JP3155323B2 - Method of manufacturing film capacitor and method of manufacturing metallized film for capacitor - Google Patents

Method of manufacturing film capacitor and method of manufacturing metallized film for capacitor

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JP3155323B2
JP3155323B2 JP04733392A JP4733392A JP3155323B2 JP 3155323 B2 JP3155323 B2 JP 3155323B2 JP 04733392 A JP04733392 A JP 04733392A JP 4733392 A JP4733392 A JP 4733392A JP 3155323 B2 JP3155323 B2 JP 3155323B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、メタライズドフィルム
コンデンサ、およびそれを製造するためのメタライズド
フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metallized film capacitor and a metallized film for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種のメタライズドフイルムコンデン
サは、通常、次のような工程を経て製造されている。ま
ず、図5に示すように、一定幅で長尺の誘電体フイルム
基材4の上面に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージ
ン用非蒸着部4Aを除いてアルミニウムまたは亜鉛等の
金属蒸着膜3を形成し、第1のメタライズドフィルム1
とする。
2. Description of the Related Art This type of metallized film capacitor is usually manufactured through the following steps. First, as shown in FIG. 5, a metal such as aluminum or zinc is formed on the upper surface of a long dielectric film substrate 4 having a constant width, except for a non-deposition portion 4A for margin having a constant width along one side edge. Forming a vapor-deposited film 3 and forming a first metallized film 1
And

【0003】次に、前記メタライズドフィルム1と同様
に、誘電体フイルム基材6の上面にマージン用非蒸着部
6Aを除いて金属蒸着膜5を形成してなる第2のメタラ
イズドフィルム2を、各マージン用非蒸着部4A,6A
が互いに反対側に位置し、かつ非蒸着部4A,6Aは他
方のフィルムの端縁より内方に位置するように、第1の
メタライズドフィルムと重ね合わせる。
Next, similarly to the metallized film 1, a second metallized film 2 in which a metal vapor-deposited film 5 is formed on the upper surface of a dielectric film substrate 6 except for a non-vapor-deposited portion 6A for margin is formed. Non-evaporation parts 4A, 6A for margin
Are located on opposite sides of each other, and the non-evaporated portions 4A and 6A are overlapped with the first metallized film such that they are located inside the edge of the other film.

【0004】さらに、この積層フィルム(1+2)を円
柱状に巻回した後、図6に示すようにこの円柱体7の両
端に、亜鉛,ハンダ等の電極8を熔射法等により形成
し、各電極8にリード線9をそれぞれ接続したうえ、全
体を外装10で覆うことにより完成品としている。
Further, after this laminated film (1 + 2) is wound in a cylindrical shape, electrodes 8 such as zinc and solder are formed on both ends of the cylindrical body 7 by a spraying method or the like as shown in FIG. A lead wire 9 is connected to each of the electrodes 8, and the entire product is covered with an exterior 10, thereby completing the product.

【0005】ところで、電気機器用等の交流回路におい
ては、コンデンサの異常による機器の損傷および火災事
故を防ぐために保安装置が設けられる場合があり、この
種の保安装置として一般に、異常電流により作動する電
気ヒューズ、温度上昇を利用した温度ヒューズ、コンデ
ンサケースの蓋等の変形を利用した圧力ヒューズなどが
利用されている。
Incidentally, in an AC circuit for electric equipment or the like, a security device may be provided in order to prevent damage to the device and a fire accident due to an abnormality in the capacitor, and this type of security device generally operates due to an abnormal current. Electric fuses, thermal fuses using a rise in temperature, pressure fuses using deformation of a lid of a capacitor case, and the like are used.

【0006】しかし、上記各ヒューズはいずれも応答速
度が十分ではなく、作動するまでに一定時間を要する欠
点があった。また、上記のようなヒューズ機能をコンデ
ンサ内部に組み込む提案もされているが、コンデンサケ
ースの強度等に制約が生じて、コンデンサの設計が困難
になるうえ、ヒューズ動作時の回路遮断機構を外部回路
として設けることが必要になり、コストがかかるという
欠点を有していた。
However, each of the above fuses has a drawback that the response speed is not sufficient, and a certain time is required until the fuses operate. It has also been proposed to incorporate the above-mentioned fuse function inside the capacitor. However, the strength of the capacitor case is restricted, which makes it difficult to design the capacitor. It has to be provided as a device, and there is a disadvantage that the cost is high.

【0007】そこで最近は、コンデンサ用メタライズド
フィルム自体にヒューズ機能を設け、上記欠点を改善す
る方策が採られ始めている。図7は、そのようなヒュー
ズ付きメタライズドフィルムの一例を示す。このメタラ
イズドフィルムは、前記図5におけるいずれか一方のメ
タライズドフィルム1(または2)として使用されるも
ので、その金属蒸着膜3(または5)には、幅方向に延
びる分割用非蒸着部11が形成され、金属蒸着膜3が多
数の矩形状部分3Aに分割されている。
Therefore, recently, measures have been taken to improve the above-mentioned drawbacks by providing a fuse function to the metallized film for a capacitor itself. FIG. 7 shows an example of such a metallized film with a fuse. This metallized film is used as one of the metallized films 1 (or 2) in FIG. 5 described above, and the non-evaporated portion 11 for division extending in the width direction is provided on the metal evaporated film 3 (or 5). The formed metal deposition film 3 is divided into a number of rectangular portions 3A.

【0008】このような非蒸着部11を形成するには、
フィルム基材4の対応箇所にオイルを吹き付けたうえ、
蒸着を行うことにより局部的に蒸着を阻止する方法、あ
るいはレーザー光によって蒸着膜を除去する方法などが
可能である。
In order to form such a non-evaporated portion 11,
After spraying oil on the corresponding portion of the film substrate 4,
A method of locally stopping deposition by performing deposition, a method of removing a deposited film by laser light, and the like are possible.

【0009】図7のメタライズドフィルムを使用した場
合、金属蒸着膜3,5の短絡が生じると、その短絡箇所
を含む矩形状部分3Aと電極8との接合部分P1が発熱
してヒューズとして断路し、短絡箇所への通電が停止さ
れる。
When the metallized film shown in FIG. 7 is used, when a short circuit occurs between the metal deposition films 3 and 5, the junction P1 between the rectangular portion 3A including the short-circuited portion and the electrode 8 generates heat and is disconnected as a fuse. Then, the current supply to the short-circuit portion is stopped.

【0010】しかし、上記のようなヒューズ構造では、
矩形状部分3Aと電極8との接触抵抗を正確に調整する
ことが困難であり、ヒューズ作用にばらつきが生じ易い
という欠点があった。
However, in the above fuse structure,
It is difficult to accurately adjust the contact resistance between the rectangular portion 3A and the electrode 8, and there is a disadvantage that the fuse action tends to vary.

【0011】図8は上記欠点を改良したメタライズドフ
ィルムを示し、このフィルムでは、マージン用非蒸着部
4とは反対側のフィルム端縁から一定距離離れた位置に
フィルム長手方向に延びるヒューズ用非蒸着部12が断
続的に形成されるとともに、ヒューズ用非蒸着部12か
らマージン用非蒸着部4に達する分割用非蒸着部11が
形成されていることを特徴とする。なお、これまでに製
造されているヒューズ用非蒸着部12は、その長手方向
端部が図9に示すようにコ字状に形成され、ヒューズ部
13は矩形状をなしていた。
FIG. 8 shows a metallized film in which the above disadvantages are improved. In this film, a non-deposited fuse extending in the longitudinal direction of the film is provided at a predetermined distance from an edge of the film opposite to the non-deposited portion 4 for margin. The portion 12 is formed intermittently, and the dividing non-deposited portion 11 extending from the fuse non-deposited portion 12 to the margin non-deposited portion 4 is formed. The non-deposited portion 12 for fuses manufactured so far has its longitudinal end formed in a U-shape as shown in FIG. 9, and the fuse portion 13 has a rectangular shape.

【0012】この例では、各ヒューズ用非蒸着部12の
間隙がヒューズ部13となっており、金属蒸着膜3,5
の短絡が生じると、その短絡箇所を含む矩形状部分3A
につながるヒューズ部13が発熱して断路し、短絡箇所
への通電が停止される。この例によれば、ヒューズ部1
3の幅を適宜設定することにより、ヒューズ部13が断
線に至る通電量を自在に設定できる利点を有する。
In this example, the gap between the non-deposited portions 12 for fuses serves as the fuse portion 13, and the metal deposited films 3, 5 are formed.
Is short-circuited, the rectangular portion 3A including the short-circuited portion
The fuse portion 13 connected to the fuse 13 generates heat and is disconnected, and the current supply to the short-circuit portion is stopped. According to this example, the fuse unit 1
By setting the width of 3 appropriately, there is an advantage that the amount of current flowing until the fuse portion 13 is disconnected can be freely set.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者らが
図9のヒューズ作用について種々の保安性試験を行った
結果、依然としてヒューズ作用にばらつきのあることが
確認された。この原因を詳細に検討したところ、その原
因は、ヒューズ部13の形状にあることが判明した。
However, the present inventors have conducted various security tests on the fuse action of FIG. 9, and as a result, it has been confirmed that the fuse action still varies. When the cause was examined in detail, it was found that the cause was due to the shape of the fuse portion 13.

【0014】すなわち、このヒューズ部13は一定幅の
矩形状であるから、過剰電流が流れるとまずヒューズ部
13の全域が発熱し(図9中斜線部分)、この発熱部分
のうち金属が蒸発しやすい部分から選択的に蒸発が始ま
る。そして一旦、蒸発が生じると、幅が狭くなった部分
に発熱が集中してヒューズ部13が一挙に切れるという
過程を経る。この過程では、ヒューズ部13の僅かな肉
厚誤差や僅かな幅誤差等の影響が拡大され、蒸発開始時
点のずれを招くため、ヒューズ切断に至る電流値に比較
的大きなばらつきが発生して、ヒューズ作用の不安定さ
につながるのである。
That is, since the fuse section 13 has a rectangular shape with a constant width, when an excess current flows, first, the entire area of the fuse section 13 generates heat (hatched portion in FIG. 9), and the metal of the heat generating portion evaporates. Evaporation starts selectively from the easy part. Then, once evaporation occurs, heat is concentrated on the narrowed portion, and the fuse portion 13 is cut off at once. In this process, the influence of a slight thickness error or a slight width error of the fuse portion 13 is enlarged, and a shift at the start of evaporation is caused. This leads to instability of the fuse action.

【0015】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、安定したヒューズ作用が得られるフィルムコンデン
サおよびコンデンサ用メタライズドフィルムを提供する
ことを課題としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a film capacitor and a metallized film for the capacitor which can obtain a stable fuse action.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のコンデンサ用メタライズドフィルムの製造
方法は、一定幅で長尺のプラスチック製フィルム基材の
上面に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージン用非蒸
着部を除いて金属蒸着膜を形成する工程と前記フィル
ム基材を走行させながら、前記金属蒸着膜の、フィルム
の他方の側縁から一定距離離れた位置に、円形に集光し
たレーザー光を断続的に照射することにより照射箇所の
金属蒸着膜を蒸発させ、フィルム基材の長手方向に延び
かつその両端縁が隣接するヒューズ部に向けて凸となる
半円形状に形成されたヒューズ用非蒸着部を断続的に形
成することにより、これらヒューズ用非蒸着部同士の間
隙に一定幅のヒューズ部をそれぞれ形成する工程と、
記金属蒸着膜に、フィルム基材の幅方向に延び、少なく
ともヒューズ用非蒸着部からマージン用非蒸着部に達す
る領域分割用非蒸着部を形成する工程とを具備すること
を特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the production of a metallized film for a capacitor according to the present invention is provided.
Method, the upper surface of the long plastic film substrate with a constant width, and forming a metal evaporated film except the non-deposition portion for margin constant width along the side edges of the other hand, the fill
While running the base material, the metal vapor-deposited film is condensed in a circle at a position away from the other side edge of the film by a certain distance.
Laser beam intermittently,
Evaporates the metal deposition film and extends in the longitudinal direction of the film base
And both end edges are convex toward the adjacent fuse portion.
Forming a non-deposited portion for a fuse formed in a semicircular shape intermittently, thereby forming a fuse portion having a fixed width in a gap between the non-deposited portions for a fuse, and forming a film on the metal-deposited film. Forming a non-deposition portion for region division extending at least from the non-deposition portion for fuse to the non-deposition portion for margin extending in the width direction of the base material.

【0017】前記金属蒸着膜はアルミニウム,亜鉛,銅
またはこれらの合金から選択される1種または2種以上
の金属により形成されていてもよい。さらに前記フィル
ム基材は、ポリエチレンテレフタレート,ポリプロピレ
ン,ポリスチレン,ポリカーボネイト,ポリ4フッ化エ
チレン,ポリエチレンから選択されていてもよい。
[0017] The metal evaporated film is aluminum, zinc, copper or may be formed by one or more metals selected from these alloys. Further, the film substrate may be selected from polyethylene terephthalate, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polytetrafluoroethylene, and polyethylene.

【0018】一方、本発明のフィルムコンデンサの製造
方法は、一定幅で長尺のプラスチック製フィルム基材の
上面に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージン用非蒸
着部を除いて金属蒸着膜を形成する工程と、前記フィル
ム基材を走行させながら、前記金属蒸着膜の、フィルム
の他方の側縁から一定距離離れた位置に、円形に集光し
たレーザー光を断続的に照射することにより照射箇所の
金属蒸着膜を蒸発させ、フィルム基材の長手方向に延び
かつその両端縁が隣接するヒューズ部に向けて凸となる
半円形状に形成されたヒューズ用非蒸着部を断続的に形
成することにより、これらヒューズ用非蒸着部同士の間
隙に一定幅のヒューズ部をそれぞれ形成する工程と、前
記金属蒸着膜に、フィルム基材の幅方向に延び、少なく
ともヒューズ用非蒸着部からマージン用非蒸着部に達す
る領域分割用非蒸着部を形成してコンデンサ製造用フィ
ルムを得る工程と、前記コンデンサ製造用フィルムを
1フィルムとする一方、この第1フィルムの前記フィル
ム基材と同幅かつ同長のプラスチック製フィルム基材の
上面に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージン用非蒸
着部を除いて金属蒸着膜を形成した第2フィルムを、こ
の第2フィルムのマージン用非蒸着部が前記第1フィル
ムのヒューズ用非蒸着部と対応し、かつ第1フィルムの
マージン用非蒸着部が第2フィルムの金属蒸着膜と対応
するように、第1フィルムに重ね合わせて積層フィルム
を得る工程と、前記積層フィルムを円柱状に巻回し、こ
の円柱体の両端にそれぞれ電極を接続することによりこ
れら電極を前記各金属蒸着膜にそれぞれ接続する工程と
を具備することを特徴とする。
On the other hand, production of the film capacitor of the present invention
The method is to use a long plastic film base material with a fixed width.
On top, a non-steaming margin for a fixed width along one side edge
Forming a metal deposition film excluding the attachment portion,
While running the base material, the film
Focus at a certain distance from the other side edge of
Laser beam intermittently,
Evaporates the metal deposition film and extends in the longitudinal direction of the film base
And both end edges are convex toward the adjacent fuse portion.
The non-evaporated part for the fuse formed in a semicircular shape is intermittently formed.
By forming, between these non-deposited parts for fuses
Forming a fixed width fuse portion in each gap;
The metal deposited film extends in the width direction of the film base
Both reach from non-deposited part for fuse to non-deposited part for margin
To form a non-deposited area for
A step of obtaining a film, and forming the capacitor-producing film as a first film, on the upper surface of a plastic film substrate having the same width and the same length as the film substrate of the first film, with one side edge thereof. A second film on which a metal vapor-deposited film is formed except for a non-deposited portion for margin having a constant width along the second film, wherein the non-deposited portion for margin of the second film corresponds to the non-deposited portion for fuse of the first film, and The laminated film is superimposed on the first film so that the non-deposited portion for margin of one film corresponds to the metal deposited film of the second film.
And obtaining a wound the laminate film into a cylindrical shape, a step of connecting each of the electrodes to the each metal deposition film by connecting each electrode to both ends of the cylindrical body
It is characterized by having .

【0019】[0019]

【作用】本発明のフィルムコンデンサの製造方法および
コンデンサ用メタライズドフィルムの製造方法によれ
ば、ヒューズ部の形状がその中央部の幅が両端部よりも
狭い形状となるため、過剰電流が流れると相対的に電気
抵抗の高いヒューズ部の中央部が集中的に発熱し、この
中央部から確実に蒸発が始まる。したがって、ヒューズ
部が断線する臨界電流値に対する、ヒューズ部の僅かな
肉厚誤差や僅かな寸法誤差等の影響が小さく、前記臨界
電流値のばらつきが小さく、安定したヒューズ作用が得
られる。
According to the manufacturing method of preparation and the metallized film for a capacitor film capacitor the present invention, since the width of the central portion shape of the fuse part is narrower shape than both end portions, an excessive current flows relative The central part of the fuse part, which has a high electrical resistance, generates heat intensively, and evaporation starts from this central part without fail. Therefore, the influence of a slight thickness error or a slight dimensional error of the fuse portion on the critical current value at which the fuse portion is disconnected is small, the variation of the critical current value is small, and a stable fuse action can be obtained.

【0020】[0020]

【実施例】次に、本発明に係わるフィルムコンデンサお
よびコンデンサ用メタライズドフィルムの実施例を詳細
に説明する。図1および図2はメタライズドフィルムの
一実施例を示す図であり、符号4は一定幅で長尺のプラ
スチック製フィルム基材、3はフィルム基材4の上面に
形成された金属蒸着膜3である。
Next, embodiments of the film capacitor and the metallized film for the capacitor according to the present invention will be described in detail. FIGS. 1 and 2 show an embodiment of a metallized film. Reference numeral 4 denotes a long plastic film base material having a constant width, and reference numeral 3 denotes a metal vapor-deposited film 3 formed on the upper surface of the film base material 4. is there.

【0021】この金属蒸着膜3は、フィルム基材4の一
方の側縁に沿う一定幅でフィルム長手方向に延びるマー
ジン用非蒸着部4Aと、フィルム基材4の他方の側縁か
ら一定距離離れた位置においてフィルム長手方向に断続
的に延びるヒューズ用非蒸着部20と、フィルム幅方向
に延びてヒューズ用非蒸着部20からマージン用非蒸着
部4Aに達する領域分割用非蒸着部11とをそれぞれ除
く、フィルム基材4の上面全面に亙って形成されてい
る。
The metal deposition film 3 is separated from the margin non-deposition portion 4A extending in the longitudinal direction of the film at a constant width along one side edge of the film substrate 4 by a predetermined distance from the other side edge of the film substrate 4. The non-deposited portion 20 for fuses extending intermittently in the longitudinal direction of the film at the position where the fuse is formed, and the non-deposited portion 11 for region division extending from the non-deposited portion 20 for fuses to reach the non-deposited portion 4A for margin extending in the film width direction. It is formed over the entire upper surface of the film substrate 4 except for the upper surface.

【0022】フィルム基材4の材質となるプラスチック
は限定されないが、好ましくは、ポリエチレンテレフタ
レート,ポリプロピレン,ポリスチレン,ポリカーボネ
イト,ポリ4フッ化エチレン,ポリエチレンから選択さ
れる1種、または2種以上を積層して形成されたものが
好ましく、その厚さは必要に応じて設定される。
The plastic used as the material of the film substrate 4 is not limited, but preferably, one or two or more selected from polyethylene terephthalate, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polytetrafluoroethylene, and polyethylene are laminated. The thickness is set as required.

【0023】金属蒸着膜3は、アルミニウム,亜鉛,銅
またはこれらの合金から選択される1種または2種以上
の金属により形成されていることが好ましく、その厚さ
は必要に応じて適宜設定される。金属蒸着膜3が前記金
属製であれば、製造コストが比較的安く、良好なコンデ
ンサ性能およびヒューズ性能が得られる。
The metal deposition film 3 is preferably formed of one or more metals selected from aluminum, zinc, copper and alloys thereof, and the thickness is appropriately set as required. You. If the metal deposition film 3 is made of the metal, the production cost is relatively low, and good capacitor performance and good fuse performance can be obtained.

【0024】この実施例の主たる特徴は、ヒューズ用非
蒸着部20のフィルム長手方向の両端縁20Aがそれぞ
れ半円弧形に形成されることにより、ヒューズ部21の
中央部での幅W2が両端部での幅よりも小さくなってい
る点にある。すなわち、これら両端縁20Aの曲率半径
Rは、ヒューズ用非蒸着部20の幅W1の1/2となっ
ている。幅W1の値は限定されないが、一般的には0.
1〜1.0mm程度とされ、またヒューズ部21の中央
幅W2は0.1〜2.0mm程度が好ましい。
The main feature of this embodiment is that the both ends 20A in the longitudinal direction of the film of the non-deposited portion 20 for the fuse are formed in a semicircular shape, so that the width W2 at the center of the fuse portion 21 is reduced at both ends. The point is that it is smaller than the width at the part. That is, the radii of curvature R of these two end edges 20A are の of the width W1 of the non-deposited portion 20 for fuse. The value of the width W1 is not limited, but is generally set to 0.
The center width W2 of the fuse portion 21 is preferably about 0.1 to 2.0 mm.

【0025】ただし、本発明は図示の例に限定されるも
のではなく、ヒューズ用非蒸着部20のフィルム長手方
向の両端縁20Aを楕円状や三角形状に形成してもよ
い。すなわち、ヒューズ部21の中央部の幅が両端部の
幅よりも小さくなっていさえすればよい。
However, the present invention is not limited to the illustrated example, and both end edges 20A in the longitudinal direction of the film of the non-deposited fuse portion 20 may be formed in an elliptical shape or a triangular shape. That is, it is only necessary that the width of the central portion of the fuse portion 21 be smaller than the width of both end portions.

【0026】また、図ではヒューズ用非蒸着部20の1
つおきに領域分割用非蒸着部11を形成し、各矩形状部
分3A毎に2つのヒューズ部21を形成しているが、本
発明はこれに限らず、領域分割用非蒸着部11の間隔は
任意に変更してよい。
Also, in the drawing, one of the non-deposition portions 20 for fuses is shown.
The non-evaporated portions 11 for region division are formed every other region, and two fuse portions 21 are formed for each of the rectangular portions 3A. However, the present invention is not limited to this. May be changed arbitrarily.

【0027】上記のようなメタライズドフィルムを製造
するには、例えば、フィルム基材4の各非蒸着部20,
11と対応する箇所にオイルを吹き付けたうえで、マー
ジン用非蒸着部4Aを除く部分に蒸着を行い、局部的に
蒸着を阻止する方法なども可能であるが、より高精度に
非蒸着部を形成するにはレーザー光を用いるとよい。
In order to produce the metallized film as described above, for example, the non-deposited portions 20 of the film substrate 4
A method of spraying oil on the portion corresponding to 11 and then performing evaporation on portions other than the non-evaporation portion for margin 4A to locally stop the evaporation is possible, but the non-evaporation portion can be more precisely formed. Laser light may be used for the formation.

【0028】レーザー光を使用した製造方法は、例えば
次のように行う。真空容器内で未裁断で幅広のフィルム
基材4を連続走行させつつ、そのマージン用非蒸着部4
Aを除く部分に金属蒸着膜3を形成した後、金属蒸着膜
3の各非蒸着部11,20を形成すべき部分に、レーザ
ー光照射装置により非蒸着部11,20の幅と等しい直
径の円形に集光したレーザー光をそれぞれ照射する(図
2の符号22参照)。
A manufacturing method using a laser beam is performed, for example, as follows. While continuously running the uncut and wide film base material 4 in a vacuum container, the non-evaporation part 4 for the margin is used.
After the metal-deposited film 3 is formed on the portion excluding the portion A, the portions of the metal-deposited film 3 where the respective non-deposited portions 11 and 20 are to be formed have a diameter equal to the width of the non-deposited portions 11 and 20 by a laser beam irradiation device. Each of the circularly focused laser beams is irradiated (see reference numeral 22 in FIG. 2).

【0029】これにより、照射箇所の金属蒸着膜3は蒸
発し、フィルム基材4が露出する。次いで、幅広のフィ
ルム基材4をスリッターにかけて複数の帯状に裁断し、
それぞれを巻き取ってメタライズドフィルムとすればよ
い。
As a result, the metal deposition film 3 at the irradiated location evaporates, exposing the film substrate 4. Next, the wide film substrate 4 is cut into a plurality of strips by slitting,
What is necessary is just to wind each and to make a metallized film.

【0030】次に、上記メタライズドフィルムを使用し
たフィルムコンデンサの一実施例を説明する。図3はそ
の一例を示す断面図であり、符号1は上述したメタライ
ズドフィルム(第1フィルム)、符号2は第2フィルム
である。
Next, an embodiment of a film capacitor using the metallized film will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view showing one example thereof, wherein reference numeral 1 denotes the above-described metallized film (first film), and reference numeral 2 denotes a second film.

【0031】第2フィルム2は、前記フィルム基材4と
同幅かつ同長のプラスチック製フィルム基材6の上面
に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージン用非蒸着部
6Aを除いて金属蒸着膜5を形成したものであり、第1
フィルム1のようなヒューズ用非蒸着部およびマージン
用非蒸着部は有しない。マージン用非蒸着部6Aは、通
常、マージン用非蒸着部4Aと同一幅に設定されるが、
必ずしも同一である必要はなく、多少値を変えてもよ
い。
The second film 2 is formed on the upper surface of a plastic film substrate 6 having the same width and the same length as the film substrate 4 except for a marginal non-evaporated portion 6A having a constant width along one side edge. The first metal deposition film 5 is formed.
It does not have the non-deposited portion for fuse and the non-deposited portion for margin like the film 1. Normally, the margin non-deposition portion 6A is set to have the same width as the margin non-deposition portion 4A.
The values do not necessarily have to be the same, and the values may be slightly changed.

【0032】上記構成からなるフィルムコンデンサおよ
びコンデンサ用メタライズドフィルムによれば、ヒュー
ズ部21の形状をその中央部の幅が両端部よりも狭い鼓
状としたため、過剰電流が流れると相対的に電気抵抗の
高いヒューズ部21の中央部が集中的に発熱し、この中
央部がすばやく蒸発する。したがって、ヒューズ部21
が断線する臨界電流値に対しての、ヒューズ部21の僅
かな肉厚誤差や僅かな寸法誤差等の影響が小さいから、
前記臨界電流値のばらつきが小さく、安定したヒューズ
作用が得られる。
According to the film capacitor and the metallized film for a capacitor having the above-described structure, the fuse portion 21 has a drum-like shape in which the width at the center is narrower than that at both ends, so that when an excessive current flows, the electric resistance is relatively reduced. The central portion of the high fuse portion 21 generates heat intensively, and this central portion evaporates quickly. Therefore, the fuse portion 21
The influence of a slight thickness error or a slight dimensional error of the fuse portion 21 on the critical current value at which the wire breaks is small.
The variation of the critical current value is small, and a stable fuse action can be obtained.

【0033】[0033]

【実験例】次に、実験例を挙げて本発明の効果を実証す
る。厚さ4.8μmのポリエチレンテレフタレート製フ
ィルムを用い、図1に示すような本発明のコンデンサ製
造用フィルム(実験例)および図8に示すような従来の
コンデンサ製造用フィルム(比較例)をそれぞれ製造し
た。
[Experimental Example] Next, the effect of the present invention will be demonstrated with an experimental example. Using a film made of polyethylene terephthalate having a thickness of 4.8 μm, a film for producing a capacitor of the present invention as shown in FIG. 1 (experimental example) and a conventional film for producing a capacitor as shown in FIG. 8 (comparative example) were produced. did.

【0034】実験例と比較例の共通寸法は以下の通りで
ある。 フィルム幅:30mm マージン用非蒸着部4Aの幅:1.5mm ヒューズ用非蒸着部20および領域分割用非蒸着部11
の幅:0.5mm 蒸着金属:アルミニウム 蒸着量:面積抵抗値3.5オーム/cm2 実験例では、ヒューズ用非蒸着部20の両端部を曲率半
径0.5mmの半円形にする一方、比較例では矩形状と
した点のみが異なる。
The common dimensions of the experimental example and the comparative example are as follows. Film width: 30 mm Width of non-deposited portion 4A for margin: 1.5 mm Non-deposited portion 20 for fuse and non-deposited portion 11 for area division
Width: 0.5mm deposited metal: aluminum deposited amount: The sheet resistance 3.5 ohms / cm 2 Experiment, while both ends of the fuse non deposition unit 20 to the semi-circular curvature radius 0.5 mm, compared In the example, only a rectangular point is different.

【0035】得られた実験例および比較例のフィルムを
用いてそれぞれ全く同様にフィルムコンデンサを作成
し、得られたコンデンサのそれぞれに対し、JIS−C
4908で規定される保安性試験を行った。この保安性
試験は、コンデンサを±3℃に強制冷却できる恒温槽内
に入れて恒温に保ちつつ、図4に示す回路をコンデンサ
Cxに接続し、次の手順で行った。
Film capacitors were prepared in exactly the same manner using the films obtained in the experimental examples and the comparative examples, and the obtained capacitors were subjected to JIS-C
A security test specified in 4908 was performed. This security test was performed by connecting the circuit shown in FIG. 4 to the capacitor Cx while keeping the capacitor in a constant temperature bath capable of forcibly cooling to ± 3 ° C. while maintaining the temperature constant, and performing the following procedure.

【0036】 開閉器Sを開放の位置にし、コンデン
サCxに50Hzの正弦波に近い波形をもつ定格電圧の
1.3倍の電圧を印加する。 開閉器Sを端子bに切り替え、放電用コンデンサC
oにコンデンサCxの定格電圧の7倍の直流電圧を印加
する。Coの容量はCxの容量の2倍とする。 放電用コンデンサCoが充電されたら、開閉器Sを
端子aに切り替え、Coの電荷を定格電圧の1.3倍の
交流電圧が印加されているCxに放電する。 放電後、再び開閉器Sを端子bに戻し、以下、同じ
操作を繰り返す。このときの放電頻度は、15秒に1回
とする。 交流電流計で電流値を記録し、Cxに流れる交流電
流がほぼ0になったとき、この試験を終了し、そのサイ
クル回数を記録する。 上記保安性試験の結果を表1に示す。
The switch S is set to the open position, and a voltage 1.3 times the rated voltage having a waveform close to a 50 Hz sine wave is applied to the capacitor Cx. The switch S is switched to the terminal b and the discharging capacitor C
A DC voltage seven times the rated voltage of the capacitor Cx is applied to o. The capacity of Co is twice the capacity of Cx. When the discharging capacitor Co is charged, the switch S is switched to the terminal a, and the electric charge of Co is discharged to Cx to which an AC voltage 1.3 times the rated voltage is applied. After the discharge, the switch S is returned to the terminal b again, and the same operation is repeated thereafter. The discharge frequency at this time is once every 15 seconds. The current value is recorded by an AC ammeter, and when the AC current flowing through Cx becomes almost 0, the test is terminated and the number of cycles is recorded. Table 1 shows the results of the security test.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】表1から明らかなように、実験例のフィル
ムを用いて作成した10個のコンデンサでは、サイクル
回数が476〜593の範囲であったのに対し、比較例
のフィルムでは205〜981と大きく値がばらつい
た。
As is clear from Table 1, the cycle number was in the range of 476 to 593 in the ten capacitors manufactured using the film of the experimental example, while the cycle number was in the range of 205 to 981 in the film of the comparative example. The values fluctuated greatly.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るメタ
ライズドフィルムコンデンサの製造方法およびフィルム
コンデンサの製造方法によれば、ヒューズ部の形状をそ
の中央部の幅が両端部よりも狭い形状となるから、過剰
電流が流れると相対的に電気抵抗の高いヒューズ部の中
央部が集中的に発熱し、この中央部から確実に蒸発が始
まる。したがって、ヒューズ部が断線する臨界電流値に
対する、ヒューズ部の僅かな肉厚誤差や僅かな寸法誤差
等の影響が小さく、前記臨界電流値のばらつきが小さ
く、安定したヒューズ作用が得られる。
As described in the foregoing, according to the manufacturing method and the film production method of the capacitor metallized film capacitor in accordance with the present invention, the shape of the fuse part is the width of the center portion becomes narrower shape than both end portions from the central portion of the high fuse portion relatively electrical resistance and excess current flows to generate heat intensive, certainly evaporation starts from the central portion. Therefore, the influence of a slight thickness error or a slight dimensional error of the fuse portion on the critical current value at which the fuse portion is disconnected is small, the variation of the critical current value is small, and a stable fuse action can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わるコンデンサ製造用フィルムの一
実施例を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of a film for manufacturing a capacitor according to the present invention.

【図2】同コンデンサ製造用フィルムのヒューズ部の拡
大図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a fuse portion of the film for manufacturing a capacitor.

【図3】同コンデンサ製造用フィルムを使用したコンデ
ンサの要部断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a main part of a capacitor using the film for manufacturing a capacitor.

【図4】保安性試験に使用した回路を示す回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a circuit used for a security test.

【図5】従来のフィルムコンデンサの要部の断面図であ
る。
FIG. 5 is a sectional view of a main part of a conventional film capacitor.

【図6】従来のフィルムコンデンサの平面図である。FIG. 6 is a plan view of a conventional film capacitor.

【図7】従来のコンデンサ製造用フィルムの平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view of a conventional film for manufacturing a capacitor.

【図8】従来のコンデンサ製造用フィルムの平面図であ
る。
FIG. 8 is a plan view of a conventional film for manufacturing a capacitor.

【図9】従来のコンデンサ製造用フィルムのヒューズ部
の拡大図である。
FIG. 9 is an enlarged view of a fuse portion of a conventional film for manufacturing a capacitor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンデンサ製造用フィルム(第1フィルム) 2 第2フィルム 3,5 金属蒸着膜 3A 分割部分 3B 電極接続部分 4,6 フィルム基材 4A,6A マージン用非蒸着部 11 領域分割用非蒸着部 20 ヒューズ用非蒸着部 20A ヒューズ部の両端縁 21 ヒューズ部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film for capacitor manufacture (1st film) 2 2nd film 3,5 Metal deposition film 3A Dividing part 3B Electrode connection part 4,6 Film base 4A, 6A Non-deposition part for margin 11 Non-deposition part for area division 20 Fuse Non-evaporation part 20A Both ends of fuse part 21 Fuse part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−22514(JP,A) 特開 昭58−66318(JP,A) 特開 昭62−18703(JP,A) 特開 平4−123414(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 4/00 - 4/40 H01G 13/00 - 13/06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-3-22514 (JP, A) JP-A-58-66318 (JP, A) JP-A-62-18703 (JP, A) JP-A-4- 123414 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01G 4/00-4/40 H01G 13/00-13/06

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一定幅で長尺のプラスチック製フィルム
基材の上面に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージン
用非蒸着部を除いて金属蒸着膜を形成する工程と、 前記フィルム基材を走行させながら、 前記金属蒸着膜
、フィルムの他方の側縁から一定距離離れた位置に
円形に集光したレーザー光を断続的に照射することによ
り照射箇所の金属蒸着膜を蒸発させ、フィルム基材の長
手方向に延びかつその両端縁が隣接するヒューズ部に向
けて凸となる半円形状に形成されたヒューズ用非蒸着部
を断続的に形成することにより、これらヒューズ用非蒸
着部同士の間隙に一定幅のヒューズ部をそれぞれ形成
る工程と、 前記金属蒸着膜に、フィルム基材の幅方向に延び、少な
くともヒューズ用非蒸着部からマージン用非蒸着部に達
する領域分割用非蒸着部を形成する工程とを具備する
とを特徴とするコンデンサ用メタライズドフィルムの製
造方法
A step of forming a metal vapor-deposited film on the upper surface of a long plastic film base material having a constant width except for a non-deposition portion for margin having a constant width along one side edge thereof; While running the material, the metal deposition film
At a certain distance from the other side edge of the film ,
By intermittently irradiating circularly focused laser light
The metal deposition film at the irradiated location is evaporated to extend in the longitudinal direction of the film substrate, and both end edges thereof are directed to the adjacent fuse portion.
By forming the non-deposited portion for fuse formed in a semicircular shape that becomes convex in a continuous manner, a fuse portion having a fixed width is formed in a gap between these non-deposited portions for fuse .
And that step, the metal evaporated film, extending in the width direction of the film substrate, this comprising the step of forming at least a non-deposition portion area divided from the non-deposition portion fuse reaches the non-deposition portion for margin <br Production of metallized film for capacitors, characterized by
Construction method .
【請求項2】 前記金属蒸着膜をアルミニウム,亜鉛,2. The method according to claim 1, wherein the metal deposition film is made of aluminum, zinc,
銅またはこれらの合金から選択される1種または2種以One or more selected from copper or their alloys
上の金属により形成することを特徴とする請求項1記載2. The method according to claim 1, wherein the metal is formed from the above metal.
のコンデンサ用メタライズドフィルムの製造方法。Production method of metallized film for capacitors.
【請求項3】 前記フィルム基材として、ポリエチレン3. The film base material is polyethylene.
テレフタレート,ポリプロピレン,ポリスチレン,ポリTerephthalate, polypropylene, polystyrene, poly
カーボネイト,ポリ4フッ化エチレン,ポリエチレンかCarbonate, polytetrafluoroethylene, polyethylene?
ら選択される1種または2種以上のプラスチックを使用Use one or more plastics selected from
することを特徴とする請求項1または2記載のコンデンThe condensation according to claim 1 or 2, wherein
サ用メタライズドフィルムの製造方法。Manufacturing method of metallized film for sa.
【請求項4】 一定幅で長尺のプラスチック製フィルム4. A long plastic film having a constant width.
基材の上面に、その一方の側縁に沿う一定幅のマージンA fixed width margin along one side edge of the top surface of the substrate
用非蒸着部を除いて金属蒸着膜を形成する工程と、Forming a metal deposition film except for the non-deposition part for, 前記フィルム基材を走行させながら、前記金属蒸着膜While running the film substrate, the metal deposition film
の、フィルムの他方の側縁から一定距離離れた位置に、At a certain distance from the other side edge of the film,
円形に集光したレーザー光を断続的に照射することによBy intermittently irradiating circularly focused laser light
り照射箇所の金属蒸着膜を蒸発させ、フィルム基材の長Evaporates the metal deposition film on the irradiated area
手方向に延びかつその両端縁が隣接するヒューズ部に向Extends in the hand direction with both edges facing the adjacent fuse section.
けて凸となる半円形状に形成されたヒューズ用非蒸着部Non-deposited part for fuse formed in semicircular shape
を断続的に形成することにより、これらヒューズ用非蒸By forming the fuses intermittently,
着部同士のBetween the wearing parts 間隙に一定幅のヒューズ部をそれぞれ形成すForm a fixed width fuse section in each gap
る工程と、Process, 前記金属蒸着膜に、フィルム基材の幅方向に延び、少なThe metal deposition film extends in the width direction of the film base,
くともヒューズ用非蒸着部からマージン用非蒸着部に達At least from non-deposited part for fuse to non-deposited part for margin
する領域分割用非蒸着部を形成してコンデンサ製造用フForming a non-evaporated part for dividing the
ィルムを得る工程と、Obtaining a film; 前記コンデンサ製造用フィルムを第1フィルムとする一The film for producing a capacitor is referred to as a first film.
方、この第1フィルムの前記フィルム基材と同幅かつ同On the other hand, the first film has the same width and the same
長のプラスチック製フィルム基材の上面に、その一方のOn the top of a long plastic film substrate,
側縁に沿う一定幅のマージン用非蒸着部を除いて金属蒸Except for the non-deposited part for margin with a fixed width along the side edge,
着膜を形成した第2フィルムを、この第2フィルムのマThe second film having the film formed thereon is bonded to the second film.
ージン用非蒸着部が前記第1フィルムのヒューズ用非蒸The non-deposited portion for the resin is the non-deposited portion for the fuse of the first film.
着部と対応し、かつ第1フィルムのマージン用非蒸着部Non-evaporated part for the margin of the first film, corresponding to the attachment part
が第2フィルムの金属蒸着膜と対応するように、第1フCorrespond to the metal-deposited film of the second film.
ィルムに重ね合わせて積層フィルムを得る工程と、A step of obtaining a laminated film by superimposing on the film, 前記積層フィルムを円柱状に巻回し、この円柱体の両端The laminated film is wound into a cylindrical shape, and both ends of the cylindrical body are wound.
にそれぞれ電極を接続することによりこれら電極を前記These electrodes are connected to the
各金属蒸着膜にそれぞれ接続する工程とを具備することConnecting to each of the metal deposition films.
を特徴とするフィルムコンデンサの製造方法。A method for manufacturing a film capacitor, comprising:
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