交換用
パイプに冷媒を流通させる冷媒流通手段を設けたもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention To this end, disposed within the heating chamber arranged to heat exchange pipe below the conveyor for conveying the double-sided mounting board, and a heat exchange < A refrigerant distribution means for distributing a refrigerant through a pipe is provided.

【0008】[0008]

【作用】上記構成によれば、熱交換用パイプに冷媒を流
通させることにより、コンベアの下部空間を低温度に保
ち、基板下面のチップが熱ダメージを受けたり、半田が
再溶融するのを回避できる。
According to the above construction, by circulating the refrigerant through the heat exchange pipe, the lower space of the conveyor is kept at a low temperature, and the chip on the lower surface of the substrate is prevented from being thermally damaged and the solder is re-melted. it can.

【0009】[0009]

【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0010】図1はチッソリフロー装置の内部を示す側
面図である。加熱室1の内部には、チップ9が搭載され
た基板10を入口2から出口3へ搬送するコンベア4が
設けられており、このコンベア4の上方にはヒータ5と
ファン6が設けられている。8はコンベア4の駆動用モ
ータ、7はファン6の駆動用モータである。加熱室1の
内部は、入口2側の予熱ゾーンT1、中央部の均熱ゾー
ンT2、出口3側のリフローゾーンT3に仕切壁15に
より分割されており、各ゾーンT1,T2,T3には、
液体チッソが貯溜された液体チッソボンベや、空気中の
チッソと酸素を分離してチッソガスを生成するチッソガ
ス発生器などのチッソガス供給部11から、パイプ12
を通してチッソガスが供給される。13はバルブであ
る。入口2と出口3にはシャッタ35が設けられてい
る。このシャッタ35はシリンダ36のロッドに結合さ
れており、ロッドが突没することにより、シャッタ35
は上下動して入口2と出口3を開閉する。常時は、加熱
室1内のチッソガスが外部へ流出しないようにシャッタ
35は入口2と出口3を閉じており、基板10が出入す
るときに入口2と出口3を開く。
FIG. 1 is a side view showing the inside of a nitrogen reflow apparatus. Inside the heating chamber 1, there is provided a conveyor 4 for transporting a substrate 10 on which chips 9 are mounted from the inlet 2 to the outlet 3. Above the conveyor 4, a heater 5 and a fan 6 are provided. . Reference numeral 8 denotes a driving motor for the conveyor 4, and reference numeral 7 denotes a driving motor for the fan 6. The interior of the heating chamber 1 is divided by a partition wall 15 into a preheating zone T1 on the inlet 2 side, a soaking zone T2 in the central part, and a reflow zone T3 on the outlet 3 side, and each zone T1, T2, T3 has:
A pipe 12 from a nitrogen gas supply unit 11 such as a liquid nitrogen cylinder storing liquid nitrogen or a nitrogen gas generator for separating nitrogen and oxygen in the air to generate nitrogen gas.
The nitrogen gas is supplied through. 13 is a valve. A shutter 35 is provided at the entrance 2 and the exit 3. The shutter 35 is connected to a rod of a cylinder 36.
Moves up and down to open and close inlet 2 and outlet 3. Normally, the shutter 35 closes the inlet 2 and the outlet 3 so that the nitrogen gas in the heating chamber 1 does not flow outside, and opens the inlet 2 and the outlet 3 when the substrate 10 enters and exits.

【0011】図1において、加熱室1の下部は仕切壁2
1で4つの空間に仕切られており、仕切壁21で仕切ら
れた各々の下部空間には、冷却手段としての熱交換用パ
イプ22が加熱室1を横断する方向に配設されている。
コンベア4とパイプ22の間にはシャッター手段として
のプレート23が配設されており、プレート23の両側
部には開閉手段としてのダンパ24が設けられている。
図4に示すようにダンパ24はピン25に軸着されてお
り、ピン25を中心に回転して開閉する。ダンパ24
は、手動的に開閉させてもよく、あるいはモータ、シリ
ンダ、ソレノイドなどの動力手段により開閉させてもよ
い。
In FIG. 1, a lower part of a heating chamber 1 is a partition wall 2.
In the lower space divided by the partition wall 21, a heat exchange pipe 22 as cooling means is disposed in a direction crossing the heating chamber 1.
A plate 23 as shutter means is provided between the conveyor 4 and the pipe 22, and dampers 24 as opening and closing means are provided on both sides of the plate 23.
As shown in FIG. 4, the damper 24 is mounted on a pin 25, and rotates around the pin 25 to open and close. Damper 24
May be manually opened or closed, or may be opened and closed by a power means such as a motor, a cylinder, or a solenoid.

【0012】図2、図3に示すように、パイプ22の両
側部は加熱室1の壁面に設けられたフード26(26
A,26B)に連通している。一方のフード26Aには
送気手段としてのファンが内蔵されたブロア27が接続
されており、他方のフード26Bには排気ダクト28が
接続されている。したがってブロア27が駆動すると、
外部の空気はパイプ22の内部を流通してダクト28か
ら排出される(破線矢印参照)。勿論、冷媒としては空
気以外のものでもよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, both sides of the pipe 22 are provided with hoods 26 (26) provided on the wall surface of the heating chamber 1.
A, 26B). One hood 26A is connected to a blower 27 having a built-in fan as an air supply means, and the other hood 26B is connected to an exhaust duct 28. Therefore, when the blower 27 is driven,
The outside air flows through the inside of the pipe 22 and is discharged from the duct 28 (see a broken line arrow). Of course, the refrigerant may be other than air.

【0013】図1において、加熱室1の下部にはファン
ケース29が設けられており、その内部にはシロッコフ
ァン30が設けられている。図3に示すように、ファン
30は加熱室1の側壁に設けられたモータ31に駆動さ
れて回転する。ファン30が回転すると、コンベア4の
下部空間のチッソガスは、矢印N方向に循環する。図2
において、19は加熱室1の上部と下部の境界部に設け
られた断熱材である。この断熱材19は、ヒータ5で加
熱された加熱室1の上部の熱が、下部へ伝達されるのを
防止する。14はチップ9を基板10に接着するための
半田である。
In FIG. 1, a fan case 29 is provided at a lower portion of the heating chamber 1, and a sirocco fan 30 is provided therein. As shown in FIG. 3, the fan 30 is driven and rotated by a motor 31 provided on a side wall of the heating chamber 1. When the fan 30 rotates, the nitrogen gas in the lower space of the conveyor 4 circulates in the arrow N direction. FIG.
In the figure, 19 is a heat insulating material provided at the boundary between the upper part and the lower part of the heating chamber 1. The heat insulating material 19 prevents the heat of the upper part of the heating chamber 1 heated by the heater 5 from being transmitted to the lower part. Reference numeral 14 denotes solder for bonding the chip 9 to the substrate 10.

【0014】このチッソリフロー装置は上記のような構
成より成り、次に動作の説明を行う。図1において、チ
ップ9が上面に搭載された基板10はコンベア4により
右方へ搬送される。その間に、基板10にはヒータ5で
加熱されたチッソガスがファン6により吹き付けられ、
基板10は加熱される。一般に、予熱ゾーンT1におい
ては、基板10は常温から150℃程度まで加熱され、
次に均熱ゾーンT2においては170℃程度まで加熱さ
れ、次にリフローゾーンT3において220℃以上まで
加熱される。半田14の溶融温度は183℃程度であ
り、基板10が220℃以上まで加熱されることによ
り、半田14は溶融する。次に基板10が加熱室1から
搬出されて冷却され、半田14は固化してチップ9の電
極は基板10の電極に半田付けされる。
This Chisso reflow apparatus has the above-described configuration, and the operation will be described next. In FIG. 1, a substrate 10 on which a chip 9 is mounted is transported rightward by a conveyor 4. Meanwhile, nitrogen gas heated by the heater 5 is blown onto the substrate 10 by the fan 6,
The substrate 10 is heated. Generally, in the preheating zone T1, the substrate 10 is heated from room temperature to about 150 ° C.
Next, it is heated to about 170 ° C. in the soaking zone T2, and then heated to 220 ° C. or more in the reflow zone T3. The melting temperature of the solder 14 is about 183 ° C., and when the substrate 10 is heated to 220 ° C. or higher, the solder 14 is melted. Next, the substrate 10 is carried out of the heating chamber 1 and cooled, the solder 14 is solidified, and the electrodes of the chip 9 are soldered to the electrodes of the substrate 10.

【0015】次に基板10は上下反転されて他方の面に
チップ9が搭載され、再度加熱室1へ送られて上述と同
様の加熱処理が行われる。この場合、図2に示すよう
に、基板10の下面には先きに半田付けされたチップ9
が接着されている。このチップ9や半田14が再加熱さ
れると、上述したようにチップ9は熱ダメージを受け、
あるいは半田14は再溶融してチップ9は基板10から
落下しやすい。そこでこの第2回目のリフロー時には、
ブロア27を駆動して、外部の常温の空気を熱交換用パ
イプ22内に通し、加熱室1の下部空間の温度が過度に
上昇しないようにする。このとき、ダンパ24は図4実
線で示すように開いておく。因みに、パイプ22の熱交
換作用により、予熱ゾーンT1は100℃、均熱ゾーン
T2は110℃、リフローゾーンT3は160℃程度に
温度が抑えられ、したがってチップ9が熱ダメージを受
けたり、半田14が再溶融するのを解消できる。
Next, the substrate 10 is turned upside down, and the chip 9 is mounted on the other surface, sent to the heating chamber 1 again, and subjected to the same heat treatment as described above. In this case, as shown in FIG. 2, the chip 9 previously soldered is
Is glued. When the chip 9 and the solder 14 are reheated, the chip 9 is thermally damaged as described above,
Alternatively, the solder 14 is re-melted and the chip 9 easily falls off the substrate 10. So, during this second reflow,
By driving the blower 27, external normal-temperature air is passed through the heat exchange pipe 22 so that the temperature of the lower space of the heating chamber 1 does not excessively increase. At this time, the damper 24 is opened as shown by the solid line in FIG. By the way, the temperature of the preheating zone T1 is reduced to about 100 ° C., the temperature of the soaking zone T2 is reduced to about 110 ° C., and the temperature of the reflow zone T3 is reduced to about 160 ° C. due to the heat exchange action of the pipe 22. Can be prevented from remelting.

【0016】なお片面実装時には、下面冷却用のブロッ
ク27、ファン30等の駆動を停止させ、ダンパ24が
閉じることにより、加熱室1の上部と下部を遮断し、加
熱室1の熱効率を上昇させる。また両面実装時には、ダ
ンパ24は開き、基板10の下面を冷却する。
In the case of single-sided mounting, the upper and lower portions of the heating chamber 1 are shut off by stopping the driving of the lower surface cooling block 27, the fan 30 and the like and closing the damper 24, thereby increasing the thermal efficiency of the heating chamber 1. . During double-sided mounting, the damper 24 opens and cools the lower surface of the substrate 10.

【0017】図5及び図6は本発明の他の実施例を示し
ている。図5に示すように、コンベア4の直下の加熱室
1の内壁部には、吹出しノズル41と吸入ノズル42が
設けられている。吹出しノズル41はチューブ43を介
してチッソガス供給部44に接続されており、また吸入
ノズル42はチューブ45を介してチッソガス供給部4
4に接続されている。このチッソガス供給部44は、空
気中のチッソと酸素を分離してチッソガスを生成し、加
熱室1へ送るものである。したがってチッソガス供給部
44から送出されたチッソガスは、吹出しノズル41か
ら吹出し、吸込ノズル42に吸入され(破線矢印N参
照)、加熱室1の上部空間と下部空間はチッソガスの流
れにより遮断される。すなわちこのものは、前記プレー
ト23に替えて、チッソガスによるエアシャッター手段
を構成している。パイプ22、ファン30などの他の構
成は第1実施例と同様であり、第1実施例と同様の作用
効果が得られる。なお加熱室1にチッソガスを供給する
チッソガス供給部11を、エアシャッター手段のチッソ
ガス供給部として兼用してもよい。
FIGS. 5 and 6 show another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, a blowing nozzle 41 and a suction nozzle 42 are provided on the inner wall of the heating chamber 1 immediately below the conveyor 4. The blowing nozzle 41 is connected to a nitrogen gas supply unit 44 via a tube 43, and the suction nozzle 42 is connected to a nitrogen gas supply unit 4 via a tube 45.
4 is connected. The nitrogen gas supply unit 44 separates nitrogen and oxygen in the air to generate nitrogen gas and sends it to the heating chamber 1. Therefore, the nitrogen gas sent from the nitrogen gas supply unit 44 is blown out from the blow-out nozzle 41 and is sucked into the suction nozzle 42 (see the broken line arrow N), and the upper space and the lower space of the heating chamber 1 are shut off by the flow of the nitrogen gas. That is, this constitutes an air shutter means using nitrogen gas instead of the plate 23. Other configurations such as the pipe 22 and the fan 30 are the same as those of the first embodiment, and the same operation and effects as those of the first embodiment can be obtained. The nitrogen gas supply unit 11 for supplying nitrogen gas to the heating chamber 1 may also be used as the nitrogen gas supply unit of the air shutter means.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、
ンベアの下部空間を低温度に保ち、両面実装基板におい
て先きに半田付けされた基板下面のチップが熱ダメージ
を受けたり、半田が再溶融するのを回避できる。また請
求項2の発明は、コンベアと熱交換用パイプの間を開閉
するシャッター手段を設けているので、両面実装基板の
場合はシャッター手段を開き、片面実装基板の場合はシ
ャッター手段を閉じるなどして、両面実装基板と片面実
装基板に応じたリフロー処理を行うことができる。 また
請求項3の発明は、コンベアの下部空間のチッソガスを
循環させるファンを設けているので、熱交換用パイプの
熱交換効率をあげて、コンベアの下部空間の温度上昇を
より効果的に抑止することができる。
As described above, according to the present invention, the lower space of the conveyor is maintained at a low temperature, the chip on the lower surface of the double-sided mounting board which has been soldered earlier is thermally damaged, Remelting can be avoided. Again
The invention according to claim 2 opens and closes between the conveyor and the heat exchange pipe.
Shutter means is provided for
Open the shutter means if it is a single-sided mounting board.
Closing the shutter means, etc.
Reflow processing can be performed according to the mounting substrate. Also
In the invention of claim 3, the nitrogen gas in the lower space of the conveyor is used.
Since a fan for circulation is provided, the heat exchange pipe
Increase the heat exchange efficiency and increase the temperature in the lower space of the conveyor.
It can be more effectively deterred.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
側面図
FIG. 1 is a side view of a nitrogen reflow device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a nitrogen reflow device according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
部分平面図
FIG. 3 is a partial plan view of a nitrogen reflow device according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
部分断面図
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a nitrogen reflow device according to one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の他の実施例に係るチッソリフロー装置
の断面図
FIG. 5 is a sectional view of a nitrogen reflow apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図6】本発明の他の実施例に係るチッソリフロー装置
の部分側面図
FIG. 6 is a partial side view of a nitrogen reflow device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 加熱室 4 コンベア 5 ヒータ 11 チッソガス供給部 22 熱交換用パイプ 23 シャッター手段 27 送気手段(ブロア) 41 シャッター手段 42 シャッター手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heating chamber 4 Conveyor 5 Heater 11 Nitrogen gas supply part 22 Heat exchange pipe 23 Shutter means 27 Air supply means (blower) 41 Shutter means 42 Shutter means

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】加熱室と、この加熱室内を両面実装基板を
搬送するコンベアと、このコンベアの上方に配設された
ヒータと、この加熱室にチッソガスを供給するチッソガ
ス供給部と、前記コンベアの下方に配設された熱交換用
パイプと、この熱交換用パイプに冷媒を流通させる冷媒
流通手段とからなることを特徴とするチッソリフロー装
置。
1. A heating chamber, a conveyor for transporting a double-sided mounting substrate in the heating chamber, a heater disposed above the conveyor, a nitrogen gas supply unit for supplying nitrogen gas to the heating chamber, A heat exchange pipe disposed below and a refrigerant for flowing a refrigerant through the heat exchange pipe
A chisso reflow device characterized by comprising a distribution means.
【請求項2】前記コンベアと前記熱交換用パイプの間を2. A space between the conveyor and the heat exchange pipe.
開閉するシャッター手段を設けたことを特徴とする請求Claims wherein shutter means for opening and closing are provided.
項1記載のチッソリフロー装置。Item 6. The nitrogen reflow device according to Item 1.
【請求項3】前記コンベアの下部空間のチッソガスを循3. A system for circulating nitrogen gas in a space below the conveyor.
環させるファンを設けたことを特徴とする請求項1また2. The method according to claim 1, further comprising the step of:
は2記載のチッソリフロー装置。Is the Chisso reflow apparatus described in 2.
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