JP3173841U

JP3173841U - Electromagnetic shielding structure of transparent capacitor type touch panel

Info

Publication number: JP3173841U
Application number: JP2011007317U
Authority: JP
Inventors: ▲かい▼悌楊
Original assignee: 洋華光電股▲ふん▼有限公司
Priority date: 2011-12-12
Filing date: 2011-12-12
Publication date: 2012-02-23
Anticipated expiration: 2021-12-12

Abstract

【課題】透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造を提供する。
【解決手段】透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造は、キャパシタタッチセンサー、複数の絶縁層、及び少なくとも１個の導電性材料薄層を備え、キャパシタタッチセンサーは２個の絶縁層の間に挟まれて設置し、導電性材料薄層はキャパシタタッチセンサーの電磁干渉の出所に対面する片側面に設置し、接地を呈して設置する。しかもキャパシタタッチセンサーの全面積範囲をちょうど遮蔽し、導電性材料薄層の面電気抵抗は１０〜１００００Ω・ｃｍ^−２で、導電性材料薄層はＰＥＤＯＴ／ＰＳＳコポリマーを含む導電性光学樹脂、金属網状構造薄膜、ナノ銀粒蒸着膜、或いは表面硬化処理手段により保護層上に設置する透明導電性薄膜の何れかで、導電性材料薄層８は透明キャパシタ式タッチパネル１００と液晶表示モジュール２００との間に設置する導電性光学樹脂層６である。
【選択図】図４An electromagnetic shielding structure for a transparent capacitor type touch panel is provided.
An electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel includes a capacitor touch sensor, a plurality of insulating layers, and at least one thin conductive material layer, and the capacitor touch sensor is sandwiched between two insulating layers. The conductive material thin layer is installed on one side facing the source of electromagnetic interference of the capacitor touch sensor, and installed with grounding. Moreover, the entire area range of the capacitor touch sensor is shielded, and the surface electric resistance of the conductive material thin layer is 10 to 10000 Ω · cm ⁻² , and the conductive material thin layer is a conductive optical resin containing PEDOT / PSS copolymer, metal The conductive material thin layer 8 is composed of a transparent capacitor type touch panel 100 and a liquid crystal display module 200, either a network-structured thin film, a nano silver grain deposited film, or a transparent conductive thin film placed on the protective layer by surface hardening treatment means. It is the electroconductive optical resin layer 6 installed in between.
[Selection] Figure 4

Description

本考案は透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造に関し、特に透明の導電性材料の薄層により形成する電磁遮蔽を利用するキャパシタ式タッチパネル構造に関する。 The present invention relates to an electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel, and more particularly to a capacitor type touch panel structure using electromagnetic shielding formed by a thin layer of a transparent conductive material.

キャパシタ式タッチパネルは、使用者の指或いは導体がパネルに接触した瞬間にキャパシタ効果を生じ、次に、キャパシタ値の変化により、指或いは導体の位置を確定し、これにより信号入力の目的を達成するものである。キャパシタ式タッチパネルは目下、通信、コンピューター、民生用電子製品などに幅広く使用されており、通常は、透明のタッチパネルを、電気製品のディスプレー上に配置して使用する。これにより、使用者はインタラクティブな入力操作を行うことができ、人と機器との間のコミュニケーションの親和性を改善し、入力操作の効率を高める目的を達成することができる。一般のキャパシタ式センサーの構造はみな、酸化インジウム(ITO)材料などを絶縁状に設置する二層の透明導電薄膜を備える。さらに、各層の導電薄膜上に複数のＸ軸トレース(X-Trace)、Ｙ軸トレース(Y-Trace)などの必要な電極レイアウトを設置し、エッチングプロセスを利用して、導電薄膜上の不要な部分を除去し、必要なX、Y軸トレースを形成、各トレースの間は、相互に適当な幅の間隙を保持する。周知のように、キャパシタ式タッチパネルは、使用時に、外界の電磁波干渉(EMI)或いは電波干渉(RFI)を受け易く、誤信号を生じる。さらに、干渉が深刻な場合には、キャパシタセンサーそのものの使用が不能となってしまう。そのため、いかにしてEMI、RFIの干渉を遮蔽するかは、キャパシタ式タッチパネルの応用における重要な課題である。 Capacitor-type touch panel produces a capacitor effect at the moment when a user's finger or conductor touches the panel, and then determines the position of the finger or conductor by changing the capacitor value, thereby achieving the purpose of signal input Is. Capacitor-type touch panels are currently widely used in communications, computers, consumer electronic products, and the like. Usually, a transparent touch panel is used on an electronic product display. Thereby, the user can perform an interactive input operation, and can achieve the purpose of improving the affinity of communication between a person and a device and increasing the efficiency of the input operation. All general capacitor-type sensors have a two-layer transparent conductive thin film in which an indium oxide (ITO) material or the like is placed in an insulating state. Furthermore, necessary electrode layouts such as multiple X-axis traces (X-Trace) and Y-axis traces (Y-Trace) are installed on the conductive thin film of each layer, and an unnecessary etching on the conductive thin film is performed using an etching process. The part is removed to form the necessary X and Y axis traces, and a gap having an appropriate width is maintained between the traces. As is well known, a capacitor-type touch panel is susceptible to external electromagnetic interference (EMI) or radio wave interference (RFI) during use and generates an erroneous signal. Further, when the interference is serious, the capacitor sensor itself cannot be used. Therefore, how to shield EMI and RFI interference is an important issue in the application of capacitor-type touch panels.

EMI干渉を遮蔽することができるキャパシタ式タッチパネル構造設計は、現在既に公開され使用されている。同構造のキャパシタセンサーは、基板上に設置される。基板は、その任意の側面上に形成される行及び列トレースを備える。特に、各列のトレースをできる限り幅広く設置することで、隣接する列トレース間に、わずかに約３０ミクロンの間隔距離だけを残す。こうして、各列トレースは共同で配列し、面状の電磁遮蔽シールドを組成し、電磁波ノイズの干渉を遮る。しかし、隣接するトレース間の間隔距離が微小であることは、製品の製造及び加工における難度を高めており、製品の歩留を引き下げ、コストを拡大する結果を招いている。 Capacitor-type touch panel structure designs that can shield EMI interference are already publicly available. The capacitor sensor having the same structure is installed on the substrate. The substrate comprises row and column traces formed on any side thereof. In particular, placing the traces in each row as wide as possible leaves only a spacing distance of only about 30 microns between adjacent row traces. Thus, the row traces are arranged together to form a planar electromagnetic shielding shield to block electromagnetic noise interference. However, the small distance between adjacent traces increases the difficulty in manufacturing and processing products, resulting in lower product yields and increased costs.

本考案の主な目的は、タッチパネル生産工程を増やさず、コストも拡大させない状況において、キャパシタ式タッチパネルの電磁干渉出所に対する側の面に電磁遮蔽層を形成し、EMI、RFIの干渉を遮蔽することができる透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造を提供することである。 The main purpose of the present invention is to shield the EMI and RFI interference by forming an electromagnetic shielding layer on the surface of the capacitor type touch panel against the electromagnetic interference source in a situation where the touch panel production process is not increased and the cost is not increased. It is providing the electromagnetic shielding structure of the transparent capacitor type touch panel which can do.

上述の目的を達成するため、本考案は下記の透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造を提供する。透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造は、キャパシタタッチセンサー、複数の絶縁層、及び少なくとも１個の導電性材料薄層を備え、該キャパシタタッチセンサーは、２個の絶縁層の間に挟まれて設置し、該導電性材料薄層は、該キャパシタタッチセンサーの電磁干渉の出所に対面する片側面に設置し、接地を呈して設置され、しかも該キャパシタタッチセンサーの全面積範囲をちょうど遮蔽し、該導電性材料薄層の面電気抵抗は12000Ω・cm^-2以下で、好ましい面電気抵抗は10〜10000Ω・cm^-2で、該導電性材料薄層は、導電性光学接着剤(OCA)で、材料中にはポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)コポリマーを含む導電性光学樹脂材料で、応用において、フィルム上の薄膜層を呈し、或いは溶液状を呈して、塗布、或いは印刷手段を利用して、タッチパネル上に敷設することができるが、実施の材料及び形態の範囲はこれに限定するものではなく、該導電性材料薄層は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化亜鉛アルミニウム(AZO)、或いはポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)の内の一材料を使用して製造する透明導電薄膜で、該導電性材料薄層は、金属網状構造薄膜、ナノ銀粒蒸着膜、或いは表面硬化処理手段により保護層上に設置する透明導電性薄膜の何れかである。 In order to achieve the above object, the present invention provides the following electromagnetic shielding structure for a transparent capacitor type touch panel. An electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel includes a capacitor touch sensor, a plurality of insulating layers, and at least one conductive material thin layer, and the capacitor touch sensor is sandwiched between two insulating layers. The thin layer of the conductive material is disposed on one side facing the electromagnetic interference source of the capacitor touch sensor, is disposed to be grounded, and just shields the entire area range of the capacitor touch sensor, surface electrical resistance of the conductive material thin layer is 12000Ω · cm ^-2 or less, preferably a surface electric resistance in 10~10000Ω · cm ^-2, the conductive material thin layer is a conductive optical adhesive (OCA), In the material is a conductive optical resin material containing poly 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) copolymer, in application, presenting a thin film layer on the film, or presenting a solution, It can be laid on the touch panel using cloth or printing means, but the scope of the material and form of implementation is not limited to this, and the conductive material thin layer is made of indium tin oxide (ITO). A transparent conductive thin film manufactured using one material of indium zinc oxide (IZO), aluminum zinc oxide (AZO), or polyethylene dioxythiophene (PEDOT), the conductive material thin layer having a metal network structure It is either a thin film, a nano silver grain vapor deposition film, or a transparent conductive thin film placed on the protective layer by means of surface hardening treatment.

実施例では、本考案が提供する透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造は、透明キャパシタ式タッチパネルを、液晶表示モジュールの上に配置して使用し、該導電性光学樹脂層を利用し、該透明キャパシタ式タッチパネルと該液晶表示モジュールの間に設置し、両者を粘着して一体に接合し、該導電性光学樹脂層は、接地して設置され、しかも該透明キャパシタ式タッチパネルの全面積範囲を遮蔽でき、該導電性光学樹脂層は、PEDOT/PSSコポリマーで、しかもその面電気抵抗は、10〜10000Ω・cm^-2である。 In an embodiment, an electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel provided by the present invention uses a transparent capacitor type touch panel disposed on a liquid crystal display module, and utilizes the conductive optical resin layer to provide the transparent capacitor type touch panel. Installed between the LCD touch panel and the liquid crystal display module, the two are adhered and bonded together, and the conductive optical resin layer is installed in contact with the ground, and the entire area of the transparent capacitor touch panel can be shielded. The conductive optical resin layer is a PEDOT / PSS copolymer, and its surface electric resistance is 10 to 10,000 Ω · cm ⁻² .

本考案の透明キャパシタ式タッチパネルの電磁遮蔽構造は、従来のキャパシタ式タッチパネル構造設計に比べ、少なくとも以下の長所を備える。
a.本考案の電磁遮蔽層は、全面的で隙間がないため、電磁遮蔽効果が優れている。
b.本考案の電磁遮蔽効果は、キャパシタタッチセンサーの行、列トレースの設置形状、或いは幅とは関係がないため、行、列トレースの設置図案は任意性を備え、設計が局限されず、キャパシタ感知効果が優れている。
c.本考案の各列の間の間隙は、大きくでき、干渉の発生を回避でき、しかも加工技術を簡単にし、製品の歩留を高め、生産コストを低下させることができる。 The electromagnetic shielding structure of the transparent capacitor type touch panel of the present invention has at least the following advantages compared to the conventional capacitor type touch panel structure design.
a. The electromagnetic shielding layer according to the present invention is excellent in electromagnetic shielding effect because it is entirely and has no gaps.
b. Since the electromagnetic shielding effect of the present invention is not related to the installation shape or width of the capacitor touch sensor rows and column traces, the installation design of the row and column traces is arbitrary, the design is not limited, Excellent capacitor sensing effect.
c. The gap between each row of the present invention can be increased, interference can be avoided, processing technology can be simplified, product yield can be increased, and production cost can be reduced.

本考案第一実施例構成部材の分離立体模式図である。It is a separation solid schematic diagram of a constituent member of the 1st example of the present invention. 本考案第一実施例の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of this invention 1st Example. 本考案第二実施例の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of this invention 2nd Example. 本考案第三実施例の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of this invention 3rd Example. 本考案第四実施例の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of 4th Example of this invention. 本考案第五実施例の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of 5th Example of this invention.

本考案の技術内容、構造特徴、達成する目的を詳細に説明するため、以下に実施例を挙げ並びに図面を組み合わせて説明する。 In order to describe in detail the technical contents, structural features, and objects to be achieved of the present invention, examples will be described below in combination with the drawings.

図１、２に示すように、本考案の第一実施例は、上方保護層１、X軸感知層２、基板３、Y軸感知層４、絶縁層５、導電性光学樹脂層６、下方保護層７を備える。上記した各層は、順番に重ねて組み合わされ、キャパシタ式タッチパネルを形成する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the first embodiment of the present invention includes an upper protective layer 1, an X-axis sensing layer 2, a substrate 3, a Y-axis sensing layer 4, an insulating layer 5, a conductive optical resin layer 6, and a lower portion. A protective layer 7 is provided. The above-described layers are combined in order to form a capacitor-type touch panel.

本実施例において、上方保護層１は、キャパシタ式タッチパネルの表面層或いは上蓋で、通常は下方保護層７と共に、高光透過率絶縁薄層を採用する。その材料は、ガラス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、或いはポリカーボネート(PC)などであるが、実施の材料の範囲を、上記の材料に限定するものではない。 In this embodiment, the upper protective layer 1 is a surface layer or upper lid of a capacitor-type touch panel, and usually employs a high light transmittance insulating thin layer together with the lower protective layer 7. The material is glass, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or the like, but the scope of the material is not limited to the above materials.

基板３は、堅固な材質の透明薄板で、その材料は、ガラス、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)、或いは環状オレフィンコポリマー(COC)などであるが、実施の材料の範囲を、上記の材料に限定するものではない。 The substrate 3 is a transparent thin plate made of a rigid material, such as glass, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate resin (PMMA), or cyclic olefin copolymer (COC). The scope of the implementation material is not limited to the above materials.

絶縁層５は、高光透過率絶縁薄層を採用する。その材料は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、インク、光硬化接着剤(UV接着剤)、或いは絶縁性光学接着剤(OCA)などであるが、実施の材料の範囲を、上記の材料に限定するものではない。 The insulating layer 5 employs a high light transmittance insulating thin layer. The material is polyethylene terephthalate (PET), ink, photo-curing adhesive (UV adhesive), or insulating optical adhesive (OCA), etc., but the scope of the material is limited to the above materials is not.

導電性光学樹脂層６は、透明に近い薄層である。特に、導電ポリマーであるポリ3,4-エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)の透明度が高い導電性光学フィルムであるが、実施の材料の範囲を、上記の材料に限定するものではない。上記した光学樹脂材料は、応用において、フィルム上の薄膜層を呈し、或いは溶液状を呈して、塗布、或いは印刷手段を利用して、タッチパネル上に敷設することができる。特に、導電性光学樹脂層６面の電気抵抗は、10〜10000Ω・cm^-2で、層の厚みは、0.01〜300μmである。 The conductive optical resin layer 6 is a thin layer that is nearly transparent. In particular, it is a conductive optical film with high transparency of poly 3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS), which is a conductive polymer, but the scope of the material is limited to the above materials is not. In the application, the above-described optical resin material can be laid on a touch panel by using a coating means or a printing means that exhibits a thin film layer on a film or a solution. In particular, the electric resistance of the surface of the conductive optical resin layer 6 is 10 to 10,000 Ω · cm ⁻² and the thickness of the layer is 0.01 to 300 μm.

上記したX軸感知層２とY軸感知層４は、良好な導電特性を備える酸化インジウムスズ(ITO)の透明導電膜を使用する。X軸感知層２の透明導電膜上には数本の相互に平行に配列するX軸感知トレース２２を備え、Y軸感知層４の透明導電膜上には数本の相互に平行に配列するY軸感知トレース４２を備える。上記した各層は、順番に重ねて透明板体を組成する。X軸感知層２は、上方保護層１の底表面に設置し、Y軸感知層4は、基板３を隔て、X軸感知層２と重ねて粘着して一体を形成する。これにより、Y軸感知トレース４２とX軸感知トレース２２は、垂直に交わり設置される。 The above-described X-axis sensing layer 2 and Y-axis sensing layer 4 use a transparent conductive film of indium tin oxide (ITO) having good conductive properties. Several X-axis sensing traces 22 arranged in parallel to each other on the transparent conductive film of the X-axis sensing layer 2 are provided, and several lines are arranged in parallel to each other on the transparent conductive film of the Y-axis sensing layer 4. A Y-axis sensing trace 42 is provided. Each of the layers described above is laminated in order to form a transparent plate. The X-axis sensing layer 2 is installed on the bottom surface of the upper protective layer 1, and the Y-axis sensing layer 4 is adhered to the X-axis sensing layer 2 with the substrate 3 being spaced apart and integrally formed. As a result, the Y-axis sensing trace 42 and the X-axis sensing trace 22 are installed vertically crossing each other.

導電性光学樹脂層６により、絶縁層５と下方保護層７との間は、全面的にぴったりと一体に粘着し、しかも導電性光学樹脂層６の片側辺縁は、導電体６１により接地する。導電体６１は、銅箔片、或いはフレキシブル回路板(FPT)を採用することができる。 The conductive optical resin layer 6 adheres the entire surface between the insulating layer 5 and the lower protective layer 7 so as to be tightly integrated, and one side edge of the conductive optical resin layer 6 is grounded by the conductor 61. . The conductor 61 can employ a copper foil piece or a flexible circuit board (FPT).

上記した構造のタッチパネルは、X軸感知層２とY軸感知層４において、キャパシタ式タッチパネル回路を形成する。よって、指、或いは導体が、上方保護層１を、接触、或いは軽くスライドするとキャパシタ信号を触発する。キャパシタ信号の変化を探知、追跡することで、導体、或いは指が触れた位置を判断することができる。本考案の実施例では、接地した導電性光学樹脂層６は、外界のEMI、RFIなどの干渉を遮蔽することができ、上記したキャパシタ式タッチパネル回路の作動への影響を回避し、誤信号の発生を防止することができる。 The touch panel having the above-described structure forms a capacitor type touch panel circuit in the X-axis sensing layer 2 and the Y-axis sensing layer 4. Therefore, when a finger or a conductor touches or slides lightly on the upper protective layer 1, a capacitor signal is triggered. By detecting and tracking the change in the capacitor signal, it is possible to determine the position touched by the conductor or the finger. In the embodiment of the present invention, the grounded conductive optical resin layer 6 can shield the interference such as EMI and RFI in the outside world, avoid the influence on the operation of the capacitor type touch panel circuit, and generate an erroneous signal. Occurrence can be prevented.

図３に示すように、本考案第二実施例のキャパシタ式タッチパネルは、上方保護層１、X軸感知層２、基板３、Y軸感知層４、下方保護層７、導電性材料薄層８を備える。上記した各層は、順番に重ねて組み合わされ、透明の板体を形成する。上記下タッチパネルの各層１、２、３、４、及び７の特徴は、上記した第一実施例と相同であるため、ここでは再記述は行わない。導電性材料薄層８は、透明に近い薄層で、その面の電気抵抗は10〜10000Ω・cm^-2である。しかも、導電性材料薄層８の片側辺縁は、導電体により接地する。導電薄層は、富士、東レ、或いはグンゼが生産する金属網状構造薄膜などの金属網状構造薄膜を採用することができ、またCima Nano Tech、或いは東レが生産するナノ銀粒蒸着膜などのナノ銀粒蒸着膜を採用することができる。また、常用される導電特性に優れた透明導電薄膜、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化亜鉛アルミニウム(AZO)、或いはポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)などの材質の薄膜を適用することもできるが、実施の範囲を、上記の材料に限定するものではない。本領域技術の習熟者は、上記した下方保護層７の外側表面に、表面硬化処理(Hard Coating)手段を利用し、上記した面電気抵抗特性に符合する導電性薄層を直接設置することができる。本考案実施例では、接地する導電性材料薄層８の設置により、外界のEMI、RFIを効果的に遮蔽することができ、こうしてキャパシタ式タッチパネルの正常な作動を確保することができる。 As shown in FIG. 3, the capacitor-type touch panel according to the second embodiment of the present invention includes an upper protective layer 1, an X-axis sensing layer 2, a substrate 3, a Y-axis sensing layer 4, a lower protective layer 7, and a thin conductive material layer 8. Is provided. Each above-mentioned layer is piled up and combined in order, and forms a transparent board. Since the characteristics of the layers 1, 2, 3, 4, and 7 of the lower touch panel are the same as those of the first embodiment described above, they will not be described again here. The conductive material thin layer 8 is a thin layer that is nearly transparent, and its surface has an electric resistance of 10 to 10,000 Ω · cm ⁻² . In addition, one side edge of the conductive material thin layer 8 is grounded by a conductor. The conductive thin layer can be a metal network thin film such as a metal network thin film produced by Fuji, Toray, or Gunze, and nano silver such as Cima Nano Tech or a nano silver grain deposition film produced by Toray. A grain-deposited film can be employed. In addition, transparent conductive thin films having excellent conductive properties, such as thin films made of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc aluminum oxide (AZO), or polyethylenedioxythiophene (PEDOT). However, the scope of implementation is not limited to the above materials. A person skilled in the art can directly install a thin conductive layer that matches the surface electrical resistance characteristics on the outer surface of the lower protective layer 7 by using a surface coating treatment (Hard Coating) means. it can. In the embodiment of the present invention, the EMI and RFI in the outside world can be effectively shielded by installing the conductive material thin layer 8 to be grounded, and thus the normal operation of the capacitor type touch panel can be ensured.

図４に示す第三実施例に示すように、タッチパネルは、液晶表示モジュール(LCM、Liquid Crystal Display Module)200上に配置して使用する組合せ構造である。タッチパネル１００は、上方保護層１、X軸感知層２、基板３、Y軸感知層４、下方保護層７を備える。上記した各層は、順番に重ねて組み合わされ、キャパシタ式タッチパネルを形成する。導電性光学樹脂層６を使用し、タッチパネル１００を、液晶表示モジュール２００上に全面的にぴったり接着することができ、しかも導電性光学樹脂層６の片側辺縁は、導電体６１により接地する。上記したタッチパネル１００の各層１、２、３、４、７、及び導電性光学樹脂層６の特徴は、上記した第一実施例と相同であるため、ここでは再記述は行わない。本実施例では、接地する導電性光学樹脂層６は、液晶表示モジュール２００のEMI、RFIなど干渉を遮蔽することができ、こうしてタッチパネル１００の作動への影響を回避し、誤信号の発生を避けることができる。こうして、製造プロセスとコストを増やすことなく、タッチパネルに電磁遮蔽の性能を兼ね備えさせることができる。 As shown in the third embodiment shown in FIG. 4, the touch panel is a combination structure used by being placed on a liquid crystal display module (LCM) 200. The touch panel 100 includes an upper protective layer 1, an X-axis sensing layer 2, a substrate 3, a Y-axis sensing layer 4, and a lower protective layer 7. The above-described layers are combined in order to form a capacitor-type touch panel. Using the conductive optical resin layer 6, the touch panel 100 can be adhered to the entire surface of the liquid crystal display module 200, and one side edge of the conductive optical resin layer 6 is grounded by the conductor 61. Since the characteristics of the layers 1, 2, 3, 4, 7 and the conductive optical resin layer 6 of the touch panel 100 described above are similar to those of the first embodiment described above, they will not be described again here. In this embodiment, the conductive optical resin layer 6 to be grounded can shield interference such as EMI and RFI of the liquid crystal display module 200, thus avoiding the influence on the operation of the touch panel 100 and avoiding the generation of an erroneous signal. be able to. In this way, the touch panel can have electromagnetic shielding performance without increasing the manufacturing process and cost.

図５、６に示すように、本考案第四、五実施例のタッチパネル１００は異なる構造を備え、液晶表示モジュール２００上に配置して使用する。図５に示すタッチパネル１００は、上方保護層１、感知電極層９、基板３により組成する。図６に示すタッチパネル１００は、基板３、感知電極層９、下方保護層７により組成する。特に、上記した感知電極層９は、X軸感知電極とY軸感知電極を、同一層の感知電極構造に設置する。タッチパネル１００の各層は、順番に重ねられキャパシタ式タッチパネルを組成し、導電性光学樹脂層６を使用して、タッチパネル１００を液晶表示モジュール２００上に全面的に密着させる。しかも、導電性光学樹脂層６の片側辺縁は、導電体により接地する。上記した第三実施例と同様、接地した導電性光学樹脂層６は、外界のEMI、RFIなどの干渉を遮蔽する効果を備える。 As shown in FIGS. 5 and 6, the touch panels 100 of the fourth and fifth embodiments of the present invention have different structures and are used by being arranged on the liquid crystal display module 200. The touch panel 100 shown in FIG. 5 is composed of the upper protective layer 1, the sensing electrode layer 9, and the substrate 3. The touch panel 100 shown in FIG. 6 is composed of the substrate 3, the sensing electrode layer 9, and the lower protective layer 7. In particular, the sensing electrode layer 9 described above has an X-axis sensing electrode and a Y-axis sensing electrode arranged in the same sensing electrode structure. Each layer of the touch panel 100 is stacked in order to form a capacitor-type touch panel, and the conductive optical resin layer 6 is used to bring the touch panel 100 into full contact with the liquid crystal display module 200. In addition, one side edge of the conductive optical resin layer 6 is grounded by a conductor. As in the third embodiment, the grounded conductive optical resin layer 6 has an effect of shielding interference such as EMI and RFI in the outside world.

以上述べたことは、本考案の実施例にすぎず、本考案の実施の範囲を限定するものではなく、本考案の権利請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本考案の権利のカバーする範囲内に属するものとする。 The above description is only an example of the present invention, and does not limit the scope of the present invention. Any equivalent changes and modifications that can be made based on the scope of the claims of the present invention are all described in the present invention. Shall belong to the scope covered by the rights.

１００タッチパネル
２００液晶表示モジュール
１上方保護層
２ X軸感知層
２２ X軸感知トレース
３基板
４ Y軸感知層
４２ Y軸感知トレース
５絶縁層
６導電性光学樹脂層
７下方保護層
８導電性材料薄層
９感知電極層 100 touch panel 200 liquid crystal display module 1 upper protective layer 2 X axis sensing layer 22 X axis sensing trace 3 substrate 4 Y axis sensing layer 42 Y axis sensing trace 5 insulating layer 6 conductive optical resin layer 7 lower protective layer 8 conductive material thin Layer 9 Sensing electrode layer

Claims

The electromagnetic shielding structure of the transparent capacitor type touch panel includes a capacitor touch sensor, a plurality of insulating layers, and at least one conductive material thin layer,
The capacitor touch sensor is installed by being sandwiched between two insulating layers,
The conductive material thin layer is placed on the side of the capacitor touch sensor facing the source of electromagnetic interference,
Accordingly, the electromagnetic shielding structure of the transparent capacitor type touch panel is characterized in that the thin conductive material layer is installed so as to be grounded and the entire area of the capacitor touch sensor is shielded.

2. The electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel according to claim 1, wherein the surface electrical resistance of the conductive material thin layer is 10 to 10,000 Ω · cm ^−2. .

2. The electromagnetic shielding structure for a transparent capacitor touch panel according to claim 1, wherein the thin conductive material layer is a conductive optical resin.

4. The electromagnetic shielding structure for a transparent capacitor type touch panel according to claim 3, wherein the conductive optical resin contains a PEDOT / PSS copolymer.

2. The electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel according to claim 1, wherein the conductive material thin layer is any one of a metal network thin film and a nano silver grain deposited film. Electromagnetic shielding structure of touch panel.

2. The electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel according to claim 1, wherein the conductive material thin layer is made of indium tin oxide, indium zinc oxide, zinc aluminum oxide, or polyethylenedioxythiophene as a material. An electromagnetic shielding structure for a transparent capacitor type touch panel, which is a conductive thin film.

2. The electromagnetic shielding structure of a transparent capacitor type touch panel according to claim 1, wherein the conductive material thin layer is a transparent conductive film placed on the protective layer by a surface hardening treatment means. Electromagnetic shielding structure of touch panel.

The electromagnetic shielding structure of the transparent capacitor type touch panel is used by being placed on the liquid crystal display module, and is installed between the transparent capacitor type touch panel and the liquid crystal display module using a conductive optical resin layer, and adheres both. Joined together,
The conductive optical resin layer is grounded and installed, and can cover the entire area range of the transparent capacitor type touch panel.
The conductive optical resin layer is a PEDOT / PSS copolymer, and its surface electric resistance is 10 to 10,000 Ω · cm ⁻² .