JP3110077B2 - Thyristor with insulated gate - Google Patents

Thyristor with insulated gate

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JP3110077B2
JP3110077B2 JP03150579A JP15057991A JP3110077B2 JP 3110077 B2 JP3110077 B2 JP 3110077B2 JP 03150579 A JP03150579 A JP 03150579A JP 15057991 A JP15057991 A JP 15057991A JP 3110077 B2 JP3110077 B2 JP 3110077B2
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良博 南
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

[発明の目的] [Object of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、絶縁ゲート付きサイリ
スタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thyristor with an insulated gate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の絶縁ゲート付きサイリスタは、絶
縁ゲートによって高速にターンオンを行う素子である。
しかしながらこの素子は、自己ターンオフが出来ないと
いう難点がある。
2. Description of the Related Art A conventional thyristor with an insulated gate is an element which is turned on at a high speed by an insulated gate.
However, this element has a disadvantage that it cannot turn off itself.

【0003】この難点を解決するものとして、ターンオ
フ用の制御電極を付加した絶縁ゲート付きターンオフサ
イリスタが知られている。これはn型ベース層の表面に
選択的にp型ベース層が形成され、このp型ベース層内
にn型エミッタ層が形成されて、n型エミッタ層とn型
ベース層により挟まれた領域のp型ベース層上にゲート
絶縁膜を介してゲート電極が形成される。p型ベース層
にはこのゲート電極とは別に、直接コンタクトする制御
電極が設けられる。
As a solution to this difficulty, there is known a turn-off thyristor with an insulated gate to which a control electrode for turning off is added. This is because a p-type base layer is selectively formed on the surface of the n-type base layer, an n-type emitter layer is formed in the p-type base layer, and a region sandwiched between the n-type emitter layer and the n-type base layer. A gate electrode is formed on the p-type base layer via a gate insulating film. The p-type base layer is provided with a control electrode that is in direct contact, in addition to the gate electrode.

【0004】この絶縁ゲート付きターンオフサイリスタ
は、ターンオン時、ゲート電極にカソードに対して正の
電圧が印加される。これによりn型エミッタ層からゲー
ト電極下のチャネルを通してn型ベース層に電子が注入
される。この電子注入に見合った正孔がp型エミッタ層
からn型ベース層に注入されることによって、サイリス
タはターンオンする。ターンオフ時は制御電極にカソー
ドに対して負の電圧が印加される。これによって、素子
内のホール電流が制御電極に吸い出され、やがてn型エ
ミッタ層からの電子注入が止まってターンオフする。
In this turn-off thyristor with an insulated gate, a positive voltage is applied to the gate electrode with respect to the cathode at the time of turn-on. As a result, electrons are injected from the n-type emitter layer into the n-type base layer through the channel below the gate electrode. The thyristor is turned on when holes corresponding to the electron injection are injected from the p-type emitter layer into the n-type base layer. At the time of turn-off, a negative voltage is applied to the control electrode with respect to the cathode. As a result, the hole current in the device is sucked out to the control electrode, and the injection of electrons from the n-type emitter layer stops and the device is turned off.

【0005】この様な絶縁ゲート付きターンオフサイリ
スタは、高いスイッチング特性もつ点で優れているが、
制御端子を二つ必要とすることが新たな問題となる。実
際の回路に電力用素子を適用する場合に、駆動回路およ
び駆動方法を簡単にするためには、外部制御端子は一つ
であることが好ましい。
[0005] Such a turn-off thyristor with an insulated gate is excellent in that it has high switching characteristics.
The need for two control terminals creates a new problem. When the power element is applied to an actual circuit, it is preferable that the number of external control terminals be one in order to simplify the driving circuit and the driving method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このように、絶縁ゲー
ト付きターンオフサイリスタは、高いスイッチング特性
を持つが、外部制御端子が二つになるという問題があっ
た。
As described above, the turn-off thyristor with the insulated gate has high switching characteristics, but has a problem that it has two external control terminals.

【0007】本発明は上記実情を考慮してなされたもの
で、優れたターンオン,ターンオフ特性を維持しなが
ら、外部制御端子を一つにした絶縁ゲート付きサイリス
タを提供することを目的とする。 [発明の構成]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a thyristor with an insulated gate having a single external control terminal while maintaining excellent turn-on and turn-off characteristics. [Configuration of the Invention]

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、絶縁ゲ
ート付きサイリスタの絶縁ゲート電極,制御電極と、こ
れらと同じ側の面にある第1の主電極の3つの電極のう
ちの2つの電極を短絡して駆動するようにしたことにあ
る。
The gist of the present invention is that the thyristor with the insulated gate has two electrodes out of the three electrodes of the insulated gate electrode, the control electrode, and the first main electrode on the same side as these. The drive is performed by short-circuiting the electrodes.

【0009】本発明にかかる絶縁ゲート付きサイリスタ
の好ましい構造は、高抵抗の第1導電型ベース層と、こ
の第1導電型ベース層の一方の面に所定の開口を持つ格
子状パターンをなして拡散形成された第2導電型ベース
層と、この第2導電型ベース層内に前記開口のエッジか
ら所定距離離れて第1導電型ベース層を取り囲むように
リング状をなして拡散形成された第1導電型エミッタ層
と、第1導電型ベース層の他方の面に形成された第2導
電型エミッタ層と、前記開口に露出する前記第1導電型
ベース層およびその外側の前記第2導電型ベース層の表
面を覆うようにゲート絶縁膜を介して形成されたゲート
電極と、前記第1導電型エミッタ層と前記ゲート電極に
同時にコンタクトさせて形成された第1の主電極と、前
記第2導電型エミッタ層にコンタクトさせて形成された
第2の主電極と、前記第2導電型ベース層にコンタクト
させて形成された制御電極とを有する。
A preferred structure of the thyristor with an insulated gate according to the present invention is a high-resistance first conductivity type base layer and a lattice pattern having a predetermined opening on one surface of the first conductivity type base layer. A diffusion-formed second conductivity type base layer and a ring-shaped diffusion-formed second conductivity type base layer surrounding the first conductivity type base layer at a predetermined distance from an edge of the opening in the second conductivity type base layer. A first conductivity type emitter layer, a second conductivity type emitter layer formed on the other surface of the first conductivity type base layer, the first conductivity type base layer exposed to the opening, and the second conductivity type outside the base layer A gate electrode formed via a gate insulating film so as to cover the surface of the base layer; a first main electrode formed by simultaneously contacting the first conductivity type emitter layer and the gate electrode; Conductive Emi It has a second main electrode formed by contact with the data layer, and a control electrode formed by contact with the second conductivity type base layer.

【0010】[0010]

【作用】本発明による、第1の主電極とゲート電極を短
絡した駆動方法および素子構造によれば、制御電極によ
る初期ターンオンの際に、基板バイアス効果によってM
OSFETのしきい値電圧が変動する。この結果、ゲー
ト電極に格別の電圧を印加していないにも拘らず、寄生
的なチャネルが誘起されてターンオンが促進される。タ
ーンオフはこの制御電極による電流吸い出しにより行な
われる。
According to the driving method and the device structure of the present invention in which the first main electrode and the gate electrode are short-circuited, M is caused by the substrate bias effect during the initial turn-on by the control electrode.
The threshold voltage of the OSFET fluctuates. As a result, although no special voltage is applied to the gate electrode, a parasitic channel is induced to promote turn-on. The turn-off is performed by the current sink by the control electrode.

【0011】またゲート電極を制御電極を短絡した駆動
方法および素子構造によれば、通常のサイリスタ様式に
よるターンオンとMOSFETの駆動によるターンオン
とを同時に行なうことになる。ターンオフはこの短絡し
た電極により行なうことができる。以上の2方法は絶縁
ゲート付きターンオフサイリスタの高いスイッチング特
性を維持しながら、外部制御端子を一つにしたものであ
る。
Further, according to the driving method and the element structure in which the gate electrode is short-circuited to the control electrode, the turn-on by the ordinary thyristor mode and the turn-on by the drive of the MOSFET are performed simultaneously. Turn-off can be performed by this short-circuited electrode. The above two methods use a single external control terminal while maintaining high switching characteristics of a turn-off thyristor with an insulated gate.

【0012】最後に第1の主電極と制御電極を短絡した
駆動方法および素子構造によれば、通常のIGBTと同
様の構造となり、ゲート電極により低駆動電力でターン
オン,ターンオフすることが可能となる。
Finally, according to the driving method and the element structure in which the first main electrode and the control electrode are short-circuited, the structure becomes the same as that of a normal IGBT, and the gate electrode can be turned on and off with low driving power. .

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の詳細を図示の実施例によって
説明する。なお、以下の実施例では第1導電型としてn
型、第2導電型としてp型を用いている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments. In the following embodiments, the first conductivity type is n
A p-type is used as the mold and the second conductivity type.

【0014】図1は、本発明の第1の実施例の絶縁ゲー
ト付きサイリスタを示すカソード側レイアウトであり、
図2は図1のA−A′断面図である。高抵抗のn型ベー
ス層1の一方の面に選択的にp型ベース層2が拡散形成
され、このp型ベース層2内に選択的にn型エミッタ層
3が拡散形成されている。n型ベース層1の他方の面に
高濃度のn型バッファ層4を介してp型エミッタ層5が
形成されている。
FIG. 1 is a cathode side layout showing a thyristor with an insulated gate according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view taken along line AA 'of FIG. A p-type base layer 2 is selectively formed by diffusion on one surface of a high-resistance n-type base layer 1, and an n-type emitter layer 3 is formed by diffusion in the p-type base layer 2. On the other surface of the n-type base layer 1, a p-type emitter layer 5 is formed via a high-concentration n-type buffer layer 4.

【0015】p型ベース層2は、図1に示すように、所
定の大きさの開口を有する格子状パターンをもって形成
され、n型エミッタ層3は、このp型ベース層の開口部
エッジから所定距離離れた状態でリング状パターンをな
して形成されている。リング状の各n型エミッタ層3に
囲まれた島状領域のp型ベース層2およびn型ベース層
1の領域上にゲート絶縁膜7を介してゲート電極8が形
成されている。p型ベース層2には、その中央部に電極
コンタクト用の高濃度p型層12が形成され、これにコ
ンタクトして格子状パターンの制御電極11が配設され
ている。ゲート電極8および制御電極11が形成された
面は絶縁膜10,14で覆われ、これにコンタクト孔1
5が開けられて、n型エミッタ層3にコンタクトすると
同時にゲート電極8にコンタクトするカソード電極13
が形成されている。他方の面のp型エミッタ層5にはア
ノード電極6が形成されている。この様にこの実施例で
は、ゲート電極8とカソード電極13を短絡させた構造
として、一つの外部制御端子Gを設けている。
As shown in FIG. 1, the p-type base layer 2 is formed in a lattice pattern having an opening of a predetermined size, and the n-type emitter layer 3 is formed at a predetermined distance from the opening edge of the p-type base layer. It is formed in a ring-shaped pattern at a distance. A gate electrode 8 is formed on a p-type base layer 2 and an n-type base layer 1 in an island region surrounded by each of the ring-shaped n-type emitter layers 3 via a gate insulating film 7. A high-concentration p-type layer 12 for electrode contact is formed at the center of the p-type base layer 2, and a control electrode 11 having a lattice pattern is provided in contact with the high-concentration p-type layer 12. The surface on which the gate electrode 8 and the control electrode 11 are formed is covered with insulating films 10 and 14, and the contact hole 1
5 is opened, and the cathode electrode 13 that contacts the n-type emitter layer 3 and the gate electrode 8 at the same time.
Are formed. An anode electrode 6 is formed on the p-type emitter layer 5 on the other surface. Thus, in this embodiment, one external control terminal G is provided as a structure in which the gate electrode 8 and the cathode electrode 13 are short-circuited.

【0016】このような構成として、ターンオンの際に
は、外部制御端子Gすなわち制御電極11に、カソード
端子Kに対して正の電圧が印加される。これにより、p
型ベース層2にベース電流が供給され、同時にp型ベー
ス層2に正電圧が印加されることによる基板バイアス効
果によってゲート電極8下のp型ベース層2の表面には
n型チャネルが誘起されて、n型エミッタ層3からn型
ベース層1に電子が注入されて、素子はターンオンす
る。ターンオフの際には、外部制御端子Gにカソード端
子Kに対して負の電圧が印加される。これによりアノー
ド電流の一部がp型ベース層2から制御電極11を介し
て外部に排出されて、素子はターンオフする。以上のよ
うにしてこの実施例によれば、一つの外部制御端子でタ
ーンオン,ターンオフを高速に制御することが可能とな
る。
With such a configuration, at turn-on, a positive voltage is applied to the external control terminal G, that is, the control electrode 11, with respect to the cathode terminal K. This gives p
An n-type channel is induced on the surface of the p-type base layer 2 below the gate electrode 8 by a substrate bias effect caused by supplying a base current to the p-type base layer 2 and simultaneously applying a positive voltage to the p-type base layer 2. Then, electrons are injected from the n-type emitter layer 3 into the n-type base layer 1, and the device is turned on. At the time of turn-off, a negative voltage is applied to the external control terminal G with respect to the cathode terminal K. As a result, a part of the anode current is discharged from the p-type base layer 2 to the outside via the control electrode 11, and the device is turned off. As described above, according to this embodiment, turn-on and turn-off can be controlled at a high speed with one external control terminal.

【0017】上の実施例では、外部制御端子を一つにす
る第1の駆動法として、カソード電極とゲート電極を短
絡した。この他に、第2の駆動法として、制御電極とカ
ソード電極を短絡して外部制御端子を一つにする方法、
第3の駆動法として制御電極とゲート電極を短絡して外
部制御端子を一つにする方法、が考えられる。
In the above embodiment, the cathode and the gate electrode were short-circuited as a first driving method for unifying the external control terminals. In addition, as a second driving method, a method in which the control electrode and the cathode electrode are short-circuited to make the external control terminal one,
As a third driving method, a method in which the control electrode and the gate electrode are short-circuited to make one external control terminal possible.

【0018】図3は、第2の駆動法を示している。ター
ンオンの際には、外部制御端子Gすなわち制御電極11
とゲート電極8に正の電圧が印加される。これにより、
p型ベース層2にベース電流が供給されると同時に、ゲ
ート電極8下に形成されるチャネルを通してn型エミッ
タ層3からn型ベース層1に電子が注入される。ターン
オフの際には制御電極11に負の電圧を印加する。これ
により、アノード電流の一部がp型ベース層から外部に
排出されてターンオフする。
FIG. 3 shows a second driving method. At the time of turn-on, the external control terminal G, that is, the control electrode 11
And a positive voltage is applied to the gate electrode 8. This allows
At the same time when a base current is supplied to the p-type base layer 2, electrons are injected from the n-type emitter layer 3 into the n-type base layer 1 through a channel formed below the gate electrode 8. At the time of turning off, a negative voltage is applied to the control electrode 11. As a result, a part of the anode current is discharged from the p-type base layer to the outside and is turned off.

【0019】図4は、第3の駆動法を示している。この
方法では、ターンオンの際にゲート電極8に正の電圧が
印加され、n型エミッタ層3からn型ベース層1に電子
が注入される。ターンオフの際にはゲート電極8の正電
圧を取り去ればよい。また、ラッチアップさせればMO
Sサイリスタと同様の使用が可能となる。
FIG. 4 shows a third driving method. In this method, a positive voltage is applied to the gate electrode 8 at the time of turn-on, and electrons are injected from the n-type emitter layer 3 to the n-type base layer 1. At the time of turn-off, the positive voltage of the gate electrode 8 may be removed. Also, if you latch up, MO
The same use as the S thyristor becomes possible.

【0020】図5は、第1の駆動法を採用した別の実施
例の素子構造を示すカソード側レイアウトであり、図6
(a) (b) はそれぞれ図5のA−A′,B−B′断面図、
図7(a) (b) はそれぞれ図5のC−C′,D−D′断面
図である。この実施例では、p型ベース層2がストライ
プ状パターンをもって形成され、その中にn型エミッタ
層が制御電極コンタクト部に窓が開いた状態でストライ
プ状パターンをもって形成されている。そしてゲート電
極8は、p型ベース層1の長手方向に沿ってストライプ
状パターンをもって形成され、制御電極11はこのゲー
ト電極8と交差してストライプ状パターンをもって形成
されている。制御電極11のないゲート電極8上に開口
部が設けられて、ここでゲート電極8とカソード電極1
3が短絡されている。この実施例によっても、図1の実
施例と同様に、一つの外部制御端子で、ターンオン,タ
ーンオフを高速に行うことができる。
FIG. 5 is a cathode layout showing a device structure of another embodiment employing the first driving method.
(a) and (b) are cross-sectional views taken along lines AA 'and BB' in FIG. 5, respectively.
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views taken along the lines CC 'and DD' of FIG. 5, respectively. In this embodiment, the p-type base layer 2 is formed in a striped pattern, and the n-type emitter layer is formed therein in a striped pattern with a window opened in the control electrode contact portion. The gate electrode 8 is formed in a stripe pattern along the longitudinal direction of the p-type base layer 1, and the control electrode 11 is formed in a stripe pattern crossing the gate electrode 8. An opening is provided on the gate electrode 8 without the control electrode 11, where the gate electrode 8 and the cathode electrode 1 are provided.
3 is short-circuited. According to this embodiment, as in the embodiment of FIG. 1, turn-on and turn-off can be performed at a high speed with one external control terminal.

【0021】図8は、図3で説明した第2の駆動法によ
る実施例の素子構造を示すカソード側レイアウトであ
る。図9(a) (b) はそれぞれ図8のA−A′,B−B′
断面図であり、図10(a) (b) はそれぞれ図8のC−
C′,D−D′断面図である。この実施例は、拡散層レ
イアウト、およびゲート電極8と制御電極11のレイア
ウトが先の実施例と同様である。制御電極11と交差す
るゲート電極8上に開口部が設けられて、ゲート電極8
と制御電極11が短絡されている。これにより1駆動端
子を実現している。
FIG. 8 is a layout on the cathode side showing the element structure of the embodiment according to the second driving method described with reference to FIG. FIGS. 9 (a) and 9 (b) are AA 'and BB' of FIG. 8, respectively.
10 (a) and 10 (b) are cross-sectional views of FIG.
It is C ', DD' sectional drawing. In this embodiment, the layout of the diffusion layer and the layout of the gate electrode 8 and the control electrode 11 are the same as those of the previous embodiment. An opening is provided on the gate electrode 8 intersecting with the control electrode 11, and the gate electrode 8
And the control electrode 11 are short-circuited. This realizes one drive terminal.

【0022】図11は、図3で説明した第2の駆動法に
よる実施例の素子構造を示すカソード側レイアウトであ
る。図12(a) (b) はそれぞれ図11のA−A′,B−
B′断面図であり、図13(a) (b) はそれぞれ図11の
C−C′,D−D′断面図である。この実施例も、拡散
層レイアウト、およびゲート電極8と制御電極11のレ
イアウトは基本的に図5〜図7の実施例と同様である。
この実施例でもゲート電極8と制御電極11はストライ
プ状に交差させて配置されるが、さらにゲート電極8上
でストライプ状の制御電極11が連結されており、ゲー
ト電極8上の絶縁膜10に開口部が設けられてゲート電
極8と制御電極11が短絡されている。これにより制御
電極11の配線抵抗を低減しつつ、1駆動端子を実現し
ている。本発明は、上記実施例に限られるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施例
することができる。
FIG. 11 is a layout on the cathode side showing the element structure of the embodiment according to the second driving method described with reference to FIG. FIGS. 12 (a) and 12 (b) show AA 'and B-
13 (a) and 13 (b) are CC 'and DD' sectional views of FIG. 11, respectively. Also in this embodiment, the layout of the diffusion layer and the layout of the gate electrode 8 and the control electrode 11 are basically the same as those in the embodiments of FIGS.
Also in this embodiment, the gate electrode 8 and the control electrode 11 are arranged so as to intersect in the form of a stripe, but the control electrode 11 in the form of a stripe is further connected on the gate electrode 8, so that the insulating film 10 on the gate electrode 8 An opening is provided so that the gate electrode 8 and the control electrode 11 are short-circuited. This realizes one drive terminal while reducing the wiring resistance of the control electrode 11. The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified and implemented without departing from the gist thereof.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、高
速性を保ったまま外部制御端子を一つにした絶縁ゲート
付きサイリスタを提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a thyristor with an insulated gate having a single external control terminal while maintaining high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の素子構造を示すカソー
ド側レイアウト図。
FIG. 1 is a cathode side layout diagram showing an element structure according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A′断面図。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1;

【図3】外部制御端子を減らす第2の駆動法を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a second driving method for reducing the number of external control terminals.

【図4】外部制御端子を減らす第3の駆動法を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a third driving method for reducing the number of external control terminals.

【図5】本発明の第2の実施例の素子構造を示すカソー
ド側レイアウト図。
FIG. 5 is a layout diagram on the cathode side showing an element structure according to a second embodiment of the present invention.

【図6】図5のA−A′およびB−B′断面図。FIG. 6 is a sectional view taken along line AA ′ and BB ′ of FIG. 5;

【図7】図5のC−C′およびD−D′断面図。FIG. 7 is a sectional view taken along the line CC ′ and DD ′ of FIG. 5;

【図8】本発明の第3の実施例の素子構造を示すカソー
ド側レイアウト図。
FIG. 8 is a layout diagram on the cathode side showing an element structure according to a third embodiment of the present invention.

【図9】図8のA−A′およびB−B′断面図。FIG. 9 is a sectional view taken along the lines AA ′ and BB ′ of FIG. 8;

【図10】図8のC−C′およびD−D′断面図。FIG. 10 is a sectional view taken along the line CC ′ and DD ′ of FIG. 8;

【図11】本発明の第4の実施例の素子構造を示すカソ
ード側レイアウト図。
FIG. 11 is a cathode-side layout diagram showing a device structure according to a fourth embodiment of the present invention.

【図12】図11のA−A′およびB−B′断面図。FIG. 12 is a sectional view taken along the lines AA ′ and BB ′ of FIG. 11;

【図13】図11のC−C′およびD−D′断面図。FIG. 13 is a sectional view taken along the line CC ′ and DD ′ of FIG. 11;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…高抵抗n型ベース層、 2…p型ベース層、 3…n型エミッタ層、 4…n型バッファ層、 5…p型エミッタ層、 6…アノード電極、 7…ゲート絶縁膜、 8…ゲート電極、 10,14…絶縁膜、 11…制御電極、 12…高濃度p型層、 13…カソード電極。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... High resistance n-type base layer, 2 ... P-type base layer, 3 ... N-type emitter layer, 4 ... N-type buffer layer, 5 ... P-type emitter layer, 6 ... Anode electrode, 7 ... Gate insulating film, 8 ... Gate electrode, 10, 14 insulating film, 11 control electrode, 12 high-concentration p-type layer, 13 cathode electrode.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】高抵抗の第1導電型ベース層と、前記第1
導電型ベース層の一方の面に所定の開口を持つ格子状パ
ターンをなして拡散形成された第2導電型ベース層と、
前記第2導電型ベース層内に前記開口のエッジから所定
距離離れて前記第1導電型ベース層を取り囲むようにリ
ング状をなして拡散形成された第1導電型エミッタ層
と、前記第1導電型ベース層の他方の面に形成された第
2導電型エミッタ層と、前記開口に露出する前記第1導
電型ベース層およびその外側の前記第2導電型ベース層
の表面を覆うようにゲート絶縁膜を介して形成されたゲ
ート電極と、前記第1導電型エミッタ層と前記ゲート電
極に同時にコンタクトさせて形成された第1の主電極
と、前記第2導電型エミッタ層にコンタクトさせて形成
された第2の主電極と、前記第2導電型ベース層にコン
タクトさせて形成された制御電極と、を備えたことを特
徴とする絶縁ゲート付きサイリスタ。
A first conductive type base layer having a high resistance;
A second conductivity type base layer diffused and formed in a lattice pattern having a predetermined opening on one surface of the conductivity type base layer;
A first-conductivity-type emitter layer formed in the second-conductivity-type base layer in a ring shape at a predetermined distance from an edge of the opening and surrounding the first-conductivity-type base layer; A second conductive type emitter layer formed on the other surface of the mold base layer, a gate insulating layer covering the first conductive type base layer exposed to the opening, and a surface of the second conductive type base layer outside the first conductive type base layer. A gate electrode formed through a film, a first main electrode formed by simultaneously contacting the first conductivity type emitter layer and the gate electrode, and a second electrode formed by contacting the second conductivity type emitter layer. A thyristor with an insulated gate, comprising: a second main electrode; and a control electrode formed in contact with the second conductivity type base layer.
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