JP3170914B2 - Thin film solar cell and method of manufacturing the same - Google Patents

Thin film solar cell and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP3170914B2
JP3170914B2 JP32707492A JP32707492A JP3170914B2 JP 3170914 B2 JP3170914 B2 JP 3170914B2 JP 32707492 A JP32707492 A JP 32707492A JP 32707492 A JP32707492 A JP 32707492A JP 3170914 B2 JP3170914 B2 JP 3170914B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit cell
electrode
substrate
insulating substrate
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP32707492A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH06177408A (en
Inventor
清雄 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP32707492A priority Critical patent/JP3170914B2/en
Publication of JPH06177408A publication Critical patent/JPH06177408A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3170914B2 publication Critical patent/JP3170914B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、接合を有する半導体膜
とその両面に接する電極層からなるユニットセルを同一
基板上に複数個形成し、直列接続してなる薄膜太陽電池
およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin-film solar cell in which a plurality of unit cells each comprising a semiconductor film having a junction and electrode layers in contact with both surfaces thereof are formed on the same substrate and connected in series, and a method of manufacturing the same. .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体薄膜、特に原料ガスのグロー放電
分解や光CVDにより形成できるアモルファス半導体薄
膜は、気相成長法で形成できるため、大面積化が容易で
ある。従って、このような半導体薄膜を利用して光電変
換を行う太陽電池は、低コストの太陽電池として期待さ
れている。こうした薄膜太陽電池は、太陽光を入射する
側にSnO2 膜やZnO膜のような透明導電材料からなる透
明な電極を設けている。しかし、このような透明な電極
は、シート抵抗が大きいために、その電極を流れる電流
による電力損失が大きくなってしまう。そこで、前記太
陽電池を複数個のユニットセルに分割し、分割した太陽
電池の隣接するユニットセルを電気的に接続する構造を
とっている。
2. Description of the Related Art A semiconductor thin film, particularly an amorphous semiconductor thin film which can be formed by glow discharge decomposition of a source gas or photo-CVD can be formed by a vapor phase growth method, so that it is easy to increase the area. Therefore, a solar cell that performs photoelectric conversion using such a semiconductor thin film is expected as a low-cost solar cell. Such a thin-film solar cell is provided with a transparent electrode made of a transparent conductive material such as a SnO 2 film or a ZnO film on the side where sunlight enters. However, since such a transparent electrode has a large sheet resistance, a power loss due to a current flowing through the electrode increases. Therefore, the solar cell is divided into a plurality of unit cells, and a unit cell adjacent to the divided solar cell is electrically connected.

【0003】図3はそのような薄膜太陽電池を示し、こ
れは、ガラスや透明高分子フィルムなどの透光性絶縁基
板10上に酸化すずやITO、ZnOなどの透明導電材料の
薄膜からなる透明電極21、22、23─を短冊状に形成し、
その上に光起電力発生部であるアモルファス半導体薄膜
領域31、32、33─を、次いでAlやAgなどの金属薄膜から
なる金属電極41、42、43─を形成したものである。透明
電極21、アモルファス半導体薄膜31および金属電極41の
組合わせ、透明電極22、アモルファス半導体薄膜32およ
び金属電極42の組合わせ等が各ユニットセルを構成す
る。そして、一つのユニットセルの金属電極の延長部が
隣接するユニットセルの透明電極の縁部と接触して接続
部51、52、53─が生ずるように両電極およびアモルファ
ス半導体薄膜のパターンが形成されて、各ユニットセル
は直列に接続される。また、端部のユニットセルの透明
電極21の延長部上に金属薄膜からなる取り出し端子電極
6が設けられている。
FIG. 3 shows such a thin-film solar cell, which is a transparent electrode made of a thin film of a transparent conductive material such as tin oxide or ITO or ZnO on a transparent insulating substrate 10 such as glass or a transparent polymer film. 21, 22, 23─ formed into a strip shape,
Amorphous semiconductor thin film regions 31, 32, and 33 #, which are photovoltaic power generation sections, are formed thereon, and metal electrodes 41, 42, and 43 # made of a metal thin film such as Al or Ag are formed thereon. The combination of the transparent electrode 21, the amorphous semiconductor thin film 31, and the metal electrode 41, the combination of the transparent electrode 22, the amorphous semiconductor thin film 32, and the metal electrode 42 constitute each unit cell. Then, the pattern of both electrodes and the amorphous semiconductor thin film is formed such that the extension of the metal electrode of one unit cell comes into contact with the edge of the transparent electrode of the adjacent unit cell to form the connection portions 51, 52, 53 °. Thus, each unit cell is connected in series. Further, an extraction terminal electrode 6 made of a metal thin film is provided on an extension of the transparent electrode 21 of the end unit cell.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】直列接続のためのユニ
ットセル間の接続導体および絶縁間隙部分Aならびに両
端のユニットセルからの取出し端子導体および絶縁間隙
部分Bは太陽電池の発電に寄与しないため、できるだけ
その面積が小さいことが望ましい。しかし、直列接続お
よび取出し端子のための導体部分の面積を小さくするた
めには、高精度のパターニング技術および配線技術が必
要であり、そのために製造コストが高くなってしまうと
いう問題があった。
The connecting conductors and insulating gap portions A between the unit cells for series connection and the terminal conductors and insulating gap portions B taken out from the unit cells at both ends do not contribute to power generation of the solar cell. It is desirable that the area be as small as possible. However, in order to reduce the area of the conductor portion for the serial connection and the lead-out terminal, a high-precision patterning technique and a wiring technique are required, which causes a problem that the manufacturing cost is increased.

【0005】本発明の目的は、この問題を解決し、直列
接続あるいは取出し端子のために発電有効面積が減少し
ない薄膜太陽電池およびその製造方法を提供することに
ある。
An object of the present invention is to solve this problem and to provide a thin-film solar cell in which the effective power-generating area is not reduced because of a series connection or a lead-out terminal, and a method of manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明によれば、透光性絶縁基板上に基板側から
透明電極、接合を有する半導体薄膜、裏面電極を積層し
てなる発電領域であるユニットセルが非発電領域である
所定の間隙を介して複数個形成され、その間隙において
一つのユニットセルの透明電極に隣接ユニットセルの裏
面電極を接続することにより各ユニットセルが直列接続
されるとともに、各ユニットセルが平行に配列された薄
膜太陽電池において、ユニットセルを表面に有する絶縁
基板の表面と、ユニットセル間を接続する電極層を表面
に有する絶縁基板の表面とが、90°以下の鋭角をなす
ように絶縁基板が折り曲げられて成り、接合を有する半
導体薄膜は、ユニットセルを表面に有する絶縁基板から
ユニットセル間を接続する電極層を表面に有する絶縁基
板には延在せず、以て接合を有する半導体薄膜には折り
曲げ部分が存在しないものとする。ここで、一方の端部
のユニットセルの電極に接続される端子電極を表面に有
する絶縁基板の表面と、この一方の端部のユニットセル
を表面に有する絶縁基板の表面とが、90°以下の鋭角
をなし、他方の端部のユニットセルの電極に接続される
端子電極を表面に有する絶縁基板の表面と、この他方の
端部のユニットセルを表面に有する絶縁基板の表面と
が、90°以上の鈍角をなすことが有効である。そし
て、このような薄膜太陽電池の製造方法は、透光性で可
とう性を有する絶縁基板上に複数個のユニットセルを間
隙を介して形成し、各ユニットセルを直列接続したの
ち、基板を折り曲げるものとする。または、透光性で可
とう性を有する絶縁基板上に複数個のユニットセルを間
隙を介して形成し、ユニットセルの一方の電極上に接続
導体を接触させたのち、基板を折り曲げてその接続導体
を隣接ユニットセルの他方の電極に接触させるものとす
る。さらに、端部のユニットセルの透明電極に端子導体
を接続したのち、基板を折り曲げること、あるいは端部
のユニットセルに近接して基板上に端子導体を形成し、
基板を折り曲げてその端子導体を端部のユニットセルの
一方の電極に接触させることが有効である。また、基板
に高分子材料からなる透光性フィルムを用い、レーザ光
を照射してフィルムに機械的に弱い線状部分を形成した
のち、その部分で折り曲げることが有効である。
According to the present invention, in order to achieve the above object, a transparent electrode, a semiconductor thin film having a junction, and a back surface electrode are laminated on a transparent insulating substrate from the substrate side. A plurality of unit cells, which are power generation regions, are formed via a predetermined gap which is a non-power generation region, and each unit cell is connected in series by connecting a back electrode of an adjacent unit cell to a transparent electrode of one unit cell in the gap. is connected, in a thin-film solar cells each unit cell are arranged in parallel, the surface of the insulation substrate that Yusuke and the surface of the insulating substrate having a unit cell on the surface, the electrode layer for connecting the unit cells to the surface DOO is Ri formed by bending the insulating substrate at an acute angle of 90 ° or less, a semi having a junction
Conductive thin film is obtained from an insulating substrate with a unit cell on the surface.
Insulating base with electrode layer on the surface to connect between unit cells
It does not extend to the plate, so it folds into a semiconductor thin film with a junction.
It is assumed that there is no bent portion. Here, the surface of the insulating substrate having the terminal electrode connected to the electrode of the unit cell at one end on the surface and the surface of the insulating substrate having the unit cell on the one end on the surface are 90 ° or less. And the surface of the insulating substrate having a terminal electrode on the surface thereof, the terminal electrode being connected to the electrode of the unit cell at the other end, and the surface of the insulating substrate having the unit cell at the other end being 90 ° It is effective to form an obtuse angle of not less than °. In such a method for manufacturing a thin-film solar cell, a plurality of unit cells are formed on a light-transmitting and flexible insulating substrate through a gap, and after connecting each unit cell in series, the substrate is formed. It shall be bent. Alternatively, a plurality of unit cells are formed on a light-transmitting and flexible insulating substrate with a gap therebetween, and a connection conductor is brought into contact with one electrode of the unit cell, and then the substrate is bent and the connection is performed. The conductor is to be brought into contact with the other electrode of the adjacent unit cell. Furthermore, after connecting the terminal conductor to the transparent electrode of the end unit cell, the substrate is bent, or a terminal conductor is formed on the substrate in proximity to the end unit cell,
It is effective to bend the substrate and bring its terminal conductor into contact with one electrode of the unit cell at the end. In addition, it is effective to use a light-transmitting film made of a polymer material for the substrate, irradiate a laser beam to form a mechanically weak linear portion on the film, and then bend the film at that portion.

【0007】[0007]

【作用】本発明においては、請求項1に記載の構成を採
用することにより、入射光に対する無効面積を極力減少
させることができる。そのような基板面の角度の変更
は、可とう性基板を用いて折り曲げることにより可能
で、特にプラスチックフィルムを基板としてレーザ光照
射により線状に機械的に弱くすることにより簡単にでき
る。
According to the present invention, by adopting the structure of the first aspect, the ineffective area for incident light can be reduced as much as possible. Such a change in the angle of the substrate surface can be attained by bending using a flexible substrate, and in particular, can be easily achieved by using a plastic film as a substrate and mechanically weakening it linearly by laser beam irradiation.

【0008】[0008]

【実施例】以下、図3と共通の部分に同一の符号を付し
た図を引用して本発明の実施例について述べる。図1に
示す実施例では、透光性絶縁基板1が光入射面11と、そ
れと60°の角度をなす光非入射面12とを有するように
鋸歯状に折り曲げられ、入射光7と120°の角度をもつ
光入射面11の背後には、透明電極21、22、23、24、アモ
ルファスシリコン (以下a−Siと記す) 薄膜31、32、3
3、34、金属電極41、42、43、44から形成される4個の
ユニットセルが存在する。そして、入射光7と平行の光
非入射面12の背後には、例えば透明電極22の延長部上に
金属電極41が接触して接続部51を形成するように接続部
51、52、53が存在する。また、基板1の一方の端部の光
非入射面12の背後には、透明電極21の延長部に接触する
端子電極61が金属薄膜により形成されている。基板1の
他方の端部の光非入射面12の端面上には、この面12に平
行に基板1に入射する光7を発電に利用するために、透
明電極25、a−Si薄膜35、金属電極45からなるサブ・ユ
ニットセルが形成されており、その金属電極45は光非入
射面12上に延びて端子電極62となっている。この太陽電
池では、光7はユニットセル相互の接続部51、52、53お
よび端子電極61、62には入射しないので、面積効率が向
上した。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings in which parts common to those in FIG. In the embodiment shown in FIG. 1, the light-transmitting insulating substrate 1 is bent in a sawtooth shape so as to have a light incident surface 11 and a light non-incident surface 12 forming an angle of 60 ° with the light incident surface 11, and the incident light 7 and 120 ° Behind the light incident surface 11 having an angle of?, Transparent electrodes 21, 22, 23, 24, amorphous silicon (hereinafter a-Si) thin films 31, 32, 3
There are four unit cells formed from 3, 34 and metal electrodes 41, 42, 43, 44. Behind the light non-incident surface 12 parallel to the incident light 7, for example, the connecting portion 51 is formed so that the metal electrode 41 contacts the extension of the transparent electrode 22 to form the connecting portion 51.
There are 51, 52, 53. Behind the light non-incident surface 12 at one end of the substrate 1, a terminal electrode 61 which is in contact with an extension of the transparent electrode 21 is formed of a metal thin film. On the end surface of the light non-incident surface 12 at the other end of the substrate 1, the transparent electrode 25, the a-Si thin film 35, A sub-unit cell including a metal electrode 45 is formed, and the metal electrode 45 extends on the light non-incidence surface 12 to serve as a terminal electrode 62. In this solar cell, since the light 7 does not enter the connection parts 51, 52, 53 between the unit cells and the terminal electrodes 61, 62, the area efficiency is improved.

【0009】図2は図1の太陽電池の基板1を折り曲げ
る前の状態を示す。すなわち、可とう性を有するポリエ
チレンフタレート (PET) フィルムを用いた透光性絶
縁基板上に透明電極21、22─、a−Si膜31、32─、金属
電極41、42─を積層してユニットセルを形成する。そし
て、金属電極を延長して隣接ユニットセルの透明電極に
接触させておく。3層構造をとるユニットセルの幅は20
〜30mm程度であり、その間に存在する接続部51、52─の
幅dは10mm以上ある。図2に示す従来構造の場合、この
幅dは発電無効面積Aとなるため、その値も100 μm以
下に抑えなければならなかった。それ故、従来は膜だれ
のために透明電極21、22─をマスクを用いたスパッタリ
ングで形成することができず、全面スパッタ後パターニ
ングしなければならなかった。しかし、この実施例では
dの値が大きいため、マスク形成が可能となった。同様
に、a−Si膜31、32─をマスクを用いるプラズマCVD
法で、金属電極41、42─をマスクを用いるAlスパッタリ
ングで形成することができ、レーザパターニングが不要
となって製造コストを低減することができた。このあ
と、フィルム1の折り曲げ箇所81、82、83─に、フィル
ム表面側から、あるいはユニットセル側からレーザ光を
照射する。このレーザ光照射による熱で厚さ80μm程度
のフィルムに数μm程度の幅の熱影響部を生じ、溶融を
伴う熱収縮によりフィルムが折れ曲がりやすくなる。そ
こで、力を加えれば容易に任意の角度まで折り曲げるこ
とができ、図1に示す形状となる。
FIG. 2 shows a state before the substrate 1 of the solar cell of FIG. 1 is bent. That is, a transparent electrode 21, 22─, an a-Si film 31, 32─, and metal electrodes 41, 42─ are laminated on a transparent insulating substrate using a flexible polyethylene phthalate (PET) film to form a unit. Form cells. Then, the metal electrode is extended and brought into contact with the transparent electrode of the adjacent unit cell. The width of a unit cell with a three-layer structure is 20
The width d of the connecting portions 51, 52 # existing therebetween is 10 mm or more. In the case of the conventional structure shown in FIG. 2, since the width d is the power generation invalid area A, the value has to be suppressed to 100 μm or less. Therefore, conventionally, the transparent electrodes 21 and 22 # cannot be formed by sputtering using a mask because of the film, and patterning must be performed after the entire surface is sputtered. However, in this embodiment, since the value of d was large, mask formation became possible. Similarly, plasma CVD using a-Si films 31, 32 # as a mask
By the method, the metal electrodes 41 and 42 # can be formed by Al sputtering using a mask, so that laser patterning is not required and the manufacturing cost can be reduced. Thereafter, laser light is applied to the bent portions 81, 82 and 83 of the film 1 from the film surface side or from the unit cell side. The heat of the laser beam irradiation causes a heat-affected zone having a width of about several μm in a film having a thickness of about 80 μm, and the film is easily bent due to heat shrinkage accompanied by melting. Therefore, it can be easily bent to an arbitrary angle by applying a force, and the shape shown in FIG. 1 is obtained.

【0010】図4に示す実施例では、基板1は、光入射
面11とそれと90°および 0°の角度をなす光非入射面1
2と光非入射面13とを有し、光非入射面13は光入射面11
の一部に重なっていて階段状に成形されている。この場
合は、接続部51、52に金属電極41、42、43と別個の接続
用電極91、92が形成され、この電極91が金属電極41およ
び透明電極22の延長部に、電極92が金属電極42および透
明電極23の延長部にそれぞれ接触することによりユニッ
トセルの直列接続が行われている。この薄膜太陽電池で
も、接続用電極91、92および端子電極62には太陽光7は
入射せず、面積効率が向上した。
In the embodiment shown in FIG. 4, the substrate 1 has a light incident surface 11 and a light non-incident surface 1 at an angle of 90 ° and 0 ° with the light incident surface 11.
2 and a light non-incident surface 13, and the light non-incident surface 13 is a light incident surface 11
And is formed in a step-like shape. In this case, connection electrodes 91, 92 that are separate from the metal electrodes 41, 42, 43 are formed on the connection portions 51, 52, and this electrode 91 is an extension of the metal electrode 41 and the transparent electrode 22, and the electrode 92 is a metal. The unit cells are connected in series by contacting the extended portions of the electrode 42 and the transparent electrode 23, respectively. Also in this thin-film solar cell, the sunlight 7 did not enter the connection electrodes 91 and 92 and the terminal electrode 62, and the area efficiency was improved.

【0011】図5は図4の太陽電池の基板1を折り曲げ
る前の状態を示し、この場合もユニットセル間の間隙の
幅dが10mm以上と大きいので、PETフィルム1の上に
透明電極21、22─、a−Si膜31、32─および裏面電極4
1、42─をマスク形成することができた。そして、その
ユニットセル間の間隙において透明電極21、22の延長部
に接触する端子電極61、62 (この図には示されていな
い)および接続用電極91、92─をはんだの超音波ろう付
けで形成した。このあと、折り曲げ箇所84、85、86など
にレーザ光照射して折り曲げ、はんだ電極91、92および
62を裏面電極41、42および43に接触させてはんだ付けし
た。このはんだ電極61、62および91、92の代わりに導電
性テープを用いてもよい。また、裏面電極41、42と同時
にAlのスパッタリングによりマスク形成してもよい。
FIG. 5 shows a state before the substrate 1 of the solar cell shown in FIG. 4 is bent. Also in this case, the width d of the gap between the unit cells is as large as 10 mm or more. 22 °, a-Si films 31, 32 ° and back electrode 4
1,42─ could be formed as a mask. Then, the terminal electrodes 61, 62 (not shown in this figure) and the connection electrodes 91, 92─ which are in contact with the extensions of the transparent electrodes 21, 22 in the gap between the unit cells are ultrasonically brazed with solder. Formed. Thereafter, the bending portions 84, 85, 86, etc. are irradiated with laser light and bent, and the solder electrodes 91, 92 and
62 was soldered in contact with the back electrodes 41, 42 and 43. A conductive tape may be used instead of the solder electrodes 61, 62 and 91, 92. Also, a mask may be formed by sputtering Al at the same time as the back electrodes 41 and 42.

【0012】以上の実施例では絶縁基板1としてPET
フィルムを用いたが、ポリエチレンナフタレート (PE
N) 、ポリエーテルサルフオン (PES) あるいはポリ
ふっ化ビニル (PVF) 等のプラスチックフィルムを用
いることもできる。
In the above embodiment, the insulating substrate 1 is made of PET.
A film was used, but polyethylene naphthalate (PE
A plastic film such as N), polyethersulfone (PES) or polyvinyl fluoride (PVF) can also be used.

【0013】[0013]

【発明の効果】本発明によれば、透光性絶縁基板を鋸歯
状あるいは階段状に成形することにより、発電に寄与し
ないユニットセル間の接続部および取り出し端子部を受
光面の裏側に移すことができ、単位面積当たりの発電電
力の増大した薄膜太陽電池を得ることができた。このよ
うな絶縁基板の成形は、高分子材料などからなる可とう
性基板を、レーザ光照射などを用いて折り曲げ加工する
ことにより容易にでき、またユニットセル間の間隙を広
くすることができるため、マスク成形を用いてのユニッ
トセルの形成が可能となるので、複雑なレーザパターニ
ング工程が不要となり、薄膜太陽電池の製造コストの低
減が可能となった。
According to the present invention, the connection portion between the unit cells which does not contribute to power generation and the extraction terminal portion are moved to the back side of the light receiving surface by forming the translucent insulating substrate into a saw-tooth shape or a step shape. As a result, a thin-film solar cell with increased power generation per unit area was obtained. Such an insulating substrate can be easily formed by bending a flexible substrate made of a polymer material or the like by using a laser beam irradiation or the like, and also can widen a gap between unit cells. In addition, since unit cells can be formed using mask molding, a complicated laser patterning step is not required, and the manufacturing cost of a thin-film solar cell can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の薄膜太陽電池の断面図FIG. 1 is a cross-sectional view of a thin-film solar cell according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1の薄膜太陽電池の基板成形前における断面
FIG. 2 is a cross-sectional view of the thin-film solar cell of FIG. 1 before forming a substrate.

【図3】従来の薄膜太陽電池の断面図FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional thin-film solar cell.

【図4】本発明の別の実施例の薄膜太陽電池の断面図FIG. 4 is a cross-sectional view of a thin-film solar cell according to another embodiment of the present invention.

【図5】図4の薄膜太陽電池の基板成形前における断面
5 is a sectional view of the thin-film solar cell of FIG. 4 before forming a substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透光性絶縁基板 11 光入射面 12、13 光非入射面 21、22、23、24、25 透明電極 31、32、33、34、53 a−Si膜 41、42、43、44、45 金属基板 51、52、53 接続部 61、62 端子電極 7 入射光 81、82、83、84、85、86 折り曲げ箇所 91、92 接続用電極 Reference Signs List 1 translucent insulating substrate 11 light incident surface 12, 13 light non-incident surface 21, 22, 23, 24, 25 transparent electrode 31, 32, 33, 34, 53 a-Si film 41, 42, 43, 44, 45 Metal substrate 51, 52, 53 Connection part 61, 62 Terminal electrode 7 Incident light 81, 82, 83, 84, 85, 86 Bending part 91, 92 Connection electrode

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透光性絶縁基板上に基板側から透明電極、
接合を有する半導体薄膜、裏面電極を積層してなる発電
領域であるユニットセルが非発電領域である所定の間隙
を介して複数個形成され、その間隙において一つのユニ
ットセルの透明電極に隣接ユニットセルの裏面電極を接
続することにより各ユニットセルが直列接続されるとと
もに、各ユニットセルが平行に配列された薄膜太陽電池
において、 ユニットセルを表面に有する絶縁基板の表面と、ユニッ
トセル間を接続する電極層を表面に有する絶縁基板の表
面とが、90°以下の鋭角をなすように絶縁基板が折り
曲げられて成り、 接合を有する半導体薄膜は、ユニットセルを表面に有す
る絶縁基板からユニットセル間を接続する電極層を表面
に有する絶縁基板には延在せず、以て接合を有する半導
体薄膜には折り曲げ部分が存在しない ことを特徴とする
薄膜太陽電池。
1. A transparent electrode on a transparent insulating substrate from the substrate side,
A plurality of unit cells, which are power generation regions formed by laminating a semiconductor thin film having a junction and a back electrode, are formed via a predetermined gap which is a non-power generation region, and a unit cell adjacent to the transparent electrode of one unit cell in the gap. In the thin-film solar cell in which each unit cell is connected in series and each unit cell is arranged in parallel by connecting the back electrodes of the above, the surface of the insulating substrate having the unit cell on the surface is connected to the unit cell. and the surface of the insulation substrate that having a electrode layer on the surface, Ri formed by bending the insulating substrate at an acute angle of 90 ° or less, the semiconductor thin film having a junction, having a unit cell on the surface
The electrode layer connecting the unit cells from the insulating substrate
Semiconductor that does not extend to the insulating substrate
A thin-film solar cell, characterized in that the body thin film has no bent portion .
【請求項2】一方の端部のユニットセルの電極に接続さ
れる端子電極を表面に有する絶縁基板の表面と、この一
方の端部のユニットセルを表面に有する絶縁基板の表面
とが90°以下の鋭角をなし、 他方の端部のユニットセルの電極に接続される端子電極
を表面に有する絶縁基板の表面と、この他方の端部のユ
ニットセルを表面に有する絶縁基板の表面とが、90°
以上の鈍角をなす請求項1記載の薄膜太陽電池。
2. The surface of an insulating substrate having a terminal electrode connected to an electrode of a unit cell at one end on a surface thereof and the surface of an insulating substrate having a unit cell on one end on a surface thereof are 90 °. Forming the following acute angle, the surface of the insulating substrate having a terminal electrode on the surface connected to the electrode of the unit cell at the other end, and the surface of the insulating substrate having the unit cell at the other end on the surface, 90 °
2. The thin-film solar cell according to claim 1, which forms the obtuse angle.
【請求項3】透光性で可とう性を有する絶縁基板上に複
数個のユニットセルを間隙を介して形成し、各ユニット
セルを直列接続したのち、基板を折り曲げることを特徴
とする請求項1あるいは2記載の薄膜太陽電池の製造方
法。
3. A method according to claim 1, wherein a plurality of unit cells are formed on a light-transmitting and flexible insulating substrate with a gap therebetween, and after connecting the unit cells in series, the substrate is bent. 3. The method for producing a thin-film solar cell according to 1 or 2.
【請求項4】透光性で可とう性を有する絶縁基板上に複
数個のユニットセルを間隙を介して形成し、ユニットセ
ルの一方の電極上に接続導体を接触させたのち、基板を
折り曲げてその接続導体を隣接ユニットセルの他方の電
極に接触させることを特徴とする請求項1あるいは2記
載の薄膜太陽電池の製造方法。
4. A plurality of unit cells are formed on a light-transmitting and flexible insulating substrate with a gap therebetween, and a connecting conductor is brought into contact with one electrode of the unit cell, and then the substrate is bent. 3. The method according to claim 1, wherein the connecting conductor is brought into contact with the other electrode of the adjacent unit cell.
【請求項5】端部のユニットセルの透明電極に端子導体
を接続したのち、基板を折り曲げる請求項2記載の薄膜
太陽電池の製造方法。
5. The method according to claim 2, wherein the substrate is bent after connecting the terminal conductor to the transparent electrode of the unit cell at the end.
【請求項6】端部のユニットセルに近接して基板上に端
子導体を形成し、基板を折り曲げてその端子導体を端部
のユニットセルの一方の電極に接触させる請求項2記載
の薄膜太陽電池の製造方法。
6. The thin-film solar cell according to claim 2, wherein a terminal conductor is formed on the substrate in proximity to the unit cell at the end, and the terminal conductor is bent to contact one electrode of the unit cell at the end. Battery manufacturing method.
【請求項7】基板に高分子材料からなる透光性フィルム
を用い、レーザ光を照射してフィルムに機械的に弱い線
状部分を形成したのち、その部分で折り曲げる請求項3
ないし6のいずれかに記載の薄膜太陽電池の製造方法。
7. A light-transmitting film made of a polymer material is used for a substrate, and a laser light is irradiated to form a mechanically weak linear portion on the film, and then the film is bent at the portion.
7. The method for producing a thin-film solar cell according to any one of items 6 to 6.
JP32707492A 1992-12-08 1992-12-08 Thin film solar cell and method of manufacturing the same Expired - Fee Related JP3170914B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32707492A JP3170914B2 (en) 1992-12-08 1992-12-08 Thin film solar cell and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32707492A JP3170914B2 (en) 1992-12-08 1992-12-08 Thin film solar cell and method of manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06177408A JPH06177408A (en) 1994-06-24
JP3170914B2 true JP3170914B2 (en) 2001-05-28

Family

ID=18195002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32707492A Expired - Fee Related JP3170914B2 (en) 1992-12-08 1992-12-08 Thin film solar cell and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3170914B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7804021B2 (en) * 2007-02-23 2010-09-28 Lintec Corporation Light transmissible solar cell module, process for manufacturing same, and solar cell panel thereof
JP5225305B2 (en) * 2010-03-11 2013-07-03 株式会社東芝 Organic thin film solar cell and method for producing the same
AT512677B1 (en) * 2012-03-30 2013-12-15 Oesterreichisches Forschungs Und Pruefzentrum Arsenal Ges M B H Production process of structured thin film photovoltaic
JP5933061B1 (en) * 2015-03-13 2016-06-08 株式会社東芝 Solar cell module

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06177408A (en) 1994-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4849029A (en) Energy conversion structures
US5626686A (en) Thin-film solar cell and method of manufacturing the same
US5268037A (en) Monolithic, parallel connected photovoltaic array and method for its manufacture
US6380478B1 (en) Solar cell module
JPWO2004064167A1 (en) Translucent thin film solar cell module and manufacturing method thereof
JPH04276665A (en) Integrated solar battery
JP2000286439A (en) Solar cell module and power generating device
JP3449155B2 (en) Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same
JP5702472B2 (en) Laminated glass solar cell module
JPH0983001A (en) Integrated thin film solar battery
WO2010010821A1 (en) Solar battery module and method for manufacturing the same
KR101192345B1 (en) Pattern Of The Electrode Of Solar Cell And Sollar Cell Comprising The Said Electrode Pattern
JP3170914B2 (en) Thin film solar cell and method of manufacturing the same
NL2031858B1 (en) Solar cell string, solar module, and photovoltaic system
JP3393842B2 (en) Method for manufacturing photoelectric conversion device
JP2001298203A (en) Method for manufacturing thin-film solar cell
JP2004327901A (en) Light-transmissive thin-film solar cell module
JP2006041349A (en) Photovoltaic element and its manufacturing method
JP2013058702A (en) Solar cell and manufacturing method thereof, and solar cell module and manufacturing method thereof
JP3133269B2 (en) Solar panel
JPH06268241A (en) Thin-film solar cell and manufacture thereof
JP2648698B2 (en) Heat-resistant solar cell
JP2014075532A (en) Solar cell module
JP2001036105A (en) Solar battery module
JP2819538B2 (en) Method for manufacturing photovoltaic device

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees