JP3158159B2 - Cantilever lever with tall probe for atomic force microscope - Google Patents

Cantilever lever with tall probe for atomic force microscope

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JP3158159B2
JP3158159B2 JP27401798A JP27401798A JP3158159B2 JP 3158159 B2 JP3158159 B2 JP 3158159B2 JP 27401798 A JP27401798 A JP 27401798A JP 27401798 A JP27401798 A JP 27401798A JP 3158159 B2 JP3158159 B2 JP 3158159B2
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三郎 松岡
正夫 早川
稔彦 高橋
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文部科学省金属材料技術研究所長
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この出願の発明は、原子間力
顕微鏡用背高探針付き片持ちレバーに関するものであ
る。さらに詳しくは、この出願の発明は、粒界破壊の形
態を取る高強度鋼の遅れ破壊、疲労破壊のメカニズムを
解明するために用いる凹凸の大きい粒界破面の原子間力
顕微鏡観察に有用な原子間力顕微鏡用背高探針付き片持
ちレバーに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cantilever with a tall probe for an atomic force microscope. More specifically, the invention of this application is useful for atomic force microscope observation of grain boundaries with large irregularities used to elucidate the mechanism of delayed fracture and fatigue fracture of high-strength steel in the form of grain boundary fracture. The present invention relates to a cantilevered lever with a tall probe for an atomic force microscope.

【0002】従来より、原子間力顕微鏡(AFM)によ
る固体表面の観察のための手段として、微細探針を備え
た片持ちレバーが知られている。添付した図面の図1
は、従来の片持ちレバーと、その作成方法を示した概略
図である。従来、片持ちレバーの作成方法としては、こ
の図1に示したように、シリコンウェハー(1)上に形
成された窒化シリコン層を、探針(2)を含めたカンチ
レバーの形状に従ってパターニングした後、エッチング
処理して、探針(2)とレバー(3)を一体化して作成
する方法が知られている。
Conventionally, a cantilever provided with a fine probe has been known as a means for observing a solid surface with an atomic force microscope (AFM). Figure 1 of the attached drawings
FIG. 1 is a schematic view showing a conventional cantilever lever and a method for producing the same. Conventionally, as a method of forming a cantilever, as shown in FIG. 1, a silicon nitride layer formed on a silicon wafer (1) is patterned according to the shape of a cantilever including a probe (2). A method is known in which the probe (2) and the lever (3) are integrally formed by etching.

【0003】片持ちレバーは、このように一体形成され
た探針(2)とレバー(3)並びにレバー固定部(4)
とによって形成されている。このような片持ちレバーを
用いたAFM観察方法には、コンタクトモードとタッピ
ングモードの2方法があり、コンタクトモードとは探針
(2)先端が試料面に接しているAFM観察方式であ
り、タッピングモードとはレバー(3)を高周波で振
り、探針(1)先端が試料面にほとんど接していない状
態でのAFM観察方式である。
[0003] The cantilever lever comprises a probe (2), a lever (3) and a lever fixing part (4) which are integrally formed as described above.
And is formed by. There are two types of AFM observation methods using such a cantilever lever, a contact mode and a tapping mode. The contact mode is an AFM observation method in which the tip of the probe (2) is in contact with the sample surface. The mode is an AFM observation method in which the lever (3) is swung at a high frequency and the tip of the probe (1) hardly touches the sample surface.

【0004】添付した図面の図2は、従来の片持ちレバ
ー(3)の使用例を示したものであるが、どちらのモー
ドのレバー(3)でも探針(2)の高さ(H)は数μm
から最大でも20μm程度である。たとえば表1は、こ
れまでの片持ちレバーの探針高さやバネ定数等を示した
ものである。探針(2)の高さ(H)は20μm以下で
ある。
FIG. 2 of the accompanying drawings shows an example of the use of the conventional cantilever lever (3). The height (H) of the probe (2) in either mode of the lever (3) is shown. Is several μm
And at most about 20 μm. For example, Table 1 shows the probe height and spring constant of the cantilever lever up to now. The height (H) of the probe (2) is 20 μm or less.

【0005】[0005]

【表1】 [Table 1]

【0006】しかしながら、従来の片持ちレバー(3)
を用いたAFM観察では、探針(2)の高さ(H)の制
約から、半導体材料のような比較的凹凸の小さな表面を
有する対象物試料(11)の観察にしか使用できないと
いう制約があった。凹凸の小さな最も極端な例として
は、マイカ表面の原子像観察があげられる。このような
従来の片持ちレバーによるAFM観察の制約があるた
め、従来では、より凹凸の大きな表面の観察は難しいと
いう問題があった。
However, the conventional cantilever lever (3)
In the AFM observation using the method, since the height (H) of the probe (2) is limited, the AFM observation can be used only for observation of an object sample (11) having a relatively small uneven surface such as a semiconductor material. there were. The most extreme example of small irregularities is observation of an atomic image of a mica surface. Because of the limitations of such conventional cantilever levers for AFM observation, there has been a problem that it is conventionally difficult to observe a surface with more irregularities.

【0007】たとえば図3に示したように、鉄鋼材料の
遅れ破壊や疲労破壊メカニズムを解明するためには、こ
れらの破壊で生じる粒界破面上のnmレベルの析出物の
分布や、析出物とすべり変形の関係を調べる必要があ
る。しかしながら、従来の片持ちレバー(3)では、凹
凸の大きい粒界破面等では探針(2)の高さが低いため
に、試料凸部にレバー(3)面が衝突して観察ができな
い等の問題があった。
For example, as shown in FIG. 3, in order to elucidate the mechanisms of delayed fracture and fatigue fracture of steel materials, the distribution of precipitates at the nm level on the grain boundary fracture surface caused by these fractures, It is necessary to investigate the relationship between and slip deformation. However, in the conventional cantilever lever (3), since the height of the probe (2) is low at a grain boundary fracture surface or the like having large irregularities, the lever (3) surface collides with the sample convex portion and observation is not possible. And so on.

【0008】このような問題を解決するためには探針
(2)の高さ(H)をより高くすることが考えられる。
しかしながら、探針(2)の高さ(H)を高くすること
は容易ではない。その構造をどのようにするのか、ある
いは加工法をどのようにするのか等は実際上の大きな問
題となる。また、その高さ(H)をどのように設定する
のかも容易ではないからである。
In order to solve such a problem, it is conceivable to increase the height (H) of the probe (2).
However, it is not easy to increase the height (H) of the probe (2). How to make the structure, how to process, etc. is a big problem in practice. Also, it is not easy to set the height (H).

【0009】そこで、この出願の発明は、粒界破面のよ
うな凹凸の大きな表面上のnmレベルの観察をも可能と
する、探針高さのより高い、背高探針を有する新しい片
持ちレバーを提供することを課題としている。
Accordingly, the invention of this application is to provide a new piece having a higher probe height and a tall probe, which enables observation on the nanometer level on a surface with large irregularities such as a grain boundary fracture surface. It is an object to provide a holding lever.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この出願の発明は、上記
の課題を解決するものとして、まず第1には、原子間力
顕微鏡用の探針付き片持ちレバーであって、レバーに設
けられた穴に探針が挿嵌された構造を有し、探針は、先
端と逆の端部につば部を有し、レバー穴への挿嵌状態に
おいては、つば部がレバー表面に当接し、この当接によ
って探針高さが定められており、挿嵌状態でのレバー裏
面から探針先端までの探針高さが50μm以上であるこ
とを特徴とする原子間力顕微鏡用片持ちレバーを提供す
る。
Means for Solving the Problems The invention of the present application solves the above-mentioned problems. First, a cantilever with a probe for an atomic force microscope is provided on the lever. The probe has a structure in which the probe is inserted into the hole.
It has a collar at the end opposite to the end so that it can be inserted into the lever hole.
In this case, the collar contacts the lever surface,
A cantilever lever for an atomic force microscope, wherein the probe height from the back of the lever to the tip of the probe in the inserted state is 50 μm or more. .

【0011】[0011]

【0012】そしてまた、この出願の発明は、第
は、前記の第1の発明の原子間力顕微鏡用の片持ちレバ
ーであって、レバーのレーザー光スポット部には1箇所
もしくは複数箇所のくり抜き部が設けられている片持ち
レバーを、第には、くり抜き部とこれに隣設するレバ
ー部とがレーザー光スポット部とされている片持ちレバ
ーを提供する。
[0012] And also, the invention of this application, the second, a cantilever for an atomic force microscope of the first aspect, one location or multiple locations in the laser beam spot of the lever the hollow portion cantilever is provided lever, the third, and the lever portion of the cut out portion and provided adjacent thereto to provide a cantilever which is the laser beam spot portion.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】この出願の発明は、上記のとおり
の特徴を有するものであるが、以下に図面と実施例に沿
って、その実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention of this application has the features described above, and the embodiments will be described below with reference to the drawings and examples.

【0014】[0014]

【実施例】図4から図6は、この発明の背高探針付き片
持ちレバーとその作成方法を例示した図である。図4
は、走査トンネル顕微鏡(STM)用の金属探針の作成
方法を応用し、つば部が付いた金属探針を作成する方法
を示したものである。その手順は次のとおりである。
4 to 6 are views illustrating a cantilever lever with a tall probe according to the present invention and a method of forming the same. FIG.
1 shows a method for producing a metal probe with a flange by applying a method for producing a metal probe for a scanning tunneling microscope (STM). The procedure is as follows.

【0015】 金属細線上部を樹脂等によりコーティ
ングする。 電解エッチングによって金属細線暴露部を細く加工
する。 金属細線を引上げて気液界面で探針先端部を加工す
る。 コーティング層を除去して上部の余分な部分を切断
し、つば付き金属探針とする。
The upper portion of the thin metal wire is coated with a resin or the like. The exposed portion of the thin metal wire is thinned by electrolytic etching. A thin metal wire is pulled up and the tip of the probe is processed at the gas-liquid interface. The coating layer is removed, and the upper excess part is cut off to obtain a metal probe with a collar.

【0016】たとえば以上の手順によって、図4に例示
したつば部を持った金属探針を得る。このつば部を持つ
探針は、探針高さを正確に決める場合に有効に用いられ
ることになる。一方、つば付金属探針のように、高さを
正確に決める必要がない場合には、STM用金属探針を
用いることもできる。また、先端の曲率半径が50nm
程度の探針が作成できれば、探針の材質は何でもよい。
For example, by the above procedure, a metal probe having a flange portion illustrated in FIG. 4 is obtained. The probe having the brim portion is effectively used when accurately determining the probe height. On the other hand, when it is not necessary to determine the height accurately unlike a metal probe with a collar, a metal probe for STM can be used. The radius of curvature at the tip is 50 nm.
Any material can be used for the probe, as long as the probe can be formed to the degree.

【0017】図5は、フォトリソグラフィ法を用い、板
厚10μmのSUS304ステンレス鋼薄板から切り出
したレバーの一例である。現状では、ステンレス鋼薄膜
の厚さは5μm間隔であるので、レバーの厚さを15、
20、25μmのように変えることができる。また、レ
バーの幅の長さは、新しくフォトマスクを作ることによ
り任意である。さらに、薄膜としてシリコン薄板等を使
用することもできる。
FIG. 5 shows an example of a lever cut out from a SUS304 stainless steel thin plate having a thickness of 10 μm by photolithography. At present, the thickness of the stainless steel thin film is 5 μm intervals, so that the thickness of the lever is 15,
It can be changed to 20, 25 μm. Further, the length of the width of the lever can be arbitrarily determined by newly forming a photomask. Further, a silicon thin plate or the like can be used as the thin film.

【0018】図6は、背高探針付レバーの組立て法を示
したものである。その手順は次のとおりである。 たとえばステンレス鋼等の薄板をエッチング処理に
より所定の寸法とする。これにより穴を有するレバー
(3)を作成する。 つば付金属探針(2)をレバー(3)に設けた穴に
挿嵌し、たとえば接着剤で固定する。
FIG. 6 shows a method for assembling a lever with a tall probe. The procedure is as follows. For example, a thin plate of stainless steel or the like is set to a predetermined size by an etching process. This produces a lever (3) having a hole. A metal probe with a brim (2) is inserted into a hole provided in the lever (3), and is fixed with, for example, an adhesive.

【0019】 これによって組立てが完成し、レバー
に設けた穴に探針が挿嵌されて、挿嵌状態でのレバー裏
面から探針センターまでの探針高さ(H)が、たとえば
図5に示した0.5mm(500μm)の探針となる。
つば付きであるが故に、つば部がレバー(3)の表面に
当接し、この当接によって探針高さ(H)が所定のもの
に定められる。
As a result, assembling is completed, the probe is inserted into the hole provided in the lever, and the probe height (H) from the lever back surface to the probe center in the inserted state is, for example, shown in FIG. The probe is 0.5 mm (500 μm) as shown.
Because of the collar, the collar contacts the surface of the lever (3), and the probe height (H) is set to a predetermined value by this contact.

【0020】この発明については、この挿嵌状態におけ
るレバー表面から先端までの探針高さ(H)が50μm
以上であることを要件としている。AFM観察による粒
界観察等の目的、そして加工製造等の観点からは、この
高さ(H)は、より好ましくは80μm以上、さらに好
ましくは100μm以上とする。
According to the present invention, the probe height (H) from the lever surface to the tip in the inserted state is 50 μm.
It is required to be above. The height (H) is more preferably 80 μm or more, and still more preferably 100 μm or more, from the viewpoint of grain boundary observation by AFM observation and the like, and from the viewpoint of processing and production.

【0021】表2と表3には、コンタクト用とタッピン
グ用のこの発明の背高探針付レバーの仕様の一例を示
す。
Tables 2 and 3 show examples of specifications of the tall probe-equipped lever of the present invention for contact and tapping.

【0022】[0022]

【表2】 [Table 2]

【0023】[0023]

【表3】 [Table 3]

【0024】図7を参照すると、バネ定数k、探針取付
け部の回転角θ、共振周波数ωは、次式で与えられる。
Referring to FIG. 7, the spring constant k, the rotation angle θ of the probe mounting portion, and the resonance frequency ω are given by the following equations.

【0025】[0025]

【数1】 (Equation 1)

【0026】ここで、Wは測定力、b、l、hはレバー
の幅、長さ、厚さ、mは探針の質量l=(b・h^3)
/12は曲げ剛性である。コンタクトモードの場合に
は、b、h、lは図5に示す寸法と同じであり、タッピ
ングモードの場合にはhを100μmとしている。表1
の従来例に示すようにコンタクトモード用の背高探針レ
バーのバネ定数は通常探針レバーに比べて大きいため
に、測定力を同じとした場合には、回転角は1/20と
小さくなる。AFM観察では、光てこ方式で回転角を一
定に制御するが、検出器の精度が高いために、レバー変
位が1/20程度になっても測定可能である。一方、回
転角を同じくするためには、背高探針レバーの測定力を
通常探針レバーの20倍に大きくしなければならない。
鋼の粒界破面等の硬い材料を対象とする場合には、測定
力を20倍大きくしても、試料を損傷することはない。
Here, W is the measuring force, b, l, and h are the width, length, and thickness of the lever, and m is the mass 1 = (b · h ^ 3) of the probe.
/ 12 is the bending stiffness. In the contact mode, b, h, and l have the same dimensions as those shown in FIG. 5, and in the tapping mode, h is set to 100 μm. Table 1
As shown in the conventional example, since the spring constant of the tall probe lever for the contact mode is larger than that of the normal probe lever, when the measuring force is the same, the rotation angle is reduced to 1/20. . In the AFM observation, the rotation angle is controlled to be constant by the optical lever method. However, since the accuracy of the detector is high, it is possible to measure even if the lever displacement becomes about 1/20. On the other hand, in order to make the rotation angle the same, the measuring force of the tall probe lever must be increased to 20 times that of the normal probe lever.
When a hard material such as a grain boundary surface of steel is targeted, the sample will not be damaged even if the measuring force is increased by a factor of 20.

【0027】タッピングモードでは、レバーの共振点で
ピエゾを加振させ、探針が試料に近づくか、軽くタップ
して振幅の減少が一定となるように、ピエゾをコントロ
ールして、3次元像を得る。通常のAFMでは10KH
z〜1MHzの範囲のピエゾアクチュエータでレバーを
加振させる。背高探針レバーの質量は通常の片持ちレバ
ーより大きいために、レバーの共振周波数を上げるため
には、バネ定数を大きくしなければならない。タッピン
グモードでは、探針と試料が完全に接触するわけではな
いので、バネ定数を大きくしても測定力が過大になるこ
とはないので、表3に示すように板厚を厚くし、バネ定
数を大きくして共振周波数を適度な値に設定できる。
In the tapping mode, the piezo is vibrated at the resonance point of the lever, and the piezo is controlled so that the probe approaches the sample or taps lightly so that the decrease in amplitude is constant, and a three-dimensional image is formed. obtain. 10KH for normal AFM
The lever is excited by a piezo actuator in the range of z to 1 MHz. Since the height of the tall probe lever is larger than that of a normal cantilever lever, in order to increase the resonance frequency of the lever, the spring constant must be increased. In the tapping mode, the probe does not completely contact the sample, so that even if the spring constant is increased, the measuring force does not become excessive. Therefore, as shown in Table 3, the plate thickness is increased and the spring constant is increased. Is increased, and the resonance frequency can be set to an appropriate value.

【0028】以上述べたように、背高探針片持ちレバー
を用い、鋼の粒界破面のような凹凸が大きい表面をAF
M観察することが可能である。以上のとおりの背高探針
付きレバーについては、この発明においてはさらなる工
夫、最適化が提案される。そこで以下にこの工夫、最適
化について説明する。 <1>この発明の背高探針付き片持ちレバーによるAF
M観察 添付した図面の図8は、AFMの測定原理を示したもの
である。
As described above, a surface having large irregularities such as a grain boundary fracture surface of a steel is measured by AF using a tall probe cantilever lever.
M observations are possible. With respect to the lever with the tall probe as described above, further improvements and optimizations are proposed in the present invention. Therefore, the contrivance and optimization will be described below. <1> AF by cantilever lever with tall probe of the present invention
M Observation FIG. 8 of the attached drawings shows the measurement principle of AFM.

【0029】また、図8に示したように、探針(2)を
有する片持ちレバー(3)を試料(11)に近づける
と、片持ちレバー(3)がたわみ、レバー固定部(4)
に対してレバー(3)が回転する。レーザー光(6)を
レバー(3)に照射し、その反射光の位置をフォトセン
サー(9)で検出することによって、この時のレバー
(3)の回転角度が測定され、探針(2)と試料(1
1)間の測定力が決定される。レバー(3)の回転角度
すなわち測定力を一定に制御することにより、ピエゾ
(10)がZ方向すなわち試料(11)表面の凹凸の高
さ方向に上下動し、高さ情報すなわちAFM像が得られ
る。
As shown in FIG. 8, when the cantilever lever (3) having the probe (2) is brought close to the sample (11), the cantilever lever (3) is bent, and the lever fixing portion (4).
The lever (3) rotates. The rotation angle of the lever (3) at this time is measured by irradiating the lever (3) with the laser beam (6) and detecting the position of the reflected light with the photo sensor (9), and the probe (2) And sample (1
The measuring force during 1) is determined. By controlling the rotation angle of the lever (3), that is, the measuring force to be constant, the piezo (10) moves up and down in the Z direction, that is, the height direction of the irregularities on the surface of the sample (11), and height information, that is, an AFM image is obtained. Can be

【0030】大気中で稼働するAFMには、通常、CC
Dカメラ(5)が配設されており、半導体等の凹凸が小
さい表面に対しては、AFMで測定する位置をある程度
決めることができる。しかし、CCDカメラ(5)によ
る観察は真上からとなるため、直接、探針(2)先端が
試料(11)表面に接している状態では観察できない。
最近、真空中で稼働するAFMには、SEM(8)を配
設することが可能になりつつある。この場合、試料(1
1)に対して斜めからの観察であるが、探針(2)先端
と試料(11)表面を同時に観察できる。
An AFM operating in the atmosphere usually has a CC
A D camera (5) is provided, and a position to be measured by the AFM can be determined to some extent on a surface of a semiconductor or the like having a small unevenness. However, since observation by the CCD camera (5) is performed from directly above, observation cannot be performed in a state where the tip of the probe (2) is in direct contact with the surface of the sample (11).
Recently, it has become possible to install an SEM (8) in an AFM operating in a vacuum. In this case, the sample (1
Although the observation is oblique to 1), the tip of the probe (2) and the surface of the sample (11) can be observed simultaneously.

【0031】添付した図面の図9は、従来の片持ちレバ
ー(3)にレーザー光(6)を照射したときの片持ちレ
バー(3)とレーザースポット(12)の位置関係を示
したものであり、図10は、従来のレバーにより得られ
る入射光の形状とフォトセンサー(9)の位置関係(レ
ーザー入射方向から見ている)を示したものである。従
来の片持ちレバー(3)の寸法は、幅20μm、長さ1
00〜500μmの短冊状である。レーザー光(6)の
レーザースポット(12)の径は、レバー(3)の幅よ
りも大きくなるため、レバー(3)の面で反射されたレ
ーザー光(6)は、図6に示したような形状のレーザー
スポット(12)としてフォトセンサー(9)に入射す
る。そして、上下に2分割されたフォトセンサー(9)
の受光量の差から、レバー(3)の回転角度が検出され
る。したがって、AFMの精度は、レーザースポット
(12)径よりもレバー(3)の形状で決定されること
になる。
FIG. 9 of the accompanying drawings shows the positional relationship between the cantilever lever (3) and the laser spot (12) when the conventional cantilever lever (3) is irradiated with laser light (6). FIG. 10 shows the shape of incident light obtained by a conventional lever and the positional relationship of the photosensor (9) (as viewed from the laser incident direction). The dimensions of the conventional cantilever lever (3) are 20 μm in width and 1 in length.
It is a strip of 100 to 500 μm. Since the diameter of the laser spot (12) of the laser light (6) is larger than the width of the lever (3), the laser light (6) reflected on the surface of the lever (3) is as shown in FIG. It is incident on the photosensor (9) as a laser spot (12) having a simple shape. And a photo sensor (9) divided into two parts up and down
The rotation angle of the lever (3) is detected from the difference in the amount of received light. Therefore, the accuracy of the AFM is determined by the shape of the lever (3) rather than the diameter of the laser spot (12).

【0032】この発明の背高探針(2)(特に0.5m
m以上の高さ)を有する片持ちレバー(3)とAFMを
組み合わせることによって、高強度鋼の遅れ破壊や疲労
破壊で形成される粒界破面のような凹凸の大きな表面の
AFM観察が可能になるが、さらに、図8に示したよう
に、SEM(8)を組み合わせることにより、探針
(2)の先端が試料(11)の表面に接している部分を
観察することができる。特に粒界破面等は不規則な表面
形状をしているため、SEM(8)のサポートが必要不
可欠である。
The tall probe (2) of the present invention (particularly 0.5 m
By combining the cantilever lever (3) having a height of at least m with the AFM, it is possible to perform AFM observation of a highly uneven surface such as a grain boundary fracture surface formed by delayed fracture or fatigue fracture of high-strength steel. However, as shown in FIG. 8, by combining the SEM (8), a portion where the tip of the probe (2) is in contact with the surface of the sample (11) can be observed. In particular, since the grain boundary fracture surface has an irregular surface shape, the support of the SEM (8) is indispensable.

【0033】添付した図面の図11は、この発明の背高
探針付き片持ちレバー(3)とレーザースポット(1
2)の位置関係を示したものである。図12は、レーザ
ースポット(12)を示したレバー先端部の拡大平面図
である。このようなAFM観察を可能にするこの発明の
背高探針付き片持ちレバー(3)は、背高探針(2)を
使用するため、図7(a)と(b)に示すように、レバ
ー寸法は、例えば、幅500μm、長さ1.5mmと大
きくなる。このため、レバー(3)面上でレーザー光
(6)はすべて反射されてフォトセンサー(9)に入射
される。
FIG. 11 of the accompanying drawings shows a cantilever lever (3) with a tall probe of the present invention and a laser spot (1).
It shows the positional relationship of 2). FIG. 12 is an enlarged plan view of the tip of the lever showing the laser spot (12). As shown in FIGS. 7A and 7B, the cantilevered lever (3) with a tall probe of the present invention that enables such AFM observation uses the tall probe (2). The lever dimensions are as large as, for example, 500 μm in width and 1.5 mm in length. Therefore, all the laser light (6) is reflected on the lever (3) surface and is incident on the photo sensor (9).

【0034】添付した図面の図13は、この発明の背高
探針付きレバーにより得られるレーザースポット(1
2)の形状とフォトセンサー(9)の位置関係(レーザ
ー入射方向から見ている)を示したものである。しかし
ながら、図13に示したように、レーザースポット(1
2)がフォトセンサー(9)からはみ出す場合があるた
め、図6に示した従来のレバー(3)の場合と比較し
て、二つの検出器の受光量差がでにくくなり、レバー
(3)の回転角度の測定精度が低下する問題が生じる。 <2>この発明の背高探針付き片持ちレバーの構造の最
適化 そこで、この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)を
用いた測定時におけるレバー(3)の回転角度の測定精
度を向上させるために、レバー(3)の最適化を行うこ
とが考慮される。
FIG. 13 of the accompanying drawings shows a laser spot (1) obtained by the lever with a tall probe of the present invention.
FIG. 3 shows the positional relationship between the shape of 2) and the photosensor (9) (as viewed from the laser incident direction). However, as shown in FIG.
Since 2) may protrude from the photosensor (9), the difference in the amount of received light between the two detectors is less likely to occur than in the case of the conventional lever (3) shown in FIG. A problem arises in that the measurement accuracy of the rotation angle of the light source is reduced. <2> Optimization of the structure of the cantilevered lever with a tall probe of the present invention Therefore, the measurement of the rotation angle of the lever (3) during the measurement using the cantilevered lever with a tall probe of the present invention (3) In order to improve the accuracy, it is considered to optimize the lever (3).

【0035】<レーザー照射部の最適化法(A)>添付
した図面の図14は、この発明の背高探針付き片持ちレ
バー(3)についての一つのレーザー照射部の最適化法
(A)を示したものであり、図15は、この最適化法
(A)における入射光のレーザースポット(12)とフ
ォトセンサー(9)の位置関係(レーザー入射方向から
見ている)を示したものである。
<Optimization Method for Laser Irradiation Section (A)> FIG. 14 of the accompanying drawings shows a method for optimizing one laser irradiation section (A) for the cantilever lever (3) with a tall probe of the present invention. FIG. 15 shows the positional relationship (as viewed from the laser incident direction) between the laser spot (12) of the incident light and the photosensor (9) in the optimization method (A). It is.

【0036】図14に示したように、レバー(3)の長
さ方向に並んで2箇所のくり抜き部分(14)を設け
る。これら2箇所のくり抜き部分(14)の横幅の合計
を、レーザースポット(12)の径よりも大きくし、く
り抜き部分(14)の間のブリッジ部分(15)の幅
を、従来のレバー(3)の幅約20μm程度にすると、
ブリッジ部分(15)から反射され、フォトセンサー
(9)に入射されるレーザースポット(12)は、図1
5に示したような形状になり、上下の二つの検出器への
受光量差が出やすくなるため、レバー(3)の回転角度
の測定精度は向上する。
As shown in FIG. 14, two hollow portions (14) are provided along the length of the lever (3). The sum of the widths of these two hollow portions (14) is made larger than the diameter of the laser spot (12), and the width of the bridge portion (15) between the hollow portions (14) is changed to the conventional lever (3). When the width is about 20 μm,
The laser spot (12) reflected from the bridge portion (15) and incident on the photo sensor (9) is shown in FIG.
5 and the difference in the amount of received light between the upper and lower detectors is likely to occur, so that the measurement accuracy of the rotation angle of the lever (3) is improved.

【0037】<レーザー照射部の最適化法(B)>添付
した図面の図16は、この発明の背高探針付き片持ちレ
バー(3)についての別のレーザー照射部の最適化法
(B)を示したものである。図16に示したように、1
箇所だけにくり抜き部分(14)を設けることによっ
て、レーザー(3)のエッジ部にレーザー光(6)を照
射させてもよい。しかし、この最適化法(B)の場合よ
り、図14に示したような2箇所のくり抜き部分を設け
た最適化法(A)の方が、構造上安定であり、かつブリ
ッジ部分(15)を損傷する確率も少ない。
<Optimization Method of Laser Irradiation Section (B)> FIG. 16 of the accompanying drawings shows another optimization method (B) of the laser irradiation section for the cantilever lever (3) with a tall probe of the present invention. ). As shown in FIG.
The laser beam (6) may be applied to the edge of the laser (3) by providing the hollow portion (14) only at the location. However, the optimization method (A) having two hollow portions as shown in FIG. 14 is structurally more stable and the bridge portion (15) than the optimization method (B). The probability of damaging is low.

【0038】<レーザー照射部の最適化法(C)>添付
した図面の図17は、この発明の背高探針付き片持ちレ
バー(3)についてのさらに別のレーザー照射部の最適
化法(C)を示したものであり、図18は、この最適化
法(C)における入射光のレーザースポット(12)と
フォトセンサー(9)の位置関係(レーザー入射方向か
ら見ている)を示したものである。
<Optimization Method of Laser Irradiation Section (C)> FIG. 17 of the attached drawings shows another optimization method of the laser irradiation section (3) of the cantilever lever (3) with a tall probe according to the present invention. FIG. 18 shows the positional relationship (as viewed from the laser incident direction) between the laser spot (12) of the incident light and the photosensor (9) in the optimization method (C). Things.

【0039】レバー(3)の幅方向に並んで2箇所のく
り抜き部分(14)を設けると、ブリッジ部分(15)
からの反射光がフォトセンサー(9)の上端と下端では
み出てしまい、レバー(3)の回転角度の精度が悪くな
る。そこで、図17に示したような形状のくり抜き部分
(14)を設けると、フォトセンサー上において、図1
8に示したような反射光の形状が得られ、レバー(3)
の回転角度の測定精度が良くなり、AFM観察の精度も
向上する。
When two hollow portions (14) are provided side by side in the width direction of the lever (3), the bridge portion (15)
Reflected light from the photosensor (9) protrudes at the upper end and the lower end of the photosensor (9), and the accuracy of the rotation angle of the lever (3) deteriorates. Therefore, when a hollow portion (14) having a shape as shown in FIG. 17 is provided, on the photosensor, FIG.
The shape of the reflected light as shown in FIG.
The accuracy of the measurement of the rotation angle is improved, and the accuracy of the AFM observation is also improved.

【0040】<レーザー照射部の最適化法(D)>添付
した図面の図19は、さらに、この発明の背高探針付き
片持ちレバー(3)のレーザー照射部の最適化法(D)
を示したものである。SEM観察とAFM観察を同時に
行うためには、探針(2)がついている部分から先のレ
バー(3)の出っ張り部分が、SEMの視野に入ってく
るために、レバー(3)の出っ張り部分を小さくした方
がよい。
<Optimization Method of Laser Irradiation Section (D)> FIG. 19 of the accompanying drawings further shows a method of optimizing the laser irradiation section of the cantilever lever (3) with a tall probe of the present invention (D).
It is shown. In order to perform the SEM observation and the AFM observation at the same time, the protrusion of the lever (3) from the portion where the probe (2) is attached comes into the field of view of the SEM. Should be smaller.

【0041】そこで、図19に示したように、レーザー
の照射部を探針(2)の両側に配置し、レバー(3)の
出っ張り部分を小さくする。レバー(3)のバランスを
考慮して、両側の2箇所にくり抜き部分(14)を設置
する。この場合もブリッジ部分(15)の形状は、図1
7に示したような形状でもよい。 <レーザー照射部の最適化法(E)>上述したこの発明
の背高探針付き片持ちレバー(3)は、探針(2)の先
端が試料(11)の表面に接しているコンタクトモー
ド、接触しないか、またはほんのわずか接触するタッピ
ングモードの2種類のAFM観察に使用できる。
Therefore, as shown in FIG. 19, laser irradiation parts are arranged on both sides of the probe (2), and the protrusion of the lever (3) is reduced. In consideration of the balance of the lever (3), two hollow portions (14) are provided on both sides. Also in this case, the shape of the bridge portion (15) is as shown in FIG.
The shape shown in FIG. <Optimization method of laser irradiation part (E)> The above-mentioned cantilever lever (3) with a tall probe of the present invention has a contact mode in which the tip of the probe (2) is in contact with the surface of the sample (11). It can be used for two types of AFM observations: tapping mode, no touch, or only slight touch.

【0042】コンタクトモードにおいては、図14に示
したレーザー照射部の最適化法(A)または図19に示
したレーザー照射部の最適化法(D)のように、レバー
(3)の厚さを10μm程度と薄くしてバネ定数を小さ
くし、測定力を小さくすることが重要である。添付した
図面の図20は、この発明の背高探針付き片持ちレバー
(3)のレーザー照射部の最適化法(E)を示したもの
である。
In the contact mode, as in the method (A) for optimizing the laser irradiation part shown in FIG. 14 or the method (D) for optimizing the laser irradiation part shown in FIG. It is important to reduce the spring force by reducing the thickness to about 10 μm to reduce the measurement force. FIG. 20 of the attached drawings shows a method (E) for optimizing the laser irradiation part of the cantilever lever (3) with a tall probe according to the present invention.

【0043】図20に示したように、このようなレバー
(3)のねじれを防ぐために、レバー(3)の中央部に
大きな切り抜き部分(14)を設けることによって、ね
じれ剛性を上げることも可能である。一方、タッピング
モードにおいては、レバー(3)の厚さを厚くし、共振
周波数をあげることが必要となる。
As shown in FIG. 20, in order to prevent such a twist of the lever (3), it is possible to increase the torsional rigidity by providing a large cut-out portion (14) at the center of the lever (3). It is. On the other hand, in the tapping mode, it is necessary to increase the thickness of the lever (3) and increase the resonance frequency.

【0044】この出願の発明は、たとえば以上例示した
とおり、上記の通りの構成によってこれまでにない新し
い粒界破面のような凹凸の大きな表面の高精度なAFM
観察の実現を可能にする原子間力顕微鏡用背高探針付き
片持ちレバーを提供する。もちろんこの発明は以上の例
によって限定されるものではない。
The invention of this application, for example, as described above, has a high-precision AFM having a surface with large irregularities such as a new grain boundary fracture surface by a configuration as described above.
Provided is a cantilever with a tall probe for an atomic force microscope that enables observation to be realized. Of course, the present invention is not limited by the above examples.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上詳しく説明したように、背高探針付
き片持ちレバーを用いるこの出願の発明によって、背高
探針付き片持ちレバーと原子間力顕微鏡を組み合わせる
ことで、新しいnmレベルでの観察技術が展開でき、粒
界破壊の形態を取る高強度鋼の遅れ破壊や疲労破壊のメ
カニズム解明に寄与できる。
As described in detail above, according to the invention of this application using a cantilever with a tall probe, by combining the cantilever with a tall probe with an atomic force microscope, a new nm level can be obtained. Can contribute to the elucidation of the mechanism of delayed fracture and fatigue fracture of high-strength steel that takes the form of grain boundary fracture.

【0046】そして、ナノ粒界解析法により、遅れ破
壊、疲労破壊の特性向上指針を得ることができ、例えば
高力ボルトは、遅れ破壊のため100キロ級に留まって
いるものが、150キロ、200キロと高強度化が促進
できる。また、最適化をはかったこの発明の背高探針付
き片持ちレバーとAFMを組み合わせることによって、
遅れ破壊や疲労破壊で形成される粒界破面のような凹凸
が大きな表面のAFM観察が高精度で可能となる。
By the nano-grain boundary analysis method, a guideline for improving characteristics of delayed fracture and fatigue fracture can be obtained. The strength can be increased to 200 kg. Also, by combining the cantilevered lever with tall probe of the present invention, which has been optimized, and the AFM,
AFM observation of a surface having large irregularities such as a grain boundary fracture surface formed by delayed fracture or fatigue fracture becomes possible with high accuracy.

【0047】さらに、SEMと組み合わせることによ
り、AFM観察の位置決めと低倍率の情報の取得が可能
になる。
Further, in combination with the SEM, positioning for AFM observation and acquisition of low-magnification information become possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の片持ちレバーの概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a conventional cantilever lever.

【図2】従来の片持ちレバー(3)の使用例を示した図
である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of use of a conventional cantilever lever (3).

【図3】凹凸の大きな表面のAFM観察の様子を示した
図である。
FIG. 3 is a diagram showing a state of AFM observation of a surface having large irregularities.

【図4】つば付金属探針の作成法を例示した正面図であ
る。
FIG. 4 is a front view illustrating a method for producing a metal probe with a brim.

【図5】背高探針付き片持ちレバーの一例を示した平面
図と正面図である。
FIG. 5 is a plan view and a front view showing an example of a cantilever lever with a tall probe.

【図6】背高探針付き片持ちレバーの組立てを例示した
斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view illustrating assembling of a cantilever lever with a tall probe.

【図7】片持ちレバーの測定時の模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram when measuring a cantilever lever.

【図8】AFMの測定原理を示した図である。FIG. 8 is a diagram showing the measurement principle of AFM.

【図9】従来の片持ちレバー(3)にレーザー光(6)
を照射したときの片持ちレバー(3)とレーザースポッ
ト(12)の位置関係を示した平面図である。
FIG. 9 shows a laser beam (6) applied to a conventional cantilever lever (3).
FIG. 4 is a plan view showing a positional relationship between a cantilever lever (3) and a laser spot (12) when the laser beam is irradiated.

【図10】従来のレバーにより得られる入射光の形状と
フォトセンサー(9)の位置関係(レーザー入射方向か
ら見ている)を示した平面図である。
FIG. 10 is a plan view showing the shape of incident light obtained by a conventional lever and the positional relationship (as viewed from the laser incident direction) of the photosensor (9).

【図11】この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)
とレーザースポット(12)の位置関係を示した正面図
と平面図である。
FIG. 11 shows a cantilevered lever with a tall probe according to the present invention (3).
It is the front view and top view which showed the positional relationship of the laser spot (12).

【図12】図11のレバー先端部拡大平面図である。FIG. 12 is an enlarged plan view of the tip of the lever of FIG. 11;

【図13】この発明の背高探針付き片持ちレバーにより
得られるレーザースポット(12)の形状とフォトセン
サー(9)の位置関係(レーザー入射方向から見てい
る)を示した平面図である。
FIG. 13 is a plan view showing the shape of a laser spot (12) obtained by the cantilevered lever with a tall probe of the present invention and the positional relationship (as viewed from the laser incident direction) of the photosensor (9). .

【図14】この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)
のレーザー照射部の最適化法(A)を示した平面図であ
る。
FIG. 14 shows a cantilevered lever with a tall probe according to the present invention (3).
FIG. 5 is a plan view showing a method (A) for optimizing a laser irradiation section of FIG.

【図15】この最適化法(A)における入射光のレーザ
ースポット(12)とフォトセンサー(9)の位置関係
(レーザー入射方向から見ている)を示した平面図であ
る。
FIG. 15 is a plan view showing the positional relationship between the laser spot (12) of the incident light and the photosensor (9) (as viewed from the laser incident direction) in the optimization method (A).

【図16】この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)
のレーザー照射部の最適化法(B)を示した平面図であ
る。
FIG. 16 shows a cantilevered lever with a tall probe according to the present invention (3).
FIG. 6 is a plan view showing a method (B) for optimizing a laser irradiation section of FIG.

【図17】この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)
のレーザー照射部の最適化法(C)を示した平面図であ
る。
FIG. 17 shows a cantilevered lever with a tall probe according to the present invention (3).
FIG. 4 is a plan view showing a method (C) for optimizing a laser irradiation section of FIG.

【図18】この最適化法(C)における入射光のレーザ
ースポット(12)とフォトセンサー(9)の位置関係
(レーザー入射方向から見ている)を示した平面図であ
る。
FIG. 18 is a plan view showing the positional relationship between the laser spot (12) of incident light and the photosensor (9) (as viewed from the laser incident direction) in the optimization method (C).

【図19】この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)
のレーザー照射部の最適化法(D)を示した平面図であ
る。
FIG. 19 shows a cantilevered lever with a tall probe of the present invention (3).
FIG. 5 is a plan view showing a method (D) for optimizing a laser irradiation unit.

【図20】この発明の背高探針付き片持ちレバー(3)
のレーザー照射部の最適化法(E)を示した平面図であ
る。
FIG. 20 shows a cantilevered lever with a tall probe of the present invention (3).
FIG. 5 is a plan view showing a method (E) for optimizing a laser irradiation section of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シリコンウエハー 2 探針 3 片持ちレバー 4 レバー固定部 5 CCDカメラ 6 レーザー出力 7 反射用ミラー 8 SEM(走査型電子顕微鏡) 9 フォトセンサー 10 ピエゾ 11 試料 12 レーザースポット 13 背高探針取り付け穴 14 切り抜き部分 15 ブリッジ部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silicon wafer 2 Probe 3 Cantilever 4 Lever fixing part 5 CCD camera 6 Laser output 7 Reflection mirror 8 SEM (scanning electron microscope) 9 Photosensor 10 Piezo 11 Sample 12 Laser spot 13 Tall probe mounting hole 14 Cutout part 15 Bridge part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−320919(JP,A) 特開 平7−253435(JP,A) 特開 平8−21845(JP,A) 特開 平10−221355(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 13/10 - 13/24 G12B 21/00 - 21/24 G01B 21/30 G01B 7/34 H01J 37/28 JICSTファイル(JOIS)────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-4-320919 (JP, A) JP-A-7-253435 (JP, A) JP-A-8-21845 (JP, A) JP-A-10- 221355 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01N 13/10-13/24 G12B 21/00-21/24 G01B 21/30 G01B 7/34 H01J 37/28 JICST file (JOIS)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 原子間力顕微鏡用の探針付き片持ちレバ
ーであって、レバーに設けられた穴に探針が挿嵌された
構造を有し、探針は、先端と逆の端部につば部を有し、
レバー穴への挿嵌状態においては、つば部がレバー表面
に当接し、この当接によって探針高さが定められてお
り、挿嵌状態でのレバー裏面から探針先端までの探針高
さが50μm以上であることを特徴とする原子間力顕微
鏡用片持ちレバー。
1. A cantilevered lever with a probe for an atomic force microscope having a structure in which a probe is inserted into a hole provided in the lever, wherein the probe has an end opposite to a tip. Has a brim,
When inserted into the lever hole, the collar part is on the lever surface.
The probe height is determined by this contact.
A cantilever for an atomic force microscope, wherein the height of the probe from the back surface of the lever to the tip of the probe in the inserted state is 50 μm or more.
【請求項2】 請求項1の原子間力顕微鏡用の片持ちレ
バーであって、レバーのレーザー光スポット部には1箇
所もしくは複数箇所のくり抜き部が設けられている片持
ちレバー。
2. A cantilever for an atomic force microscope according to claim 1.
A bar, one of which is located at the laser beam spot on the lever.
Cantilever lever with multiple or multiple cutouts .
【請求項3】 くり抜き部とこれに隣設するレバー部と
がレーザー光スポット部とされている請求項2の片持ち
レバー。
3. A hollow portion and a lever portion adjacent to the hollow portion.
3. The cantilevered lever according to claim 2 , wherein said is a laser beam spot portion .
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