JP3119201U - TFT array inspection equipment - Google Patents
TFT array inspection equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP3119201U JP3119201U JP2005010239U JP2005010239U JP3119201U JP 3119201 U JP3119201 U JP 3119201U JP 2005010239 U JP2005010239 U JP 2005010239U JP 2005010239 U JP2005010239 U JP 2005010239U JP 3119201 U JP3119201 U JP 3119201U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- load lock
- lock chamber
- inspection
- test object
- transport mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Abstract
【課題】被検物を真空下で検査する検査装置において検査所要時間を短縮する。
【解決手段】主チャンバー1とロードロックチャンバー2の間で被検物を搬送する搬送経路10中に設けた搬送機構4と、搬送機構4上の被検物を搬送経路10外に退避させる退避手段(退避機構11、12)とをロードロックチャンバー2内に備える。このように構成することで、主チャンバー1内で1つの被検物を検査中にロードロックチャンバー2に次の被検物を搬入して待機させておき、検査が終わった直後に主チャンバー1とロードロックチャンバー2の間で被検物を交換することにより、主チャンバー1ではほとんど間を空けずに次の検査を始めることが可能となる。
【選択図】 図1An inspection apparatus for inspecting an object under vacuum reduces the time required for inspection.
A transport mechanism provided in a transport path for transporting a test object between a main chamber and a load lock chamber, and a retreat for retracting the test object on the transport mechanism to the outside of the transport path. Means (retraction mechanisms 11, 12) are provided in the load lock chamber 2. With this configuration, during inspection of one test object in the main chamber 1, the next test object is loaded into the load lock chamber 2 and kept waiting, and immediately after the test is completed, the main chamber 1 By exchanging the test object between the load lock chamber 2 and the load lock chamber 2, it becomes possible to start the next inspection with almost no space in the main chamber 1.
[Selection] Figure 1
Description
本考案は、例えば液晶ディスプレイ等の製造工程においてガラス基板上に形成されたTFTアレイの検査装置に関する。 The present invention relates to an inspection apparatus for a TFT array formed on a glass substrate in a manufacturing process of, for example, a liquid crystal display.
液晶ディスプレイを始めとするフラットパネルディスプレイは、その製造工程においてガラス基板上に形成されたTFTアレイの検査を行う。検査は、真空チャンバー内で基板に電子線を照射し、基板から放出される二次電子を検出することにより行うのが一般的である。この検査を行うための装置としては、特許文献1にも記されているように、基板に電子ビームを照射するための主チャンバーと、この主チャンバーに基板を搬出入するためのロードロックチャンバーとを備えた装置が従来から用いられている。
A flat panel display such as a liquid crystal display inspects a TFT array formed on a glass substrate in the manufacturing process. The inspection is generally performed by irradiating the substrate with an electron beam in a vacuum chamber and detecting secondary electrons emitted from the substrate. As an apparatus for performing this inspection, as described in
図5は、このような従来の検査装置の概略構成と、被検物を検査のために装置に出し入れする過程を図示したものである。
まず、図5(1)を利用して概略構成を説明する。
同図において、1は内部が真空に保たれた主チャンバー、2は主チャンバー1に隣接して設けられ、外部と主チャンバー1との間で被検物の搬出入を仲介するためのロードロックチャンバーであり、3は被検物であるガラス基板である。ガラス基板3は、外部のローダ(図示しない)等により、外部との間のゲート弁6を介してロードロックチャンバー2に搬出入される。
FIG. 5 shows a schematic configuration of such a conventional inspection apparatus and a process for inserting / removing an object to / from the apparatus for inspection.
First, a schematic configuration will be described with reference to FIG.
In the figure, 1 is a main chamber in which the inside is kept in a vacuum, 2 is provided adjacent to the
ロードロックチャンバー2の内部に設けられた搬送機構4(図示例ではローラコンベア)は、受け入れたガラス基板3をゲート弁7を介して主チャンバー1に搬送し、主チャンバー1ではこれを搬送機構5が所定の検査位置まで移送し、また検査後はこれをゲート弁7を介してロードロックチャンバー2内の搬送機構4上に送り返す。即ち、図中に点線で示すように搬送機構4、5およびゲート弁7を連ねた被検物の搬送経路10が形成されている。
ロードロックチャンバー2は、ゲート弁6および7を共に閉じた状態では内部気圧を大気圧から真空(主チャンバー1内とほぼ同じ真空圧)まで下げ、また大気圧に戻す、等の気圧調節が可能な構造であり、これにより大気圧下にあるガラス基板3を、主チャンバー1内の真空を破ることなく主チャンバー1内に持ち込み、或いはそこから取り出すことが可能となる。
A transport mechanism 4 (a roller conveyor in the illustrated example) provided inside the
The
次に、このように構成された検査装置にガラス基板3を搬出入する操作過程を図5に従って説明する。なお、以下の項目(1)、(2)……は図5における図(1)、(2)……にそれぞれ対応する。
(1)最初、ゲート弁6は開き、ゲート弁7は閉じた状態で、ロードロックチャンバー2の内部は大気圧、主チャンバー1内は所定の真空圧に保たれている状態にある。この状態で、検査を受けるガラス基板3が外部のローダ(図示しない)等によりロードロックチャンバー2内の搬送機構4上に移載され、その後、ゲート弁6を閉じ、ロードロックチャンバー2内を真空引きする。
Next, an operation process for carrying the
(1) Initially, the
(2)ロードロックチャンバー2の内部気圧が所定の真空圧に達すると、ゲート弁7を開き、ガラス基板3を主チャンバー1に搬送する。その後、ゲート弁7を閉じ、ガラス基板3を検査する。
(3)検査が終わるとゲート弁7を開き、検査済みのガラス基板3をロードロックチャンバー2に戻し、ゲート弁7を閉じる。
(4)ロードロックチャンバー2の内部気圧を大気圧に戻し、ゲート弁6を開いてガラス基板3を外部に搬出し、次工程に送る。
以上をくり返し、次々にガラス基板3を検査する。
(2) When the internal pressure of the
(3) When the inspection is completed, the
(4) The internal pressure of the
The above is repeated and the
上記のように、従来の検査装置では、被検物の搬出入の都度ロードロックチャンバー内部の気圧を調整する必要があり、これに時間を要するため、被検物1点当たりの検査所要時間が長くなることが問題であった。具体的な数値例を挙げると、TFTアレイの検査の場合、主チャンバーにおける正味の検査時間は3分程度であるのに対し、圧力調整とゲート弁の開閉を含め被検物の搬入、搬出にそれぞれ1分ほどの時間が掛かり、結局被検物1点当たりの検査所要時間は約5分掛かることになる。
本考案はこのような事情に鑑みてなされたものであり、製造工程中で被検物を真空下で検査する検査装置において、検査所要時間を短縮することを目的とする。
As described above, in the conventional inspection apparatus, it is necessary to adjust the air pressure inside the load lock chamber every time the inspection object is carried in and out, and this takes time, so the time required for inspection per point of the inspection object It was a problem to be long. As a specific numerical example, in the case of TFT array inspection, the net inspection time in the main chamber is about 3 minutes. On the other hand, it is necessary to carry in and out the test object including pressure adjustment and gate valve opening / closing. Each time is about 1 minute, and the time required for inspection per specimen is about 5 minutes.
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to reduce the time required for inspection in an inspection apparatus that inspects an object under vacuum during a manufacturing process.
本考案は、上記課題を解決するために、主チャンバーとロードロックチャンバーの間で被検物を搬送する搬送経路中に設けた搬送機構と、その搬送機構上の被検物を搬送経路外に退避させる退避手段とをロードロックチャンバー内に備える。
このように構成することで、主チャンバー内で1つの被検物を検査中にロードロックチャンバーに次の被検物を搬入して待機させておき、検査が終わった直後に主チャンバーとロードロックチャンバーの間で被検物を交換することにより、主チャンバーではほとんど間を空けずに次の検査を始めることが可能となる。
In order to solve the above problems, the present invention provides a transport mechanism provided in a transport path for transporting a test object between a main chamber and a load lock chamber, and a test object on the transport mechanism outside the transport path. A retracting means for retracting is provided in the load lock chamber.
By configuring in this way, the next test object is brought into the load lock chamber and kept waiting while one test object is inspected in the main chamber. By exchanging the test object between the chambers, it is possible to start the next inspection with almost no space in the main chamber.
本考案は上記のように構成されているので、主チャンバーにおける検査とロードロックチャンバーにおける気圧調整を伴う被検物の搬出入とを同時に並行して進行させることができるので、被検物1点当たりの検査所要時間を大幅に短縮することができ、効率の高い検査装置を提供できる。 Since the present invention is configured as described above, the inspection in the main chamber and the loading / unloading of the object with pressure adjustment in the load lock chamber can be performed simultaneously in parallel. The time required for the inspection can be greatly reduced, and an efficient inspection apparatus can be provided.
本考案が提供する検査装置は次のような特徴を有する。即ち、第1の特徴は被検物を搬送する搬送機構を搬送経路中に設けた点にあり、第2の特徴は前記搬送機構上の被検物を前記搬送経路外に退避させる退避手段を設けた点である。
従って、最良の形態の基本的な構成は、上記の2点を具備する検査装置である。
The inspection apparatus provided by the present invention has the following features. That is, the first feature is that a transport mechanism for transporting the test object is provided in the transport path, and the second feature is a retracting means for retracting the test object on the transport mechanism out of the transport path. It is a point provided.
Therefore, the basic configuration of the best mode is an inspection apparatus having the above two points.
図1は本考案の一実施例装置の概略構成を示す。
同図において、図5に示す従来例と同一の構成要素については同符号を付すことにより再度の説明を省く。本実施例装置が図5に示す従来例と相違する点は、被検物を搬送経路10外に退避させる2基の退避機構11および12をロードロックチャンバー2内に備えたことである。なお、本実施例は、被検物がガラス製品であることからその脆性を考慮して、パレット31および32に被検物を積載して取り扱うように構成されている。
FIG. 1 shows a schematic configuration of an apparatus according to an embodiment of the present invention.
In the figure, the same components as those in the conventional example shown in FIG. The difference between the apparatus of this embodiment and the conventional example shown in FIG. 5 is that the
退避機構11は、被検物を積載した(または積載しない)パレット31を下から支持して搬送機構4の下方に退避させる。また、退避機構12は、被検物を積載した(または積載しない)パレット32を吊上げて搬送機構4の上方に退避させる。この例では退避機構11、12は、それぞれ4本の腕(図ではそれぞれ片側の2本のみが見えている)の先端に設けた鉤部11a、12aをそれぞれパレット31、32の下縁部に掛けてこれを支持するように構成されている。なお、図には示されていないが、パレット31、32の下縁部の鉤部11a、12aと係合する部位に溝等を設けて位置決め精度を高めると共にずれ防止を図ることは設計事項として容易に考えられる。
The
9は、被検物を本装置に搬出入するために本装置の前方に設けたローダである。ここでは一例として天井走行式のフォークリフト型のものを模式的に示した。これは、フォーク状の2本のアーム9a上に被検物を載せて持ち上げ、さらに前後に(図では左右に)移動して被検物をロードロックチャンバー2に出し入れするものである。但し、ローダ9は外部装置であって、本考案の構成に直接関わるものではない。
なお、本考案では検査装置内に同時に2つの被検物が存在するので、以下、これらをガラス基板3aおよびガラス基板3bとして区別する。
Reference numeral 9 denotes a loader provided in front of the present apparatus in order to carry the test object into and out of the present apparatus. Here, an overhead traveling forklift type is schematically shown as an example. In this method, the test object is placed on the two fork-
In the present invention, since two test objects exist in the inspection apparatus at the same time, these are hereinafter distinguished as a
図2は搬送機構4の構成例を示す平面図である。
搬送機構4は、同図に示すように、レール状に平行に設けられた1対のローラコンベア41、42で構成され、被検物を積載した(または積載しない)パレット31または32は、両ローラコンベア41、42間に橋架された状態で搬送される。両ローラコンベア41、42は、例えばエアシリンダ43、44を介して連結されており、このエアシリンダ43、44を作動させることにより両ローラコンベア41、42を水平方向(図では上下方向)に移動させて両者の間隔を拡げることができる。図2に鎖線で示す位置まで両ローラコンベア41、42を移動させ、その間隔をパレット31または32の幅よりも広くすることにより、パレット31または32が下方(図では紙面に垂直方向)に退避するための退避経路が確保される。
言い換えると、図2は、被検物の退避経路から搬送機構4を退避させる搬送機構退避手段の一例を示したものである。
FIG. 2 is a plan view illustrating a configuration example of the
As shown in the figure, the
In other words, FIG. 2 shows an example of a transport mechanism retracting means for retracting the
図3は、図1に示す実施例装置の動作過程を図示したものであり、図4は図3の続きである。
以下、図3および図4に従って、上記のように構成された本実施例装置にガラス基板3a、3bを搬出入する過程を説明する。なお、図3および図4においては、図1で示したローダ9は省略されているが、同様のものが外部とロードロックチャンバー2との間の搬出入に用いられるものとする。また、以下の(1)〜(8)は、図3および図4に示された(1)〜(8)に対応する。
(1)最初、ゲート弁6は開き、ゲート弁7は閉じた状態で、パレット31、32は共に搬送経路10の外にあり、ロードロックチャンバー2の内部は大気圧、主チャンバー1内は所定の真空圧に保たれている状態にある。この状態で、検査を受けるガラス基板3aが外部のローダ(図1の9)等によりロードロックチャンバー2内のパレット31上に移載される。
FIG. 3 illustrates an operation process of the embodiment apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a continuation of FIG.
Hereinafter, the process of carrying in and out the
(1) First, the
(2)その後、ゲート弁6を閉じ、ロードロックチャンバー2内を真空引きし、内部気圧を所定の真空圧に調整すると共に、退避機構11によりガラス基板3aをパレット31と共に搬送機構4上に持ち上げ、搬送経路10中に置く(この際、図2に例示するような搬送機構退避手段が作動してパレット31の上方への通過を可能にする)。
(3)ゲート弁7を開き、ガラス基板3aをパレット31と共に主チャンバー1内の搬送機構5上に搬送する。その後、ゲート弁7を閉じ、このガラス基板3aを検査する。検査は、前述したように、ガラス基板3aを電子線で走査し、基板から放出される二次電子を検出することにより行われる。
(4)この検査中に、ロードロックチャンバー2の内部気圧を大気圧に戻し、ゲート弁6を開き、次に検査すべきガラス基板3bを外部のローダ(図1の9)等からパレット32上に移載する。その後、ゲート弁6を閉じ、ロードロックチャンバー2内を真空引きする。
(5)主チャンバー1におけるガラス基板3aの検査が終わるとゲート弁7を開き、検査済みのガラス基板3aをパレット31と共に搬送機構5上から搬送機構4上に移す。
(2) Thereafter, the
(3) The
(4) During this inspection, the internal pressure of the
(5) When the inspection of the
(6)退避機構11によりガラス基板3aをパレット31と共に下方に退避させ、上方にあったガラス基板3bをパレット32と共に退避機構12により降下させ、搬送機構4上に載置し、搬送経路10中に位置させる。
(7)搬送機構4上のガラス基板3bをパレット32と共に主チャンバー1に送り、搬送機構5上に移す。その後、ゲート弁7を閉じ、ガラス基板3bを、前記ガラス基板3aの場合と同様に検査する。
(8)この検査中にロードロックチャンバー2の内部気圧を大気圧に戻し、ゲート弁6を開いてパレット32上からガラス基板3aを外部に搬出し、次工程に送る。
以下、同様にして次々に被検物を搬出入しながら検査を行う。
(6) The
(7) The glass substrate 3 b on the
(8) During this inspection, the internal pressure of the
Thereafter, the inspection is carried out in the same manner while carrying in and out the test objects one after another.
なお、被検物のサイズや性状によっては被検物をパレット31等に積載せずに直接取り扱うようにしてもよい。また、実施例1は被検物を上下方向に退避させるように構成した例であるが、水平方向に、即ち図1において紙面に垂直方向に、退避させるように構成することもできる。この場合は、搬送機構退避手段が不要となるから構造的には簡単化できるが、反面、搬送機構4の両側に幅広い退避スペースが必要となるので、装置の設置床面積が大きくなる欠点がある。
Depending on the size and properties of the test object, the test object may be handled directly without being loaded on the
本考案は、例えば液晶ディスプレイ等の製造工程においてガラス基板上に形成されたTFTアレイの検査に利用できる。 The present invention can be used for inspection of a TFT array formed on a glass substrate in a manufacturing process of a liquid crystal display or the like, for example.
1 主チャンバー
2 ロードロックチャンバー
3 ガラス基板
3a ガラス基板
3b ガラス基板
4 搬送機構
5 搬送機構
6 ゲート弁
7 ゲート弁
9 ローダ
9a アーム
10 搬送経路
11 退避機構
11a 鉤部
12 退避機構
12a 鉤部
31 パレット
32 パレット
41 ローラコンベア
42 ローラコンベア
43 エアシリンダ
44 エアシリンダ
DESCRIPTION OF
Claims (2)
The retracting means is for retracting the substrate on the transport mechanism below the transport mechanism, and further, the transport mechanism retracting means for retracting the transport mechanism from a retraction path in which the plate-shaped body is retracted by the retracting means. The TFT array inspection apparatus according to claim 1, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005010239U JP3119201U (en) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | TFT array inspection equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005010239U JP3119201U (en) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | TFT array inspection equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3119201U true JP3119201U (en) | 2006-02-16 |
Family
ID=43469440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005010239U Expired - Lifetime JP3119201U (en) | 2005-12-02 | 2005-12-02 | TFT array inspection equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3119201U (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008129614A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-30 | Shimadzu Corporation | Tft array inspection device |
JP2014214380A (en) * | 2013-04-25 | 2014-11-17 | エヌシーディ・カンパニー・リミテッド | Horizontal atomic layer vapor deposition device for large area substrate |
JP5730322B2 (en) * | 2010-10-19 | 2015-06-10 | 株式会社アルバック | Vapor deposition apparatus and vapor deposition method |
-
2005
- 2005-12-02 JP JP2005010239U patent/JP3119201U/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008129614A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-30 | Shimadzu Corporation | Tft array inspection device |
JP5730322B2 (en) * | 2010-10-19 | 2015-06-10 | 株式会社アルバック | Vapor deposition apparatus and vapor deposition method |
JP2014214380A (en) * | 2013-04-25 | 2014-11-17 | エヌシーディ・カンパニー・リミテッド | Horizontal atomic layer vapor deposition device for large area substrate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9701431B2 (en) | Load port device, transport system, and container carrying out method | |
KR102163605B1 (en) | Substrate processing apparatus | |
TWI455862B (en) | Substrate processing apparatus and method for loading and unloading substrates | |
US8499430B2 (en) | Assembly method of transfer mechanism and transfer chamber | |
JP3119201U (en) | TFT array inspection equipment | |
US20110229289A1 (en) | Vacuum processing apparatus | |
JP4023543B2 (en) | Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and vacuum processing apparatus | |
KR101685752B1 (en) | Substrate relay device, substrate relay method and substrate treatment device | |
KR102620121B1 (en) | Article transport apparatus and article transport facility | |
KR100742026B1 (en) | Semiconductor processing system and method for transferring workpiece | |
KR20090057901A (en) | Substrate assembling system | |
JP4302817B2 (en) | Vacuum processing system | |
KR101411620B1 (en) | Load lock chamber structure for device manufacturing FPD | |
KR100965512B1 (en) | Flat panel display manufacturing machine | |
JP4248663B2 (en) | Vacuum handler and transfer method | |
JP4680030B2 (en) | Decompression processing equipment | |
CN113169107B (en) | load lock chamber | |
KR20220072236A (en) | Transfer apparatus | |
JP2002134587A (en) | Mechanism for conveying object to be processed and processing system | |
JP3823979B2 (en) | Microplate processing apparatus and microplate transfer method | |
KR101131417B1 (en) | Loadlock and loadlock chamber using the same | |
US20220367223A1 (en) | Substrate transport apparatus and substrate transport method | |
KR100654772B1 (en) | Apparatus for trasferring panel | |
KR100648403B1 (en) | Plasma processing apparatus | |
JP3124203U (en) | Pallet transport device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125 Year of fee payment: 7 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |