JP3153917B2 - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

Info

Publication number
JP3153917B2
JP3153917B2 JP23828591A JP23828591A JP3153917B2 JP 3153917 B2 JP3153917 B2 JP 3153917B2 JP 23828591 A JP23828591 A JP 23828591A JP 23828591 A JP23828591 A JP 23828591A JP 3153917 B2 JP3153917 B2 JP 3153917B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core
head
layer film
erase
magnetic head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP23828591A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0573832A (en
Inventor
勝美 坂田
達雄 久村
篤 鈴木
洋一 印牧
薫 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP23828591A priority Critical patent/JP3153917B2/en
Publication of JPH0573832A publication Critical patent/JPH0573832A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3153917B2 publication Critical patent/JP3153917B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばフロッピーディ
スク装置に用いられる磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used in, for example, a floppy disk drive.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の磁気ヘッドとしては、例
えば図6に示すようなものが知られている。すなわち、
同図に示すようにこの磁気ヘッドは、ガード材10,1
1にヘッドコア12をガラス融着により接合してなるも
のである。このヘッドコア12は、図7に示すようにト
ンネルイレーズタイプのコアであり、ディスク回転方向
上流側に配置されるR/W(リード/ライト)コア12
aと、同下流側に配置されるイレーズコア12bとから
構成される。このような磁気ヘッド12を作製する場合
には、まず1次融着ガラス13によりR/Wコア12a
及びイレーズコア12bを作製し、その後、2次融着ガ
ラス14によりR/Wコア12aとイレーズコア12b
を接合する。さらに、このようにして構成されたヘッド
コア12を3次融着ガラス15によりガード材10,1
1に接合する。この場合、ガラス接合時に他の融着ガラ
スに影響を与えることのないよう、融着温度が順次低く
なるような融着ガラスを使用している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of magnetic head, for example, the one shown in FIG. 6 is known. That is,
As shown in FIG.
1, a head core 12 is joined by glass fusion. As shown in FIG. 7, the head core 12 is a tunnel erase type core, and is an R / W (read / write) core 12 arranged on the upstream side in the disk rotation direction.
a and an erase core 12b arranged on the downstream side. When manufacturing such a magnetic head 12, first, the R / W core 12 a is
Then, an R / W core 12a and an erase core 12b are formed using the secondary fused glass 14.
To join. Further, the head core 12 configured as described above is bonded to the guard members 10 and 1 by the tertiary fusion glass 15.
Join to 1. In this case, the fused glass whose melting temperature is gradually lowered is used so as not to affect other fused glass at the time of glass joining.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来例の場合、各接合時の融着温度が近いことから、2
次、3次融着時に1次、2次融着ガラス13,14が溶
け出し、このため、R/Wコア12a及びイレーズコア
12bの磁気ギャップg1 ,g2 のギャップ長が広がっ
たり、これら磁気ギャップg1 ,g2 間の間隔が広がっ
たりして、製品の歩留りが悪くなるという問題が生じて
いた。
However, in the case of such a conventional example, since the fusion temperature at the time of each joining is close, 2
The primary and secondary fusion glasses 13 and 14 are melted at the time of the next and third fusion, so that the gap lengths of the magnetic gaps g 1 and g 2 of the R / W core 12a and the erase core 12b are increased, There has been a problem that the gap between the gaps g 1 and g 2 is widened and the product yield is deteriorated.

【0004】本発明は従来例のかかる点に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、製造工程における
磁気ギャップのギャップ長の広がり及びギャップ間隔の
広がりを防止しうる磁気ヘッドを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points of the prior art, and an object of the present invention is to provide a magnetic head capable of preventing a gap length and a gap interval of a magnetic gap from being increased in a manufacturing process. It is in.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、例えば図1又
は図2に示すように、リード/ライトコア3aとイレー
ズコア3bとの接合により構成されるヘッドコア3と、
このヘッドコア3に接合されるガード材1,2とを有す
る磁気ヘッドにおいて、リード/ライトコア3aとイレ
ーズコア3bとの接合面、ヘッドコア3とガード材1,
2との接合面の少なくとも一方が第1金属層6及び貴金
属からなる第2金属層7による低温熱拡散で接合されて
なるものである。
According to the present invention, a head core 3 formed by joining a read / write core 3a and an erase core 3b, for example, as shown in FIG.
In the magnetic head having the guard members 1 and 2 joined to the head core 3, the joining surface between the read / write core 3a and the erase core 3b, the head core 3 and the guard members 1
At least one of the bonding surfaces with the second metal layer 2 is bonded by low-temperature thermal diffusion using the first metal layer 6 and the second metal layer 7 made of a noble metal.

【0006】[0006]

【作用】かかる構成を有する本発明にあっては、リード
/ライトコア3aとイレーズコア3bとの接合面、ヘッ
ドコア3とガード材1,2との接合面の少なくとも一方
が第1金属層6及び貴金属からなる第2金属層7による
低温熱拡散で接合されてなるので、2次、3次融着の際
にリード/ライトコア3a及びイレーズコア3bの一次
融着に用いられるガラスが溶け出すことはない。
According to the present invention having such a configuration, at least one of the joining surface between the read / write core 3a and the erase core 3b and the joining surface between the head core 3 and the guard members 1 and 2 is formed of the first metal layer 6 and the noble metal. The glass used for the primary fusion of the read / write core 3a and the erase core 3b does not melt during the secondary and tertiary fusion because the second metal layer 7 is bonded by low-temperature thermal diffusion. .

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明に係る磁気ヘッドの実施例につ
いて図面を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the magnetic head according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0008】図1及び図2は本実施例を示すもので、図
1は磁気ヘッドのコアを示し、図2は磁気ヘッドの全体
構成を示すものである。本実施例の磁気ヘッドは、フロ
ッピーディスク装置に適用されるもので、図2に示すよ
うに、2つのガード材1,2とこれらに挟まれて接合さ
れたヘッドコア3からなる。
FIGS. 1 and 2 show this embodiment. FIG. 1 shows a core of a magnetic head, and FIG. 2 shows the entire configuration of the magnetic head. The magnetic head according to the present embodiment is applied to a floppy disk drive, and includes two guard members 1 and 2 and a head core 3 sandwiched and joined therebetween, as shown in FIG.

【0009】ガード材1には不図示のフロッピーディス
クに接触するディスク接触面1aが形成されるととも
に、溝部1bが形成されている。ガード材1としては、
非磁性の例えばチタン酸バリウム、チタン酸カリウム又
は非磁性フェライト等を用いることができる。ガード材
1,2とヘッドコア3とは、後述の低温熱拡散接合方法
によって接合されている。ヘッドコア3は、図1に示す
ように、R/Wコア(所謂R/Wヘッド素子)3aとイ
レーズコア(所謂イレーズヘッド素子)3bとから構成
され、夫々が一対のコア半体例えばフェライコア半体
を1次融着ガラス4により接合して形成されている。そ
して、これにより磁気ギャップG1 ,G2 が形成されて
いる。一方、R/Wコア3aとイレーズコア3bの各接
合面には後述の第1層膜5、第2層膜6及び第3層膜7
が形成され、低温熱拡散接合方法により接合されてい
る。尚、この接合面間の距離aは、2メガバイト用の磁
気ヘッドにあっては70μm、4メガバイト用の磁気
ヘッドにあっては20μmである。
The guard member 1 has a disk contact surface 1a for contacting a floppy disk (not shown) and a groove 1b. As guard material 1,
For example, nonmagnetic barium titanate, potassium titanate, or nonmagnetic ferrite can be used. The guard members 1 and 2 and the head core 3 are joined by a low-temperature thermal diffusion joining method described later. Head core 3, as shown in FIG. 1, R / W core (so-called R / W head elements) 3a and Irezukoa is composed of a (so-called erase head elements) 3b, half each of the pair core e.g. ferrite core half The body is formed by joining the first fused glass 4. As a result, magnetic gaps G 1 and G 2 are formed. On the other hand, a first layer film 5, a second layer film 6, and a third layer film 7, which will be described later, are provided on each joint surface of the R / W core 3a and the erase core 3b.
Are formed and joined by a low-temperature thermal diffusion joining method. The distance a between the bonding surfaces is, in the magnetic head for two megabytes 70μm position, in the magnetic head for 4 megabytes is 20μm position.

【0010】次に、本実施例の作製方法について図3を
参照して説明する。
Next, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to FIG.

【0011】まず、従来例と同様に、1次融着ガラス4
によりR/Wコア3a及びイレーズコア3bを作製す
る。この場合、ガラスの融着温度は600℃である。
First, similarly to the conventional example, the primary fused glass 4
To produce an R / W core 3a and an erase core 3b. In this case, the glass fusing temperature is 600 ° C.

【0012】次いで、R/Wコア3a及びイレーズコア
3bの接合面に、たとえばスパッタリング、イオンプレ
ーティング、蒸着などの真空成膜方法により第1層膜5
を形成する。この場合、第1層膜5は、SiO2 、Al
23 等の非磁性酸化物、窒化物、炭化物からなる。
Next, the first layer film 5 is formed on the bonding surface of the R / W core 3a and the erase core 3b by a vacuum film forming method such as sputtering, ion plating, or vapor deposition.
To form In this case, the first layer film 5 is made of SiO 2 , Al
It consists of non-magnetic oxides such as 2 O 3 , nitrides and carbides.

【0013】この第1層膜5を形成するのは、次の理由
による。すなわち、R/Wコア3aとイレーズコア3b
との接合部は、ある程度の寸法(数10μm)以上離れ
ていないと磁気的なギャップが形成されこれがオフトラ
ック時に再生ギャップとして働くため、オフトラック特
性が劣化するという事実がある。そこで、R/Wコア3
aとイレーズコア3bとの接合面間の距離aを確保する
ため、上述の第1層膜5を形成しているのである。従っ
て、磁気ヘッドのオフトラック特性が実用上問題ない場
合や後述の第2層膜6及び第3層膜7のみでこの距離a
を確保できる場合にはかかる第1層膜5は必要でない。
The first layer film 5 is formed for the following reason. That is, the R / W core 3a and the erase core 3b
If there is no gap between them at a certain distance (several tens of μm), a magnetic gap is formed, which acts as a reproducing gap at the time of off-track, so that the off-track characteristic deteriorates. Therefore, R / W core 3
The first layer film 5 described above is formed in order to secure the distance a between the bonding surfaces of the a and the erase core 3b. Therefore, when the off-track characteristic of the magnetic head does not cause any problem in practical use, or when the second layer film 6 and the third layer film 7 described later only use this distance a
Is not necessary when the first layer film 5 can be secured.

【0014】次に、第1層膜5と同様に真空成膜法によ
って各第1層膜5上に第2層膜6を形成する。この第2
層膜6は第1層膜5と第3層膜7との密着性を確保する
ために形成されるもので、Ti,Mo,W,Mn,F
e,Co,Ni又はこれらの合金群から選ばれる金属か
らなり、その厚みは50〜1000Åである。
Next, a second layer film 6 is formed on each first layer film 5 by a vacuum film forming method in the same manner as the first layer film 5. This second
The layer film 6 is formed to secure the adhesion between the first layer film 5 and the third layer film 7, and is formed of Ti, Mo, W, Mn, F
e, Co, Ni or a metal selected from the group consisting of these alloys, and has a thickness of 50 to 1000 °.

【0015】さらに、各第2層膜6上に、第1及び第2
層膜5,6と同様に真空成膜法によって第3層膜7を形
成する。この第3層膜7は、Au,Ag,Pt,Pdか
ら選ばれる貴金属からなり、その厚みは100〜200
0Åである。
Further, on each second layer film 6, a first and a second
Similarly to the layer films 5 and 6, the third layer film 7 is formed by a vacuum film forming method. The third layer film 7 is made of a noble metal selected from Au, Ag, Pt, and Pd, and has a thickness of 100 to 200.
0 °.

【0016】その後、図3(b) に示すように第3層膜7
同士を互いに突き合わせ、1Kgf/cm2 〜1000
Kgf/cm2 の加圧力で加圧し、50℃〜500℃の
温度で熱処理をすることにより、R/Wコア3aとイレ
ーズコア3bとの接合を行う。ここで、例えば第3層膜
7にAuを用いた場合には、100Kgf/cm2 の加
圧力で加圧し、250℃の温度で1時間熱処理を行うこ
とにより、ガラスの接合強度を上回る十分な強度の接合
が可能になる。
Thereafter, as shown in FIG. 3B, the third layer film 7 is formed.
Butt each other, 1 kgf / cm 2 to 1000
The R / W core 3a and the erase core 3b are joined by applying a pressure of Kgf / cm 2 and performing a heat treatment at a temperature of 50 ° C. to 500 ° C. Here, for example, when Au is used for the third layer film 7, by applying a pressure of 100 kgf / cm 2 and performing a heat treatment at a temperature of 250 ° C. for 1 hour, a sufficient strength exceeding the bonding strength of glass can be obtained. Strong bonding is enabled.

【0017】さらに、図2に示すように、ガード材1,
2のヘッドコア3に対する接合面と、ヘッドコア3の両
接合面とにそれぞれ上述の第2層膜6及び第3層膜7を
形成し、ガード材1,2とヘッドコア3とを突き合わせ
て同様の条件で加圧、熱処理を行う。これにより、ヘッ
ドコア3とガード材1,2とが強固に接合される。
Further, as shown in FIG.
The second layer film 6 and the third layer film 7 are formed on the bonding surface of the head core 3 and the bonding surfaces of the head core 3 respectively, and the guard materials 1 and 2 are butted against the head core 3 under the same conditions. And heat treatment is performed. Thereby, the head core 3 and the guard members 1 and 2 are firmly joined.

【0018】かかる構成を有する本実施例においては、
R/Wコア3aとイレーズコア3bとの接合及びヘッド
コア3とガード材1,2との接合を低温(50℃〜50
0℃)で行うことから、1次融着ガラス4が溶け出すこ
とはなく、R/Wコア3a及びイレーズコア3bの磁気
ギャップG1 ,G2 が広がったり、これらのギャップ間
隔が広がったりすることはない。従って、本実施例によ
れば、製品の歩留りが向上するという効果がある。尚、
本実施例の低温熱拡散接合法における接合温度はAu,
Ti等の金属の融点よりはるかに低いことから、ヘッド
コア3とガード材1,2との接合時にR/Wコア3aと
イレーズコア3bとの接合に影響を及ぼすことはない。
In this embodiment having such a configuration,
The joining between the R / W core 3a and the erase core 3b and the joining between the head core 3 and the guard materials 1 and 2 are performed at a low temperature (50 ° C. to 50 ° C.).
(0 ° C.), the primary fused glass 4 does not melt out, and the magnetic gaps G 1 and G 2 of the R / W core 3a and the erase core 3b are widened, and the gap between them is widened. There is no. Therefore, according to the present embodiment, there is an effect that the yield of products is improved. still,
The bonding temperature in the low-temperature thermal diffusion bonding method of this embodiment is Au,
Since it is much lower than the melting point of metal such as Ti, it does not affect the joining between the R / W core 3a and the erase core 3b when joining the head core 3 and the guard materials 1 and 2.

【0019】また、本実施例によれば、ヘッドコア3に
生ずる熱応力、ガラスとコア材との反応を軽減できるの
で、高特性の磁気ヘッドを得ることができる。
Further, according to this embodiment, the thermal stress generated in the head core 3 and the reaction between the glass and the core material can be reduced, so that a magnetic head having high characteristics can be obtained.

【0020】さらに、本実施例の磁気ヘッドによれば、
ガラス融着により接合を行う従来例に比べ、耐候性に優
れ、また高強度の接合が可能になる。
Further, according to the magnetic head of this embodiment,
Compared with a conventional example in which bonding is performed by glass fusion, the weather resistance is excellent and a high-strength bonding is possible.

【0021】図4は本発明の他の実施例の要部を示すも
のである。同図に示すように、本実施例においては、R
/Wコア3aにのみ第1層膜5が形成され、イレーズコ
ア3bには第1層膜5が形成されていない。
FIG. 4 shows a main part of another embodiment of the present invention. As shown in FIG.
The first layer film 5 is formed only on the / W core 3a, and the first layer film 5 is not formed on the erase core 3b.

【0022】図5は本発明のさらに他の実施例の要部を
示すものである。本実施例においては、R/Wコア3a
とイレーズコア3bとの間にガラス、Al2 3 ,Ti
BaO3 ,CaTiO3 等からなる非磁性の薄板8が配
置され、R/Wコア3a,イレーズコア3b及び薄板8
の各接合面に上述の第2層膜6及び第3層膜7が形成さ
れている。
FIG. 5 shows a main part of still another embodiment of the present invention. In this embodiment, the R / W core 3a
Glass, Al 2 O 3 , Ti between
A non-magnetic thin plate 8 made of BaO 3 , CaTiO 3 or the like is arranged, and the R / W core 3a, the erase core 3b, and the thin plate 8
The above-mentioned second layer film 6 and third layer film 7 are formed on each of the bonding surfaces.

【0023】これらの実施例によれば、磁気ヘッドの種
類に応じて2次接合部の長さ即ちR/Wコア3aとイレ
ーズコア3bの接合面間の距離aを調節でき、また、さ
らに強固な接合を得ることができる。その他の構成及び
作用については上述の実施例と同様であるので詳細な説
明を省略する。
According to these embodiments, the length of the secondary bonding portion, that is, the distance a between the bonding surfaces of the R / W core 3a and the erasing core 3b can be adjusted according to the type of the magnetic head, and furthermore, the rigidity can be improved. A joint can be obtained. Other configurations and operations are the same as those of the above-described embodiment, and thus detailed description will be omitted.

【0024】尚、上述の実施例においては、トンネルイ
レーズタイプの磁気ヘッドを例にとって説明したが、本
発明はこれに限られるものではなく、例えば先行イレー
ズタイプなど2次,3次融着を必要とするすべての磁気
ヘッドに適用することができる。
In the above-described embodiment, the magnetic head of the tunnel erase type has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. For example, secondary and tertiary fusion such as a preceding erase type is required. Can be applied to all magnetic heads.

【0025】また、上述の実施例においては、R/Wコ
アとイレーズコア、及びヘッドコアとガード材を上述の
低温熱拡散方法により接合するようにしたが、本発明は
これに限られるものではなく、これらのいずれか一方を
上述の低温熱拡散方法により接合するようにしてもよ
い。さらに、R/Wコア及びイレーズコアのギャップ形
成に際しても上述の低温熱拡散方法により接合を行うよ
うにしてもよい。
Further, in the above embodiment, the R / W core and the erase core, and the head core and the guard material are joined by the above-described low-temperature heat diffusion method. However, the present invention is not limited to this. Either of these may be joined by the low-temperature thermal diffusion method described above. Further, when forming the gap between the R / W core and the erase core, the bonding may be performed by the above-described low-temperature thermal diffusion method.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上述べたように本発明においては、リ
ード/ライトコアとイレーズコアとの接合面、ヘッドコ
アとガード材との接合面の少なくとも一方が第1金属層
及び貴金属からなる第2金属層による低温熱拡散で接合
されてなることから、製造工程における磁気ギャップの
ギャップ長の広がり及びギャップ間隔の広がりを防止す
ることができ、この結果、製品の歩留りを向上させるこ
とができる。
As described above, according to the present invention, at least one of the joining surface between the read / write core and the erase core and the joining surface between the head core and the guard material are the first metal layer and the second metal layer made of a noble metal. Therefore, it is possible to prevent the gap length and gap interval of the magnetic gap from being increased in the manufacturing process, thereby improving the product yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例の要部構成を示す正面図であ
る。
FIG. 1 is a front view showing a configuration of a main part of an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例の全体構成を示す正面図である。FIG. 2 is a front view showing the entire configuration of the embodiment.

【図3】同実施例の製造方法を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory view showing a manufacturing method of the embodiment.

【図4】他の実施例の要部構成を示す正面図である。FIG. 4 is a front view showing a configuration of a main part of another embodiment.

【図5】さらに他の実施例の要部構成を示す正面図であ
る。
FIG. 5 is a front view showing a configuration of a main part of still another embodiment.

【図6】従来例の全体構成を示す正面図である。FIG. 6 is a front view showing the entire configuration of a conventional example.

【図7】従来例の要部構成を示す正面図である。FIG. 7 is a front view showing a configuration of a main part of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 ガード材 3 ヘッドコア 3a R/Wコア 3b イレーズコア 5 第1層膜 6 第2層膜 7 第3層膜 1, 2 guard material 3 head core 3a R / W core 3b erase core 5 first layer film 6 second layer film 7 third layer film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 印牧 洋一 東京都品川区北品川6丁目5番6号 ソ ニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (72)発明者 青木 薫 東京都品川区北品川6丁目5番6号 ソ ニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−228406(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/265 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yoichi Inmaki 6-5-6 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Magne Products Co., Ltd. (72) Inventor Kaoru Aoki 6-chome Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. 5-6 Inside Sony Magne Products Co., Ltd. (56) References JP-A-63-228406 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 5/265

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 リード/ライトコアとイレーズコアとの
接合により構成されるヘッドコアと、該ヘッドコアに接
合されるガード材とを有する磁気ヘッドにおいて、 上記リード/ライトコアとイレーズコアとの接合面、ヘ
ッドコアとガード材との接合面の少なくとも一方が第1
金属層及び貴金属からなる第2金属層による低温熱拡散
で接合されてなる磁気ヘッド。
1. A magnetic head having a head core formed by joining a read / write core and an erase core, and a guard material joined to the head core, wherein a joining surface between the read / write core and the erase core, At least one of the joining surfaces with the guard material is the first
A magnetic head joined by low-temperature thermal diffusion using a metal layer and a second metal layer made of a noble metal.
JP23828591A 1991-09-18 1991-09-18 Magnetic head Expired - Fee Related JP3153917B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23828591A JP3153917B2 (en) 1991-09-18 1991-09-18 Magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23828591A JP3153917B2 (en) 1991-09-18 1991-09-18 Magnetic head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0573832A JPH0573832A (en) 1993-03-26
JP3153917B2 true JP3153917B2 (en) 2001-04-09

Family

ID=17027922

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23828591A Expired - Fee Related JP3153917B2 (en) 1991-09-18 1991-09-18 Magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3153917B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0573832A (en) 1993-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2971891B2 (en) Magnetic head
JP3153917B2 (en) Magnetic head
JPH0475566B2 (en)
JPS60125906A (en) Magnetic head
JPH047008B2 (en)
JP3165691B2 (en) Magnetic head
JPH0629768Y2 (en) Magnetic head
JPS62267910A (en) Magnetic head
JP2644740B2 (en) Manufacturing method of magnetic head
JP2579624B2 (en) Composite magnetic head
JP3496302B2 (en) Magnetic head and magnetic head device
JP2000036107A (en) Magnetic head
JPH03105708A (en) Magnetic head and production thereof
JP3103702B2 (en) Magnetic head
JPS62145511A (en) Magnetic head
JPH01285008A (en) Magnetic head and manufacture thereof
JPH027210A (en) Manufacture of magnetic head
JPH0652513A (en) Magnetic head
JP2000215407A (en) Magnetic head
JPH06325316A (en) Magnetic head
JPH0620210A (en) Manufacture of magnetic head
JPH0154764B2 (en)
JP2001006117A (en) Magnetic head
JPH06223313A (en) Magnetic head
JPH0227726B2 (en) JIKIHETSUDO

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees