JP3176566B2 - Cover plate for heat rail - Google Patents

Cover plate for heat rail

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JP3176566B2
JP3176566B2 JP18951997A JP18951997A JP3176566B2 JP 3176566 B2 JP3176566 B2 JP 3176566B2 JP 18951997 A JP18951997 A JP 18951997A JP 18951997 A JP18951997 A JP 18951997A JP 3176566 B2 JP3176566 B2 JP 3176566B2
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heat
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稔 長谷
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エヌイーシーマシナリー株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体ペレットを
リードフレームに組み付けるに際してリードフレームが
そこを搬送され、加熱されるヒートレールの改良に関
し、特にカバープレートに大きな穴を設けてもトンネル
内の雰囲気を非酸化性雰囲気として保てるカバープレー
トの構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a heat rail in which a lead frame is conveyed and heated when a semiconductor pellet is assembled into a lead frame. The present invention relates to a cover plate structure that can be maintained as a non-oxidizing atmosphere.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のヒートレールの例を説明する。図
3(A)はその平面図、図3(B)は図3(A)におけ
るA−A線での断面を表した側面図である。ヒートレー
ル1は断面コの字状のヒートブロック2をその凹部開口
を上に向けて配置する。そして、ヒートブロック2には
ヒータ(図示せず)を埋め込み、その凹部3の底面には
ほぼ全面を覆う皿状のアダプタレール4がその凹面を下
側に向けて配置される。そしてヒートブロック2には凹
部底面に向け外面に設けた不活性ガス導入口5からガス
流路が設けられている。そこでアダプタレール4とヒー
トブロック2の凹部底面とで出来た空間は導入された不
活性ガスを貯めるタンク6となっている。ヒートブロッ
ク2の上面には凹部3を覆ってカバープレート7が取り
付けられて凹部3がトンネル3aを形成している。
2. Description of the Related Art An example of a conventional heat rail will be described. FIG. 3A is a plan view thereof, and FIG. 3B is a side view showing a cross section taken along line AA in FIG. 3A. The heat rail 1 includes a heat block 2 having a U-shaped cross section and a concave opening thereof facing upward. A heater (not shown) is embedded in the heat block 2, and a dish-shaped adapter rail 4 covering almost the entire surface is disposed on the bottom surface of the concave portion 3 with the concave surface facing downward. The heat block 2 is provided with a gas flow path from an inert gas inlet 5 provided on the outer surface toward the bottom of the concave portion. Therefore, a space formed by the adapter rail 4 and the bottom of the concave portion of the heat block 2 serves as a tank 6 for storing the introduced inert gas. A cover plate 7 is attached to the upper surface of the heat block 2 so as to cover the recess 3, and the recess 3 forms a tunnel 3 a.

【0003】リードフレーム(図示せず)へ半導体ペレ
ット(図示せず)を組み付ける際にはリードフレーム
(図示せず)をアダプタレール4上を搬送しつつ加熱し
てソルダ(図示せず)や半導体ペレット(図示せず)供
給して組み付ける。その際リードフレームやソルダの酸
化を防止するために不活性ガス導入口5から窒素ガス等
不活性なガスを導入する。導入された不活性ガスはタン
ク6を満たしアダプタレール4のあちこちに設けたガス
噴出口4aからトンネル3a内に噴出し、そこを不活性
雰囲気としてトンネル3aの入口、出口より排出され
る。
When assembling a semiconductor pellet (not shown) to a lead frame (not shown), the lead frame (not shown) is heated while being transported on the adapter rail 4 and solder (not shown) or semiconductor Pellets (not shown) are supplied and assembled. At this time, an inert gas such as nitrogen gas is introduced from the inert gas inlet 5 to prevent oxidation of the lead frame and the solder. The introduced inert gas fills the tank 6 and is blown into the tunnel 3a from gas outlets 4a provided around the adapter rail 4, and is discharged from the inlet and outlet of the tunnel 3a as an inert atmosphere.

【0004】そして出来るだけ少ない不活性ガスの流量
でもトンネル内を良好な雰囲気とするにはトンネル3a
の開口はなるべく小面積とする必要があるためカバープ
レート7の開口も必要最小限とされ、ソルダ供給用穴7
a、溶けたソルダを撹拌拡げるための穴7b、半導体ペ
レットの供給用穴7cを備える。リードフレームの送り
機構をトンネル3a内に備える場合はカバープレート7
に設ける穴は上記のものだけでよいが、トンネル3aが
大きくなって、カバープレート7からリードフレームま
での距離が深くなり、半導体ペレットの供給の高速化の
障害となったり機構が複雑となるので外からリードフレ
ームを搬送することも行なわれる。その場合は図3
(A)のように搬送爪用穴7dを備える。搬送爪用の穴
7dも出来るだけ小さいものとしそこを搬送爪が半導体
装置1個分毎のスクェアーモウションでリードフレーム
を送ってゆく。これらの穴も含めて不活性ガスの排出さ
れる所では外気がトンネル3a内に逆流しないような流
量が与えられなければならない。
In order to make the inside of the tunnel a good atmosphere even with a flow rate of the inert gas as small as possible, the tunnel 3a is required.
The opening of the cover plate 7 is also required to be as small as possible because the opening of the
a, a hole 7b for stirring and spreading the melted solder, and a hole 7c for supplying semiconductor pellets. When a lead frame feed mechanism is provided in the tunnel 3a, the cover plate 7 is used.
Only the holes provided above are necessary. However, the tunnel 3a becomes large, the distance from the cover plate 7 to the lead frame becomes large, and it becomes an obstacle to speeding up the supply of semiconductor pellets and the mechanism becomes complicated. Transporting the lead frame from outside is also performed. Figure 3 in that case
As shown in (A), a hole 7d for a conveying claw is provided. The hole 7d for the transfer claw is also made as small as possible, and the transfer claw sends the lead frame by the square motion for each semiconductor device. At a place where the inert gas is discharged including these holes, a flow rate must be provided so that the outside air does not flow back into the tunnel 3a.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが近年装置の高
速化が求められリードフレームの搬送を半導体装置1個
分毎のトランスファー送りでは高速化に限界があるため
にもっと長い範囲例えばリードフレーム1枚分とか1/
2長分とかは爪をかけたままでのステップ送りとするこ
とが検討されている。
However, in recent years, the speed of the device has been required to be increased, and the transfer of the lead frame for each semiconductor device has a limit in the speed of transfer, so that a longer range, for example, for one lead frame. Or 1 /
For two lengths, it is under consideration to use step feed with the nails on.

【0006】そのようなリードフレームの送りを外から
の爪で行なうために、本発明者は図4に示すようなヒー
トレール11を試作して検討した。このカバープレート
17は、図3(A)に示すヒートレール1のカバープレ
ート7における送り爪用穴7をトンネルの入り口から
出口まで延長して送り爪用スリット17cとしたもので
ある。
In order to feed such a lead frame with an external claw , the present inventor prototyped a heat rail 11 as shown in FIG. The cover plate 17 is obtained by a pawl slit 17c sends a feed pawl hole 7 d in the cover plate 7 of the heat rail 1 shown in FIG. 3 (A) and extending from the entrance to the tunnel to the exit.

【0007】このヒートレールを用いてテストした結果
このように開口面積を大きくすると従来と同じ不活性ガ
スの流量では良好なトンネル内の雰囲気が得られないこ
とは当然としても開口面積に比例的に不活性ガスの供給
を増やしても従来なみの満足出来る雰囲気とはならなか
った。このことはトンネル内に入ってくる外気はリード
フレーム、ソルダ、半導体ペレット等の供給や搬送のた
めにトンネルに入ってくるこれらワークやそれを動かす
ツールと共に入ってくる分の他に開口部があるために逆
流する成分が存在することを推定させる。
As a result of a test using this heat rail, if the opening area is increased in this way, a good atmosphere in the tunnel cannot be obtained with the same flow rate of the inert gas as in the prior art. Even if the supply of the inert gas was increased, the atmosphere was not as satisfactory as the conventional one. This means that the outside air that enters the tunnel has openings in addition to the work and tools that move it into the tunnel to supply and transport lead frames, solder, semiconductor pellets, etc. Therefore, it is estimated that there is a component flowing backward.

【0008】そこでこの発明は外気の流入を少なくした
ヒートレールのカバープレートを提供する。
Accordingly, the present invention provides a cover plate for a heat rail with reduced inflow of outside air.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、この発明は断面コの字状のヒートブロックの凹部
を覆いリードフレームを搬送するトンネルを形成するた
めのヒートレール用カバープレートであって、そのヒー
トレール用カバープレートは開口を有するものにおい
て、開口端に衝立て状に部材を立てたことを特徴とする
ヒートレール用カバープレートを提供する。衝立て状部
材は煙突状に開口を取り巻くのが良いが、開口の目的か
らやむおえず一部欠けていてもそれなりに効果はある。
上記の構成によれば、従来のカバープレートのように薄
い場合には開口端において逆流する外気が衝立て状部材
を立てることにより煙突のようにパスが長くなり逆流で
きなくなる。このような作用を図面を用いて詳しく説明
する。図2(A)は従来のように薄いカバープレート7
に単に穴7aがあいている場合である。この場合実線矢
印のように不活性ガスを穴7aから吹き出して外気の流
入を防いでいるが、穴7aの端部においては渦流れの作
用か、対流作用かさだかではないが、破線矢印の様に外
気を取り込んでいると推定できる。ところが図2(B)
の様に穴7aの端に衝立て状部材28を設ければ破線矢
印のように逆流しようとする外気は排出される不活性ガ
ス(実線の矢印)に連れ出される。また、衝立て状部材
を設ける代わりにプレートの厚みを少なくとも開口部に
於いて8mm以上に厚くしたヒートレール用カバープレ
ートを提供する。カバープレートを厚くすれば同様な効
果がある。なお、「8mm」と言う限定はこの点でクリ
ティカルに効果が変わるわけではなく、従来の設計にお
いては3mm前後でたまたま設計により種々の厚みのも
のが存在するので、従来存在する厚めのものと区別をす
るための限定であり、このように厚いものは従来存在せ
ず、8mmを越える厚みのものは本発明を適用している
とみなすべきである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a heat rail cover plate for forming a tunnel for covering a concave portion of a U-shaped cross section of a heat block and conveying a lead frame. In addition, the present invention provides a heat rail cover plate characterized in that the heat rail cover plate has an opening and a member is erected in the form of a screen at the opening end. The screen-like member preferably surrounds the opening in the form of a chimney. However, even if a part of the opening is inevitably cut off for the purpose of the opening, it is effective.
According to the above configuration, when the air is thin like the conventional cover plate, the backflowing outside air at the opening end raises the screen-like member, so that the path becomes long like a chimney and the backflow cannot be performed. Such an operation will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 2A shows a conventional thin cover plate 7.
Is a case in which a hole 7a is simply opened. In this case, the inert gas is blown out from the hole 7a as shown by a solid arrow to prevent the inflow of outside air. At the end of the hole 7a, it is not a vortex action or a convection action. It can be estimated that the outside air is taken in. However, FIG. 2 (B)
When the screen-like member 28 is provided at the end of the hole 7a as described above, the outside air that is about to flow backward as indicated by the broken line arrow is taken out by the discharged inert gas (solid line arrow). Further, there is provided a cover plate for a heat rail in which the thickness of the plate is increased to at least 8 mm or more at an opening instead of providing a screen-like member. A similar effect can be obtained by increasing the thickness of the cover plate. Note that the limitation of “8 mm” does not change the effect critically in this respect, and in the conventional design, there are various thicknesses around 3 mm that happen to be designed, so it is different from the thicker ones that exist in the past. Therefore, it should be regarded that the present invention is applied to the case where the thickness exceeds 8 mm.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】この発明の一実施例を図面を用い
て説明する。図1(A)はその平面図、図2(B)は図
1(A)におけるA−A線での断面を表した側面図であ
る。このヒートレール21はヒートブロック2、アダプ
タレール4、不活性ガス導入口5、タンク6は図3に示
す従来例と同じなので同じ部分には同一符号を付して説
明を略す。異なる点はカバープレート27である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a plan view thereof, and FIG. 2B is a side view showing a cross section taken along line AA in FIG. 1A. The heat rail 21, the heat block 2, the adapter rail 4, the inert gas inlet 5, and the tank 6 are the same as those of the conventional example shown in FIG. The difference is the cover plate 27.

【0011】このカバープレート27は従来同様ソルダ
供給用穴27a、溶けたソルダを撹拌拡げるための穴2
7b、半導体ペレットの供給用穴27cを備える。そし
て搬送爪用穴7dに替わって搬送爪用スリット27dを
備える。そして本発明の特徴としてスリット27dに沿
って衝立て部材としてL型板材28を両側に取りつけて
いる。カバープレート27本体の厚みは3mmでスリッ
ト27dの幅は3mmで衝立て部材28の高さは10m
mである。その他の穴27a〜cについては衝立て部材
をとりつけていない。
The cover plate 27 has a solder supply hole 27a and a hole 2 for agitating and spreading the melted solder.
7b, a supply hole 27c for supplying a semiconductor pellet. In addition, a slit 27d for conveying nails is provided instead of the hole 7d for conveying nails. As a feature of the present invention, L-shaped plate members 28 are attached to both sides as screen members along the slit 27d. The thickness of the cover plate 27 body is 3 mm, the width of the slit 27 d is 3 mm, and the height of the screen member 28 is 10 m.
m. No screen members are attached to the other holes 27a to 27c.

【0012】以上の構成により満足できるトンネル内の
雰囲気が得られた。カバープレート27の全開口の内の
かなりの部分を占めるスリット27dの大部分を衝立て
部材28で外気の逆流を防止したためである。
With the above configuration, a satisfactory atmosphere in the tunnel was obtained. This is because most of the slit 27d occupying a considerable portion of the entire opening of the cover plate 27 is prevented by the partition member 28 from backflow of the outside air.

【0013】上記実施例では3mmの板厚のカバープレ
ート27に10mmの高さの衝立て部材を立てたがこれ
に限られるものではなく供給する不活性ガスの流量によ
って必要な最低の高さは異なる。例えば同じガス流量の
条件で衝立て部材の高さを5mmとするとトンネル内の
雰囲気は満足できる状態ではないが、衝立て部材の無い
場合に比較すれば明らかに効果がみとめられた。
In the above embodiment, a 10 mm-high partition member is provided on the cover plate 27 having a thickness of 3 mm. However, the present invention is not limited to this, and the minimum height required according to the flow rate of the inert gas to be supplied is as follows. different. For example, when the height of the partition member is set to 5 mm under the same gas flow rate conditions, the atmosphere in the tunnel is not in a satisfactory state, but the effect is clearly seen as compared with the case without the partition member.

【0014】上記実施例によれば衝立て部材を立てるこ
とにより外気の逆流パスを長くし外気の入り込むのを防
止したが、カバープレートの板厚を厚くしても同様な効
果がある。
According to the above-described embodiment, the backflow path of the outside air is lengthened by setting the screen member to prevent the outside air from entering, but the same effect can be obtained even if the thickness of the cover plate is increased.

【0015】当然煙突状に開口を取り囲んで衝立て部材
を配置するのが雰囲気確保の点からは好ましいが上記実
施例のように一部欠けた部分があってもそれなりの効果
が得られるものである。
Naturally, it is preferable to arrange the partition member so as to surround the opening in a chimney shape from the viewpoint of securing the atmosphere. However, even if there is a partially missing portion as in the above embodiment, a certain effect can be obtained. is there.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように、この発明よれば、
カバープレートに大きな開口を設けてもヒートレールの
トンネル内に不活性雰囲気を確保できる。
As described above, according to the present invention,
Even if a large opening is provided in the cover plate, an inert atmosphere can be secured in the tunnel of the heat rail.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 (A)この発明の一実施例を用いたヒートレ
ールの平面図 (B)A−A線での断面を表す側面図
FIG. 1A is a plan view of a heat rail using one embodiment of the present invention. FIG. 1B is a side view showing a cross section taken along line AA.

【図2】 この発明の作用を説明するための断面図で、
(A)は従来、(B)はこの発明を示す。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the operation of the present invention;
(A) shows the related art, and (B) shows the present invention.

【図3】 (A)従来のカバープレートを用いたヒート
レールの平面図 (B)そのA−A線での断面を表した側面図
FIG. 3A is a plan view of a heat rail using a conventional cover plate. FIG. 3B is a side view showing a cross section taken along line AA.

【図4】 この発明に至前に試作したヒートレールの平
面図
FIG. 4 is a plan view of a heat rail prototyped before the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 ヒートブロック 3 凹部 3a トンネル 27 カバープレート 27a ソルダ供給用穴 27b 溶けたソルダを撹拌拡げるための穴 27c 半導体ペレットの供給用穴 27d 搬送爪用スリット(開口) 28 衝立て状部材 2 Heat Block 3 Recess 3a Tunnel 27 Cover Plate 27a Solder Supply Hole 27b Hole for Stirring and Spreading Melted Solder 27c Hole for Supplying Semiconductor Pellet 27d Slit (Opening) for Transfer Claw 28 Screen-like Member

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】断面コの字状のヒートブロックの凹部を覆
いリードフレームを搬送するトンネルを形成するための
ヒートレール用カバープレートであって、そのヒートレ
ール用カバープレートはリードフレームの搬送方向に沿
ってリードフレームの搬送を外からの爪で行なうための
スリットを有するものにおいて、スリット 端に衝立て状部材を立てたことを特徴とするヒ
ートレール用カバープレート。
1. A cover plate for a heat rail for forming a tunnel for transferring a lead frame by covering a concave portion of a heat block having a U-shaped cross section, wherein the cover plate for a heat rail is moved in a direction in which the lead frame is transferred. Along
To transport the lead frame with external claws.
A cover plate for a heat rail, wherein a screen-like member is provided upright at a slit end in a slit plate.
【請求項2】断面コの字状のヒートブロックの凹部を覆
いリードフレームを搬送するトンネルを形成するための
ヒートレール用カバープレートであって、そのヒートレ
ール用カバープレートはリードフレームの搬送方向に沿
ってリードフレームの搬送を外からの爪で行なうための
スリットを有するものにおいて、 その厚みを少なくともスリット部において8mm以上に
厚くしたことを特徴とするヒートレール用カバープレー
ト。
2. A heat rail cover plate for covering a concave portion of a heat block having a U-shaped cross section and forming a tunnel for conveying a lead frame, wherein the heat rail cover plate is moved in a direction in which the lead frame is conveyed. Along
To transport the lead frame with external claws.
A cover plate for a heat rail having a slit , the thickness of which is increased to at least 8 mm or more at a slit portion.
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