JP3189744B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP3189744B2
JP3189744B2 JP18060497A JP18060497A JP3189744B2 JP 3189744 B2 JP3189744 B2 JP 3189744B2 JP 18060497 A JP18060497 A JP 18060497A JP 18060497 A JP18060497 A JP 18060497A JP 3189744 B2 JP3189744 B2 JP 3189744B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、CMOSトランジスタを用いて集積回路化された半
導体装置のテスト回路に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a test circuit for a semiconductor device integrated using CMOS transistors.

【0002】[0002]

【従来の技術】CMOS LSIにおいて、安定状態に
ある回路に流れる静的電流の大きさから故障検出を行う
方法がある。通常、IDDQテスト(quiescent power
supply current test)と呼ばれており、一般的に
は、被試験LSIに外部LSIテスターにてパタンを供
給して走行させながら、または測定パタンまでパターン
走行させた直後、静止電源電流を測定する方法をとり、
例えば短絡故障等の検出に用いられている。
2. Description of the Related Art In a CMOS LSI, there is a method of detecting a fault from the magnitude of a static current flowing in a circuit in a stable state. Usually, IDDQ test (quiescent power
This method is called supply current test. Generally, a method of measuring the static power supply current while supplying a pattern to an LSI under test by using an external LSI tester or running the pattern to a measurement pattern. Take
For example, it is used for detecting a short-circuit failure or the like.

【0003】しかし、この方法は、出力バッファのスイ
ッチングによる電流が検出されたり、抵抗付き入力端子
に流れる電流を測定してしまうなど、本来の目的とする
静的電流以外の電流も測定してしまう、という問題があ
り、このためLSIの故障の有無を判定することが困難
である。
However, in this method, a current other than the intended static current is also measured, such as detection of a current due to switching of an output buffer and measurement of a current flowing through an input terminal with a resistor. Therefore, it is difficult to determine whether or not the LSI has a failure.

【0004】その上、内部回路の故障箇所の場所(位置
情報)と故障情報とを出力端子にまで伝搬させなくては
ならないため、回路規模が大きくなるにつれて、テスト
パタンも長大化し多大なテストパタン作成工数を要す
る。
In addition, since the location (positional information) of the fault location of the internal circuit and the fault information must be propagated to the output terminal, as the circuit scale increases, the test pattern becomes longer and the test pattern becomes enormous. It takes time to create

【0005】これらの問題点の解消を図るために、例え
ば特開平6−3407号公報には、図4に示すようなテ
スト回路が提案されている。図4を参照すると、テスト
回路1は、ドレイン電極同士が接続されたPMOSトラ
ンジスタP1およびNMOSトランジスタN1と、ドレ
イン電極がこのNMOSトランジスタN1のゲート電極
に接続されたNMOSトランジスタN3とから構成され
ている。
In order to solve these problems, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei 6-3407 proposes a test circuit as shown in FIG. Referring to FIG. 4, the test circuit 1 includes a PMOS transistor P1 and an NMOS transistor N1 whose drain electrodes are connected to each other, and an NMOS transistor N3 whose drain electrode is connected to the gate electrode of the NMOS transistor N1. .

【0006】テスト切り替え端子3から入力される二値
の制御信号3は、通常動作時は、ハイレベルとしNMO
SトランジスタN3をオン、PMOSトランジスタP1
をオフとし、またグランドライン6は接地電位でNMO
SトランジスタN1をオフとし、不良検出端子2はハイ
インピーダンス状態にする。
[0006] The binary control signal 3 input from the test switching terminal 3 is set to a high level during normal operation, and
S transistor N3 is turned on, PMOS transistor P1
Is turned off, and the ground line 6
The S transistor N1 is turned off, and the failure detection terminal 2 is set to a high impedance state.

【0007】一方、故障検出を行う際には、テスト切り
替え端子3から入力する二値制御信号をロウレベルと
し、NMOSトランジスタN3をオフとし、PMOSト
ランジスタP1をオンとし、グランドライン6をオープ
ン状態とするため、不良検出端子2の出力は、グランド
ライン6の電位に依存する。内部ゲート4Aが安定状態
にあり、静的電流がゼロであれば、グランドライン6は
オープン状態とされる前の状態(接地電位)を保持し、
不良検出端子2は、電源ライン5の電位となる。なお、
図では、内部ゲート4Aは、電源ライン5とグランドラ
イン6間に直列接続されたPMOSトランジスタP2、
NMOSトランジスタN2からなる。
On the other hand, when detecting a failure, the binary control signal input from the test switching terminal 3 is set to low level, the NMOS transistor N3 is turned off, the PMOS transistor P1 is turned on, and the ground line 6 is opened. Therefore, the output of the failure detection terminal 2 depends on the potential of the ground line 6. If the internal gate 4A is in a stable state and the static current is zero, the ground line 6 retains the state (ground potential) before being opened,
The failure detection terminal 2 has the potential of the power supply line 5. In addition,
In the figure, the internal gate 4A includes a PMOS transistor P2 connected in series between the power supply line 5 and the ground line 6,
It comprises an NMOS transistor N2.

【0008】もし、内部ゲート4Aに静的電流が存在し
た場合、グランドライン6の電位が上昇し、NMOSト
ランジスタN1がオンするため、不良検出端子2が高位
電源5の電位よりも低下する。これによって、内部ゲー
ト4Aに故障が起きていることを知ることができる。
If a static current is present in the internal gate 4A, the potential of the ground line 6 rises and the NMOS transistor N1 turns on, so that the potential of the failure detection terminal 2 drops below the potential of the high power supply 5. This makes it possible to know that a failure has occurred in the internal gate 4A.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】前述したように、ID
DQテストを行う際に、LSIテスタでCMOSLSI
の静止電源電流を測定する場合、電源電流を測定しただ
けでは故障の有無の判定が困難であるという問題点を有
している。その理由は、故障に起因する電流以外の電流
を測定してしまう可能性があるためである。
As described above, the ID
When performing a DQ test, use a CMOS LSI with an LSI tester.
When measuring the static power supply current, there is a problem that it is difficult to determine the presence or absence of a failure only by measuring the power supply current. The reason is that there is a possibility of measuring a current other than the current resulting from the failure.

【0010】また、上記特開平6−3407号公報記載
のテスト回路では、正常回路の安定状態における静的電
流をゼロと仮定しており、回路に微少なリーク電流が存
在した場合、オープン状態にしたグランドライン6の電
位は徐々に上昇するため、不良検出端子2の電位が測定
タイミングに依存することになる。そして、大規模回路
のテストに至っては、リーク電流も無視できない値とな
り、結局、上記特開平6−3407号公報記載のテスト
回路をもってしても、故障の判断が非常に困難である。
In the test circuit described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-3407, the static current in a stable state of a normal circuit is assumed to be zero, and when a small leak current exists in the circuit, the circuit is opened. Since the potential of the ground line 6 gradually rises, the potential of the failure detection terminal 2 depends on the measurement timing. Then, when a large-scale circuit is tested, the leak current becomes a value that cannot be ignored. Consequently, even with the test circuit described in JP-A-6-3407, it is extremely difficult to judge a failure.

【0011】したがって、本発明は、上記した問題点を
解消すべくなされたものであって、その目的は、回路の
安定状態に於けるリーク電流を考慮し、より精度の良い
故障検出を行うテスト回路を具備した半導体装置を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a test for detecting a failure with higher accuracy in consideration of a leak current in a stable state of a circuit. It is to provide a semiconductor device provided with a circuit.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の半導体装置は、半導体チップの内部回路の
グランドラインに故障検出用のテスト回路を備えテス
トモード時、前記内部回路に故障による静的電流が流れ
た場合、前記テスト回路は、電源配線の直流電圧の変化
として検出し、前記電源配線の直流電圧の変化の高低に
応じた、直流電位の信号として不良検出端子より出力
し、且つ、前記テスト回路は、前記グランドラインと接
地電位との間に挿入され、テストモード時にオンとされ
る1又は複数のNMOSトランジスタの電流駆動能力を
調整することにより、前記内部回路が正常な場合に流れ
るリーク電流による前記グランドラインの電位の変動を
抑制し、前記内部回路に故障による静的電流が流れた場
合、前記グランドラインの電位が変動するように構成さ
れている。本発明は、互いのドレイン同士が接続された
第1のPMOSトランジスタおよび第1のNMOSトラ
ンジスタと、ドレイン電極が前記第1のNMOSトラン
ジスタのゲート電極に接続された第2のNMOSトラン
ジスタを備え、前記第2NMOSトランジスタに二値制
御信号を入力し、前記第1PMOSトランジスタに二値
制御信号の反転信号を入力し、前記第1NMOSトラン
ジスタのゲート電極を半導体チップの内部回路のグラン
ド配線に接続し、前記第1PMOSトランジスタおよび
第1NMOSトランジスタのドレイン電極から前記半導
体チップ外部へ出力信号を取り出す構成のテスト回路を
有する。
In order to achieve the above object, a semiconductor device according to the present invention comprises a semiconductor device having an internal circuit.
Equipped with a test circuit for fault detection to the ground line, Tess
In the auto mode, a static current due to a fault flows in the internal circuit.
If the test circuit detects a change in the DC voltage of the power supply wiring,
As a change in the DC voltage of the power supply wiring.
Output from the fault detection terminal as the corresponding DC potential signal
And the test circuit is connected to the ground line.
Inserted between ground potential and turned on during test mode
Current drive capability of one or more NMOS transistors
By adjusting, the flow when the internal circuit is normal
Fluctuations in the potential of the ground line due to leakage current
If the static current caused by the fault flows through the internal circuit,
In this case, it is configured so that the potential of the ground line fluctuates.
Have been. The present invention includes a first PMOS transistor and a first NMOS transistor having drains connected to each other, and a second NMOS transistor having a drain electrode connected to a gate electrode of the first NMOS transistor. A binary control signal is input to a second NMOS transistor, an inverted signal of the binary control signal is input to the first PMOS transistor, and a gate electrode of the first NMOS transistor is connected to a ground line of an internal circuit of a semiconductor chip. A test circuit configured to extract an output signal from the drain electrodes of the first PMOS transistor and the first NMOS transistor to the outside of the semiconductor chip;

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。本発明の半導体装置は、その好ましい実施
の形態において、内部回路のグランドラインに故障検出
用のテスト回路を備え、テストモード時、内部回路に故
障による静的電流が流れた場合、テスト回路は、電源配
線の直流電圧の変化として検出し、前記変化の高低に応
じた、直流電位の信号として不良検出端子より出力す
る。正常な内部回路の微少なリーク電流による電源電圧
の変化は、グランドラインに設置されたNMOSトラン
ジスタによって抑制される。
Embodiments of the present invention will be described below. The semiconductor device of the present invention, in a preferred embodiment thereof, includes a test circuit for detecting a failure in the ground line of the internal circuit, and in the test mode, when a static current due to the failure flows in the internal circuit, the test circuit includes: It is detected as a change in the DC voltage of the power supply wiring, and is output from a defect detection terminal as a DC potential signal according to the level of the change. A change in the power supply voltage due to a minute leak current of a normal internal circuit is suppressed by the NMOS transistor provided on the ground line.

【0014】本発明の実施の形態において、テスト回路
は、安定状態にある内部回路に流れるリーク電流値の高
低を判断し、回路の故障に起因したリーク電流が生じた
ときに、チップ外部に電位信号の変化として出力する。
In the embodiment of the present invention, the test circuit judges the level of the leak current flowing through the internal circuit in a stable state, and when a leak current occurs due to a failure of the circuit, the test circuit sets a potential outside the chip. Output as a signal change.

【0015】すなわち、本発明の実施の形態の特徴とし
て、テストの際、安定状態にある内部回路のグランドラ
インをオープン状態する代りに、グランドラインとグラ
ンド電位の間に挿入されたNMOSトランジスタによっ
て微少な力(電流駆動能力)でグランドラインを接地電
位にドライブする。
That is, as a feature of the embodiment of the present invention, at the time of testing, instead of opening the ground line of the internal circuit in a stable state, a minute amount is provided by an NMOS transistor inserted between the ground line and the ground potential. The ground line is driven to the ground potential with an appropriate force (current driving capability).

【0016】このNMOSトランジスタにより、正常回
路に流れる微少なリーク電流によるグランドラインの電
位変化を抑制し、回路の故障に起因したリーク電流が流
れた場合のみ、グランドラインの直流電位の変化として
検出し、直流電流電位値に応じた電位の信号を出力す
る。このため、CMOS LSIにおいて、電源電流の
測定により故障検出を行うテストの精度を向上させると
ともに故障の有無の判断を容易にする。
This NMOS transistor suppresses a change in the potential of the ground line due to a small leak current flowing in the normal circuit, and detects a change in the DC potential of the ground line only when a leak current due to a circuit failure flows. And outputs a signal having a potential corresponding to the DC current potential value. Therefore, in a CMOS LSI, the accuracy of a test for detecting a failure by measuring a power supply current is improved, and the determination of the presence or absence of a failure is facilitated.

【0017】[0017]

【実施例】上記した本発明の実施の形態について更に詳
細に説明すべく、本発明の実施例を図面を参照して以下
に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention;

【0018】[実施例1]図1は、本発明の第1の実施
例の回路構成を示す図である。図1を参照すると、本発
明の第1の実施例は、内部回路24のグランドライン2
6にテスト回路21を備えたものであり、内部回路24
は、論理ゲートまたはそれを組み合わせた論理回路な
ど、CMOS LSIの回路ブロックからなる。
Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a first embodiment of the present invention. With reference to FIG. 1, a first embodiment of the present invention
6 is provided with a test circuit 21 and an internal circuit 24
Consists of CMOS LSI circuit blocks, such as logic gates or logic circuits combining them.

【0019】テスト回路21は、ドレイン電極同士を共
通にして直列に接続されたPMOSトランジスタP11
およびNMOSトランジスタN11と、ドレイン電極が
このNMOSトランジスタN11のゲート電極に接続さ
れたNMOSトランジスタN13と、を備え、NMOS
トランジスタN13のゲート電極にテスト切り替え端子
23が接続され、PMOSトランジスタP11のゲート
電極にはインバータINV1によるテスト切り替え端子
23の反転信号28が入力される。NMOSトランジス
タN11のゲート電極とNMOSトランジスタN13の
ドレイン電極は、故障検証を行う内部回路24のグラン
ドライン26に接続される。PMOSトランジスタP1
1とNMOSトランジスタN11のドレイン電極は不良
検出端子22に接続され、ここからテスト結果が出力さ
れる。なお、インバータINV1は、ゲート電極を共通
接続して入力信号を入力し、ドレイン電極同士を共通接
続して出力信号を出力する、直列接続されたPMOSト
ランジスタP12およびNMOSトランジスタN12か
らなるCMOSインバータよりなる。
The test circuit 21 includes a PMOS transistor P11 connected in series with a common drain electrode.
And an NMOS transistor N11 having a drain electrode connected to the gate electrode of the NMOS transistor N11.
The test switching terminal 23 is connected to the gate electrode of the transistor N13, and the inverted signal 28 of the test switching terminal 23 by the inverter INV1 is input to the gate electrode of the PMOS transistor P11. The gate electrode of the NMOS transistor N11 and the drain electrode of the NMOS transistor N13 are connected to the ground line 26 of the internal circuit 24 for performing a failure verification. PMOS transistor P1
1 and the drain electrode of the NMOS transistor N11 are connected to the failure detection terminal 22, from which a test result is output. The inverter INV1 includes a CMOS inverter composed of a series-connected PMOS transistor P12 and NMOS transistor N12 that commonly connects a gate electrode to input an input signal and commonly connects drain electrodes to each other to output an output signal. .

【0020】本実施例において、通常の動作の時は、テ
スト切り替え端子23はロウレベルとし、NMOSトラ
ンジスタN13はオフとなり、PMOSトランジスタP
11もオフとなる。また端子27には接地電位が入力さ
れ、NMOSトランジスタN11はオフで、不良検出端
子22はハイインピーダンス状態となる。
In this embodiment, during normal operation, the test switching terminal 23 is set to low level, the NMOS transistor N13 is turned off, and the PMOS transistor P13 is turned off.
11 is also turned off. Further, the ground potential is input to the terminal 27, the NMOS transistor N11 is turned off, and the failure detection terminal 22 enters a high impedance state.

【0021】故障検出を行うテスト時は、テスト切り替
え信号23をハイレベルとし、NMOSトランジスタN
13およびPMOSトランジスタP11をオンとする。
内部回路24が安定状態にあるとき、端子27をオープ
ン状態とし、グランドライン26は、NMOSトランジ
スタN13によって接地電位にドライブされる。NMO
SトランジスタN13のドライブ能力は、正常な内部回
路24に流れるリーク電流値から決定され、回路の故障
に起因して流れる大きなリーク電流に対して、グランド
ライン26に電位変化が生じるように設定する。
At the time of a test for detecting a failure, the test switching signal 23 is set to a high level and the NMOS transistor N
13 and the PMOS transistor P11 are turned on.
When the internal circuit 24 is in a stable state, the terminal 27 is opened, and the ground line 26 is driven to the ground potential by the NMOS transistor N13. NMO
The drive capability of the S transistor N13 is determined from the value of the leak current flowing through the normal internal circuit 24, and is set so that a potential change occurs in the ground line 26 with respect to a large leak current flowing due to a circuit failure.

【0022】内部回路24が正常の場合は、グランドラ
イン26に微少なリーク電流が流れたとしても、NMO
SトランジスタN13のドライブ能力によってグランド
ライン26はロウレベルに保たれ、NMOSトランジス
タN11はオフで、不良検出端子22は、高電位電源ラ
イン25の電位となる。
When the internal circuit 24 is normal, even if a small leak current flows through the ground line 26, the NMO
The ground line 26 is kept at a low level by the drive capability of the S transistor N13, the NMOS transistor N11 is turned off, and the defect detection terminal 22 becomes the potential of the high potential power supply line 25.

【0023】一方、内部回路24の故障に起因して大き
なリーク電流が流れた場合には、その電流値の大小に応
じて、グランドライン26の電位が接地電位よりも上昇
し、グランドライン26の電位がNMOSトランジスタ
N11の閾値電圧を超えた時、NMOSトランジスタN
11がオンし、不良検出端子22は高電位電源ライン2
5の電位よりも低下する。これにより、内部回路24が
故障していることを知ることができる。
On the other hand, when a large leak current flows due to the failure of the internal circuit 24, the potential of the ground line 26 rises above the ground potential according to the magnitude of the current value, and When the potential exceeds the threshold voltage of the NMOS transistor N11, the NMOS transistor N
11 turns on, and the failure detection terminal 22 is connected to the high-potential power line 2
5 lower than the potential. This makes it possible to know that the internal circuit 24 has failed.

【0024】[実施例2]図2は、本発明の第2の実施
例の回路構成を示す図である。図2を参照すると、本発
明の第2の実施例は、図1に示した前記第1の実施例の
NMOSトランジスタN13を複数個並列に配置し、デ
コーダを備えたものであり、その他の構成は、前記第1
の実施例と同様である。
[Embodiment 2] FIG. 2 is a diagram showing a circuit configuration of a second embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, a second embodiment of the present invention includes a plurality of NMOS transistors N13 of the first embodiment shown in FIG. 1 arranged in parallel and a decoder. Is the first
This is the same as the embodiment.

【0025】複数並列配置されたNMOSトランジスタ
N13A、N13B、N13Cは、許容リーク電流を可
変にする目的で配設されたものである。
The plurality of NMOS transistors N13A, N13B and N13C arranged in parallel are provided for the purpose of making the allowable leak current variable.

【0026】デコーダ制御信号33とテスト切り替え信
号23を入力とするデコーダ30により、複数並列配置
されたNMOSトランジスタN13A、N13B、N1
3Cのゲート電極に与える電位を制御することで、温
度、高位電源電位などの条件に応じたテストが可能とな
るほか、最適な許容電流を決定することができる。ここ
では、許容リーク電流を可変とするために、NMOSト
ランジスタN13A、N13B、N13Cの3個のトラ
ンジスタを用いているが、必要に応じていくら使用して
も良い。
A plurality of NMOS transistors N13A, N13B, N1 arranged in parallel by the decoder 30 which receives the decoder control signal 33 and the test switching signal 23 as inputs.
By controlling the potential applied to the 3C gate electrode, it is possible to perform a test according to conditions such as a temperature and a high power supply potential, and to determine an optimum allowable current. Here, three NMOS transistors N13A, N13B, and N13C are used to make the allowable leak current variable, but any number may be used as needed.

【0027】[実施例3]図3は、本発明の第3の実施
例の回路構成を示す図である。図3を参照すると、本発
明の第3の実施例においては、前記第1の実施例または
前記第2の実施例の構成を有するテスト回路21を複数
個備えると共に、デコーダ制御信号36とテスト切り替
え信号23を入力とするデコーダ35を備え、このデコ
ーダ35により、内部回路24B、24C、24Dの中
からテストする回路が選択され、不検出端子22から出
力される。これにより、内部回路の故障の箇所をある程
度絞り込むことができる。
Third Embodiment FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, in a third embodiment of the present invention, a plurality of test circuits 21 having the configuration of the first embodiment or the second embodiment are provided, and a decoder control signal 36 and test switching are provided. A decoder 35 to which the signal 23 is input is provided. The decoder 35 selects a circuit to be tested from the internal circuits 24B, 24C, and 24D, and outputs the selected circuit from the non-detection terminal 22. As a result, it is possible to narrow down a part of the internal circuit that has failed to some extent.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
下記記載の効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
The following effects are obtained.

【0029】本発明の第1の効果は、回路が安定状態に
ある場合の静的電流を検出して回路故障を検出するテス
トにおいて、正常回路に流れるリーク電流によるグラン
ドラインの電位の変動を抑制することで、故障検出の精
度が向上する、ということである。
A first effect of the present invention is that, in a test for detecting a circuit fault by detecting a static current when the circuit is in a stable state, a fluctuation in the potential of the ground line due to a leak current flowing through a normal circuit is suppressed. By doing so, the accuracy of failure detection is improved.

【0030】本発明の第2の効果は、故障検出時に、グ
ランドラインを適当な微笑な電流駆動能力のNMOSト
ランジスタでドライブすることにより、測定タイミング
に依存しない故障検出が可能となるということである。
A second effect of the present invention is that when a failure is detected, the ground line is driven by an NMOS transistor having an appropriate smile current drive capability, thereby enabling failure detection independent of measurement timing. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の回路構成を示す図であ
る。
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例の回路構成を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a circuit configuration of a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例の回路構成を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a third embodiment of the present invention.

【図4】従来のテスト回路の回路構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a conventional test circuit.

【符号の説明】 1、21 テスト回路 2、22 故障検出端子 3、23 テスト切り替え端子 4、24、24B、24C、24D テスト切り替え端
子 5、25 高電位電源ライン 6、26 グランドライン 7、27 端子 9、29 接地電位 30、35 デコーダ 33、36 デコーダ制御信号 N1、N11、N12、N13、N13B、N13C、
N13D、N2、N3Nチャネルトランジスタ P11、P12、P13、P1、P2、P3 Pチャネ
ルトランジスタ
[Description of Signs] 1,21 test circuit 2,22 failure detection terminal 3,23 test switching terminal 4,24,24B, 24C, 24D test switching terminal 5,25 high potential power supply line 6,26 ground line 7,27 terminal 9, 29 Ground potential 30, 35 Decoder 33, 36 Decoder control signals N1, N11, N12, N13, N13B, N13C,
N13D, N2, N3 N-channel transistors P11, P12, P13, P1, P2, P3 P-channel transistors

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体チップの内部回路のグランドライン
に故障検出用のテスト回路を備え、 テストモード時、前記内部回路に故障による静的電流が
流れた場合、前記テスト回路は、電源配線の直流電圧の
変化として検出し、前記電源配線の直流電圧の変化の高
低に応じた、直流電位の信号として不良検出端子より出
力し、且つ、 前記テスト回路は、前記グランドラインと接地電位との
間に挿入される複数のNMOSトランジスタのうち、テ
ストモード時にオンとされる1又は複数のNMOSトラ
ンジスタにより、前記内部回路が正常な場合に流れるリ
ーク電流による前記グランドラインの電位の変動を抑制
する、ように構成されておりさらに、 デコード制御信号を入力してデコードし、該デコード結
果により、前記テスト回路の前記グランドラインと接地
電位との間に挿入される前記複数のNMOSトランジス
タのオン・オフを制御するデコーダ回路を備えた ことを
特徴とする半導体装置。
A test circuit for detecting a failure is provided on a ground line of an internal circuit of a semiconductor chip. In a test mode, when a static current due to a failure flows through the internal circuit, the test circuit operates by a direct current of a power supply wiring. Detected as a voltage change, and output from a fault detection terminal as a DC potential signal according to the level of the DC voltage change of the power supply wiring, and the test circuit is connected between the ground line and a ground potential. among the plurality of NMOS transistors that will be inserted, by one or more of NMOS transistors that are turned on in the test mode, suppressing the change in the potential of the ground line by a leakage current the internal circuit flows normal case, so that is configured, furthermore, decodes and inputs the decoded control signal, said decoding binding
The ground line and the ground of the test circuit
A plurality of NMOS transistors inserted between the plurality of NMOS transistors
A semiconductor device comprising a decoder circuit for controlling on / off of the data.
【請求項2】半導体チップの内部回路のグランドライン
に故障検出用のテスト回路を備え、 テストモード時、前記内部回路に故障による静的電流が
流れた場合、前記テスト回路は、電源配線の直流電圧の
変化として検出し、前記電源配線の直流電圧の変化の高
低に応じた、直流電位の信号として不良検出端子より出
力し、且つ、 前記テスト回路は、前記グランドラインと接地電位との
間に挿入され、テストモード時にオンとされる1又は複
数のNMOSトランジスタの電流駆動能力により、前記
内部回路が正常な場合に流れるリーク電流による前記グ
ランドラインの電位の変動を抑制し、前記内部回路に故
障による静的電流が流れた場合、前記グランドラインの
電位が変動するように構成されてなることを特徴とする
半導体装置。
2. A test circuit for detecting a failure is provided on a ground line of an internal circuit of a semiconductor chip. In a test mode, when a static current due to a failure flows through the internal circuit, the test circuit is configured to supply a direct current to a power supply line. Detected as a voltage change, and output from a fault detection terminal as a DC potential signal according to the level of the DC voltage change of the power supply wiring, and the test circuit is connected between the ground line and a ground potential. The current drive capability of one or a plurality of NMOS transistors inserted and turned on in the test mode suppresses fluctuations in the potential of the ground line due to leakage current flowing when the internal circuit is normal, causing a failure in the internal circuit. Wherein the potential of the ground line fluctuates when a static current flows through the semiconductor device.
【請求項3】前記グランドラインを、電源電位及び接地
電位に直列接続しドレインを共通接続して前記不良検出
端子に接続したPMOSトランジスタとNMOSトラン
ジスタのうちのNMOSトランジスタのゲート電極に接
続し、且つ、テストモード時に、前記PMOSトランジ
スタをオン状態とする、ことを特徴とする請求項1又は
記載の半導体装置。
3. The ground line is connected in series to a power supply potential and a ground potential, and a drain is commonly connected to a gate electrode of an NMOS transistor of the PMOS transistor and the NMOS transistor connected to the failure detection terminal; , in the test mode, the a PMOS transistor in an on state, according to claim 1 or, characterized in that
3. The semiconductor device according to 2 .
【請求項4】デコード制御信号を入力してデコードし、
該デコード結果により前記複数のNMOSトランジスタ
のオン・オフを制御するデコーダ回路を備えたことを特
徴とする請求項記載の半導体装置。
4. A decoding control signal is input and decoded.
3. The semiconductor device according to claim 2, further comprising a decoder circuit that controls on / off of the plurality of NMOS transistors based on the decoding result.
【請求項5】前記テスト回路が、二値制御信号により、
通常動作又はテストモードに切り換えられる、ことを特
徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
5. The test circuit according to claim 2, wherein :
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is switched to a normal operation or a test mode .
【請求項6】前記テスト回路が、ソース電極が高位電源
電位に接続された第1のPMOSトランジスタと、 ドレイン電極が前記第1のPMOSトランジスタのドレ
イン電極に接続されソース電極が接地電位に接続された
第1のNMOトランジスタと、 ドレイン電極が前記第1のNMOSトランジスタのゲー
ト電極に接続されソース電極が接地電位に接続された第
2のNMOSトランジスタと、 を備え、 前記第2のNMOSトランジスタのゲート電極に二値制
御信号を入力し、 前記第1のPMOSトランジスタのゲート電極に前記二
値制御信号の反転信号を入力し、 前記第1のNMOSトランジスタのゲート電極を前記内
部回路の前記グランドラインに接続し、 前記第1のPMOSトランジスタおよび前記第1のNM
OSトランジスタのドレイン電極から前記半導体チップ
外部へ出力信号を取り出す構成とされており、 通常動作時は、前記内部回路の前記グランドラインを接
地電位として、前記第1のNMOSトランジスタおよび
第1のPMOトランジスタを共にオフ状態とし、 テストモード時には、前記二値制御信号により、前記第
2のNMOSトランジスタ及び前記第1のPMOSトラ
ンジスタをオン状態に設定する、ことを特徴とする請求
項2記載の半導体装置。
6. A test circuit comprising: a first PMOS transistor having a source electrode connected to a high power supply potential; a drain electrode connected to a drain electrode of the first PMOS transistor; and a source electrode connected to a ground potential. and a first NMO S transistor includes a second NMOS transistor having a source electrode connected to the gate electrode of the drain electrode of the first NMOS transistor is connected to the ground potential, a of the second NMOS transistor A binary control signal is input to a gate electrode, an inverted signal of the binary control signal is input to a gate electrode of the first PMOS transistor, and a gate electrode of the first NMOS transistor is connected to the ground line of the internal circuit. And the first PMOS transistor and the first NM
OS and the drain electrode of the transistor is configured to take out an output signal to the outside of the semiconductor chip during normal operation, the ground potential of the ground line of said internal circuit, said first NMOS transistor and the first PMO S 3. The semiconductor device according to claim 2, wherein both of the transistors are turned off, and in the test mode, the second NMOS transistor and the first PMOS transistor are turned on by the binary control signal. .
【請求項7】前記テスト回路が、ソース電極が高位電源
電位に接続された第1のPMOSトランジスタと、 ドレイン電極が前記第1のPMOSトランジスタのドレ
イン電極に接続されソース電極が接地電位に接続された
第1のNMOトランジスタと、 ドレイン電極が前記第1のNMOSトランジスタのゲー
ト電極に共通接続されソース電極が接地電位に共通接続
された第2乃至第m(但し、mは3以上の所定の整数)
のNMOSトランジスタと、 を備え、 前記第2乃至第mのNMOSトランジスタのゲート電極
には前記デコーダ回路からそれぞれ出力される二値制御
信号を入力し、 前記第1のPMOSトランジスタのゲート電極には、前
記第2のNMOSトランジスタのゲート電極に供給する
前記二値制御信号の反転信号を入力し、 前記第1のNMOSトランジスタのゲート電極を前記内
部回路のグランドラインに接続し、 前記第1のPMOSトランジスタおよび前記第1のNM
OSトランジスタのドレイン電極から前記半導体チップ
外部へ出力信号を取り出す構成とされており、 通常動作時は、前記内部回路の前記グランドラインを接
地電位として、前記第1のNMOSトランジスタおよび
第1のPMOトランジスタを共にオフ状態とし、 テストモード時には、前記デコード制御信号、及び、テ
ストモードと通常動作とを切り換えるテスト切換信号を
入力とする前記デコーダ回路の出力により、前記第2乃
至第mのNMOSトランジスタを選択してオン状態とす
るとともに前記第1のPMOSトランジスタをオン状態
に設定する、ことを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。
7. A test circuit comprising: a first PMOS transistor having a source electrode connected to a high power supply potential; a drain electrode connected to a drain electrode of the first PMOS transistor; and a source electrode connected to a ground potential. and a first NMO S transistor, the second to m to the commonly connected source electrode to the gate electrode of the drain electrode of the first NMOS transistor are commonly connected to the ground potential (where, m is a predetermined three or more integer)
And a binary control signal output from the decoder circuit is input to a gate electrode of each of the second to m-th NMOS transistors. A gate electrode of the first PMOS transistor is An inverted signal of the binary control signal supplied to the gate electrode of the second NMOS transistor is input, the gate electrode of the first NMOS transistor is connected to the ground line of the internal circuit, and the first PMOS transistor And the first NM
OS and the drain electrode of the transistor is configured to take out an output signal to the outside of the semiconductor chip during normal operation, the ground potential of the ground line of said internal circuit, said first NMOS transistor and the first PMO S In the test mode, the transistors are turned off. The output of the decoder circuit which receives the decode control signal and a test switching signal for switching between the test mode and the normal operation causes the second to m-th NMOS transistors to be turned on. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said first PMOS transistor is selectively turned on and said first PMOS transistor is set on.
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