JP3131138B2 - Crystallized glass substrate for magnetic disk - Google Patents

Crystallized glass substrate for magnetic disk

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JP3131138B2
JP3131138B2 JP08042144A JP4214496A JP3131138B2 JP 3131138 B2 JP3131138 B2 JP 3131138B2 JP 08042144 A JP08042144 A JP 08042144A JP 4214496 A JP4214496 A JP 4214496A JP 3131138 B2 JP3131138 B2 JP 3131138B2
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magnetic disk
glass
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク用基
板に関し、特にコンタクト・レコーディングに適した磁
気ディスク用ガラスセラミック基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk substrate, and more particularly to a magnetic disk glass ceramic substrate suitable for contact recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】パーソナルコンピュータのマルチメディ
ア化に伴い大容量の磁気ディスク装置が必要となってい
る。その結果、磁気ディスクは、面記録密度を大きくす
るために、ビットおよびトラック密度を増加させ、ビッ
トセルのサイズを縮少化する必要がある。ビットセルの
縮少化に対応して磁気ヘッドはディスク表面により接近
して作動する必要が生じ、磁気ヘッドのディスク表面か
らの浮上量を0.025μm以下として磁気ヘッドとデ
ィスクがほとんど接触した状態で記録が行われるコンタ
クト・レコーディング方式が求められている。
2. Description of the Related Art With the development of multimedia in personal computers, large-capacity magnetic disk drives are required. As a result, in the magnetic disk, it is necessary to increase the bit and track densities and reduce the size of the bit cells in order to increase the areal recording density. In response to the shrinkage of bit cells, the magnetic head needs to operate closer to the disk surface. The flying height of the magnetic head from the disk surface is set to 0.025 μm or less, and recording is performed with the magnetic head almost in contact with the disk. Is required.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このようなコンタクト
・レコーディング方式においては、磁気ディスクは、
0.025μm以下の磁気ヘッドの浮上量を可能にする
ため、表面粗度(Ra)が10Å以下であることが要求
される上に、磁気ヘッドとの接触に耐えられる充分に高
い耐摩耗性を有することが要求される。
In such a contact recording system, a magnetic disk is
In order to enable a flying height of the magnetic head of 0.025 μm or less, the surface roughness (Ra) is required to be 10 ° or less, and a sufficiently high wear resistance to withstand contact with the magnetic head is required. Required to have.

【0004】従来磁気ディスク基板材には、アルミニウ
ム合金が使用されているが、アルミニウム合金基板で
は、種々の材料欠陥の影響により、研磨工程における基
板表面の突起またはスポット状の凹凸を生じ平坦性、平
滑性の点で十分でなく、またアルミニウム合金は軟かい
材料であるため、変形が生じやすく薄形化に対応するこ
とがむずかしく、さらにはヘッドの接触による変形傷を
生じメディアを損傷させてしまう等今日の高密度記録化
に十分対応できない。
Conventionally, an aluminum alloy has been used for a magnetic disk substrate material. However, in the case of an aluminum alloy substrate, projections or spot-like irregularities are formed on the substrate surface in a polishing process due to the influence of various material defects. Smoothness is not sufficient, and aluminum alloy is a soft material, so it is easy to deform and it is difficult to cope with thinning, and furthermore, deformation of the head due to contact with the head causes damage to the media For example, it cannot sufficiently cope with today's high-density recording.

【0005】また、アルミニウム合金基板の問題点を解
消する材料として化学強化ガラスのソーダライムガラス
(SiO2 −CaO−Na2 O)とアルミノシリケート
ガラス(SiO2 −Al2 O−Na2 O)が知られてい
るが、この場合(イ)研磨は化学強化後に行なわれ、デ
ィスクの薄板化における強化層の不安定要素が高い。
(ロ)ガラス中にNa2 O成分を必須成分として含有す
るため、成膜特性が悪化し、Na2 O溶出防止のための
全面バリアコート処理が必要となり、製品の低コスト安
定生産性が難しいという欠点がある。
Further, as materials for solving the problems of the aluminum alloy substrate, soda lime glass (SiO 2 —CaO—Na 2 O) and aluminosilicate glass (SiO 2 —Al 2 O—Na 2 O) of chemically strengthened glass are used. As is known, in this case, (a) polishing is performed after chemical strengthening, and the unstable element of the strengthening layer in thinning the disk is high.
(B) Since the glass contains the Na 2 O component as an essential component, the film-forming properties are deteriorated, and it is necessary to perform a barrier coating treatment on the entire surface to prevent Na 2 O from being eluted. There is a disadvantage that.

【0006】さらに、アルミニウム合金基板や化学強化
ガラス基板に対していくつかの結晶化ガラスが知られて
いる。例えば、特開平6−329440号公報記載のS
iO2 −Li2 O−MgO−P2 5 系結晶化ガラス
は、主結晶相として二珪酸リチウム(Li2 O・2Si
2 )およびα−クオーツ(α−SiO2 )を有し、α
−クオーツ(α−SiO2 )の球状粒子サイズをコント
ロールすることができるが、研磨して成る表面粗度(R
a)が15〜50Åの範囲であって、目標とする表面粗
度(Ra)が10Å以下の急速に進む記録容量向上に合
せた低浮上化に十分対応することができない。
Further, some crystallized glasses are known for aluminum alloy substrates and chemically strengthened glass substrates. For example, as described in JP-A-6-329440,
iO 2 —Li 2 O—MgO—P 2 O 5 -based crystallized glass has lithium disilicate (Li 2 O · 2Si) as a main crystal phase.
O 2 ) and α-quartz (α-SiO 2 );
The spherical particle size of quartz (α-SiO 2 ) can be controlled, but the surface roughness (R
a) is in the range of 15 ° to 50 °, and the target surface roughness (Ra) is 10 ° or less.

【0007】本発明の目的は、ハードディスクの高密度
化によるコンタクト・レコーディング方式に対応するた
め、前記従来技術の欠点を解消し、10Å以下の表面粗
度を有するとともに高い耐摩耗性を有する磁気ディスク
用結晶化ガラス基板を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a magnetic disk having a surface roughness of 10 ° or less and high abrasion resistance by solving the above-mentioned disadvantages of the prior art in order to cope with a contact recording method by increasing the density of a hard disk. It is to provide a crystallized glass substrate for use.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため研究と実験を重ねた結果、SiO2 −Li
2 O−Al2 3 −P2 5 系においてMgO成分とZ
nO成分を必須成分とする原ガラスを厳密に限定された
熱処理条件下で熱処理することにより得られる主結晶相
がα−クリストバライト(α−SiO2 )および二珪酸
リチウム(Li2 O・2SiO2 )からなる結晶化ガラ
スにおいて、二珪酸リチウムに対するα−クリストバラ
イトの構成比率を0.25〜0.35という狹い範囲に
限定することにより、磁気ディスク基板の研磨してなる
表面粗度(Ra)が2〜10Åであり、かつ摩耗度(A
a)が5〜15の範囲内にあるというコンタクト・レコ
ーディングに理想的な磁気ディスク基板が得られること
を見出し、本発明に到達した。
The inventor of the present invention has conducted research and experiments to achieve the above object, and has found that SiO 2 —Li
2 O-Al 2 O 3 MgO component in -P 2 O 5 system and Z
The main crystal phases obtained by heat-treating raw glass containing nO as an essential component under strictly limited heat treatment conditions are α-cristobalite (α-SiO 2 ) and lithium disilicate (Li 2 O · 2SiO 2 ). By limiting the composition ratio of α-cristobalite to lithium disilicate to a narrow range of 0.25 to 0.35, the surface roughness (Ra) of the polished magnetic disk substrate is reduced. 2 to 10 ° and the degree of wear (A
The present inventors have found that a magnetic disk substrate ideal for contact recording in which a) is within the range of 5 to 15 can be obtained, and have reached the present invention.

【0009】すなわち、上記本発明の目的を達成する請
求項1記載の磁気ディスク用結晶化ガラス基板は、結晶
化ガラスの主結晶相がα−クリストバライト(α−Si
2 また、上記本発明の目的を達成する請求項2記載の
磁気ディスク用結晶化ガラス基板は、結晶化ガラスの主
結晶相がα−クリストバライト(α−SiO 2 )および
二珪酸リチウム(Li 2 O.2SiO 2 )であって、該
結晶相の構成比率はα−クリストバライト/二珪酸リチ
ウムが0.25〜0.35であり、結晶粒子の粒径が
0.1〜1.0μmの範囲の値を有し、磁気ディスク基
板の研磨してなる表面粗度(Ra)が2〜10Åであ
り、かつ、摩耗度(Aa)が5〜15の範囲内であるこ
とを特徴とするものであることを特徴とするものであ
る。
That is, in the crystallized glass substrate for a magnetic disk according to the first aspect of the present invention, the main crystal phase of the crystallized glass is α-cristobalite (α-Si
O 2 , wherein the object of the present invention is achieved.
Crystallized glass substrates for magnetic disks are mainly made of crystallized glass.
The crystalline phase is α-cristobalite (α-SiO 2 ) and
Lithium disilicate (Li 2 O.2 SiO 2 )
The composition ratio of the crystal phase is α-cristobalite / lithium disilicate
Is 0.25 to 0.35, and the particle size of the crystal particles is
Having a value in the range of 0.1 to 1.0 μm,
The surface roughness (Ra) obtained by polishing the plate is 2 to 10 °
And the degree of wear (Aa) is in the range of 5 to 15.
And is characterized by the following.
You.

【0010】また、請求項1または2記載の磁気ディス
ク用結晶化ガラス基板は、請求項1記載の磁気ディスク
用基板において、結晶化ガラスは重量百分率で、SiO
2
The crystallized glass substrate for a magnetic disk according to claim 1 or 2 is a substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the crystallized glass is SiO 2 by weight percentage.
Two

【0011】本発明の結晶化ガラスの組成は、原ガラス
と同様酸化物基準で表示し得るが、原ガラスの組成範囲
を上記のように限定した理由について以下に述べる。
The composition of the crystallized glass of the present invention can be expressed on an oxide basis as in the case of the original glass. The reason why the composition range of the original glass is limited as described above will be described below.

【0012】SiO2 成分は、原ガラスの熱処理によ
り、主結晶相として二珪酸リチウム(Li2 O・2Si
2 )およびα−クリストバライトを生成する極めて重
要な成分であるが、その量が75.0%未満では、得ら
れるガラスの析出結晶が不安定で組織が粗大化しやす
く、また83.0%を超えると原ガラスの溶融が困難と
なる。
The SiO 2 component is converted into lithium disilicate (Li 2 O · 2Si) as a main crystal phase by heat treatment of the raw glass.
O 2 ) and α-cristobalite are very important components, but if the amount is less than 75.0%, the precipitated crystals of the obtained glass are unstable, the structure is liable to become coarse, and 83.0% If it exceeds, melting of the raw glass becomes difficult.

【0013】Li2 O成分は、ガラスの加熱処理により
主結晶相として二珪酸リチウム(Li2 O・2Si
2 )結晶を生成するきわめて重要な成分であるが、そ
の量が7%未満では上記結晶の析出が困難となると同時
に、原ガラスの溶融が困難となり、また、13%を超え
ると得られる結晶化ガラスの析出結晶が不安定となり、
組織が粗大化しやすいうえ、化学的耐久性および硬度が
悪化する。K2 O成分はガラスの溶融性を向上させる成
分であり、5%まで含有できる。
The Li 2 O component is converted into lithium disilicate (Li 2 O · 2Si) as a main crystal phase by heat treatment of glass.
O 2 ) is a very important component for producing crystals, but if the amount is less than 7%, it becomes difficult to precipitate the above crystals, and at the same time, it becomes difficult to melt the raw glass. Deposited crystals of fossilized glass become unstable,
The structure is easily coarsened, and the chemical durability and hardness are deteriorated. The K 2 O component is a component for improving the melting property of glass, and can be contained up to 5%.

【0014】MgOは析出結晶を規定する重要な成分で
あり、その量が0.5%未満であるとα−クリストバラ
イトの析出が増大し、耐摩耗性が悪化する。また、3%
を超えるとα−クオーツの析出が増大し、かつ粒子が粗
大化するため表面粗度が悪化する。またZnOも同等の
効果があるので添加し得るが3%までとすべきである。
MgO is an important component for defining the precipitated crystals. If its amount is less than 0.5%, the precipitation of α-cristobalite increases and the wear resistance deteriorates. 3%
If it exceeds 300, precipitation of α-quartz increases, and the particles become coarse, so that the surface roughness deteriorates. ZnO also has the same effect and can be added, but should be added up to 3%.

【0015】P2 5 成分がガラスの結晶核形成剤とし
て不可欠であるが、その量が1%未満であるとLi2
・2SiO2 ,α−SiO2 結晶の粒子が粗大化し所望
の表面粗度、摩耗度が得られない。また3%を超えると
ガラス成形時に失透しやすく、この失透による粒子の粗
大化が起こる。
The P 2 O 5 component is indispensable as a crystal nucleating agent for glass, but if its content is less than 1%, Li 2 O 5
-The particles of 2SiO 2 and α-SiO 2 crystals are coarsened, and desired surface roughness and abrasion cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 3%, the glass tends to be devitrified at the time of glass molding, and the devitrification causes coarsening of particles.

【0016】Al2 3 成分は、結晶化ガラスの化学的
耐久性を向上させる有効な成分であるが含有量が1%未
満ではその目的を達成することができず、またその含有
量が5%を超えると溶融性が悪化する。As2 3 およ
び、またはSb2 3 成分は、ガラス溶融の際の清澄剤
として添加し得るが、これらの1種または、2種の合計
量は2%以下で充分である。
The Al 2 O 3 component is an effective component for improving the chemical durability of the crystallized glass, but if its content is less than 1%, its purpose cannot be achieved, and its content is 5%. %, The meltability deteriorates. The As 2 O 3 and / or Sb 2 O 3 component can be added as a fining agent in melting the glass, but a total amount of one or two of them is not more than 2%.

【0017】なお本発明においては、使用するガラスに
上記成分の他に所望の特性を損なわない程度で少量のB
2 3 ,CaO,SrO,BaO,TiO2 ,SnO,
およびZrO2 の成分を含有させることができる。
In the present invention, in addition to the above components, a small amount of B is used in the glass to be used so as not to impair the desired properties.
2 O 3 , CaO, SrO, BaO, TiO 2 , SnO,
And ZrO 2 component.

【0018】また本発明の結晶化ガラス基板は、結晶化
した際の構成結晶相の比についてα−クリストバライト
/二珪酸リチウム=0.25〜0.35に規定した。こ
れはXRDのピーク高さにより各結晶相の割合を見、α
−クリストバライト(101),二珪酸リチウム(13
0)のピーク面をそれぞれ使用し比を決定した。この比
を0.25〜0.35に限定した理由は、この構成比が
0.25〜0.35の範囲において研磨後の基板の表面
粗度が2〜10Åという理想的な表面粗度が得られる上
に、図1に示すように、構成比が0.25未満であるか
または0.35を超えると摩耗度(Aa)が急激に悪化
し、0.25〜0.35の範囲内において摩耗度(A
a)がおおむね15以下の望ましい表面特性が得られる
ことが多くの実験の結果判明したからである。
In the crystallized glass substrate of the present invention, the ratio of the constituent crystal phases at the time of crystallization is defined as α-cristobalite / lithium disilicate = 0.25 to 0.35. This is because the ratio of each crystal phase is determined by the XRD peak height, and α
-Cristobalite (101), lithium disilicate (13
The ratio was determined using each of the peak surfaces of 0). The reason for limiting this ratio to 0.25 to 0.35 is that when the composition ratio is in the range of 0.25 to 0.35, the ideal surface roughness of the substrate after polishing is 2 to 10 °. In addition to that, as shown in FIG. 1, when the composition ratio is less than 0.25 or exceeds 0.35, the degree of wear (Aa) rapidly deteriorates, and within a range of 0.25 to 0.35. In the degree of wear (A
This is because many experiments have revealed that the desired surface characteristics of a) can be obtained in the order of 15 or less.

【0019】本発明の結晶化ガラス基板は摩耗度(A
a)が5〜15、好ましくは5〜12の範囲内にあり、
これによって磁気ヘッドの浮上量が0.025μm以下
のコンタクト・レコーディングにおいても充分な耐摩耗
性を有する。
The crystallized glass substrate of the present invention has a degree of wear (A
a) is in the range of 5 to 15, preferably 5 to 12,
As a result, the magnetic head has sufficient wear resistance even in contact recording where the flying height of the magnetic head is 0.025 μm or less.

【0020】つぎに本発明にかかる磁気ディスク用結晶
化ガラスを製造するには、上記の組成を有するガラスを
溶解し熱間または/および冷間成形を行った後、核形成
400℃〜550℃、結晶化720℃〜820℃の温度
で結晶化熱処理を行い、さらに熱処理結晶化したガラス
を通常一般に広く知られている方法でラッピングのあと
ポリッシングし表面粗度(Ra)を2〜10Åの範囲と
する。
Next, in order to produce the crystallized glass for a magnetic disk according to the present invention, the glass having the above composition is melted, hot and / or cold formed, and then nucleation is performed at 400 ° C. to 550 ° C. A crystallization heat treatment is performed at a temperature of 720 ° C. to 820 ° C., and the heat treated crystallized glass is usually wrapped and polished by a generally well-known method so that the surface roughness (Ra) is in the range of 2 to 10 °. And

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】つぎに本発明にかかる好適な実施
例につき説明する。表1〜表4は本発明の磁気ディスク
用結晶化ガラス基板の実施組成例(No.1〜10)と
従来のSiO2 −Li2 O−Al2 3 −P2 5 系結
晶化ガラスの比較組成例2例を、これらの結晶化ガラス
の核形成温度、結晶化温度、析出結晶相、結晶粒径、研
磨後の表面粗度(Ra)、摩耗度の測定結果とともに示
す。なお組成は重量百分率で示す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, preferred embodiments according to the present invention will be described. Tables 1 to 4 show working composition examples (Nos. 1 to 10) of a crystallized glass substrate for a magnetic disk of the present invention and conventional SiO 2 —Li 2 O—Al 2 O 3 —P 2 O 5 -based crystallized glass. Are shown together with the measurement results of the nucleation temperature, crystallization temperature, precipitated crystal phase, crystal grain size, surface roughness (Ra) after polishing, and abrasion degree of these crystallized glasses. The composition is shown by weight percentage.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】[0023]

【表2】 [Table 2]

【0024】[0024]

【表3】 [Table 3]

【0025】[0025]

【表4】 [Table 4]

【0026】また本発明の実施例3および比較例1、2
の粒子状態を示す電子顕微鏡写真をそれぞれ図2、図3
および図4に示す。
Further, Example 3 of the present invention and Comparative Examples 1 and 2
2 and 3 show electron micrographs showing the particle state of
And FIG.

【0027】上記実施例のガラスは、いずれも酸化物、
炭酸塩、硝酸塩等の原料を混合し、これを通常の溶解装
置を用いて約1350℃〜1500℃の温度で溶融し、
攪拌均質化した後、所望の形状に成形して冷却し、ガラ
ス成形体を得た。その後これを熱処理して核形成後(4
00℃〜550℃)、結晶化温度(720℃〜820
℃)の間で約1〜5時間保持して、所望の結晶化ガラス
を得た。なお表面粗度測定試料製作にあたっては、上記
結晶化ガラスを平均粒径9〜12μmの砥粒にて約10
分〜20分間ポリッシングして仕上げた。摩耗度につい
ては日本光学硝子工業会で指定された方法により行っ
た。すなわち、試料の大きさ30×30×10mmのガ
ラス角板を水平に毎分60回転する鋳鉄製平面皿(25
0mmφ)の中心から80mmの定位置にのせ、9.8
N{1kgf}の荷重を垂直にかけながら、#800
(平均粒度20μm)のラップ材(アルミナ質A砥粒)
を10g添加した水20mlを5分間均等に供給して摩
耗させ、ラップ前後の試料質量を測定して摩耗質量を求
めた。また、同様にして日本工学硝子工業会で指定され
た標準試料の摩耗質量を求め次式によって算出した値を
摩耗度(Aa)とした。
The glasses of the above embodiments are all oxides,
Raw materials such as carbonates and nitrates are mixed and melted at a temperature of about 1350 ° C. to 1500 ° C. using a usual melting apparatus,
After stirring and homogenizing, the mixture was formed into a desired shape and cooled to obtain a glass molded body. Thereafter, this is heat-treated and after nucleation (4)
00 ° C. to 550 ° C.), crystallization temperature (720 ° C. to 820
C.) for about 1-5 hours to obtain the desired crystallized glass. In preparing the surface roughness measurement sample, the above crystallized glass was treated with abrasive grains having an average particle size of 9 to 12 μm for about 10 minutes.
Finished by polishing for 20 minutes to 20 minutes. The degree of wear was measured by the method specified by the Japan Optical Glass Industrial Association. That is, a flat plate made of cast iron (25 in which a glass square plate of 30 × 30 × 10 mm in sample size is horizontally rotated 60 times per minute.
0mmφ) at the fixed position of 80mm from the center, 9.8
While applying a load of N {1kgf} vertically, # 800
Wrap material (Alumina A abrasive) with (average particle size 20 μm)
Was added and uniformly worn for 5 minutes with 20 ml of water added thereto, and the sample was measured before and after the lap to determine the wear mass. Similarly, the abrasion mass of a standard sample specified by the Japan Engineering Glass Industry Association was determined, and the value calculated by the following equation was used as the abrasion degree (Aa).

【0028】 [0028]

【0029】表1にみられるとおり、実施例の結晶化ガ
ラスは、比較例に対し、いずれも表面粗度(Ra)の値
が10Å未満で、表面特性に優れており、目的の改善の
効果は顕著である。また摩耗度においてもいずれも12
以下の小さな値を示し、優れた耐摩耗性を有しているこ
とがわかる。
As can be seen from Table 1, the crystallized glasses of the examples all had a surface roughness (Ra) value of less than 10 ° compared to the comparative examples, and were excellent in the surface characteristics, and the effect of the objective improvement. Is remarkable. In addition, the degree of wear was 12
It shows the following small values, which indicates that it has excellent wear resistance.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、結
晶化ガラスの主結晶相がα−クリストバライト(α−S
iO2 )および二珪酸リチウム(Li2 O.2Si
2 )であって、該結晶相の構成比率はα−クリストバ
ライト/二珪酸リチウムが0.25〜0.35であり、
結晶粒子の粒径が0.1〜1.0μmの範囲の値を有
し、磁気ディスク基板の研磨してなる表面粗度(Ra)
が2〜10Åであり、かつ、摩耗度(Aa)が5〜15
の範囲内であることにより、コンタクト・レコーディン
グ用として好適な磁気ディスク用結晶化ガラス基板が得
られる。
As described above, according to the present invention, the main crystal phase of the crystallized glass is α-cristobalite (α-S
iO 2 ) and lithium disilicate (Li 2 O.2Si)
O 2 ), wherein the composition ratio of the crystal phase is 0.25 to 0.35 of α-cristobalite / lithium disilicate;
The surface roughness (Ra) obtained by polishing the magnetic disk substrate, wherein the crystal particles have a value in the range of 0.1 to 1.0 μm.
Is 2 to 10 °, and the degree of wear (Aa) is 5 to 15 °.
Within this range, a crystallized glass substrate for a magnetic disk suitable for contact recording can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】α−クリストバライト/二珪酸リチウム構成比
と摩耗度との関係を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between α-cristobalite / lithium disilicate composition ratio and degree of wear.

【図2】本発明の実施例の粒子状態を示す電子顕微鏡写
真である。
FIG. 2 is an electron micrograph showing a particle state of an example of the present invention.

【図3】比較例1の粒子状態を示す電子顕微鏡写真であ
る。
FIG. 3 is an electron micrograph showing the particle state of Comparative Example 1.

【図4】比較例2の粒子状態を示す電子顕微鏡写真であ
る。
FIG. 4 is an electron micrograph showing the particle state of Comparative Example 2.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 結晶化ガラスの主結晶相がα−クリスト
バライト(α−SiO 2 )および二珪酸リチウム(Li
2 O.2SiO 2 )であって、該結晶相の構成比率はα
−クリストバライト/二珪酸リチウムが0.25〜0.
35であり、結晶粒子の粒径が0.1〜1.0μmの範
囲の値を有し、磁気ディスク基板の研磨してなる表面粗
度(Ra)が2〜10Åであることを特徴とする磁気デ
ィスク用結晶化ガラス基板。
The main crystal phase of the crystallized glass is α-cristo.
Barite (α-SiO 2 ) and lithium disilicate (Li
2 O. 2SiO 2 ), and the composition ratio of the crystal phase is α
-Cristobalite / lithium disilicate in the range of 0.25-0.
35, and the diameter of the crystal grains is in the range of 0.1 to 1.0 μm.
Surface roughness of the magnetic disk substrate
A magnetic disk having a degree (Ra) of 2 to 10 °.
Crystallized glass substrate for disk.
【請求項2】 結晶化ガラスの主結晶相がα−クリスト
バライト(α−SiO2 )および二珪酸リチウム(Li
2 O.2SiO2 )であって、該結晶相の構成比率はα
−クリストバライト/二珪酸リチウムが0.25〜0.
35であり、結晶粒子の粒径が0.1〜1.0μmの範
囲の値を有し、磁気ディスク基板の研磨してなる表面粗
度(Ra)が2〜10Åであり、かつ、摩耗度(Aa)
が5〜15の範囲内であることを特徴とする磁気ディス
ク用結晶化ガラス基板。
2. The main crystal phase of the crystallized glass is α-cristobalite (α-SiO 2 ) and lithium disilicate (Li).
2 O. 2SiO 2 ), and the composition ratio of the crystal phase is α
-Cristobalite / lithium disilicate in the range of 0.25-0.
35, the crystal grain diameter has a value in the range of 0.1 to 1.0 μm, the magnetic disk substrate has a polished surface roughness (Ra) of 2 to 10 °, and the abrasion degree (Aa)
Is in the range of 5 to 15.
【請求項3】 前記結晶化ガラスは重量百分率で、Si
2 75〜83%、Li2 O 7〜13%、Al2
3 1〜5%、P2 5 1〜3%、MgO0.5〜3
%、ZnO 0.5〜3%、K2 O 0〜5%、As2
3 及び/又はSb2 3 0〜2%からなる原ガラス
を熱処理することによって得られることを特徴とする請
求項1または2に記載の磁気ディスク用結晶化ガラス基
板。
3. The crystallized glass is in weight percent Si
O 2 75 to 83%, Li 2 O 7 to 13%, Al 2 O
3 1~5%, P 2 O 5 1~3%, MgO0.5~3
%, 0.5~3% ZnO, K 2 O 0~5%, As 2
O 3 and / or Sb 2 O 3 crystallized glass substrate according to claim 1 or 2, characterized in that it is obtained by heat-treating a raw glass consisting 0-2%.
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