JP3173490B2 - Perpendicular magnetic recording media - Google Patents

Perpendicular magnetic recording media

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JP3173490B2
JP3173490B2 JP00979199A JP979199A JP3173490B2 JP 3173490 B2 JP3173490 B2 JP 3173490B2 JP 00979199 A JP00979199 A JP 00979199A JP 979199 A JP979199 A JP 979199A JP 3173490 B2 JP3173490 B2 JP 3173490B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高記録密度の磁気
ディスク等として用いられる垂直磁気記録媒体に関す
る。
The present invention relates to a perpendicular magnetic recording medium used as a high recording density magnetic disk or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータやワーク
ステーションの進歩に伴い、扱う情報量が年々増加して
いることからハードディスクドライブの大容量が求めら
れている。その情報蓄積部分である磁気ディスクはさら
なる高面密度化が必要とされている。しかし、現在広く
普及している長手磁気記録方式では、高記録密度を実現
しようとすると、記録ビットの微細化に伴う記録磁化の
熱揺らぎや、記録ヘッドの記録能力を超えかねない媒体
の高保磁力化が問題となってくる。そこで、これらの問
題を解決しつつ、面記録密度を大幅に向上する手段とし
て、垂直磁気記録方式が検討されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of personal computers and workstations, the amount of information to be handled has been increasing year by year, so that a large capacity of a hard disk drive is required. The magnetic disk as the information storage part is required to have a higher areal density. However, in the longitudinal magnetic recording system that is now widely used, in order to achieve high recording density, thermal fluctuation of recording magnetization due to miniaturization of recording bits and high coercive force of the medium that may exceed the recording capacity of the recording head Is a problem. Therefore, a perpendicular magnetic recording system is being studied as a means for solving these problems and greatly improving the areal recording density.

【0003】これを実現する垂直磁気記録媒体の一つと
して、高透磁率の軟磁性膜と高い垂直異方性の垂直磁化
膜からなる垂直磁気記録媒体がある。このような垂直磁
気記録媒体の構成図を図38(A)に示す。
As one of the perpendicular magnetic recording media for realizing this, there is a perpendicular magnetic recording medium comprising a soft magnetic film having a high magnetic permeability and a perpendicular magnetic film having a high perpendicular anisotropy. FIG. 38A shows a configuration diagram of such a perpendicular magnetic recording medium.

【0004】この垂直磁気記録媒体20は、下地軟磁性
膜23および垂直磁化膜24がこの順に基板21上に形
成されたものである。例えば、下地軟磁性膜23として
はNiFe膜、垂直磁化膜24としてはCoCr系合金
膜が用いられる(日本応用磁気学会誌、Vol.8, No.1, 1
984, p17)。
The perpendicular magnetic recording medium 20 has a base soft magnetic film 23 and a perpendicular magnetization film 24 formed on a substrate 21 in this order. For example, a NiFe film is used as the underlying soft magnetic film 23, and a CoCr-based alloy film is used as the perpendicular magnetization film 24 (Journal of the Japan Society of Applied Magnetics, Vol. 8, No. 1, No. 1).
984, p17).

【0005】また、この垂直磁気記録媒体を対象とする
特開平6−28652号公報には、基板上に高透磁率磁
性膜、高透磁率磁性膜、反強磁性膜、反強磁性膜及び垂
直磁化膜を順次形成した垂直磁気記録媒体における記録
再生時において、バルクハウゼンノイズが抑制される反
面、垂直磁化膜と高透磁率磁性膜との間の反強磁性膜の
厚みが記録再生時にスペーシング損失として働いて再生
出力レベルを低下させるので、高透磁率磁性膜の基板側
の面にバイアス磁界付与膜を形成したことが記載されて
いる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-28652, which is directed to this perpendicular magnetic recording medium, discloses a high magnetic permeability magnetic film, a high magnetic permeability magnetic film, an antiferromagnetic film, an antiferromagnetic film, Barkhausen noise is suppressed during recording / reproducing on a perpendicular magnetic recording medium in which magnetic films are sequentially formed, but the thickness of the antiferromagnetic film between the perpendicular magnetic film and the high-permeability magnetic film is increased during recording / reproducing. It is described that a bias magnetic field imparting film is formed on the surface of the high magnetic permeability magnetic film on the substrate side, because it acts as a loss to lower the reproduction output level.

【0006】また、同じく垂直磁気記録媒体を対象とす
る特開平10−228620号公報には、記録再生時の
ノイズ特性及びエンベロープ特性、並びに高記録密度で
の記録再生特性を向上させたもので、1−100Oeの
保持力を有する第一の軟磁性膜と、センダスト膜からな
る第二の軟磁性膜と、垂直磁化膜とがこの順に基板上に
形成されてことが記載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-228620, which also targets a perpendicular magnetic recording medium, discloses an improvement in noise characteristics and envelope characteristics during recording and reproduction, and recording and reproduction characteristics at a high recording density. It describes that a first soft magnetic film having a coercive force of 1-100 Oe, a second soft magnetic film made of a sendust film, and a perpendicular magnetization film are formed on a substrate in this order.

【0007】本発明者等は現在出願中で出願公開前の特
願平09−349810号において、基板と下地軟磁性
膜センダストの間に表面平滑性の良好なクロム膜を挿入
した垂直磁気記録媒体を発明・開示した。この垂直磁気
記録媒体を先行発明の従来媒体と表示して、図38
(B)に示す。この垂直磁気記録媒体30は、Cr結晶
配向制御膜32、FeSiAl下地軟磁性膜33および
CoCr系合金から成る垂直磁化膜34が、この順に基
板31上に形成されたものである。
The present inventors have filed a Japanese Patent Application No. 09-349810, filed before the application, and filed a perpendicular magnetic recording medium in which a chromium film having good surface smoothness is inserted between a substrate and an underlying soft magnetic film Sendust. Was invented and disclosed. This perpendicular magnetic recording medium is referred to as a conventional medium of the prior invention, and FIG.
It is shown in (B). This perpendicular magnetic recording medium 30 has a Cr crystal orientation control film 32, an FeSiAl base soft magnetic film 33, and a perpendicular magnetic film 34 made of a CoCr-based alloy formed on a substrate 31 in this order.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図38(B)
に示した先行発明の従来媒体では、以下の問題が生じて
いた。
However, FIG. 38 (B)
In the conventional medium of the prior invention shown in (1), the following problem has occurred.

【0009】第一の問題は、記録再生の際の媒体ノイズ
が大きい点である。その理由は、Cr膜の結晶粒径が大
きいために、その上に成膜するセンダスト膜およびCo
Cr系磁性膜の結晶粒径も大きくなってしまい。それが
ノイズの発生源になってしまっていた。
A first problem is that medium noise during recording and reproduction is large. The reason is that, since the crystal grain size of the Cr film is large, the sendust film and the Co
The crystal grain size of the Cr-based magnetic film also increases. That was a source of noise.

【0010】第二の問題は、出力の記録密度依存性が悪
い点である。その第一の理由はbcc構造を取るCrの
結晶配向性が悪いために、bcc構造を取るセンダスト
膜の(110)配向が悪くなり、その上に成膜したhc
p構造を取るCoCr合金膜のc軸配向性が悪くなるた
めである。第二の理由は初期層の膜厚が大きいためであ
る。
The second problem is that the output has a poor dependence on the recording density. The first reason is that since the crystal orientation of Cr having a bcc structure is poor, the (110) orientation of a sendust film having a bcc structure is deteriorated, and the hc film formed thereon is deteriorated.
This is because the c-axis orientation of the CoCr alloy film having the p structure is deteriorated. The second reason is that the thickness of the initial layer is large.

【0011】[本発明の目的]本発明の目的は、記録再
生時における媒体ノイズの低減並びに出力の記録密度依
存性を向上させた垂直磁気記録媒体を提供することにあ
る。
It is an object of the present invention to provide a perpendicular magnetic recording medium in which medium noise during recording and reproduction is reduced and output is more dependent on recording density.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の垂直磁気記録媒
体は、基板と下地軟磁性膜の間に、NiAl膜をもつこ
とを特徴とする。結晶粒径が微細かつ均一であるNiA
l膜の挿入により垂直磁化膜のc軸配向性の向上、およ
び結晶子の微細化かつ均一化が可能である。そして低ノ
イズ化および出力の記録密度依存性の向上が実現可能で
ある。
The perpendicular magnetic recording medium according to the present invention is characterized in that a NiAl film is provided between the substrate and the underlying soft magnetic film. NiA with fine and uniform crystal grain size
By inserting the 1 film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made finer and more uniform. Further, it is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0013】また、本発明による上記垂直磁気記録媒体
において、基板と下地軟磁性膜の間に、(NiaAl1-a)100
-b-c-d-eTibMocVdWe (at.%)とするNiAl合金膜をもつこ
とを特徴とする。ただし0.20≦a≦0.80の範囲とする。
また0≦b≦40、0≦c≦40、0≦d≦40、0≦a≦40、かつ0.
1≦b+c+d+e≦40の範囲とする。結晶粒径が微細かつ均一
であるNiAl合金膜の挿入により垂直磁化膜のc軸配
向性の向上、および結晶子の微細化かつ均一化が可能で
ある。そして低ノイズ化および出力の記録密度依存性の
向上が実現可能である。
In the above perpendicular magnetic recording medium according to the present invention, the (NiaAl1-a) 100
It is characterized by having a NiAl alloy film of -bcd-eTibMocVdWe (at.%). However, the range is 0.20 ≦ a ≦ 0.80.
Also 0 ≦ b ≦ 40, 0 ≦ c ≦ 40, 0 ≦ d ≦ 40, 0 ≦ a ≦ 40, and 0.
The range is 1 ≦ b + c + d + e ≦ 40. By inserting a NiAl alloy film having a fine and uniform crystal grain size, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made fine and uniform. Further, it is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0014】また、本発明による上記垂直磁気記録媒体
において、下地軟磁性膜がFeSiAl膜又は、Fe
膜、FeNi膜、FeCo膜であることを特徴とする。
結晶粒径が微細かつ均一であるNiAlまたはNiAl
合金膜の挿入により垂直磁化膜のc軸配向性の向上、お
よび結晶子の微細化かつ均一化が可能である。そして低
ノイズ化および出力の記録密度依存性の向上が実現可能
である。
Further, in the perpendicular magnetic recording medium according to the present invention, the underlying soft magnetic film is made of FeSiAl film or FeSiAl film.
Films, FeNi films and FeCo films.
NiAl or NiAl with fine and uniform crystal grain size
By inserting the alloy film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made finer and more uniform. Further, it is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0015】また、本発明による上記垂直磁気記録媒体
において、下地軟磁性膜がFeSiAl、Fe、FeN
iまたはFeCoにTi、Zr、Nb、Hf、Taまた
はYのうち一種類以上の元素を添加した膜であることを
特徴とする。結晶粒径が微細かつ均一であるNiAlま
たはNiAl合金膜の挿入により垂直磁化膜のc軸配向
性の向上、および結晶子の微細化かつ均一化が可能であ
る。そして低ノイズ化および出力の記録密度依存性の向
上が実現可能である。
Further, in the above perpendicular magnetic recording medium according to the present invention, the underlying soft magnetic film is made of FeSiAl, Fe, FeN.
The film is characterized by being a film in which one or more elements of Ti, Zr, Nb, Hf, Ta or Y are added to i or FeCo. By inserting a NiAl or NiAl alloy film having a fine and uniform crystal grain size, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made fine and uniform. Further, it is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0016】また、本発明による上記垂直磁気記録媒体
において、下地軟磁性膜がFeSiAl、Fe、FeN
iまたはFeCoにN、Si、B、C、AlまたはPの
うち一種類以上の元素を添加した膜であることを特徴と
する。結晶粒径が微細かつ均一であるNiAlまたはN
iAl合金膜の挿入により垂直磁化膜のc軸配向性の向
上、および結晶子の微細化かつ均一化が可能である。そ
して低ノイズ化および出力の記録密度依存性の向上が実
現可能である。
In the above perpendicular magnetic recording medium according to the present invention, the soft magnetic underlayer may be made of FeSiAl, Fe, FeN.
The film is characterized by being a film in which one or more elements of N, Si, B, C, Al or P are added to i or FeCo. NiAl or N with fine and uniform crystal grain size
By inserting the iAl alloy film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made finer and uniform. Further, it is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0017】また、本発明による上記垂直磁気記録媒体
において、下地軟磁性膜がFeSiAl、Fe、FeN
iまたはFeCoにTi、Zr、Nb、Hf、Taまた
はYのうち一種類以上の元素、およびN、Si、B、
C、AlまたはPのうち一種類以上の元素を添加した膜
であることを特徴とする。
Further, in the above perpendicular magnetic recording medium according to the present invention, the underlying soft magnetic film is made of FeSiAl, Fe, FeN.
i or FeCo, one or more of Ti, Zr, Nb, Hf, Ta or Y, and N, Si, B,
It is a film to which one or more elements of C, Al or P are added.

【0018】また、本発明は、基板と下地軟磁性膜と垂
直磁化膜を順次有する垂直磁気記録媒体において、前記
基板と前記下地軟磁性膜の間に、前記垂直磁化膜の結晶
の向きと前記垂直磁化膜の各粒子の径を揃えるように制
御する結晶配向及び粒子径制御膜を有し、前記結晶配向
及び粒子径制御膜は、NiAl膜又はNiAlTi膜で
あることを特徴とする。
Further, according to the present invention, in a perpendicular magnetic recording medium having a substrate, an underlying soft magnetic film and a perpendicular magnetic film in this order, the orientation of the crystal of the perpendicular magnetic film and the orientation of the perpendicular magnetic film are located between the substrate and the underlying soft magnetic film. It has a crystal orientation and particle size control film for controlling the diameter of each particle of the perpendicular magnetization film to be uniform, and the crystal orientation and particle size control film is a NiAl film or a NiAlTi film.
There is a feature.

【0019】また、上記垂直磁気記録媒体において、前
記結晶配向及び粒子径制御膜は、NiAl膜又はNiA
lTi膜であることを特徴とする。
In the above perpendicular magnetic recording medium, the crystal orientation and particle size control film may be a NiAl film or a NiA film.
It is characterized by being an lTi film.

【0020】本発明による垂直磁気記録媒体は、この結
晶粒径が微細かつ均一であるNiAlまたはNiAl合
金膜の挿入により、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、お
よび結晶子の微細化かつ均一化が可能である。そして低
ノイズ化および出力の記録密度依存性の向上が実現可能
である。
In the perpendicular magnetic recording medium according to the present invention, by inserting a NiAl or NiAl alloy film having a fine and uniform crystal grain size, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made fine and uniform. Is possible. Further, it is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】図1は、本発明に関わる垂直磁気
記録媒体の一実施形態を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a perpendicular magnetic recording medium according to the present invention.

【0022】本実施形態に関わる垂直磁気記録媒体は、
結晶粒径が微細かつ均一であるNiAlあるいはNiA
l合金膜からなる結晶配向および粒子径制御層12と、
FeSiAl膜、Fe膜、FeNi膜、FeCo膜に、
Ti、Zr、Nb、Hf、TaまたはYのうち一種類以
上の元素、およびN、Si、B、C、AlまたはPのう
ち一種類以上の元素を添加した膜からなる下地軟磁性膜
13と、CoCr系合金の垂直磁化膜14とが基板11
上に形成されたものである。
The perpendicular magnetic recording medium according to the present embodiment
NiAl or NiA with fine and uniform crystal grain size
a crystal orientation and particle size control layer 12 made of a 1 alloy film;
FeSiAl film, Fe film, FeNi film, FeCo film,
An underlying soft magnetic film 13 made of a film to which one or more elements of Ti, Zr, Nb, Hf, Ta or Y and one or more elements of N, Si, B, C, Al or P are added; And the perpendicular magnetization film 14 of CoCr-based alloy
It is formed above.

【0023】結晶粒径が微細かつ均一であるNiAlあ
るいはNiAl合金膜を基板と軟磁性膜の間に挿入する
ことにより、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、結晶子の
微細化かつ均一化が実現できる。その結果、媒体ノイズ
の低減、出力の記録密度依存性の向上を実現できる。
By inserting a NiAl or NiAl alloy film having a fine and uniform crystal grain size between the substrate and the soft magnetic film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, and the crystallite can be made finer and more uniform. Can be realized. As a result, it is possible to reduce the medium noise and improve the recording density dependency of the output.

【0024】以下に本発明の実施例を示す。以下、特願
平09−349810号における図38(B)の媒体を
敢えて「従来媒体」や「先願媒体」と表現し、本発明に
関わる垂直磁気記録媒体を「本発明媒体」とする。
An embodiment of the present invention will be described below. Hereinafter, the medium of FIG. 38B in Japanese Patent Application No. 09-349810 will be referred to as “conventional medium” or “prior application medium”, and the perpendicular magnetic recording medium according to the present invention will be referred to as “present invention medium”.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明による実施例について、詳細に
説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail.

【0026】[実施例1]本発明の実施例1として、基
板11とする2.5インチのガラス基板上に、スパッタ
法により6インチ直径の50Ni−50Al(at.
%)ターゲットを用いて、結晶配向および粒子径制御層
12のNiAl膜を10nm成膜した。成膜条件は、初
期真空度5×10-7mTorrにおいて、投入電力0.
5kw、アルゴンガス圧5mTorrとした。
[Example 1] As Example 1 of the present invention, a 6-inch diameter 50Ni-50Al (at.
%) Using a target, a 10 nm-thick NiAl film for the crystal orientation and particle size control layer 12 was formed. The film formation conditions are as follows: an initial vacuum degree of 5 × 10 −7 mTorr and an input power of 0.
5 kW and an argon gas pressure of 5 mTorr.

【0027】次に、NiAl膜上に6インチ直径の74
Fe−16Si−10Al(at.%)ターゲットを用
いて、同じ成膜条件で下地軟磁性膜13のFeSiAl
膜を500nm成膜した。それらの上に6インチ直径の
78Co−19Cr−3Ta(at.%)ターゲットを
用いて、同じ成膜条件で垂直磁化膜14のCoCrTa
膜を50nmそれぞれ成膜した。このようにして作製さ
れた媒体を本発明媒体A1とする。また同様の成膜条件
でNiAlターゲットの代わりにCr(3N)ターゲッ
トを用いてCr膜を10nm成膜し、本発明媒体A1と
同様の条件で、FeSiAlおよびCoCrTa膜を成
膜した媒体を従来媒体B1とする。
Next, a 6 inch diameter 74 is formed on the NiAl film.
Using an Fe-16Si-10Al (at.%) Target, the FeSiAl of the underlying soft magnetic film 13 was formed under the same film forming conditions.
A film was formed to a thickness of 500 nm. Using a 6 inch diameter 78Co-19Cr-3Ta (at.%) Target thereon, the CoCrTa of the perpendicular magnetization film 14 was formed under the same film forming conditions.
Films were each formed to a thickness of 50 nm. The medium manufactured in this manner is referred to as medium A1 of the present invention. Under the same film forming conditions, a Cr film was formed to a thickness of 10 nm using a Cr (3N) target instead of the NiAl target, and a medium in which FeSiAl and CoCrTa films were formed under the same conditions as the medium A1 of the present invention was used. B1.

【0028】本発明媒体A1および従来媒体B1の垂直
磁化膜のc軸配向性を調べるために、X線回折を用いて
hcp(002)ピークのロッキングカーブの半値幅を
求めた。Cr膜の代わりにNiAl膜を成膜することに
より、CoCrTa膜のhcp(002)ピークのロッ
キングカーブの半値幅(Δθ50)は6.1度から4.
9度に低減し、垂直磁化膜のc軸配向性が向上した。
In order to examine the c-axis orientation of the perpendicular magnetization films of the medium A1 of the present invention and the conventional medium B1, the half width of the rocking curve of the hcp (002) peak was determined using X-ray diffraction. By forming a NiAl film instead of the Cr film, the half width (Δθ50) of the rocking curve of the hcp (002) peak of the CoCrTa film is changed from 6.1 degrees to 4.
This was reduced to 9 degrees, and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film was improved.

【0029】従来媒体B1および本発明媒体A1の垂直
磁化膜の結晶粒径とその分散を断面透過型電子顕微鏡
(TEM)を用いて調べた。Cr膜の代わりにNiAl
膜を成膜することにより、CoCrTa膜の平均結晶粒
径は28nmから21nmに低減し、結晶粒径の標準偏
差は10nmから7nmに低減し、垂直磁化膜の結晶子
の微細化かつ均一化につながっていることが分かる。
The crystal grain size and dispersion of the perpendicular magnetization films of the conventional medium B1 and the medium A1 of the present invention were examined using a cross-sectional transmission electron microscope (TEM). NiAl instead of Cr film
By forming the film, the average crystal grain size of the CoCrTa film is reduced from 28 nm to 21 nm, the standard deviation of the crystal grain size is reduced from 10 nm to 7 nm, and the crystallite of the perpendicular magnetization film is made finer and more uniform. You can see that they are connected.

【0030】従来媒体B1、本発明媒体A1をID/M
R複合ヘッドで記録再生の実験を行った。ここで、記録
トラック幅は4μm、再生トラック幅は3μm、記録ギ
ャップ長は0.4μm、再生ギャップ長は0.32μm
である。評価は記録電流10mAop、センス電流12
mA、周速度12.7m/s、浮上量45nm、ノイズ
のバンド帯域45MHzの条件下で行った。
The conventional medium B1 and the medium A1 of the present invention are designated by ID / M
An experiment of recording and reproduction was performed with an R composite head. Here, the recording track width is 4 μm, the reproduction track width is 3 μm, the recording gap length is 0.4 μm, and the reproduction gap length is 0.32 μm.
It is. The evaluations were a recording current of 10 mAop and a sense current of 12
mA, a peripheral speed of 12.7 m / s, a flying height of 45 nm, and a noise band band of 45 MHz.

【0031】図2に媒体ノイズの記録密度依存性を示
す。これより、本発明媒体A1は、従来媒体B1に比較
して全記録密度において媒体ノイズが小さく、ノイズ特
性が非常に優れていることが分かる。つまり、Cr膜を
NiAl膜に代えることで、垂直磁化膜のc軸配向性を
向上、および結晶子の微細化かつ均一化がなされ、低ノ
イズ化につながったものと考えられる。
FIG. 2 shows the recording density dependence of the medium noise. From this, it can be seen that the medium A1 of the present invention has smaller medium noise at all recording densities than the conventional medium B1, and has extremely excellent noise characteristics. In other words, it is considered that replacing the Cr film with the NiAl film improved the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film and made the crystallites finer and more uniform, leading to lower noise.

【0032】図3に再生出力信号の記録密度依存性を示
す。従来媒体B1に比べ、本発明媒体A1は記録密度の
増大に伴う出力の減衰が遅く、高記録密度まで高出力を
確保でき、高記録密度の実現が容易となる。これは垂直
磁化膜のc軸配向性の向上が、出力の記録密度依存性の
向上につながったと考えられる。
FIG. 3 shows the recording density dependency of the reproduced output signal. Compared with the conventional medium B1, the medium A1 of the present invention has a slower output attenuation with an increase in recording density, can secure a high output up to a high recording density, and can easily realize a high recording density. This is presumably because the improvement in the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film led to the improvement in the recording density dependency of the output.

【0033】図2及び図3に示すように、本発明媒体A
1は従来媒体B1に比較して全記録密度において媒体S
/Nが良好であり、高記録密度対応の磁気ディスク媒体
として優れている。すなわち本発明媒体A1を用いるこ
とにより、高記録密度の実現が容易となる。
As shown in FIG. 2 and FIG.
1 is the medium S at all recording densities compared to the conventional medium B1.
/ N is good, and is excellent as a magnetic disk medium compatible with high recording density. That is, the use of the medium A1 of the present invention facilitates realization of a high recording density.

【0034】また、本発明媒体A1と同じ作製条件でN
i量が15、20、35、65、80および85at.
%であるNiAlターゲットを用いて作製された媒体
を、それぞれ媒体A2、A3、A4、A5、A6および
A7とする。従来媒体B1および媒体A1からA7の媒
体について、ロッキングカーブの半値幅Δθ50、平均
結晶粒径、結晶粒径の標準偏差、ノイズ電圧、および孤
立波出力電圧の2分の1となる周波数D50を測定し
た。その結果を図4に示す。
Further, under the same manufacturing conditions as the medium A1 of the present invention,
i amount is 15, 20, 35, 65, 80 and 85 at.
The media manufactured using the NiAl target of% are media A2, A3, A4, A5, A6, and A7, respectively. For the conventional medium B1 and the mediums A1 to A7, the half-width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the frequency D50 which is half the solitary wave output voltage are measured. did. FIG. 4 shows the results.

【0035】図4より本発明媒体A3、A4、A5およ
びA6が従来媒体B1よりこれらの特性が優れている。
この理由はNiAl膜のNi含有率が適度であるので、
NiAl膜の結晶性も良く、結晶粒径も小さいことか
ら、垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、さらに結晶子の
微細化および均一化が成されたものと考えられる。
FIG. 4 shows that the media A3, A4, A5, and A6 of the present invention have better characteristics than the conventional media B1.
This is because the Ni content of the NiAl film is moderate.
Since the crystallinity of the NiAl film is good and the crystal grain size is small, it is considered that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved, and further, the crystallite is made finer and more uniform.

【0036】また、比較媒体A2およびA7は、従来媒
体B1よりこれらの特性が劣っている。この理由はNi
Al膜のNi含有率が適度でないので、NiAl膜の結
晶性も悪く、結晶粒径も大きいことから、垂直磁化膜の
c軸配向性が劣化し、かつ結晶粒径が大きくなり、結晶
粒径が不均一になるためである。
The comparative media A2 and A7 are inferior in these characteristics to the conventional medium B1. The reason is Ni
Since the Ni content of the Al film is not appropriate, the crystallinity of the NiAl film is poor and the crystal grain size is large, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is deteriorated, and the crystal grain size is increased. Is non-uniform.

【0037】以上より垂直磁気記録媒体において、基板
と下地軟磁性膜の間の層をCr膜からNiが20at.
%以上、80at.%以下の範囲で含まれるNiAl膜
にすることで、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、結晶子
の微細化かつ均一化、低ノイズ化および出力の記録密度
依存性の向上が実現可能である。
As described above, in the perpendicular magnetic recording medium, the layer between the substrate and the underlying soft magnetic film is made of Cr at 20 at.
% Or more, 80 at. %, The improvement of the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film, the miniaturization and uniformity of crystallites, the reduction of noise, and the improvement of the recording density dependency of output can be realized. is there.

【0038】[実施例2]本発明の実施例2として、基
板11とする3.5インチのAl基板上にスパッタ法に
より6インチ直径の45Ni−45Al−10Ti(a
t.%)ターゲットを用いて、結晶配向および粒子径制
御層12のNiAlTi膜を20nm成膜した。成膜条
件は初期真空度6×10-7mTorrにおいて、投入電
力0.7kw、アルゴンガス圧6mTorrとした。
[Embodiment 2] As Embodiment 2 of the present invention, a 45-inch 45Ni-45Al-10Ti (a) having a diameter of 6 inches was formed on a 3.5-inch Al substrate as the substrate 11 by a sputtering method.
t. %) Using a target, a NiAlTi film of the crystal orientation and particle diameter control layer 12 was formed to a thickness of 20 nm. The film formation conditions were as follows: the initial vacuum degree was 6 × 10 −7 mTorr, the input power was 0.7 kW, and the argon gas pressure was 6 mTorr.

【0039】次に、NiAlTi膜上に6インチ直径の
74Fe−16Si−10Al(at.%)ターゲット
を用いて、同じ成膜条件で下地軟磁性膜13のFeSi
Al膜を500nm成膜した。それらの上に6インチ直
径の78Co−20Cr−2Ta(at.%)ターゲッ
トを用いて、同じ成膜条件で垂直磁化膜14のCoCr
Ta膜を100nmそれぞれ成膜した。
Next, using a 6 inch diameter 74Fe-16Si-10Al (at.%) Target on the NiAlTi film, the FeSi of the underlying soft magnetic film 13 was formed under the same film forming conditions.
An Al film was formed to a thickness of 500 nm. Using a 6-inch diameter 78Co-20Cr-2Ta (at.%) Target thereon, the CoCr of the perpendicular magnetization film 14 was formed under the same film forming conditions.
A 100 nm thick Ta film was formed.

【0040】このようにして作製された媒体を本発明媒
体C1とする。また、同様の成膜条件でNiAlTiタ
ーゲットの代わりにCr(3N)ターゲットを用いてC
r膜を20nm成膜し、本発明媒体C1と同様の条件
で、FeSiAlおよびCoCrTa膜を成膜した媒体
を従来媒体D1とする。
The medium thus manufactured is referred to as a medium C1 of the present invention. Under the same film forming conditions, a Cr (3N) target is used instead of a NiAlTi target to form a C film.
A medium on which an r film is formed to a thickness of 20 nm and a FeSiAl and CoCrTa film is formed under the same conditions as the medium C1 of the present invention is referred to as a conventional medium D1.

【0041】従来媒体D1、本発明媒体C1の垂直磁化
膜のc軸配向性を調べるために、実施例1と同様、X線
回折を用いてhcp(002)ピークのロッキングカー
ブの半値幅を求めた。その結果CoCrTa膜のhcp
(002)ピークのロッキングカーブの半値幅は4.4
度から3.6度に低減し、垂直磁化膜のc軸配向性の向
上につながっていることが分かる。
In order to examine the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the conventional medium D1 and the medium C1 of the present invention, the half width of the rocking curve of the hcp (002) peak was obtained by using X-ray diffraction as in Example 1. Was. As a result, the hcp of the CoCrTa film
(002) The half width of the rocking curve of the peak is 4.4.
It can be seen that the temperature is reduced from 3.6 degrees to 3.6 degrees, which leads to improvement of the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film.

【0042】従来媒体D1、本発明媒体C1の垂直磁化
膜の結晶粒径とその分散を断面TEMを用いて調べた。
Cr膜の代わりにNiAlTi膜を成膜することによ
り、CoCrTa膜の結晶粒径は27nmから21nm
に低減し、結晶粒径の分散は12nmから8nmに低減
し、垂直磁化膜の結晶子の微細化かつ均一化につながっ
ていることが分かる。
The crystal grain size and dispersion of the perpendicular magnetic film of the conventional medium D1 and the medium C1 of the present invention were examined by using a cross-sectional TEM.
By forming a NiAlTi film instead of a Cr film, the crystal grain size of the CoCrTa film is changed from 27 nm to 21 nm.
It can be seen that the dispersion of the crystal grain size is reduced from 12 nm to 8 nm, which leads to the miniaturization and uniformization of the crystallite of the perpendicular magnetization film.

【0043】実施例1と同様に、Cr膜をNiAlTi
膜に代えることで、垂直磁化膜のc軸配向性を向上さ
せ、かつ結晶子の微細化および均一化が成されたものと
考えられる。
As in the first embodiment, the Cr film is formed of NiAlTi
It is considered that by replacing the film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film was improved, and the crystallites were made finer and more uniform.

【0044】従来媒体D1、本発明媒体C1をID/M
R複合ヘッドで記録再生の実験を行った。ヘッド諸元お
よび測定条件は、実施例1と同じである。
The medium D1 of the prior art and the medium C1 of the present invention are referred to as ID / M
An experiment of recording and reproduction was performed with an R composite head. The head specifications and measurement conditions are the same as in the first embodiment.

【0045】図5に媒体ノイズの記録密度依存性を示
す。本発明媒体C1は従来媒体D1と比較して全記録密
度において媒体ノイズが小さく、ノイズ特性が非常に優
れていることが分かる。つまりCr膜をNiAlTi膜
に代えることで、垂直磁化膜のc軸配向性を向上させ、
かつ結晶子の微細化および均一化がなされ、低ノイズ化
につながったものと考えられる。
FIG. 5 shows the recording density dependence of the medium noise. It can be seen that the medium C1 of the present invention has smaller medium noise at all recording densities than the conventional medium D1, and has extremely excellent noise characteristics. That is, by replacing the Cr film with a NiAlTi film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved,
In addition, it is considered that the crystallites were miniaturized and made uniform, which led to a reduction in noise.

【0046】図6に再生出力信号の記録密度依存性を示
す。従来媒体D1に比べ、本発明媒体C1は記録密度の
増大に伴う出力の減衰が遅く、高記録密度まで高出力を
確保でき、高記録密度の実現が容易となる。垂直磁化膜
のc軸配向性の向上が、出力の記録密度依存性の向上に
つながったと考えられる。
FIG. 6 shows the recording density dependence of the reproduced output signal. Compared with the conventional medium D1, the medium C1 of the present invention has a slower output attenuation with an increase in recording density, can secure a high output up to a high recording density, and can easily realize a high recording density. It is considered that the improvement in the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film has led to an improvement in the recording density dependency of the output.

【0047】本発明媒体C1は従来媒体D1と比較する
と、全記録密度において媒体S/Nが良好であり、高記
録密度対応の磁気ディスク媒体として優れている。すな
わち本発明媒体C1を用いることにより、高記録密度の
実現が容易となる。
The medium C1 of the present invention has a good medium S / N at all recording densities as compared with the conventional medium D1, and is excellent as a magnetic disk medium corresponding to a high recording density. That is, the use of the medium C1 of the present invention facilitates realization of a high recording density.

【0048】また、本発明媒体C1と同じ作製条件で4
5Ni−45Al−10Ti(at.%)ターゲットの
代わりに35Ni−35Al−30Ti、30Ni−3
0Al−40Tiおよび28Ni−28Al−44Ti
(at.%)ターゲットを用いて作製された媒体をそれ
ぞれ媒体C2、C3およびC4とする。従来媒体D1お
よび媒体C1からC4について、ロッキングカーブの半
値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標準偏差、ノ
イズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1となる周波
数D50を測定した。その結果を図7に示す。
Further, under the same manufacturing conditions as the medium C1 of the present invention,
35Ni-35Al-30Ti, 30Ni-3 instead of 5Ni-45Al-10Ti (at.%) Target
0Al-40Ti and 28Ni-28Al-44Ti
(At.%) The media manufactured using the targets are referred to as media C2, C3, and C4, respectively. With respect to the conventional medium D1 and the mediums C1 to C4, the half width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the frequency D50 which is half the solitary wave output voltage were measured. FIG. 7 shows the result.

【0049】媒体C2およびC3が従来媒体D1よりこ
れらの特性が優れている。この理由はNiAlへのTi
の添加率が適度であるので、NiAl合金膜の結晶性も
良く、結晶粒径も小さいことから、CoCrTa層の垂
直磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ結晶粒径が微細化
および均一化するためである。
The mediums C2 and C3 are superior in these characteristics to the conventional medium D1. The reason is that Ti to NiAl
Since the addition rate of Ni is appropriate, the crystallinity of the NiAl alloy film is good and the crystal grain size is small, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTa layer is improved, and the crystal grain size is refined and uniform. It is to make it.

【0050】また媒体C4は従来媒体D1よりこれらの
特性が劣っている。この理由はNiAlへのTiの添加
率が多すぎるために、NiAl合金膜の結晶性が悪くな
り、CoCrTa層の垂直磁化膜のc軸配向性が劣化す
るためである。
The medium C4 is inferior in these characteristics to the conventional medium D1. The reason for this is that since the addition ratio of Ti to NiAl is too large, the crystallinity of the NiAl alloy film deteriorates and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTa layer deteriorates.

【0051】以上より垂直磁気記録媒体において、基板
と下地軟磁性膜の間の層をCr膜から(Ni0.50A
l0.50)100−aTia(at.%)膜で、かつ
a≦40とするNiAl合金膜にすることで、垂直磁化
膜のc軸配向性の向上、結晶子の微細化かつ均一化、低
ノイズ化および出力の記録密度依存性の向上が実現可能
である。
As described above, in the perpendicular magnetic recording medium, the layer between the substrate and the underlying soft magnetic film was changed from a Cr film to a Ni0.50A
10.50) By using a 100-a Tia (at.%) film and a NiAl alloy film satisfying a ≦ 40, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film can be improved, the crystallite can be made finer and uniform, and the lowering can be achieved. It is possible to realize noise reduction and to improve the recording density dependency of the output.

【0052】[実施例3]本発明の実施例3として、
3.5インチのAl基板上にスパッタ法により6インチ
直径の(Ni0.67Al0.33)100−aMoa
(at.%)ターゲットを用いて、NiAlMo膜を2
0nm成膜した。成膜条件は初期真空度6×10-7mT
orrにおいて、投入電力0.7kw、アルゴンガス圧
6mTorrとした。次にNiAlMo膜上に6インチ
直径のFe(4N)ターゲットを用いて、同じ成膜条件
でFe膜を500nm成膜した。それらの上に6インチ
直径の76Co−18Cr−1Ta−5Pt(at.
%)ターゲットを用いて、同じ成膜条件でCoCrTa
Pt膜を50nmそれぞれ成膜した。ここでa=10,
31および40とした媒体をそれぞれ本発明媒体C5、
C6、C7とし、a=43とした媒体を比較媒体C8と
する。また媒体C5からC8と同様の成膜条件で、Ni
AlMoターゲットの代わりにCr(3N)ターゲット
を用いてCr膜を20nm成膜し、媒体C5からC8と
同様の条件でFeおよびCoCrTaPt膜を成膜した
媒体を従来媒体D2とする。
Embodiment 3 As Embodiment 3 of the present invention,
6 inch diameter (Ni0.67Al0.33) 100-aMoa on a 3.5 inch Al substrate by sputtering.
(At.%) The NiAlMo film was
0 nm was formed. The film formation conditions are as follows: initial vacuum degree 6 × 10 −7 mT
At orr, the input power was set to 0.7 kw and the argon gas pressure was set to 6 mTorr. Next, a Fe film was formed to a thickness of 500 nm on the NiAlMo film under the same film forming conditions using a 6 inch diameter Fe (4N) target. A 6 inch diameter 76Co-18Cr-1Ta-5Pt (at.
%) Using a target and CoCrTa under the same film forming conditions.
Pt films were each formed to a thickness of 50 nm. Where a = 10,
The media designated 31 and 40 were the media C5 of the present invention, respectively.
The medium where C6 and C7 are set and a = 43 is set as the comparative medium C8. Under the same film forming conditions as those of the media C5 to C8, Ni
A conventional medium D2 is a medium in which a Cr film is formed to a thickness of 20 nm using a Cr (3N) target instead of the AlMo target, and Fe and CoCrTaPt films are formed under the same conditions as the mediums C5 to C8.

【0053】従来媒体D2、本発明媒体C5、C6、C
7および比較媒体C8について、ロッキングカーブの半
値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標準偏差、ノ
イズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1となる周波
数D50を測定した。その結果を図8に示す。これらの
測定方法は実施例1と同様である。
Conventional medium D2, present medium C5, C6, C
For Sample No. 7 and Comparative Medium C8, the half width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the frequency D50 which is half of the solitary wave output voltage were measured. FIG. 8 shows the result. These measuring methods are the same as in Example 1.

【0054】図8より媒体C5、C6およびC7が従来
媒体D2よりこれらの特性が優れている。この理由はN
iAlへのMoの添加率が適度であるので、NiAl合
金膜の結晶性も良く、結晶粒径も小さいことから、Co
CrTaPt層の垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、か
つ結晶粒径が微細化および均一化するためである。
FIG. 8 shows that the mediums C5, C6 and C7 are superior in these characteristics to the conventional medium D2. The reason is N
Since the addition rate of Mo to iAl is moderate, the crystallinity of the NiAl alloy film is good and the crystal grain size is small, so that Co
This is because the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CrTaPt layer is improved, and the crystal grain size is reduced and made uniform.

【0055】また、媒体C8は従来媒体D2よりこれら
の特性が劣っている。この理由はNiAlへのMoの添
加率が多すぎるために、NiAl合金膜の結晶性が悪く
なり、CoCrTaPt層の垂直磁化膜のc軸配向性が
劣化するためである。
The medium C8 is inferior in these characteristics to the conventional medium D2. The reason for this is that the crystallinity of the NiAl alloy film is deteriorated due to the excessive addition ratio of Mo to NiAl, and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTaPt layer is deteriorated.

【0056】以上より垂直磁気記録媒体において、基板
と下地軟磁性膜の間の層をCr膜から(Ni0.67Al0.33)10
0-aMoa (at. %)膜で、かつa≦40とするNiAl合金
膜にすることで、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、結晶
子の微細化かつ均一化、低ノイズ化および出力の記録密
度依存性の向上が実現可能である。
As described above, in the perpendicular magnetic recording medium, the layer between the substrate and the underlying soft magnetic film was changed from the Cr film to (Ni0.67Al0.33) 10
By using a 0-aMoa (at.%) Film and a NiAl alloy film satisfying a ≦ 40, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved, the crystallite is made finer and uniform, the noise is reduced, and the output is reduced. Of the recording density can be improved.

【0057】[実施例4]本発明の実施例4として、
2.5インチのガラス基板上にスパッタ法により6イン
チ直径の(Ni0.33Al0.67)100−a(Ti0.5
0V0.50)a(at.%)ターゲットを用いて、NiAlT
iV膜を10nm成膜した。成膜条件は初期真空度5×
10-7mTorrにおいて、投入電力0.5kw、アル
ゴンガス圧4mTorrとした。次にNiAlTiV膜
上に6インチ直径の80Fe−20Co(at.%)タ
ーゲットを用いて、同じ成膜条件で、FeCo膜を50
0nm成膜した。それらの上に6インチ直径の78Co
−18Cr−4Ta(at.%)ターゲットを用いて、
同じ成膜条件でCoCrTa膜を100nmそれぞれ成
膜した。ここでa=10,30および40とした媒体
を、それぞれ本発明媒体C9、C10およびC11と
し、a=46とした媒体を比較媒体C12とする。また
媒体C9からC12と同様の成膜条件で、NiAlTi
Vターゲットの代わりにCr(3N)ターゲットを用い
てCr膜を10nm成膜し、媒体C9からC12と同様
の条件でFeCoおよびCoCrTa膜を成膜した媒体
を従来媒体D3とする。
Example 4 As Example 4 of the present invention,
A 6-inch diameter (Ni0.33Al0.67) 100-a (Ti0.5) was formed on a 2.5-inch glass substrate by sputtering.
0V0.50) a (at.%) Target and NiAlT
An iV film was formed to a thickness of 10 nm. The film formation conditions were 5 × initial vacuum.
At 10 -7 mTorr, the input power was 0.5 kW and the argon gas pressure was 4 mTorr. Next, using a 6-inch diameter 80Fe-20Co (at.%) Target on the NiAlTiV film, the FeCo film was
0 nm was formed. 6 inch diameter 78Co on them
Using a -18Cr-4Ta (at.%) Target,
Under the same film forming conditions, a CoCrTa film was formed to a thickness of 100 nm. Here, the media with a = 10, 30, and 40 are the mediums C9, C10, and C11 of the present invention, respectively, and the medium with a = 46 is the comparative medium C12. Further, under the same film forming conditions as those of the media C9 to C12, NiAlTi
A conventional medium D3 is a medium in which a Cr film is formed to a thickness of 10 nm using a Cr (3N) target instead of the V target, and FeCo and CoCrTa films are formed under the same conditions as the mediums C9 to C12.

【0058】従来媒体D3、本発明媒体C9、C10お
よびC11および比較媒体C12について、ロッキング
カーブの半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標
準偏差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1
となる周波数D50を測定した。その結果を図9に示
す。これらの測定方法は実施例1と同様である。
With respect to the conventional medium D3, the mediums C9, C10 and C11 of the present invention, and the comparative medium C12, the half width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the solitary wave output voltage were calculated. 1 /
Was measured. FIG. 9 shows the result. These measuring methods are the same as in Example 1.

【0059】図9より本発明媒体C9、C10およびC
11が従来媒体D3よりこれらの特性が優れている。こ
の理由はNiAlへのTiおよびVの添加率が適度であ
るので、NiAl合金膜の結晶性も良く、結晶粒径も小
さいことから、CoCrTa層の垂直磁化膜のc軸配向
性が向上し、かつ結晶粒径が微細化および均一化するた
めである。
FIG. 9 shows that the media C9, C10 and C
No. 11 has these characteristics better than the conventional medium D3. The reason is that the addition ratio of Ti and V to NiAl is moderate, so that the crystallinity of the NiAl alloy film is good and the crystal grain size is small, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTa layer is improved, In addition, the crystal grain size is made finer and uniform.

【0060】また媒体C12は従来媒体D3よりこれら
の特性が劣っている。この理由はNiAlへのTiおよ
びVの添加率が多すぎるために、NiAl合金膜の結晶
性が悪くなり、CoCrTa層の垂直磁化膜のc軸配向
性が劣化するためである。
The medium C12 is inferior in these characteristics to the conventional medium D3. The reason for this is that since the addition ratio of Ti and V to NiAl is too large, the crystallinity of the NiAl alloy film deteriorates and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTa layer deteriorates.

【0061】以上より垂直磁気記録媒体において、基板
と下地軟磁性膜の間の層をCr膜から(Ni0.33Al
0.67)100−a(Ti0.50V0.50)a (at. %)
膜で、かつa≦40とするNiAl合金膜にすること
で、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、結晶子の微細化か
つ均一化、低ノイズ化および出力の記録密度依存性の向
上が実現可能である。
As described above, in the perpendicular magnetic recording medium, the layer between the substrate and the underlying soft magnetic film is changed from the Cr film to the (Ni0.33Al
0.67) 100-a (Ti0.50V0.50) a (at.%)
By using a NiAl alloy film that satisfies a ≦ 40, it is possible to improve the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film, to make crystallites finer and more uniform, to reduce noise, and to improve the recording density dependence of output. It is feasible.

【0062】[実施例5]本発明の実施例5として、
2.5インチのガラス基板上にスパッタ法により6イン
チ直径の(Ni0.50Al0.50)100-a(Mo0.80W0.10)a(at.%)タ
ーゲットを用いて、NiAlMoW膜を15nm成膜し
た。成膜条件は初期真空度4×10-7mTorrにおい
て、投入電力0.4kw、アルゴンガス圧5mTorr
とした。次にNiAlMoW膜上に6インチ直径の90
Fe−10Ni(at.%)ターゲットを用いて、同じ
成膜条件でFeNi膜を500nm成膜した。それらの
上に6インチ直径の78Co−16Cr−3Ta−3P
t(at.%)ターゲットを用いて、同じ成膜条件でC
oCrTaPt膜を60nmそれぞれ成膜した。ここで
a=10,30および40とした媒体を、それぞれ本発
明媒体C13、C14およびC15とし、a=45とし
た媒体を比較媒体C16とする。また媒体C13からC
16と同様の成膜条件で、NiAlMoWターゲットの
代わりにCr(3N)ターゲットを用いてCr膜を15
nm成膜し、媒体C13からC16と同様の条件でFe
NiおよびCoCrTaPt膜を成膜した媒体を従来媒
体D4とする。
Embodiment 5 As Embodiment 5 of the present invention,
A 15-nm NiAlMoW film is formed on a 2.5-inch glass substrate using a 6-inch diameter (Ni0.50Al0.50) 100-a (Mo0.80W0.10) a (at.%) Target by sputtering. did. The film formation conditions are as follows: an initial vacuum degree of 4 × 10 −7 mTorr, an input power of 0.4 kW, and an argon gas pressure of 5 mTorr.
And Next, a 90-inch diameter of 6 inches is formed on the NiAlMoW film.
Using a Fe-10Ni (at.%) Target, a 500 nm FeNi film was formed under the same film forming conditions. 6 inch diameter 78Co-16Cr-3Ta-3P on them
Using the t (at.%) target, C
An oCrTaPt film was formed to a thickness of 60 nm. Here, the media with a = 10, 30, and 40 are the present invention media C13, C14, and C15, respectively, and the media with a = 45 are the comparative media C16. Media C13 to C13
Under the same film forming conditions as in Example 16, a Cr (3N) target was used instead of the NiAlMoW target to form a Cr film
under the same conditions as for the media C13 to C16.
The medium on which the Ni and CoCrTaPt films are formed is referred to as a conventional medium D4.

【0063】従来媒体D4、本発明媒体C13、C14
およびC15および比較媒体C16について、ロッキン
グカーブの半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の
標準偏差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の
1となる周波数D50を測定した。その結果を図10に
示す。これらの測定方法は実施例1と同様である。
Conventional medium D4, present invention media C13, C14
With respect to C15 and C15 and the comparative medium C16, the half width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the frequency D50 which is half the solitary wave output voltage were measured. The result is shown in FIG. These measuring methods are the same as in Example 1.

【0064】図10より本発明媒体C13、C14およ
びC15が従来媒体D4よりこれらの特性が優れてい
る。この理由はNiAlへのMoおよびWの添加率が適
度であるので、NiAl合金膜の結晶性も良く、結晶粒
径も小さいことから、CoCrTaPt層の垂直磁化膜
のc軸配向性が向上し、かつ結晶粒径が微細化および均
一化するためである。
As shown in FIG. 10, the media C13, C14 and C15 of the present invention are superior in these characteristics to the conventional media D4. This is because the addition ratio of Mo and W to NiAl is moderate, the crystallinity of the NiAl alloy film is good, and the crystal grain size is small, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTaPt layer is improved, In addition, the crystal grain size is made finer and uniform.

【0065】また媒体C16は従来媒体D4よりこれら
の特性が劣っている。この理由はNiAlへのMoおよ
びWの添加率が多すぎるために、NiAl合金膜の結晶
性が悪くなり、CoCrTaPt層の垂直磁化膜のc軸
配向性が劣化するためである。以上より垂直磁気記録媒
体において、基板と下地軟磁性膜の間の層をCr膜から
(Ni0.50Al0.50)100-a(Mo0.80W0.10)a (at. %)膜で、か
つa≦40とするNiAl合金膜にすることで、垂直磁
化膜のc軸配向性の向上、結晶子の微細化かつ均一化、
低ノイズ化および出力の記録密度依存性の向上が実現可
能である。
The medium C16 is inferior in these characteristics to the conventional medium D4. The reason for this is that since the addition ratio of Mo and W to NiAl is too large, the crystallinity of the NiAl alloy film deteriorates and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the CoCrTaPt layer deteriorates. Thus, in the perpendicular magnetic recording medium, the layer between the substrate and the underlying soft magnetic film
(Ni0.50Al0.50) 100-a (Mo0.80W0.10) a (at.%) Film and a NiAl alloy film in which a ≦ 40 improves the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film , Miniaturization and uniformization of crystallites,
It is possible to reduce noise and improve the recording density dependency of the output.

【0066】[実施例6]本発明の実施例6として、
2.5インチのガラス基板上にスパッタ法により6イン
チ直径の60Ni−40Al(at.%)ターゲットを
用いて、NiAl膜を15nm成膜した。成膜条件は初
期真空度6×10-7mTorrにおいて、投入電力0.6k
w、アルゴンガス圧4mTorrとした。次にNiAl
膜上に6インチ直径の(Fe0.85Co0.15)100-xZrx (at. %)
ターゲットを用いて、同じ成膜条件でFeCoZr膜を
400nm成膜した。それらの上に6インチ直径の76
Co−17Cr−2Ta−5Pt(at.%)ターゲッ
トを用いて、同じ成膜条件でCoCrTaPt膜を60
nmそれぞれ成膜した。ここでx=0.1、10、20
および30とした媒体を、それぞれ本発明媒体E1、E
2、E3およびE4とし、x=35および40とした媒
体を比較媒体E5およびE6とする。また媒体E1から
E6と同様の成膜条件で、60Ni−40Alターゲッ
トの代わりにCr(3N)ターゲットを用いてCr膜を
15nm成膜し、(Fe0.85Co0.15)100-xZrx(at. %)ター
ゲットを用いてFeCoZr膜を成膜し、その後CoC
rTaPt膜を成膜した。このCr膜を用いた媒体でx
=0.1、10、20、30、35および40とした媒
体を、従来媒体F1、F2、F3、F4、F5およびF
6とする。
Embodiment 6 As Embodiment 6 of the present invention,
A 15-nm NiAl film was formed on a 2.5-inch glass substrate by a sputtering method using a 6-inch diameter 60Ni-40Al (at.%) Target. The film forming conditions are as follows: an initial vacuum degree of 6 × 10 −7 mTorr, and a power of 0.6 k.
w, the argon gas pressure was 4 mTorr. Next, NiAl
6-inch diameter (Fe0.85Co0.15) 100-xZrx (at.%) On the membrane
Using a target, a FeCoZr film was formed to a thickness of 400 nm under the same film forming conditions. 76 inches of 6 inch diameter on them
Using a Co-17Cr-2Ta-5Pt (at.%) Target, a CoCrTaPt film was formed under the same film forming conditions by 60%.
nm. Where x = 0.1, 10, 20
And 30 are the media E1 and E of the present invention, respectively.
2, E3 and E4, and media with x = 35 and 40 are comparative media E5 and E6. Further, under the same film forming conditions as those of the media E1 to E6, a Cr film was formed to a thickness of 15 nm using a Cr (3N) target instead of the 60Ni-40Al target, and (Fe0.85Co0.15) 100-xZrx (at.%). ) A FeCoZr film is formed using a target, and then a CoC
An rTaPt film was formed. In the medium using this Cr film, x
= 0.1, 10, 20, 30, 35, and 40 were replaced with conventional media F1, F2, F3, F4, F5, and F
6 is assumed.

【0067】従来媒体F1からF6、本発明媒体E1か
らE4および比較媒体E5およびE6について、ロッキ
ングカーブの半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径
の標準偏差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分
の1となる周波数D50を測定した。その結果を図1
1,図12に示す。これらの測定方法は実施例1と同様
である。
For the conventional media F1 to F6, the media E1 to E4 of the present invention, and the comparative media E5 and E6, the half width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the solitary wave output voltage Was measured. Figure 1 shows the results.
1, shown in FIG. These measuring methods are the same as in Example 1.

【0068】図11,図12より、本発明媒体E1、E
2、E3およびE4が、それぞれ従来媒体F1、F2、
F3およびF4よりこれらの特性が優れている。この理
由はFeCoへのZrの添加率が適度であるので、結晶
性の良いNiAl膜上のFeCo合金膜の結晶性も良
く、結晶粒径も小さいことから、CoCrTa層の垂直
磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ結晶粒径が微細化お
よび均一化するためである。
From FIG. 11 and FIG. 12, the mediums E1 and E of the present invention are shown.
2, E3 and E4 are conventional media F1, F2,
These properties are superior to F3 and F4. This is because the addition rate of Zr to FeCo is moderate, the crystallinity of the FeCo alloy film on the NiAl film with good crystallinity is good, and the crystal grain size is small. Therefore, the c-axis of the perpendicular magnetization film of the CoCrTa layer is small. This is because the orientation is improved, and the crystal grain size is reduced and uniformized.

【0069】また比較媒体E5およびE6は、それぞれ
従来媒体F5およびF6よりこれらの特性が劣ってい
る。この理由はFeCoへのZrの添加率が多すぎるた
めに、FeCo合金膜の結晶性が悪くなり、CoCrT
a層の垂直磁化膜のc軸配向性が劣化するためである。
Also, the comparative media E5 and E6 are inferior in these characteristics to the conventional media F5 and F6, respectively. This is because the addition rate of Zr to FeCo is too large, and the crystallinity of the FeCo alloy film is deteriorated, and CoCrT
This is because the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film of the a-layer is deteriorated.

【0070】以上より垂直磁気記録媒体の下地軟磁性膜
として、xが0.1以上30以下である(Fe0.85Co0.15)
100-xZrx (at. %)ターゲットを用いてFeCoZr膜を
成膜するとき、基板と下地軟磁性膜の間に60Ni−4
0Al(at.%)ターゲットを用いてNiAl膜を成
膜した媒体の方が、Cr膜を成膜した媒体に比べ、垂直
磁化膜のc軸配向性の向上、結晶子の微細化かつ均一
化、低ノイズ化および出力の記録密度依存性の点で良い
ことがわかる。
As described above, as the underlying soft magnetic film of the perpendicular magnetic recording medium, x is 0.1 or more and 30 or less (Fe0.85Co0.15)
When forming a FeCoZr film using a 100-xZrx (at.%) Target, 60Ni-4
A medium in which a NiAl film is formed using a 0Al (at.%) Target has an improved c-axis orientation of a perpendicular magnetization film and a finer and more uniform crystallite than a medium in which a Cr film has been formed. It can be seen that noise reduction and output density dependence on recording density are good.

【0071】[実施例7]本発明の実施例7として、実
施例6と同様に基板と下地軟磁性膜の間にNiAl合金
膜を成膜した媒体と、同様の条件でCr(3N)ターゲ
ットを用いてCrを成膜した媒体について、下地軟磁性
膜の非磁性添加元素の量を変化させ、ロッキングカーブ
の半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標準偏
差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1とな
る周波数D50を測定した。その結果を図13乃至図1
8に示す。これらの測定方法は実施例1と同様である。
また垂直磁化膜の組成、下地軟磁性膜の組成、NiAl
合金の組成、各層厚、初期真空度、投入電力およびアル
ゴンガス圧は図19に示す。
Seventh Embodiment As a seventh embodiment of the present invention, a medium in which a NiAl alloy film is formed between a substrate and a base soft magnetic film in the same manner as in the sixth embodiment, and a Cr (3N) target under the same conditions For the medium on which Cr was formed by using the method, the amount of the non-magnetic additive element of the underlayer soft magnetic film was changed, and the half width of the rocking curve Δθ50, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the isolation A frequency D50 that is half the wave output voltage was measured. 13 to 1 show the results.
FIG. These measuring methods are the same as in Example 1.
The composition of the perpendicular magnetization film, the composition of the soft magnetic underlayer, NiAl
FIG. 19 shows the composition of the alloy, the thickness of each layer, the initial vacuum degree, the input power, and the argon gas pressure.

【0072】図13乃至図18より、(Fe0.74Si0.16Al
0.10)100-xTix (at. %)、(Fe0.80Ni0.20)100-x(Nb0.50Hf
0.50)x (at. %)およびFe100-x(Ti0.40Ta0.30Y0.30)x (a
t. %)下地軟磁性膜の非磁性元素の添加率x(at.
%)が0.1以上30以下である媒体では、基板と下地
軟磁性膜の間にNiAl合金膜を成膜した媒体の方が、
Cr膜を成膜した媒体に比べ、垂直磁化膜のc軸配向性
の向上、結晶子の微細化かつ均一化、低ノイズ化および
出力の記録密度依存性の点で良いことがわかる。
13 to 18 that (Fe0.74Si0.16Al
0.10) 100-xTix (at.%), (Fe0.80Ni0.20) 100-x (Nb0.50Hf
0.50) x (at.%) And Fe100-x (Ti0.40Ta0.30Y0.30) x (a
t.%) Non-magnetic element addition rate x (at.
%) Is 0.1 to 30, the medium in which the NiAl alloy film is formed between the substrate and the underlying soft magnetic film is
It can be seen that, compared to a medium on which a Cr film is formed, the perpendicular magnetization film has better c-axis orientation, finer and more uniform crystallites, lower noise, and higher output density dependency on recording density.

【0073】この理由は下地軟磁性膜へのTi、Zr、
Nb、Hf、TaおよびYの添加率が適度であるので、
結晶性の良いNiAl合金膜上の下地軟磁性膜の結晶性
も良く、結晶粒径も小さいことから、垂直磁化膜のc軸
配向性が向上し、かつ結晶粒径が微細化および均一化す
るためである。
The reason for this is that Ti, Zr,
Since the addition rates of Nb, Hf, Ta and Y are moderate,
Since the underlying soft magnetic film on the NiAl alloy film having good crystallinity has good crystallinity and a small crystal grain size, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved, and the crystal grain size becomes fine and uniform. That's why.

【0074】また、x(at.%)が30以上である媒
体では、下地軟磁性膜へのTi、Zr、Nb、Hf、T
aおよびYの添加率が多すぎるために、下地軟磁性膜の
結晶性が悪くなり、垂直磁化膜のc軸配向性が劣化する
ためである。
In a medium in which x (at.%) Is 30 or more, Ti, Zr, Nb, Hf, T
This is because if the addition ratios of a and Y are too large, the crystallinity of the underlying soft magnetic film deteriorates, and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film deteriorates.

【0075】[実施例8]本発明の実施例8として、実
施例6と同様に基板と下地軟磁性膜の間にNiAl合金
膜を成膜した媒体と、同様の条件でCr(3N)ターゲ
ットを用いてCrを成膜した媒体について、下地軟磁性
膜の非磁性添加元素の量を変化させ、ロッキングカーブ
の半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標準偏
差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1とな
る周波数D50を測定した。その結果を図20乃至図2
7に示す。これらの測定方法は実施例1と同様である。
また垂直磁化膜の組成、下地軟磁性膜の組成、NiAl
合金の組成、各層厚、初期真空度、投入電力およびアル
ゴンガス圧は図28に示す。
[Eighth Embodiment] As an eighth embodiment of the present invention, as in the sixth embodiment, a medium in which a NiAl alloy film is formed between a substrate and a base soft magnetic film, and a Cr (3N) target under the same conditions For the medium on which Cr was formed by using the method, the amount of the non-magnetic additive element of the underlayer soft magnetic film was changed, and the half width of the rocking curve Δθ50, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and the isolation A frequency D50 that is half the wave output voltage was measured. The results are shown in FIGS.
It is shown in FIG. These measuring methods are the same as in Example 1.
The composition of the perpendicular magnetization film, the composition of the soft magnetic underlayer, NiAl
FIG. 28 shows the composition of the alloy, the thickness of each layer, the initial vacuum degree, the input power, and the argon gas pressure.

【0076】図20乃至図27により、Fe100-xNx(at.
%)、(Fe0.80Co0.20)100-xSix(at. %)、(Fe0.70Ni0.30)100
-x(B0.60Al0.40)x(at. %)およびFe100-x(N0.30C0.50P0.
20)x(at. %)下地軟磁性膜の非磁性元素の添加率x(a
t.%)が0.1以上30以下である媒体では、基板と
下地軟磁性膜の間にNiAl合金膜を成膜した媒体の方
が、Cr膜を成膜した媒体に比べ、垂直磁化膜のc軸配
向性の向上、結晶子の微細化かつ均一化、低ノイズ化お
よび出力の記録密度依存性の点で良いことがわかる。
FIGS. 20 to 27 show that Fe100-xNx (at.
%), (Fe0.80Co0.20) 100-xSix (at.%), (Fe0.70Ni0.30) 100
-x (B0.60Al0.40) x (at.%) and Fe100-x (N0.30C0.50P0.
20) x (at.%) Addition rate of non-magnetic element of the underlying soft magnetic film x (a
t. %) Is 0.1 or more and 30 or less, the medium in which the NiAl alloy film is formed between the substrate and the underlying soft magnetic film has a higher c of the perpendicular magnetization film than the medium in which the Cr film is formed. It can be seen that it is good in terms of improvement of the axial orientation, miniaturization and uniformity of crystallites, reduction of noise, and dependence of output on recording density.

【0077】この理由は下地軟磁性膜へのN、Si、
B、C、AlおよびPの添加率が適度であるので、結晶
性の良いNiAl合金膜上の下地軟磁性膜の結晶性も良
く、結晶粒径も小さいことから、垂直磁化膜のc軸配向
性が向上し、かつ結晶粒径が微細化および均一化するた
めである。
The reason for this is that N, Si,
Since the addition rates of B, C, Al and P are moderate, the crystallinity of the underlying soft magnetic film on the NiAl alloy film with good crystallinity is also good, and the crystal grain size is small. This is because the crystallinity is improved and the crystal grain size is reduced and uniformized.

【0078】また、x(at.%)が30以上である媒
体では、下地軟磁性膜へのN、Si、B、C、Alおよ
びPの添加率が多すぎるために、下地軟磁性膜の結晶性
が悪くなり、垂直磁化膜のc軸配向性が劣化するためで
ある。
In the medium where x (at.%) Is 30 or more, the addition ratio of N, Si, B, C, Al and P to the underlying soft magnetic film is too large, and This is because the crystallinity deteriorates and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film deteriorates.

【0079】[実施例9]本発明の実施例9として、
2.5インチのガラス基板上にスパッタ法により6イン
チ直径の51Ni−46Al−3Ti(at.%)ター
ゲットを用いて、NiAl合金膜を15nm成膜した。
成膜条件は初期真空度6×10-7mTorrにおいて、投入
電力0.5kw、アルゴンガス圧5mTorrとした。
次にNiAl合金膜上に6インチ直径の(Fe0.90Co0.10)
100-x(TayC1-y)x(at. %)ターゲットを用いて、同じ成膜
条件でFeCoTaC膜を500nm成膜した。それら
の上に6インチ直径の79Co−18Cr−3Ta(a
t.%)ターゲットを用いて、同じ成膜条件でCoCr
Ta膜を60nmそれぞれ成膜した。ここでC添加率に
対するTa添加率をy=0.001、0.35、0.6
5および0.999と変化させ、各々のyについてx=
0.1、10、20および30とした媒体のロッキング
カーブの半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標
準偏差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1
となる周波数D50を測定した。その結果を図29,図
30に示す。また同様の作製条件で51Ni−46Al
−3Ti(at.%)ターゲットの代わりにCr(3
N)ターゲットを用いてCr膜を15nm成膜し、同様
の条件でFeCoTaC膜を成膜し、その後CoCrT
a膜を成膜したものについての測定結果も併せて図2
9,図30に示す。
Embodiment 9 As Embodiment 9 of the present invention,
An NiAl alloy film was formed to a thickness of 15 nm on a 2.5-inch glass substrate by sputtering using a 6-inch diameter 51Ni-46Al-3Ti (at.%) Target.
The film forming conditions were as follows: the initial vacuum degree was 6 × 10 −7 mTorr, the input power was 0.5 kW, and the argon gas pressure was 5 mTorr.
Next, a 6-inch diameter (Fe0.90Co0.10) was formed on the NiAl alloy film.
Using a 100-x (TayC1-y) x (at.%) Target, a 500 nm-thick FeCoTaC film was formed under the same film forming conditions. On top of them is a 6 inch diameter 79Co-18Cr-3Ta (a
t. %) Using a target and CoCr under the same film forming conditions
A Ta film was formed to a thickness of 60 nm. Here, the Ta addition rate with respect to the C addition rate is defined as y = 0.001, 0.35, 0.6.
5 and 0.999, and for each y, x =
The half width Δθ50 of the rocking curve of the medium set to 0.1, 10, 20, and 30, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and a half of the solitary wave output voltage
Was measured. The results are shown in FIGS. Also, under the same manufacturing conditions, 51Ni-46Al
Cr (3%) instead of -3Ti (at.%) Target
N) A Cr film was formed to a thickness of 15 nm using a target, a FeCoTaC film was formed under the same conditions, and then a CoCrT film was formed.
FIG. 2 also shows the measurement results of the film formed with the a film.
9, shown in FIG.

【0080】図29,図30により、y=0.001、
0.35、0.65および0.999のすべてにおい
て、(Fe0.90Co0.10)100-x(TayC1-y)x下地軟磁性膜の非
磁性元素の添加率x(at.%)が0.1以上30以下
である媒体では、基板と下地軟磁性膜の間にNiAl合
金膜を成膜した媒体の方が、Cr膜を成膜した媒体に比
べ、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、結晶子の微細化か
つ均一化、低ノイズ化および出力の記録密度依存性の点
で良いことがわかる。
According to FIGS. 29 and 30, y = 0.001,
In all of 0.35, 0.65, and 0.999, the addition rate x (at.%) Of the nonmagnetic element of the (Fe0.90Co0.10) 100-x (TayC1-y) x underlying soft magnetic film is 0. In a medium having a thickness of 1 or more and 30 or less, a medium in which a NiAl alloy film is formed between a substrate and a base soft magnetic film has a higher c-axis orientation of a perpendicular magnetization film than a medium in which a Cr film is formed. It can be seen that this method is good in terms of improvement, miniaturization and uniformity of crystallites, low noise, and dependence of output on recording density.

【0081】この理由は、下地軟磁性膜へのTaおよび
Cの添加率が適度であるので、結晶性の良いNiAl合
金膜上の下地軟磁性膜の結晶性も良く、結晶粒径も小さ
いことから、垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ結
晶粒径が微細化および均一化するためである。
The reason is that, since the addition rates of Ta and C to the underlying soft magnetic film are moderate, the underlying soft magnetic film on the NiAl alloy film having good crystallinity has good crystallinity and a small crystal grain size. This is because the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved, and the crystal grain size is reduced and uniformized.

【0082】また、y=0.001、0.35、0.6
5および0.999のすべてにおいて、x(at.%)
が30以上である媒体では、下地軟磁性膜へのTaおよ
びCの添加率が多すぎるために、下地軟磁性膜の結晶性
が悪くなり、垂直磁化膜のc軸配向性が劣化するためで
ある。
Also, y = 0.001, 0.35, 0.6
5 and 0.999, x (at.%)
Is 30 or more, the Ta and C addition rates of the underlying soft magnetic film are too large, so that the crystallinity of the underlying soft magnetic film deteriorates and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film deteriorates. is there.

【0083】[実施例10]本発明の実施例10とし
て、実施例6と同様に基板と下地軟磁性膜の間にNiA
l合金膜を成膜した媒体と、同様の条件でCr(3N)
ターゲットを用いてCrを成膜した媒体について、下地
軟磁性膜の非磁性添加元素の量を変化させ、ロッキング
カーブの半値幅Δθ50、平均結晶粒径、結晶粒径の標
準偏差、ノイズ電圧、および孤立波出力電圧の2分の1
となる周波数D50を測定した。その結果を図31乃至
図36に示す。これらの測定方法は実施例1と同様であ
る。また垂直磁化膜の組成、下地軟磁性膜の組成、Ni
Al合金の組成、各層厚、初期真空度、投入電力および
アルゴンガス圧は図37に示す。
[Embodiment 10] As Embodiment 10 of the present invention, as in Embodiment 6, NiA was placed between the substrate and the underlying soft magnetic film.
Cr (3N) under the same conditions as the medium on which the
For the medium on which Cr was deposited using the target, the amount of the nonmagnetic additive element in the underlying soft magnetic film was changed, and the half width Δθ50 of the rocking curve, the average crystal grain size, the standard deviation of the crystal grain size, the noise voltage, and 1/2 of solitary wave output voltage
Was measured. The results are shown in FIGS. These measuring methods are the same as in Example 1. Also, the composition of the perpendicular magnetization film, the composition of the underlying soft magnetic film, Ni
FIG. 37 shows the composition of the Al alloy, the thickness of each layer, the initial vacuum degree, the input power, and the argon gas pressure.

【0084】図31乃至図36により、(Fe0.75Co0.25)
100-x(Zr0.40C0.60)x(at. %)、Fe100-x(Nb0.30Y0.10Al0.
40P0.20)x (at. %)および(Fe0.74Si0.16Al0.10)100-x(T
i0.25Hf0.20Si0.15B0.40)x(at. %)下地軟磁性膜の非磁
性元素の添加率x(at.%)が0.1以上30以下で
ある媒体では、基板と下地軟磁性膜の間にNiAl合金
膜を成膜した媒体の方が、Cr膜を成膜した媒体に比
べ、垂直磁化膜のc軸配向性の向上、結晶子の微細化か
つ均一化、低ノイズ化および出力の記録密度依存性の点
で良いことがわかる。
According to FIGS. 31 to 36, (Fe0.75Co0.25)
100-x (Zr0.40C0.60) x (at.%), Fe100-x (Nb0.30Y0.10Al0.
40P0.20) x (at.%) And (Fe0.74Si0.16Al0.10) 100-x (T
i0.25Hf0.20Si0.15B0.40) x (at.%) In a medium in which the non-magnetic element addition rate x (at.%) of the underlying soft magnetic film is 0.1 or more and 30 or less, the substrate and the underlying soft magnetic The medium in which the NiAl alloy film is formed between the films has a higher c-axis orientation of the perpendicular magnetization film, finer and more uniform crystallites, lower noise, than the medium in which the Cr film is formed. It is clear that the output is dependent on the recording density.

【0085】この理由は下地軟磁性膜へのTi、Zr、
Nb、Hf、Ta、Y、N、Si、B、C、Alおよび
Pの添加率が適度であるので、結晶性の良いNiAl合
金膜上の下地軟磁性膜の結晶性も良く、結晶粒径も小さ
いことから、垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ結
晶粒径が微細化および均一化するためである。
The reason for this is that Ti, Zr,
Since the addition rates of Nb, Hf, Ta, Y, N, Si, B, C, Al and P are moderate, the crystallinity of the underlying soft magnetic film on the NiAl alloy film with good crystallinity is good, and the crystal grain size is large. Is also small, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved, and the crystal grain size is refined and uniform.

【0086】また、x(at.%)が30以上である媒
体では、下地軟磁性膜へのTi、Zr、Nb、Hf、T
a、Y、N、Si、B、C、AlおよびPの添加率が多
すぎるために、下地軟磁性膜の結晶性が悪くなり、垂直
磁化膜のc軸配向性が劣化するためである。
In a medium in which x (at.%) Is 30 or more, Ti, Zr, Nb, Hf, T
This is because, because the addition rates of a, Y, N, Si, B, C, Al and P are too large, the crystallinity of the underlying soft magnetic film deteriorates and the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film deteriorates.

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明による垂直磁気記録媒体によれ
ば、Niが20at.%以上80at.%以下の範囲で
含まれるNiAl膜を基板と下地軟磁性膜の間にもつこ
ととしたために、垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、か
つ結晶子の微細化および均一化が成されたものと考えら
れる。したがって媒体ノイズを低下させ、再生出力電圧
の記録密度依存性の向上を図ることができる。
According to the perpendicular magnetic recording medium of the present invention, Ni is 20 at. % At least 80 at. % Or less of the NiAl film between the substrate and the underlying soft magnetic film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film was improved, and the crystallites were refined and uniformized. It is considered something. Therefore, it is possible to reduce medium noise and improve the recording density dependency of the reproduction output voltage.

【0088】また、本発明による垂直磁気記録媒体によ
れば、(NiaAl1-a)100-b-c-d-eTibMocVdWe (at. %)とす
るNiAl合金膜を基板と下地軟磁性膜の間にもつこと
としたために、垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ
結晶子の微細化および均一化が成されたものと考えられ
る。したがって媒体ノイズを低下させ、再生出力電圧の
記録密度依存性の向上を図ることができる。ただし0.
20≦a≦0.80の範囲とする。また0≦b≦40、
0≦c≦40、0≦d≦40、0≦a≦40、かつ0.
1≦b+c+d+e≦40の範囲とする。
According to the perpendicular magnetic recording medium of the present invention, the NiAl alloy film of (NiaAl1-a) 100-bcd-eTibMocVdWe (at.%) Is provided between the substrate and the underlying soft magnetic film. In addition, it is considered that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film was improved, and the crystallites were made finer and more uniform. Therefore, it is possible to reduce medium noise and improve the recording density dependency of the reproduction output voltage. However, 0.
The range is 20 ≦ a ≦ 0.80. 0 ≦ b ≦ 40,
0 ≦ c ≦ 40, 0 ≦ d ≦ 40, 0 ≦ a ≦ 40, and 0.
The range is 1 ≦ b + c + d + e ≦ 40.

【0089】また、本発明による下地軟磁性膜がFeS
iAl膜、Fe膜、FeNi膜またはFeCo膜である
垂直磁気記録媒体において、NiAl合金膜を基板と下
地軟磁性膜の間にもつこととしたために、垂直磁化膜の
c軸配向性が向上し、かつ結晶子の微細化および均一化
が成されたものと考えられる。したがって媒体ノイズを
低下させ、再生出力電圧の記録密度依存性の向上を図る
ことができる。
The underlying soft magnetic film according to the present invention is made of FeS
In a perpendicular magnetic recording medium that is an iAl film, an Fe film, a FeNi film, or an FeCo film, the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved because the NiAl alloy film is provided between the substrate and the underlying soft magnetic film. Further, it is considered that the crystallites were refined and uniformized. Therefore, it is possible to reduce medium noise and improve the recording density dependency of the reproduction output voltage.

【0090】また、本発明による下地軟磁性膜がFeS
iAl、Fe、FeNiまたはFeCoにTi、Zr、
Nb、Hf、TaまたはYのうち、少なくとも一種類以
上の元素を0.1at.%以上、30at.%以下添加
した膜である垂直磁気記録媒体において、NiAl合金
膜を基板と下地軟磁性膜の間にもつこととしたために、
垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ結晶子の微細化
および均一化が成されたものと考えられる。したがって
媒体ノイズを低下させ、再生出力電圧の記録密度依存性
の向上を図ることができる。
The soft magnetic underlayer according to the present invention is made of FeS
Ti, Zr, iAl, Fe, FeNi or FeCo
At least one element of Nb, Hf, Ta or Y is 0.1 at. % Or more, 30 at. % Of the perpendicular magnetic recording medium, which is a film to which the NiAl alloy film is added between the substrate and the underlying soft magnetic film.
It is considered that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film was improved, and the crystallites were made finer and more uniform. Therefore, it is possible to reduce medium noise and improve the recording density dependency of the reproduction output voltage.

【0091】また、本発明による下地軟磁性膜がFeS
iAl、Fe、FeNiまたはFeCoにN、Si、
B、C、AlまたはPのうち、少なくとも一種類以上の
元素を0.1at.%以上、30at.%以下添加した
膜である垂直磁気記録媒体において、NiAl合金膜を
基板と下地軟磁性膜の間にもつこととしたために、垂直
磁化膜のc軸配向性が向上し、かつ結晶子の微細化およ
び均一化が成されたものと考えられる。したがって媒体
ノイズを低下させ、再生出力電圧の記録密度依存性の向
上を図ることができる。
The soft magnetic underlayer according to the present invention is made of FeS
N, Si, iAl, Fe, FeNi or FeCo
B, C, Al or P, at least one element is 0.1 at. % Or more, 30 at. % Of the perpendicular magnetic recording medium, a NiAl alloy film is interposed between the substrate and the underlying soft magnetic film, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved and the crystallite is refined. It is considered that the uniformization was achieved. Therefore, it is possible to reduce medium noise and improve the recording density dependency of the reproduction output voltage.

【0092】また、本発明による下地軟磁性膜がFeS
iAl、Fe、FeNiまたはFeCoにTi、Zr、
Nb、Hf、TaまたはYのうち、少なくとも一種類以
上の元素を0.1at.%以上、30at.%以下添加
し、かつN、Si、B、C、AlまたはPのうち、少な
くとも一種類以上の元素を0.1at.%以上、30a
t.%以下添加した膜である垂直磁気記録媒体におい
て、NiAl合金膜を基板と下地軟磁性膜の間にもつこ
ととしたために、垂直磁化膜のc軸配向性が向上し、か
つ結晶子の微細化および均一化が成されたものと考えら
れる。したがって媒体ノイズを低下させ、再生出力電圧
の記録密度依存性の向上を図ることができる。
The soft magnetic underlayer according to the present invention is made of FeS
Ti, Zr, iAl, Fe, FeNi or FeCo
At least one element of Nb, Hf, Ta or Y is 0.1 at. % Or more, 30 at. % Or less, and at least one element of N, Si, B, C, Al or P is added at 0.1 at. % Or more, 30a
t. % Of the perpendicular magnetic recording medium, a NiAl alloy film is interposed between the substrate and the underlying soft magnetic film, so that the c-axis orientation of the perpendicular magnetization film is improved and the crystallite is refined. It is considered that the uniformization was achieved. Therefore, it is possible to reduce medium noise and improve the recording density dependency of the reproduction output voltage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に関わる垂直磁気記録媒体の一実施形態
を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a perpendicular magnetic recording medium according to the present invention.

【図2】本発明の実施例1における、媒体ノイズの記録
密度依存性を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the recording density dependence of medium noise in Example 1 of the present invention.

【図3】本発明の実施例1における、再生出力信号の記
録密度依存性を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the recording density dependency of a reproduction output signal in Example 1 of the present invention.

【図4】本発明の実施例1における、各層の層厚、媒体
作製条件および測定結果を示す図表である。
FIG. 4 is a table showing the layer thickness of each layer, medium preparation conditions, and measurement results in Example 1 of the present invention.

【図5】本発明の実施例2における、媒体ノイズの記録
密度依存性を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the recording density dependence of medium noise in Example 2 of the present invention.

【図6】本発明の実施例2における、再生出力信号の記
録密度依存性を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the recording density dependency of a reproduced output signal in Example 2 of the present invention.

【図7】本発明の実施例2における、各層の層厚、媒体
作製条件および測定結果を示す図表である。
FIG. 7 is a table showing the layer thickness of each layer, medium manufacturing conditions, and measurement results in Example 2 of the present invention.

【図8】本発明の実施例3における、各層の層厚、媒体
作製条件および測定結果を示す図表である。
FIG. 8 is a table showing the layer thickness of each layer, medium manufacturing conditions, and measurement results in Example 3 of the present invention.

【図9】本発明の実施例4における、各層の層厚、媒体
作製条件および測定結果を示す図表である。
FIG. 9 is a table showing the layer thickness of each layer, medium preparation conditions, and measurement results in Example 4 of the present invention.

【図10】本発明の実施例5における、各層の層厚、媒
体作製条件および測定結果を示す図表である。
FIG. 10 is a table showing the layer thickness of each layer, medium preparation conditions, and measurement results in Example 5 of the present invention.

【図11】本発明の実施例6における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing various measurement results in Example 6 of the present invention.

【図12】本発明の実施例6における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing various measurement results in Example 6 of the present invention.

【図13】本発明の実施例7における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing various measurement results in Example 7 of the present invention.

【図14】本発明の実施例7における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 14 is a graph showing various measurement results in Example 7 of the present invention.

【図15】本発明の実施例7における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing various measurement results in Example 7 of the present invention.

【図16】本発明の実施例7における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 16 is a graph showing various measurement results in Example 7 of the present invention.

【図17】本発明の実施例7における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 17 is a graph showing various measurement results in Example 7 of the present invention.

【図18】本発明の実施例7における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 18 is a graph showing various measurement results in Example 7 of the present invention.

【図19】本発明の実施例7における、各層の層厚、媒
体作製条件を示す図表である
FIG. 19 is a table showing the layer thickness of each layer and medium manufacturing conditions in Example 7 of the present invention.

【図20】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 20 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図21】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 21 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図22】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 22 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図23】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 23 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図24】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 24 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図25】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 25 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図26】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 26 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図27】本発明の実施例8における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 27 is a graph showing various measurement results in Example 8 of the present invention.

【図28】本発明の実施例8における、各層の層厚、媒
体作製条件を示す図表である。
FIG. 28 is a table showing the layer thickness of each layer and medium manufacturing conditions in Example 8 of the present invention.

【図29】本発明の実施例9における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 29 is a graph showing various measurement results in Example 9 of the present invention.

【図30】本発明の実施例9における、各種測定結果を
示すグラフである。
FIG. 30 is a graph showing various measurement results in Example 9 of the present invention.

【図31】本発明の実施例10における、各種測定結果
を示すグラフである。
FIG. 31 is a graph showing various measurement results in Example 10 of the present invention.

【図32】本発明の実施例10における、各種測定結果
を示すグラフである。
FIG. 32 is a graph showing various measurement results in Example 10 of the present invention.

【図33】本発明の実施例10における、各種測定結果
を示すグラフである。
FIG. 33 is a graph showing various measurement results in Example 10 of the present invention.

【図34】本発明の実施例10における、各種測定結果
を示すグラフである。
FIG. 34 is a graph showing various measurement results in Example 10 of the present invention.

【図35】本発明の実施例10における、各種測定結果
を示すグラフである。
FIG. 35 is a graph showing various measurement results in Example 10 of the present invention.

【図36】本発明の実施例10における、各種測定結果
を示すグラフである。
FIG. 36 is a graph showing various measurement results in Example 10 of the present invention.

【図37】本発明の実施例10における、各層の層厚、
媒体作製条件を示す図表である
FIG. 37 is a diagram illustrating a layer thickness of each layer according to the tenth embodiment of the present invention.
4 is a table showing conditions for producing a medium.

【図38】従来の垂直磁気記録媒体を示す概略断面図で
ある。
FIG. 38 is a schematic sectional view showing a conventional perpendicular magnetic recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 垂直磁気記録媒体 11 ガラス基板 12 結晶配向制御膜 13 下地軟磁性膜 14 垂直磁化膜 20 垂直磁気記録媒体 21 ガラス基板 23 下地軟磁性膜 24 垂直磁化膜 30 垂直磁気記録媒体 31 ガラス基板 32 結晶配向制御膜 33 下地軟磁性膜 34 垂直磁化膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Perpendicular magnetic recording medium 11 Glass substrate 12 Crystal orientation control film 13 Underlayer soft magnetic film 14 Perpendicular magnetization film 20 Perpendicular magnetic recording medium 21 Glass substrate 23 Underlayer soft magnetic film 24 Perpendicular magnetization film 30 Perpendicular magnetic recording medium 31 Glass substrate 32 Crystal orientation Control film 33 Underlying soft magnetic film 34 Perpendicular magnetization film

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下地軟磁性膜と垂直磁化膜を有する垂直
磁気記録媒体において、基板と前記下地軟磁性膜の間
に、Niが20at.%以上、80at.%以下の範囲
で含まれるNiAl膜をもつことを特徴とした垂直磁気
記録媒体。
1. A perpendicular magnetic recording medium having an underlayer soft magnetic film and a perpendicular magnetization film, wherein Ni is 20 at. % Or more, 80 at. % Of a perpendicular magnetic recording medium having a NiAl film in the range of not more than 0.1%.
【請求項2】 下地軟磁性膜と垂直磁化膜を有する垂直
磁気記録媒体において、基板と前記下地軟磁性膜の間
に、(NiaAl1-a)100-b-c-d-eTibMocVdWe (at. %)とするN
iAl合金膜を有し、前記aは、0.20≦a≦0.80の範囲と
し、また、0≦b≦40、0≦c≦40、0≦d≦40、0≦a≦40、
かつ0.1≦b+c+d+e≦40の範囲とすることを特徴とする垂
直磁気記録媒体。
2. A perpendicular magnetic recording medium having an underlying soft magnetic film and a perpendicular magnetic film, wherein (NiaAl1-a) 100-bcd-eTibMocVdWe (at.%) Is provided between the substrate and the underlying soft magnetic film.
having an iAl alloy film, a is in the range of 0.20 ≦ a ≦ 0.80, and 0 ≦ b ≦ 40, 0 ≦ c ≦ 40, 0 ≦ d ≦ 40, 0 ≦ a ≦ 40,
A perpendicular magnetic recording medium, wherein 0.1 ≦ b + c + d + e ≦ 40.
【請求項3】 請求項1又は2記載の垂直磁気記録媒体
において、 前記軟磁性膜がFeSiAl膜 、Fe膜、FeNi膜、FeCo膜であ
ることを特徴とした垂直磁気記録媒体。
3. The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the soft magnetic film is a FeSiAl film, an Fe film, a FeNi film, or an FeCo film.
【請求項4】 請求項1又は2記載の垂直磁気記録媒体
において、 前記軟磁性膜が、FeSiAl、Fe、FeNiまたはFeCoに、Ti、
Zr、Nb、Hf、TaまたはYのうち、少なくとも一種類以上
の元素を、0.1at. %以上、30at. %以下添加した膜であ
ることを特徴とした垂直磁気記録媒体。
4. The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the soft magnetic film is made of FeSiAl, Fe, FeNi, or FeCo;
A perpendicular magnetic recording medium characterized by being a film containing at least one element selected from the group consisting of Zr, Nb, Hf, Ta and Y in an amount of 0.1 at.% Or more and 30 at.% Or less.
【請求項5】 請求項1又は2記載の垂直磁気記録媒体
において、 前記軟磁性膜が、FeSiAl、Fe、FeNiまたはFeCoにN、S
i、B、C、AlまたはPのうち、少なくとも一種類以上の元
素を0.1at. %以上、30at. %以下添加した膜であること
を特徴とした垂直磁気記録媒体。
5. The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the soft magnetic film is formed of FeSiAl, Fe, FeNi, or FeCo.
A perpendicular magnetic recording medium comprising a film containing at least one element of i, B, C, Al or P added in an amount of 0.1 at.% or more and 30 at.% or less.
【請求項6】 請求項1又は2記載の垂直磁気記録媒体
において、 前記軟磁性膜が、FeSiAl、Fe、FeNiまたはFeCoにTi、Z
r、Nb、Hf、TaまたはYのうち、少なくとも一種類以上の
元素を0.1at. %以上、30at. %以下添加し、かつN、Si、
B、C、AlまたはPのうち、少なくとも一種類以上の元素
を0.1at. %以上、30at. %以下添加し、かつTi、Zr、N
b、Hf、Ta、Y、N、Si、B、C、AlおよびPの添加量の総和
が0.2at. %以上、30at. %以下の膜であることを特徴と
した垂直磁気記録媒体。
6. The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the soft magnetic film is made of FeSiAl, Fe, FeNi, or FeCo.
r, Nb, Hf, Ta or Y, at least one element is added in an amount of 0.1 at.% or more and 30 at.% or less, and N, Si,
Of B, C, Al or P, at least one element is added in an amount of 0.1 at.% Or more and 30 at.% Or less, and Ti, Zr, N
A perpendicular magnetic recording medium characterized in that the total amount of b, Hf, Ta, Y, N, Si, B, C, Al and P is 0.2 at.% or more and 30 at.% or less.
【請求項7】 基板と下地軟磁性膜と垂直磁化膜を順次
有する垂直磁気記録媒体において、前記基板と前記下地
軟磁性膜の間に、前記垂直磁化膜の結晶の向きと前記垂
直磁化膜の各粒子の径を揃えるように制御する結晶配向
及び粒子径制御膜を有し、 前記結晶配向及び粒子径制御膜は、NiAl膜又はNi
AlTi膜であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
7. A perpendicular magnetic recording medium having a substrate, an underlying soft magnetic film, and a perpendicular magnetic film in this order, wherein the direction of the crystal of the perpendicular magnetic film and the orientation of the perpendicular magnetic film are located between the substrate and the underlying soft magnetic film. A crystal orientation and particle diameter control film for controlling the diameter of each particle to be uniform, wherein the crystal orientation and particle diameter control film is a NiAl film or Ni
A perpendicular magnetic recording medium characterized by being an AlTi film .
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