JP3177635B2 - 周波数標準器および選択標準周波数生成方法 - Google Patents
周波数標準器および選択標準周波数生成方法Info
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Description
定、光学機器製造、特に、波長多重通信に用いて好適な
波長標準器および標準波長生成方法に関する。
ァイバを用いて複数のチャンネルの信号を伝送する。こ
れらのチャンネルには、一定周波数間隔の複数の周波数
がそれぞれ割り当てられる。そして、光波長多重通信に
おいては、互いに異なるチャンネルの信号どうしが混信
しないようにする必要がある。そのためには、送信系、
受信系および送信系と受信系との間の伝搬系を含めた通
信系全体で、各チャンネル毎の周波数がそれぞれ一致し
ている必要がある。
るITU−T(インターナショナル・テレコミュニケー
ション・ユニオンの通信関係の研究専門委員会)におい
て、光波長多重通信に用いる光の周波数として「Nom
inal CentralFrequencies」と
表記される国際規格が決定された。以下、便宜的に、こ
の国際規格によって決定された複数の周波数を「規格周
波数」と称する。
通信に使用される機器の製作や整備や、光波長多重通信
の通信系の構築や維持管理にあたり、これらの複数の規
格周波数のうちのどの周波数の光でも必要に応じて得ら
れる周波数標準器が必要になると考えられる。
の専用機器は知られていない。そこで、このような周波
数標準器を、例えば、スペクトルアナライザやファイバ
ーグレーティングを用いて構成することが考えられる。
標準器にスペクトルアナライザを用いる場合は、スペク
トルアナライザによって測定光の波長を測定することは
できるが、光源はスペクトルアナライザとは個別に用意
しなくてはならない。
ィングを用いる場合は、各規格周波数毎に光源やファイ
バーグレーティングを用意しなければならない。その結
果、装置の構造が複雑となるため、装置の歩留が劣化し
て装置のコストが高くなることが考えられる。
数を精度良く得ることができ、かつ、複数の標準周波数
のうちのいずれかの周波数の光を精度を落とすことなく
容易に選択できる、簡単な構成の周波数標準器および選
択標準周波数生成方法の実現が望まれていた。
発明の周波数標準器によれば、入射光に含まれる等周波
数間隔の複数の周波数の光のみを透過することによっ
て、透過できる周波数からなる複数の標準周波数を決定
するためのエタロンと、入射光の光路上にエタロンに対
して直列に具えられており、標準周波数のうちのいずれ
かの周波数を選択標準周波数として選択するための周波
数選択フィルタと、エタロンに接して設けられており、
当該エタロンの温度を制御するための温度制御素子とを
具えることを特徴とする。このように、この発明の周波
数標準器によれば、等周波数間隔の複数の標準周波数を
決定するためにエタロンを使用する。エタロンは、等周
波数間隔の飛び飛びの値の周波数の光のみを透過する性
質を有している。エタロンを透過できる光の周波数は、
エタロンに対する光の入射角度および温度条件が一定な
らば、エタロンの厚さによって物理的に確定する。ま
た、エタロンによって、確定された標準周波数の精度
は、エタロンの両面の平行度、面精度および反射率によ
って決まる。そして、この発明によれば、エタロンによ
って確定された標準周波数の中から所望の周波数の光
を、周波数選択フィルタによって選択する。すなわち、
周波数選択フィルタで選択される周波数が連続的に変化
しても、取り出せる周波数はエタロンによって確定され
た飛び飛びの値の標準周波数に限定される。このため、
周波数選択フィルタによって選択される周波数精度が低
くとも、精度を落とすことなく容易に標準周波数のうち
から所望の周波数(選択標準周波数)を選択することが
できる。その結果、この発明によれば、精度の良い選択
標準周波数をチャンネルを切替えるように容易に得るこ
とができる。また、この発明では、エタロンの温度を制
御することにより、標準周波数を変化させている。その
ため、エタロンに対する光の入射角度は一定に保ったま
まで良い。そこで、エタロンに対する光の入射角度が、
エタロンの入射面に対して実質的に垂直になるように配
置する。この配置によれば、エタロンにおける光のロス
が最小になる。この発明の周波数標準器において、好ま
しくは、温度制御素子をペルチェ素子とするのが良い。
また、この発明の周波数標準器において、好ましくは、
入射光を、エタロンの入射面に対して、実質的に垂直な
方向から入射させるようにすると良い。このように構成
してあるので、エタロンにおける光のロスが小さくな
る。また、この発明の周波数標準器において、好ましく
は、周波数選択フィルタは、誘電体多層膜を以って構成
されていて、当該誘電体多層膜に対する光の入射角度を
制御することにより選択標準周波数を選択するものであ
ると良い。さらに、この発明の周波数標準器において、
好ましくは、周波数選択フィルタの透過ピークの幅が、
エタロンの透過ピークの幅に比べて大きく、かつ、標準
周波数の周波数間隔に比べて狭いと良い。このように各
フィルタの透過ピークの幅(すなわち透過可能な光の周
波数域)を設定してあるので、周波数選択フィルタの透
過周波数が所望の選択標準周波数から多少ずれていて
も、ずれの大きさが一定範囲内ならば、精度を落とすこ
となく容易に所望の標準周波数を得ることができる。ま
た、この発明の他の周波数標準器によれば、入射光に含
まれる等周波数間隔の複数の周波数の光のみを透過する
ことによって、透過できる周波数からなる複数の標準周
波数を決定するためのエタロンと、入射光の光路上にエ
タロンに対して直列に具えられており、標準周波数のう
ちのいずれかの周波数を選択標準周波数として選択する
ための周波数選択フィルタとを具えており、周波数選択
フィルタの透過ピークの幅が、エタロンの透過ピークの
幅に比べて大きく、かつ、標準周波数の周波数間隔に比
べて狭いことを特徴とする。このように、この発明の周
波数標準器によれば、等周波数間隔の複数の標準周波数
を決定するためにエタロンを使用する。エタロンは、等
周波数間隔の飛び飛びの値の周波数の光のみを透過する
性質を有している。エタロンを透過できる光の周波数
は、エタロンに対する光の入射角度および温度条件が一
定ならば、エタロンの厚さによって物理的に確定する。
また、エタロンによって、確定された標準周波数の精度
は、エタロンの両面の平行度、面精度および反射率によ
って決まる。そして、この発明によれば、エタロンによ
って確定された標準周波数の中から所望の周波数の光
を、周波数選択フィルタによって選択する。すなわち、
周波数選択フィルタで選択される周波数が連続的に変化
しても、取り出せる周波数はエタロンによって確定され
た飛び飛びの値の標準周波数に限定される。このため、
周波数選択フィルタによって選択される周波数精度が低
くとも、精度を落とすことなく容易に標準周波数のうち
から所望の周波数(選択標準周波数)を選択することが
できる。その結果、この発明によれば、精度の良い選択
標準周波数をチャンネルを切替えるように容易に得るこ
とができる。さらに、各フィルタの透過ピークの幅(す
なわち透過可能な光の周波数域)を上述したように設定
してあるので、周波数選択フィルタの透過周波数が所望
の選択標準周波数から多少ずれていても、ずれの大きさ
が一定範囲内ならば、精度を落とすことなく容易に所望
の標準周波数を得ることができる。この発明の周波数標
準器において、好ましくは、エタロンに接して設けら
れ、当該エタロンの温度を制御するための温度制御素子
を具えると良い。このように、この発明では、エタロン
の温度を制御することにより、標準周波数を変化させて
いる。そのため、エタロンに対する光の入射角度は一定
に保ったままで良い。そこで、エタロンに対する光の入
射角度が、エタロンの入射面に対して実質的に垂直にな
るように配置する。この配置によれば、エタロンにおけ
る光のロスが最小になる。また、この発明の周波数標準
器において、好ましくは、温度制御素子をペルチェ素子
とすると良い。また、この発明の周波数標準器におい
て、好ましくは、入射光を、エタロンの入射面に対し
て、実質的に垂直な方向から入射させるようにすると良
い。このように構成してあるので、エタロンにおける光
のロスが小さくなる。さらに、この発明の周波数標準器
において、好ましくは、周波数選択フィルタは、誘電体
多層膜を以って構成されていて、当該誘電体多層膜に対
する光の入射角度を制御することにより選択標準周波数
を選択するものであると良い。また、この出願に係る発
明の選択標準周波数生成方法によれば、光路上に、エタ
ロンと周波数選択フィルタとを互いに直列に設け、エタ
ロンの温度を制御することによって、当該エタロンに入
射させた光の周波数の中から、当該エタロンを透過でき
る等周波数間隔の複数の標準周波数を決定し、周波数選
択フィルタによって、標準周波数のうちのいずれかの周
波数を選択標準周波数として選択することを特徴とす
る。このように、この発明の選択標準周波数生成方法に
よれば、等周波数間隔の複数の標準周波数を決定するた
めにエタロンを使用する。そして、この発明によれば、
エタロンによって確定された標準周波数の中から所望の
周波数の光を、周波数選択フィルタによって選択する。
すなわち、周波数選択フィルタで選択される周波数が連
続的に変化しても、取り出せる周波数はエタロンによっ
て確定された飛び飛びの値の標準周波数に限定される。
このため、周波数選択フィルタによって選択される周波
数精度が低くとも、精度を落とすことなく容易に標準周
波数のうちから所望の周波数(選択標準周波数)を選択
することができる。その結果、この発明によれば、精度
の良い選択標準周波数をチャンネルを切替えるように容
易に得ることができる。また、この発明では、エタロン
の温度を制御することにより、標準周波数を変化させて
いる。そのため、エタロンに対する光の入射角度は一定
に保ったままで良い。そこで、エタロンに対する光の入
射角度が、エタロンの入射面に対して実質的に垂直にな
るように配置する。この配置によれば、エタロンにおけ
る光のロスが最小になる。この発明の選択標準周波数生
成方法において、好ましくは、エタロンの温度制御を、
ペルチェ素子により行うと良い。また、この発明の選択
標準周波数生成方法において、好ましくは、入射光を、
エタロンの入射面に対して実質的に垂直な方向から入射
させると良い。このようにすると、エタロンにおける光
のロスが小さくなる。また、この発明の選択標準周波数
生成方法において、好ましくは、周波数選択フィルタ
を、誘電体多層膜を以って構成し、当該誘電体多層膜に
対する光の入射角度を制御することにより選択標準周波
数を選択すると良い。さらに、この発明の選択標準周波
数生成方法において、好ましくは、周波数選択フィルタ
の透過ピークの幅を、エタロンの透過ピークの幅に比べ
て大きく、かつ、標準周波数の周波数間隔に比べて狭く
すると良い。このようにすると、周波数選択フィルタの
透過周波数が所望の選択標準周波数から多少ずれていて
も、ずれの大きさが一定範囲内ならば、精度を落とすこ
となく容易に所望の標準周波数を得ることができる。ま
た、この発明の他の選択標準周波数生成方法によれば、
光路上に、エタロンと周波数選択フィルタとを互いに直
列に設け、エタロンによって、当該エタロンに入射させ
た光の周波数の中から、当該エタロンを透過できる等周
波数間隔の複数の標準周波数を決定し、周波数選択フィ
ルタの透過ピークの幅を、エタロンの透過ピークの幅に
比べて大きく、かつ、標準周波数の周波数間隔に比べて
狭く設定し、周波数選択フィルタによって、標準周波数
のうちのいずれかの周波数を選択標準周波数として選択
することを特徴とする。このように、この発明の選択標
準周波数生成方法によれば、等周波数間隔の複数の標準
周波数を決定するためにエタロンを使用する。そして、
この発明によれば、エタロンによって確定された標準周
波数の中から所望の周波数の光を、周波数選択フィルタ
によって選択する。すなわち、周波数選択フィルタで選
択される周波数が連続的に変化しても、取り出せる周波
数はエタロンによって確定された飛び飛びの値の標準周
波数に限定される。このため、周波数選択フィルタによ
って選択される周波数精度が低くとも、精度を落とすこ
となく容易に標準周波数のうちから所望の周波数(選択
標準周波数)を選択することができる。その結果、この
発明によれば、精度の良い選択標準周波数をチャンネル
を切替えるように容易に得ることができる。また、上述
したように、周波数選択フィルタの透過ピークの幅を設
定してあるので、周波数選択フィルタの透過周波数が所
望の選択標準周波数から多少ずれていても、ずれの大き
さが一定範囲内ならば、精度を落とすことなく容易に所
望の標準周波数を得ることができる。この発明の選択標
準周波数生成方法において、好ましくは、標準周波数の
決定を、エタロンの温度を制御することによって行うと
良い。このように、この発明では、エタロンの温度を制
御することにより、標準周波数を変化させている。その
ため、エタロンに対する光の入射角度は一定に保ったま
まで良い。そこで、エタロンに対する光の入射角度が、
エタロンの入射面に対して実質的に垂直になるように配
置する。この配置によれば、エタロンにおける光のロス
が最小になる。また、この発明の選択標準周波数生成方
法において、好ましくは、エタロンの温度制御を、ペル
チェ素子により行うと良い。また、この発明の選択標準
周波数生成方法において、好ましくは、入射光を、エタ
ロンの入射面に対して実質的に垂直な方向から入射させ
ると良い。このようにすると、エタロンにおける光のロ
スが小さくなる。さらに、この発明の選択標準周波数生
成方法において、好ましくは、周波数選択フィルタを、
誘電体多層膜を以って構成し、当該誘電体多層膜に対す
る光の入射角度を制御することにより選択標準周波数を
選択すると良い。
に係る第1の発明の周波数標準器および第2の発明の選
択標準周波数生成方法の実施の形態について併せて説明
する。尚、参照する図面は、これらの発明が理解できる
程度に各構成成分の大きさ、形状および配置関係を概略
的に示してあるに過ぎない。したがって、これらの発明
は図示例に限定されるものではない。
構成を示す。この周波数標準器10は、等周波数間隔の
複数の周波数の光のみを透過することによって、透過で
きる前記周波数からなる複数の標準周波数を決定するた
めのエタロン12と、これらの標準周波数のうちのいず
れかの周波数を選択標準周波数として選択するための周
波数選択フィルタ14とを光路16上に互いに直列に具
えている。
イバ18から光が入射される。この入射される光は、レ
ーザ光に限定する必要はないが、ここでは、波長150
0nm程度のレーザ光を入射する。
は、入射側コリメータ20および入射側アイソレータ2
2を順次に透過して、エタロン12に入射する。
2に入射した光のうち、等周波数間隔の複数の標準周波
数の光のみを透過する。この標準周波数は、このエタロ
ン12の温度および厚さによって確定する。このエタロ
ン12の温度は、このエタロン12に接して設けられた
ペルチェ素子24によって制御される。また、ここで
は、厚さ2mm程度、反射率95%のエタロンを用い
る。
の周波数間隔Δνは、下記の(1)式で与えられる。
屈折率を表す。
は、エタロン12に対する光の入射角度によっても制御
できる。しかし、エタロン12の入射面に対して光を実
質的に垂直に入射させることが望ましい。これは、エタ
ロン12の入射面の法線に対する入射角度が小さい程、
光のロスが小さくなるためである。
は、周波数選択フィルタ14に入射する。この実施例で
は、透過型のフィルタ14を用いる。このフィルタは、
誘電体多層膜を以って構成されている。そして、このフ
ィルタ14の透過周波数は、フィルタに対する光の入射
角度によって変わる。したがって、このフィルタ14
は、入射角度を変えることによって、複数の標準周波数
のうちのいずれかの周波数を選択標準周波数として選択
する。尚、図1においては、フィルタ14の回転機構の
図示を省略する。
光は、出射側アイソレータ26および出射側コリメータ
28を順次に透過して出射側光ファイバ30から出射さ
れる。このようにして、選択標準周波数を生成すること
ができる。
びフィルタ14により周波数の選択について説明する。
図2の(A)〜(C)は、透過周波数特性を示し、図2
の(A)〜(C)の横軸は周波数(任意単位)を表し、
縦軸は光透過強度(任意単位)を表す。
性を示す模式図である。等周波数間隔の複数の標準周波
数を得ることができる。また、各標準周波数の透過ピー
クIの周波数間隔Δfは、例えば100GHz程度、ま
た、フィネスは10〜20程度のもを容易に得ることが
できる。
波数特性を示す模式図である。透過ピークIIの半値幅
は、エタロンの各透過ピークIの半値幅よりも広くなっ
ている。また、透過ピークIIの半値幅は、波長では、
0.5nm程度のものを容易に得ることができる。
周波数特性とフィルタの透過周波数特性とを重ね合わせ
て示した模式図である。エタロンの複数の透過ピークI
のうち、フィルタの透過ピークIIに含まれる透過ピーク
Pのみが選択標準周波数の光として選択される。そし
て、この選択された選択標準周波数の精度は、エタロン
によって決まる。これは、エタロンの透過ピークIの半
値幅が、フィルタの透過ピークIIの半値幅よりも狭い上
に、エタロンによって、各透過ピークIの間の周波数の
光がカットされて、透過ピークIが確定しているためで
ある。従って、フィルタの透過周波数が連続的に変化し
ても、取り出せる選択標準周波数はエタロンによって確
定された飛び飛びの値の標準周波数に限定される。この
ため、周波数選択フィルタによって選択される周波数精
度が、エタロンを透過する標準周波数の精度よりも低く
とも、精度を落とすことなく容易に標準周波数のうちか
ら所望の周波数(選択標準周波数)を選択することがで
きる。
度が、フィルタによってではなくエタロンによって決ま
ることについて説明する。図3は、フィルタに対する入
射角度を調整するマイクロメータの目盛の値と周波数標
準器から出力された光の選択標準周波数との関係の測定
結果を示すグラフである。図3の横軸は、マイクロメー
タの目盛の値を表し、縦軸は、周波数(THz)を表
す。尚、マイクロメータの目盛の値は、フィルタに対す
る光の入射角度に対応し、かつ、この入射角度は、フィ
ルタの透過周波数に対応する。従って、図3のグラフの
横軸は、フィルタの透過周波数に対応する。
タの目盛を回してフィルタの透過周波数を変化させて
も、フィルタの透過周波数が一定範囲内の場合は、選択
標準周波数の値は一定である。そして、フィルタの透過
周波数を一定以上変化させると、選択標準周波数は、5
0GHz離れた値に移る。このように、選択標準周波数
は階段状に変化する。
過周波数を所望の選択標準周波数に厳密に合わせなくと
も、言い換えれば、フィルタの透過周波数が所望の選択
標準周波数から多少ずれていても、ずれの大きさが一定
範囲内ならば、精度を落とすことなく容易に所望の選択
標準周波数を容易に得ることができることが分かる。従
って、この発明によれば、精度の良い選択標準周波数を
チャンネルを切替えるように容易に得ることができる。
長特性の測定結果を示す。図4のグラフの横軸は波長
(nm)を表し、縦軸は光透過強度(dBm)を表す。
図4のグラフ中の曲線III に示すように、ほぼ等間隔の
波長でピークが現れている。但し、等周波数間隔である
ので、波長間隔は正確には等間隔ではない。また、図4
のグラフに示したピークの透過波長に相当する周波数
は、前述の規格周波数の値ではないが、これをエタロン
の厚さや温度条件を変えることによって規格周波数の値
と一致させることは何ら問題ない。
力の測定結果を示す。図5のグラフの横軸は波長(n
m)を表し、縦軸は光強度(dBm)を表す。図5のグ
ラフに示す出力は、前述の図4のグラフに示された透過
波長のピークのうち、グラフの右から3番目の155
3.7nm付近のピークP3 の波長を、フィルタによっ
て選択したものである。また、選択されたピークP3 と
その両側のピークとは、数dBmの十分な光強度の差が
ある。
れらの発明を特定の条件で構成した例についてのみ説明
したが、これらの発明は多くの変更および変形を行うこ
とができる。例えば、上述した実施の形態においては、
先にエタロンを透過した光を周波数選択フィルタに入射
したが、これらの発明では、先に周波数選択フィルタを
透過した光をエタロンに入射しても良い。すなわち、エ
タロンおよび周波数選択フィルタの光の入射順序は限定
されない。
周波数選択フィルタとして、光の入射角度によって透過
周波数が変わる透過型のフィルタを用いたが、これらの
発明では、フィルタとして種々のものを用いることがで
きる。例えば、光の透過位置によって透過周波数が変わ
る、いわゆる「無偏波型波長可変フィルタ」を周波数選
択フィルタとして用いることができる。
択フィルタは透過型のものに限定する必要はなく、例え
ば、グレーティングを周波数選択フィルタとして用いる
ことができる。尚、周波数選択フィルタとしてグレーテ
ィングを用いた場合は、前記の従来の技術の欄で説明し
た、グレーティングのみによって波長を選択する場合と
は異なる。すなわち、本発明では、エタロンによって複
数の標準周波数を確定しているので、周波数選択フィル
タとしてのグレーティングの設定が多少ずれていても、
ずれの大きさが一定範囲内ならば、精度を落とすことな
く、標準周波数の中から所望の選択標準周波数を選択す
ることができる。
器および第2の発明の選択標準周波数生成方法によれ
ば、等周波数間隔の複数の標準周波数を決定するために
エタロンを使用する。そして、この標準周波数の中から
所望の周波数の光を、周波数選択フィルタによって選択
する。その結果、周波数選択フィルタで選択される周波
数が連続的に変化しても、取り出せる周波数はエタロン
によって確定された飛び飛びの値の標準周波数に限定さ
れる。このため、周波数選択フィルタによって選択され
る周波数精度が、エタロンを透過する標準周波数の精度
よりも低くとも、精度を落とすことなく容易に標準周波
数のうちから所望の選択標準周波数を選択することがで
きる。従って、簡単な構成で、等周波数間隔の複数の標
準周波数を精度良く得ることができ、かつ、複数の標準
周波数のうちのいずれかの周波数の光を精度を落とすこ
となく容易に選択することができる。
図である。
式図であり、(B)は、フィルタの透過周波数特性を示
す模式図であり、(C)は、エタロンおよびフィルタの
透過周波数特性を重ねて示す模式図である。
の関係の測定結果を示すグラフである。
フである。
ある。
Claims (8)
- 【請求項1】 入射光に含まれる等周波数間隔の複数の
周波数の光のみを透過することによって、透過できる前
記周波数からなる複数の標準周波数を決定することがで
きるエタロンと、 前記入射光の光路上に前記エタロンに対して直列に具え
られており、前記標準周波数のうちのいずれかの周波数
を選択標準周波数として選択することができる周波数選
択フィルタとを具えており、 前記周波数選択フィルタは、当該周波数選択フィルタの
透過ピークの幅が、前記エタロンの透過ピークの幅に比
べて大きく、かつ、前記標準周波数の周波数間隔に比べ
て狭いバンドパスフィルタであり、 前記周波数選択フィルタは、誘電体多層膜を以って構成
されていて、当該誘電体多層膜に対する光の入射角度を
制御することにより前記選択標準周波数を選択するもの
であることを特徴とする周波数標準器。 - 【請求項2】 請求項1に記載の周波数標準器におい
て、 前記エタロンに接して設けられ、当該エタロンの温度を
制御するための温度制御素子を具えることを特徴とする
周波数標準器。 - 【請求項3】 請求項2に記載の周波数標準器におい
て、 前記温度制御素子をペルチェ素子とすることを特徴とす
る周波数標準器。 - 【請求項4】 請求項1に記載の周波数標準器におい
て、 前記入射光を、前記エタロンの入射面に対して、実質的
に垂直な方向から入射させるようにしたことを特徴とす
る周波数標準器。 - 【請求項5】 光路上に、エタロンと周波数選択フィル
タとを互いに直列に設け、 前記エタロンによって、当該エタロンに入射させた光の
周波数の中から、当該エタロンを透過できる等周波数間
隔の複数の標準周波数を決定し、 前記周波数選択フィルタを、誘電体多層膜を以って構成
したバンドパスフィルタとし、 前記周波数選択フィルタの透過ピークの幅を、前記エタ
ロンの透過ピークの幅に比べて大きく、かつ、前記標準
周波数の周波数間隔に比べて狭く設定し、 前記誘電体多層膜に対する光の入射角度を制御すること
により、前記標準周波数のうちのいずれかの周波数を選
択標準周波数として選択することを特徴とする選択標準
周波数生成方法。 - 【請求項6】 請求項5に記載の選択標準周波数生成方
法において、 前記標準周波数の決定を、前記エタロンの温度を制御す
ることによって行うことを特徴とする選択標準周波数生
成方法。 - 【請求項7】 請求項6に記載の選択標準周波数生成方
法において、 前記エタロンの温度制御を、ペルチェ素子により行うこ
とを特徴とする選択標準周波数生成方法。 - 【請求項8】 請求項5に記載の選択標準周波数生成方
法において、 前記入射光を、前記エタロンの入射面に対して実質的に
垂直な方向から入射させることを特徴とする選択標準周
波数生成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25970696A JP3177635B2 (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 周波数標準器および選択標準周波数生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25970696A JP3177635B2 (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 周波数標準器および選択標準周波数生成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10104070A JPH10104070A (ja) | 1998-04-24 |
JP3177635B2 true JP3177635B2 (ja) | 2001-06-18 |
Family
ID=17337812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25970696A Expired - Fee Related JP3177635B2 (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 周波数標準器および選択標準周波数生成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3177635B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6603552B1 (en) | 1999-12-22 | 2003-08-05 | Xillix Technologies Corp. | Portable system for detecting skin abnormalities based on characteristic autofluorescence |
US20070122344A1 (en) | 2005-09-02 | 2007-05-31 | University Of Rochester Medical Center Office Of Technology Transfer | Intraoperative determination of nerve location |
US20080161744A1 (en) | 2006-09-07 | 2008-07-03 | University Of Rochester Medical Center | Pre-And Intra-Operative Localization of Penile Sentinel Nodes |
KR100918459B1 (ko) | 2007-06-11 | 2009-09-24 | 한국표준과학연구원 | 선택적으로 증폭된 광빗을 이용한 마이크로파 기준주파수와광주파수 표준주파수를 동시에 전송하는 방법 |
US8406860B2 (en) | 2008-01-25 | 2013-03-26 | Novadaq Technologies Inc. | Method for evaluating blush in myocardial tissue |
US10219742B2 (en) | 2008-04-14 | 2019-03-05 | Novadaq Technologies ULC | Locating and analyzing perforator flaps for plastic and reconstructive surgery |
ES2671710T3 (es) | 2008-05-02 | 2018-06-08 | Novadaq Technologies ULC | Métodos para la producción y uso de eritrocitos cargados con sustancias para la observación y el tratamiento de la hemodinámica microvascular |
US10492671B2 (en) | 2009-05-08 | 2019-12-03 | Novadaq Technologies ULC | Near infra red fluorescence imaging for visualization of blood vessels during endoscopic harvest |
JP6216491B2 (ja) * | 2012-02-20 | 2017-10-18 | セイコーエプソン株式会社 | 分光測定装置 |
EP2863801B8 (en) | 2012-06-21 | 2024-06-12 | Stryker Corporation | Quantification and analysis of angiography and perfusion |
KR102068776B1 (ko) | 2014-09-29 | 2020-01-21 | 노바다크 테크놀러지즈 유엘씨 | 자가형광이 존재하는 생물학적 물질에서 타겟 형광체의 이미징 |
US10631746B2 (en) | 2014-10-09 | 2020-04-28 | Novadaq Technologies ULC | Quantification of absolute blood flow in tissue using fluorescence-mediated photoplethysmography |
EP4242743A3 (en) | 2017-02-10 | 2023-10-18 | Stryker European Operations Limited | Open-field handheld fluorescence imaging systems and methods |
CN116224570A (zh) * | 2023-04-28 | 2023-06-06 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 可调谐滤波器和半导体激光器 |
-
1996
- 1996-09-30 JP JP25970696A patent/JP3177635B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10104070A (ja) | 1998-04-24 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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