JP3153963B2 - Mold with two-layer plating film - Google Patents

Mold with two-layer plating film

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JP3153963B2 JP20675191A JP20675191A JP3153963B2 JP 3153963 B2 JP3153963 B2 JP 3153963B2 JP 20675191 A JP20675191 A JP 20675191A JP 20675191 A JP20675191 A JP 20675191A JP 3153963 B2 JP3153963 B2 JP 3153963B2
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宏之 藤本
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、2層のメッキ被膜を有
し、離型性に特に優れた金型に関する。本明細書におい
て、“%”とあるのは、“重量%”を意味する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mold having two layers of plating films and having particularly excellent releasability. In this specification, “%” means “% by weight”.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその課題】プラスチックなどの成形用
金型においては、離型性、耐摩耗性などを改善するため
に、鉄鋼、銅などの金属製金型の成形品形成表面に硬質
クロムメッキ、ニッケルメッキなどの被膜を形成するこ
とが行なわれてきた。しかしながら、この様な被膜を備
えた金型においては、成形品の離型性が不十分であり、
成形品が表面に付着して、不良品発生率が高くなるとい
う難点がある。離型性の改善のためには、予め離型剤を
金型に塗布し、成型するすることも行われれている。し
かしながら、離型剤を金型に均一に塗布することは非常
に煩雑であり、樹脂の種類、成形品の形状などによって
は、離型剤の塗布を短時間内に繰り返し行なう必要があ
る。
2. Description of the Related Art For molding dies such as plastics, hard chromium plating is applied to the surface of a metal mold such as steel, copper, etc. in order to improve mold releasability and wear resistance. And the formation of a coating such as nickel plating. However, in a mold having such a coating, the releasability of a molded product is insufficient,
There is a disadvantage that the molded product adheres to the surface and the defective product generation rate increases. In order to improve the releasability, a mold release agent is applied to a mold in advance and molded. However, it is very complicated to uniformly apply the release agent to the mold, and it is necessary to repeatedly apply the release agent within a short time depending on the type of the resin, the shape of the molded product, and the like.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みて研究を進めた結果、自己潤
滑性、低摩擦性、撥水性、撥油性、非粘着性などの特異
な性質を有するフッ化ピッチを金型に適用することによ
り、金型の性能を改善することを着想した。そして引続
く研究の結果、金型表面にマトリックス金属中にフッ化
ピッチ粒子を分散共析させた複合メッキ層およびクロム
メッキ層を順次形成する場合には、従来技術の問題点が
大幅に軽減乃至実質的に解消されることを見出した。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has conducted research in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has found that self-lubrication, low friction, water repellency, oil repellency, non-adhesion, etc. It was conceived to improve the performance of a mold by applying a pitch fluoride having the unique property of (1) to the mold. As a result of the subsequent research, when sequentially forming a composite plating layer and a chromium plating layer in which the pitch fluoride particles are dispersed and eutectoid in the matrix metal on the mold surface, the problems of the prior art are greatly reduced or It was found that it was practically eliminated.

【0004】すなわち、本発明は、下記の金型を提供す
るものである:「成型品形成表面にフッ化ピッチ粒子を
共析させた複合メッキ層およびクロムメッキ層を順次形
成してなる2層のメッキ被膜を有する金型。」
[0004] That is, the present invention provides the following mold: "Two layers formed by sequentially forming a composite plating layer and a chromium plating layer in which a pitch fluoride particle is codeposited on the surface of a molded article. A mold with a plated coating of "."

【0005】以下、本発明で使用するフッ化ピッチ、金
型表面に本発明による2層のメッキ被膜を形成する方法
などについて詳細に説明する。
Hereinafter, pitch fluoride used in the present invention, a method of forming a two-layer plating film on a mold surface according to the present invention, and the like will be described in detail.

【0006】本発明で用いるフッ化ピッチは、組成式C
Fx(0.5<x<1.8)で表される組成を有する化
合物であって、各炭素原子にフッ素が1〜3個共有結合
によって強固に結合したものである。その性状は、フッ
化黒鉛に類似した層状構造を有し、褐色〜黄白色〜白色
を呈し、自己潤滑性、耐水性、耐薬品性、撥水性、撥油
性、非粘着性などに優れ、空気中で非常に安定な化合物
であり、工業的には、ピッチを常温付近でフッ素ガスと
直接反応させることにより得られる。その具体的な製造
方法、構造などについては、特開昭62−275190
号に開示されている。
The pitch fluoride used in the present invention has a composition formula C
A compound having a composition represented by Fx (0.5 <x <1.8), in which one to three fluorine atoms are firmly bonded to each carbon atom by a covalent bond. It has a layered structure similar to fluorinated graphite, has a brown to yellowish white to white color, and has excellent self-lubricating properties, water resistance, chemical resistance, water repellency, oil repellency, non-adhesiveness, etc. It is a very stable compound in water, and can be obtained industrially by directly reacting pitch with fluorine gas at around normal temperature. The specific manufacturing method and structure thereof are described in JP-A-62-275190.
Issue.

【0007】本発明では、複合メッキ層を形成するため
のメッキ液(以下複合メッキ液という)に添加するフッ
化ピッチの粒径は、特に限定されるものではないが、2
層からなるメッキ被膜全体の膜厚よりも大きい場合に
は、メッキ面の摩擦によりフッ化ピッチが脱落するの
で、微粒子状のフッ化ピッチを使用することが望まし
く、通常10μm程度以下であり、1μm程度以下のも
のがより好ましい。複合メッキ液中のフッ化ピッチの添
加量は、特に限定されず、メッキ液の撹拌状態、後述の
所望の共析量等によって決めればよく、通常500g/
l程度以下、好ましくは1〜100g/l程度である。
一般に金属と共析物とからなる複合メッキ層において
は、共析物の体積分率が大きくなるほど、メッキ層と基
材との密着性は低下する。本発明においても、メッキ層
と金型との密着性を考慮すれば、複合メッキ層中の共析
物(フッ化ピッチ粉末或いはこれと他の粉末成分との混
合物)の体積分率は、80%が限度である。特にメッキ
面での機械的強度が要求される場合には、共析物の体積
分率は、5%を上限とすることが好ましい。複合メッキ
層中の共析物の下限量は、特に限定されず、成形樹脂の
種類、成型品の形状、成形品の離型性などを総合的に勘
案して適宜設定すれば良いが、通常フッ化ピッチの共析
による効果を生じさせるためには、体積分率で1%程度
以上とすることが好ましい。
In the present invention, the particle size of the pitch fluoride added to the plating solution for forming the composite plating layer (hereinafter, referred to as the composite plating solution) is not particularly limited.
When the thickness is larger than the entire thickness of the plating film formed of the layer, the pitch fluoride is dropped due to the friction of the plating surface. Therefore, it is desirable to use fine-particle pitch fluoride, usually about 10 μm or less, and 1 μm or less. Those having a degree or less are more preferable. The addition amount of the pitch fluoride in the composite plating solution is not particularly limited, and may be determined depending on the stirring state of the plating solution, a desired eutectoid amount described later, and the like.
1 or less, preferably about 1 to 100 g / l.
In general, in a composite plating layer composed of a metal and an eutectoid, the adhesion between the plating layer and the substrate decreases as the volume fraction of the eutectoid increases. Also in the present invention, considering the adhesion between the plating layer and the mold, the volume fraction of the eutectoid (fluoride pitch powder or a mixture of this and other powder components) in the composite plating layer is 80%. % Is the limit. In particular, when mechanical strength is required on the plated surface, the upper limit of the volume fraction of the eutectoid is preferably 5%. The lower limit amount of the eutectoid in the composite plating layer is not particularly limited, and may be appropriately set in consideration of the type of the molding resin, the shape of the molded product, the releasability of the molded product, and the like. In order to produce the effect of eutectoid pitch fluoride, the volume fraction is preferably about 1% or more.

【0008】なお、本発明においては、フッ化ピッチ粒
子重量の95%を超えない範囲で他のフッ素系化合物の
粒子の少なくとも1種により代替することができる。こ
の様なフッ素系化合物としては、4フッ化エチレン樹
脂、4フッ化エチレン−6フッ化ビニリデン共重合体、
3フッ化塩化エチレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化
ビニリデン樹脂、フッ化黒鉛などが例示される。また、
本発明においては、フッ化ピッチまたはフッ化ピッチと
他のフッ素系化合物重量の95%を上限として、無機化
合物および有機高分子化合物の粒子を補助成分として配
合し、複合メッキ層中に共析させることができる。この
様な補助成分としては、窒化ホウ素などが例示される。
これらの補助成分は、複合メッキ層の潤滑性、剥離性な
どを改善する。
In the present invention, the particles can be replaced by at least one kind of particles of another fluorine compound within a range not exceeding 95% of the weight of the fluorinated pitch particles. Examples of such a fluorine-based compound include tetrafluoroethylene resin, tetrafluoroethylene-6-vinylidene fluoride copolymer,
Examples thereof include trifluoroethylene chloride resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, and graphite fluoride. Also,
In the present invention, particles of an inorganic compound and an organic polymer compound are blended as an auxiliary component with an upper limit of 95% of the weight of the fluorinated pitch or the fluorinated pitch and other fluorine-based compounds, and are co-deposited in the composite plating layer. be able to. Examples of such auxiliary components include boron nitride.
These auxiliary components improve the lubricity and peelability of the composite plating layer.

【0009】本発明において、複合メッキ層のマトリッ
クスを構成するための金属成分のメッキ液の種類は、特
に限定されず、金型表面に金属を析出させ得る通常の無
電解メッキ液および電解メッキ液のいずれであっても良
い。例えば、ニッケル、コバルト、銅、クロム、亜鉛、
カドミウム、錫、鉄、鉛及びこれらの合金の層を形成し
得るメッキ液を挙げることが出来る。これらのメッキ液
は、各種の組成のものが公知となっており、本発明では
これらの公知のメッキ液をいずれをも使用できる。これ
らのメッキ液中でも、耐熱性に優れ、高硬度であるニッ
ケルメッキ層、ニッケル−コバルト合金メッキ層、ニッ
ケル−リン合金メッキ層、ニッケル−ホウ素合金メッキ
層などを形成し得るメッキ液がより好ましい。
In the present invention, the type of the plating solution of the metal component for constituting the matrix of the composite plating layer is not particularly limited, and ordinary electroless plating solution and electrolytic plating solution capable of depositing a metal on the surface of a mold are used. Any of these may be used. For example, nickel, cobalt, copper, chromium, zinc,
Plating solutions that can form layers of cadmium, tin, iron, lead and their alloys can be mentioned. These plating solutions are known in various compositions, and any of these known plating solutions can be used in the present invention. Among these plating solutions, a plating solution capable of forming a nickel plating layer, a nickel-cobalt alloy plating layer, a nickel-phosphorus alloy plating layer, a nickel-boron alloy plating layer, and the like having excellent heat resistance and high hardness is more preferable.

【0010】本発明の複合メッキ層を形成させるための
メッキ液では、フッ化ピッチをメッキ液中に均一に分散
させるために、界面活性剤を用いる。界面活性剤として
は、メッキ液中のpHでカチオン性を示す界面活性剤分
子を用いることが必要であり、例えば、水溶性のカチオ
ン系、非イオン系ないしメッキ液のpHにおいてカチオ
ン性を示すような両性界面活性剤を用いることができ
る。この場合、カチオン系界面活性剤としては第4級ア
ンモニウム塩、第2、3アミン類、イミダゾリン類など
が挙げられ、非イオン系界面活性剤としてはポリオキシ
エチレン系、ポリエチレンイミン系、エステル系のもの
などが挙げられ、両性界面活性剤としてはカルボン酸
系、スルホン系のものなどが挙げられる。特に、分子中
にC−F結合を有するフッ素系界面活性剤を用いること
が好ましい。分子中にC−F結合をもつ非イオン系の界
面活性剤については、酸性メッキ液の場合においてのみ
カチオン性を示す。メッキ液中への界面活性剤の添加量
は、フッ化ピッチ1gに対し、通常1〜100mg程度
であり、より好ましくは1〜30mg程度である。本発
明では、被分散物質としてフッ化ピッチを用いることに
より、この様に界面活性剤の使用量が非常に少ない場合
にもメッキ液中に均一に分散させることが可能となる。
その結果、フッ化ピッチへの界面活性剤の付着量が少な
くなり、メッキ直後においても高い撥水性を示すことが
できる。
[0010] In the plating solution for forming the composite plating layer of the present invention, a surfactant is used to uniformly disperse the pitch fluoride in the plating solution. As the surfactant, it is necessary to use a surfactant molecule exhibiting cationicity at the pH of the plating solution. For example, a water-soluble cationic type, a nonionic type, or a surfactant exhibiting cationicity at the pH of the plating solution is required. Any amphoteric surfactant can be used. In this case, examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salts, secondary and tertiary amines, and imidazolines, and examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene, polyethyleneimine, and ester. And amphoteric surfactants such as carboxylic acid-based and sulfone-based surfactants. In particular, it is preferable to use a fluorinated surfactant having a CF bond in the molecule. A nonionic surfactant having a CF bond in a molecule shows cationicity only in the case of an acidic plating solution. The amount of the surfactant to be added to the plating solution is generally about 1 to 100 mg, more preferably about 1 to 30 mg, per 1 g of the pitch fluoride. In the present invention, by using pitch fluoride as the substance to be dispersed, it is possible to uniformly disperse the surfactant in the plating solution even when the amount of the surfactant used is extremely small.
As a result, the amount of the surfactant attached to the fluorinated pitch decreases, and high water repellency can be exhibited even immediately after plating.

【0011】本発明においては、上記の複合メッキ液に
一次光沢剤、二次光沢剤などの公知の添加剤をさらに配
合することができる。
In the present invention, known additives such as a primary brightener and a secondary brightener can be further added to the above composite plating solution.

【0012】本発明において複合メッキ層を形成するに
際しては、フッ化ピッチを均一に分散させるためにメッ
キ液を撹拌しつつメッキを行なうことが好ましい。撹拌
方法は特に限定されず、通常の機械的撹拌手段、例えば
スクリュー撹拌、マグネチックスターラーによる撹拌等
の方法を採用することができる。メッキ条件は、使用す
るメッキ液の種類に応じて適宜決定すれば良く、一般に
通常のメッキの場合と同様の液温、pH、電流密度など
を採用すれば良い。本発明による複合メッキ層の厚さ
は、成形材料の種類、マトリックス金属の種類、金型の
形状などにより異なるが、通常1〜100μm程度であ
る。なお、本発明における複合メッキ層は、必ずしも金
型上に直接形成する必要はなく、金型に公知の下地メッ
キ層(例えば、銅メッキなど)を形成した後、その上に
形成しても良い。
In forming a composite plating layer in the present invention, it is preferable to perform plating while stirring a plating solution in order to uniformly disperse the fluoride pitch. The stirring method is not particularly limited, and ordinary mechanical stirring means, for example, a method of screw stirring, a method of stirring with a magnetic stirrer, and the like can be adopted. The plating conditions may be appropriately determined according to the type of plating solution to be used, and generally, the same solution temperature, pH, current density, and the like as in the case of ordinary plating may be employed. The thickness of the composite plating layer according to the present invention varies depending on the type of the molding material, the type of the matrix metal, the shape of the mold, and the like, but is usually about 1 to 100 μm. Note that the composite plating layer in the present invention does not necessarily need to be directly formed on a mold, and may be formed on a mold after forming a known base plating layer (for example, copper plating) on the mold. .

【0013】本発明の金型においては、上記の複合メッ
キ層上にクロムメッキ層がさらに設けられている。クロ
ムメッキ液の種類は、特に限定されず、複合メッキの金
属表面にクロムを析出させ得る通常の無電解メッキ液お
よび電解メッキ液のいずれであっても良い。また、メッ
キ条件も、使用するメッキ液の種類に応じて適宜決定す
れば良く、一般に通常のクロムメッキの場合と同様の液
温、pH、電流密度などを採用すれば良い。本発明によ
るクロムメッキ層の厚さは、特に限定されないが、通常
0.1〜100μm程度である。
In the mold of the present invention, a chromium plating layer is further provided on the composite plating layer. The type of the chromium plating solution is not particularly limited, and may be any of a normal electroless plating solution and an electrolytic plating solution capable of depositing chromium on the metal surface of the composite plating. Also, the plating conditions may be appropriately determined according to the type of plating solution to be used, and generally, the same solution temperature, pH, current density, etc. as in the case of ordinary chromium plating may be employed. The thickness of the chromium plating layer according to the present invention is not particularly limited, but is usually about 0.1 to 100 μm.

【0014】上記の様にして金型上に形成された2層の
メッキ被膜には、必要ならば、研磨などにより表面仕上
げを加えても良い。
The two-layer plating film formed on the mold as described above may be subjected to surface finishing by polishing or the like, if necessary.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明の2層メッキ被膜を有する金型に
おいては、複合メッキ層のマトリックス金属粒子上にの
みクロムメッキ被膜が形成され、共析したフッ化ピッチ
粒子上にはクロムメッキ被膜は形成されていないので、
フッ化ピッチ粒子は、あたかもクロムメッキ層中にも分
散したかの様な状態にあり、フッ化ピッチ粒子の大部分
は、2層メッキ被膜の表面に露出している。したがっ
て、本発明による金型を使用する場合には、フッ化ピッ
チ粒子が金型に優れた離型性を与える。また、離型剤を
併用する場合にも、相乗的に離型性を高める。さらにフ
ッ化ピッチ粒子の存在は、金型に良好な撥水性および撥
油性を付与し、被成型物の付着を著るしく低減させる。
また、表面に存在する硬度の高いクロムメッキ層が保護
層としての機能を発揮するので、金型の摩耗が軽減さ
れ、金型の耐久性を向上させる。さらに、本発明による
2層メッキ被膜は、金型への密着性に優れ、機械的強度
にも優れている。したがって、本発明による金型は、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステ
ルなどの樹脂類、天然および合成ゴム類、ガラス、セラ
ミックスなどの成型用金型として極めて有用である。
In the mold having the two-layer plating film of the present invention, the chromium plating film is formed only on the matrix metal particles of the composite plating layer, and the chromium plating film is not formed on the eutectoid pitch fluoride particles. Since it has not been formed,
The pitch fluoride particles are in a state as if dispersed in the chromium plating layer, and most of the pitch fluoride particles are exposed on the surface of the two-layer plating film. Therefore, when the mold according to the present invention is used, the pitch fluoride particles give the mold excellent mold release properties. Also, when a release agent is used in combination, the release property is synergistically enhanced. Furthermore, the presence of the fluorinated pitch particles imparts good water repellency and oil repellency to the mold, and significantly reduces the adhesion of the molding object.
Further, since the chromium plating layer having high hardness present on the surface functions as a protective layer, wear of the mold is reduced and durability of the mold is improved. Furthermore, the two-layer plating film according to the present invention has excellent adhesion to a mold and excellent mechanical strength. Accordingly, the mold according to the present invention is a mold for molding resins such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester, natural and synthetic rubbers, glass and ceramics. Is extremely useful.

【0016】[0016]

【実施例】以下に、実施例を示して本発明をより詳細に
説明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0017】実施例1 軟化点100℃、キノリン不溶分(QI)0.2%、ベ
ンゼン不溶分(BI)30%のコールタールピッチに2
倍量の水素化アントラセン油を加え、430℃で90分
間加熱し、次いで減圧下300℃で水素化アントラセン
油を除去して還元ピッチを得た。
Example 1 A coal tar pitch having a softening point of 100 ° C., a quinoline-insoluble matter (QI) of 0.2%, and a benzene-insoluble matter (BI) of 30% was used.
A double amount of hydrogenated anthracene oil was added, heated at 430 ° C. for 90 minutes, and then the reduced pitch was obtained by removing the hydrogenated anthracene oil at 300 ° C. under reduced pressure.

【0018】次いで得られた還元ピッチに窒素ガスを導
入して、低分子量成分を除去した後、400℃で5時間
熱重合して、軟化点300℃、QI60%、BI98
%、メソフェーズ含有量90%以上のメソフェーズピッ
チを得た。
Next, nitrogen gas is introduced into the obtained reduced pitch to remove low molecular weight components, and then thermally polymerized at 400 ° C. for 5 hours to obtain a softening point of 300 ° C., a QI of 60% and a BI of 98.
%, And a mesophase pitch having a mesophase content of 90% or more was obtained.

【0019】得られたピッチ50gをニッケル製反応容
器に仕込んだ後、系内を真空排気し、次いでアルゴンガ
スで満たした。その後、70℃でフッ素含有ガス(20
vol%フッ素、80vol%アルゴンの混合ガス)を
平均流速650cc/分の速度で流通させつつ、20時
間反応させたところ、144gのフッ化ピッチが得られ
た。元素分析を行ったところ、組成式は、CF1.39であ
った。
After 50 g of the obtained pitch was charged into a nickel-made reaction vessel, the system was evacuated and then filled with argon gas. Then, at 70 ° C., a fluorine-containing gas (20
(vol.% fluorine, 80 vol.% argon mixed gas) was allowed to react for 20 hours while flowing at an average flow rate of 650 cc / min, and 144 g of pitch fluoride was obtained. Upon elemental analysis, the composition formula was CF 1.39 .

【0020】このようにして得たフッ化ピッチの粉末
(? μm)を下記の組成を有するニッケル電解メッキ
液中に1%添加した。その際、界面活性剤としては、第
3級パーフルオロアンモニウム塩(C8 17SO2 NH
(CH2 3 + (CH33 ・Cl- )をフッ化ピッ
チ1gに対して、4.5mgとなるように添加した。
The powder of the pitch fluoride (? Μm) thus obtained was added in an amount of 1% to a nickel electrolytic plating solution having the following composition. At this time, a tertiary perfluoroammonium salt (C 8 F 17 SO 2 NH) is used as the surfactant.
(CH 2 ) 3 N + (CH 3 ) 3 .Cl ) was added so as to be 4.5 mg per 1 g of pitch fluoride.

【0021】ニッケル電解メッキ液組成 硫酸ニッケル6水塩 280g/l 塩化ニッケル6水塩 45g/l ほう酸 40g/l 一次光沢剤 2g/l 二次光沢剤 0.2g/l ニッケル板および鋼製金型(エチレン−酢酸ビニル共重
合体成形用)をそれぞれ正極および負極として、液温5
5℃±5℃、pH4.2、陰極電流密度4A/dm2
条件で、スクリュー撹拌しつつ1000クーロンの電気
量でメッキを行なった。得られた複合メッキ被膜中に
は、約6容量%のフッ化ピッチ粉末が共析されていた。
Composition of nickel electroplating solution Nickel sulfate hexahydrate 280 g / l Nickel chloride hexahydrate 45 g / l Boric acid 40 g / l Primary brightener 2 g / l Secondary brightener 0.2 g / l Nickel plate and steel mold (For molding ethylene-vinyl acetate copolymer) as a positive electrode and a negative electrode, respectively.
The plating was carried out under the conditions of 5 ° C. ± 5 ° C., pH 4.2, and a cathode current density of 4 A / dm 2 with an electric quantity of 1,000 coulombs while stirring the screw. Approximately 6% by volume of pitch fluoride powder was eutectoid in the obtained composite plating film.

【0022】次いで、上記で得られた複合メッキ被膜上
に下記に示す組成のクロムメッキ液を使用し、下記の条
件下に厚さ0.1μmのクロムメッキ被膜を形成させ
た。 クロムメッキ液組成 CrO3 250g/l Cr-6 2.5g/l H2SO4 2.0g/l クロムメッキ条件 液温 45℃ 陰極電流密度 15A/dm2 陽極 鉛 時間 3分間 得られた2層メッキにおいては、金型上に形成された下
層の複合メッキ被膜の表面に露出しているフッ化ピッチ
粒子の多くが、上層のクロムメッキ層の表面からも僅か
に露出しており、フッ化ピッチ粒子がクロムメッキ層中
にも分散している様な形態となっていた。
Then, a chromium plating film having a thickness of 0.1 μm was formed on the composite plating film obtained above using a chromium plating solution having the following composition under the following conditions. Chromium plating solution composition CrO 3 250 g / l Cr- 6 2.5 g / l H 2 SO 4 2.0 g / l Chromium plating conditions Solution temperature 45 ° C. Cathode current density 15 A / dm 2 Anode Lead time 3 minutes 2 layers obtained In plating, many of the fluoride pitch particles exposed on the surface of the lower composite plating film formed on the mold are slightly exposed from the surface of the upper chromium plating layer, The particles had such a form that the particles were also dispersed in the chromium plating layer.

【0023】比較例1 フッ化ピッチを添加することなく、その他の条件は実施
例1と同様にして、金型表面上にニッケルメッキ被膜お
よびクロムメッキ被膜を順次形成した。
Comparative Example 1 A nickel plating film and a chromium plating film were sequentially formed on a mold surface in the same manner as in Example 1 except that pitch fluoride was not added.

【0024】参考例1 実施例1および比較例1で得られた金型を使用して、ポ
リウレタン樹脂の成型を行なった。実施例1で得られた
金型を使用する場合には、離型剤を使用することなく円
滑に連続10回の成型作業を行なうことができた。これ
に対し、比較例1で得られた金型を使用する場合には、
離型剤を使用しない場合には、直ちに樹脂の付着を生じ
て成型作業を行なうことはできなかった。
Reference Example 1 Using the molds obtained in Example 1 and Comparative Example 1, a polyurethane resin was molded. When the mold obtained in Example 1 was used, the molding operation could be smoothly performed 10 times continuously without using a release agent. On the other hand, when using the mold obtained in Comparative Example 1,
When the release agent was not used, the resin was immediately adhered and molding could not be performed.

【0025】比較例2 フッ化ピッチ粒子に代えてポリテトラフルオロエチレン
粒子を使用する以外は実施例1と同様にして、金型表面
上に2層メッキ被膜を形成した。得られた金型を使用し
て、ポリウレタン樹脂の成型を行なったところ、離型剤
を使用しない場合には、7回の成型作業後に樹脂の付着
を生じてそれ以後成型作業を行なうことはできなかっ
た。
Comparative Example 2 A two-layer plating film was formed on the surface of a mold in the same manner as in Example 1 except that polytetrafluoroethylene particles were used instead of pitch fluoride particles. The resulting mold was used to mold a polyurethane resin. If a mold release agent was not used, the resin would adhere after seven molding operations and the molding operation could not be performed thereafter. Did not.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 33/00 - 33/76 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B29C 33/00-33/76

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】成型品形成表面にフッ化ピッチ粒子を共析
させた複合メッキ層およびクロムメッキ層を順次形成し
てなる2層のメッキ被膜を有する金型。
1. A mold having a two-layer plating film in which a composite plating layer in which pitch fluoride particles are codeposited and a chromium plating layer are sequentially formed on a surface on which a molded article is formed.
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