JP3101346B2 - Polyvinyl butyral thin film composition - Google Patents
Polyvinyl butyral thin film compositionInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は映写焼付け(proje
ction printing)において使用される特
定のポリビニルブチラール樹脂から成形される薄膜に関
するものであり、該薄膜は遠UV域さらに中並びに近U
V域にも適用可能である。又、本発明は、前記薄膜用フ
ィルム製造用の注型適性組成物に関するものである。特
に本発明は、現存するポリビニルブチラール薄膜に優る
光学的特性及びさらに低い吸収特性を有するポリビニル
ブチラール薄膜に関するものである。又、本薄膜は、優
れた窒素吹き込み成型強度とヤング率を有する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to projection printing .
ction printing) relates thin film molded from a specific polyvinyl butyral resin used in, the thin film is deep UV region further in and near U
It is also applicable to the V region . The present invention relates to castable compositions of the thin film for a film for manufacturing. In particular, the present invention relates to polyvinyl <br/> butyral thin film having excellent Ru optical properties and lower absorption properties of polyvinyl butyral thin film existing. The present thin film has excellent nitrogen-introducing molding strength and Young's modulus.
【0002】[0002]
【従来の技術】映写焼付けの分野、特に半導体産業並び
に集積回路の製造においては、空気中の微粒子からフォ
トマスクを保護する薄膜の使用は、数多くの利点を備え
ていることから益々その需要が高まっている。映写焼付
けに薄膜を使用することは、例えば、1978年12月
26日にシー(Shea)らに付与された米国特許第
4,131,363号、並びに、エレクトローオプチカ
ルシステムデザインコープ社誌の1973年に発行され
たスピバック(Spivack)らによる「ビームスプ
リッター(beam splitter)としてのパリ
レンと他の薄膜の評価」と題する論文の第362頁から
第370頁において記述されている。映写焼付けにおけ
るそのような使用は、マスクとプリンティングの欠陥を
減少し、マスクのレクチル寿命を延ばし、調整者による
稼働休止時間を短縮し、マスクの品質を向上させ、生産
の効率を増加させる。先行技術において採用されている
材料及び薄膜フィルムとして利用可能なフィルム生産に
適した材料にはポリオキシエチレンテレフタレート、ニ
トロセルロース及びパリレンのポリマーフィルムが含ま
れる。BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the projection baking, particularly in the manufacture of the semiconductor industry as well as integrated circuits, the use of thin film for protecting a photomask from particles in the air, the more the demand because it has a number of advantages Is growing. Projection printing
The use of thin film in only, e.g., on December 26, 1978 issued to sea (Shea) et al U.S. Pat. No. 4,131,363, as well as 1973 of Electro chromatography Opti local system design Corp Inc. magazine It is described in Chapter 370, pages 362 pages article entitled by published Supibakku (Spivack) et year "evaluation of parylene and other thin film as a beam splitter (beam splitter)." Such use in projection printing reduces mask and printing defects, prolongs mask reticle life, reduces downtime by coordinators, and improves mask quality. And increase the efficiency of production. Prior art are employed have your materials and thin film materials suitable to the available films produced as a film of polyoxyethylene terephthalate, include polymeric films nitrocellulose and parylene.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】薄膜フィルムとして映
写焼付け装置に有用であるポリビニルブチラール以外の
先行技術のポリマーフィルムは、その有用性において大
きな制限を受けてきた。例えば、そのようなポリマ−フ
ィルムの薄膜は近UV域(波長:340から436n
m)において有効であり、中UV域(波長:280から
340nm)においていくらか有効であったが、どれも
遠UV域(波長:200から280nm)において全く
使用できなかった。先行技術の薄膜フィルムは、近UV
域及び中UV域においてかなり有効であるが、遠UV域
においては有効な光透過性を示さず、よって、遠UV域
における利用は不可能であった。The object of the invention is to be Solved by the movies as a thin membrane film
The polymer film of the prior art other than the polyvinyl butyral useful for shooting printing apparatus has been severely limited in their usefulness. For example, such polymers - the thin film near UV region of the film (wavelength: 340 From 436n
m) and was somewhat effective in the mid- UV range (wavelength: 280 to 340 nm), but none was
Absolutely in the far UV range (wavelength: 200 to 280 nm)
Could not be used . Thin membrane film of the prior art, the near-UV
Although quite effective in frequency and mid UV regions showed no effective optical transparency in the deep UV region <br/>, therefore, your Keru utilized far UV region <br/> was impossible.
【0004】さらに、又、先行技術の薄膜フィルムは、
近UV域及び中UV域において有効性を有することが発
見されているが、その性能は必ずしも満足できるもので
はなかった。これらのUV領域において効果の減少をも
たらす多くの要素の中には、それらの光透過性が映写波
長において実質的に100%にはならず、一般には99
%以下となる事実が挙げられる。又、薄膜フィルムの引
張り強度は、通常3000から5000psi(210
kgf・cm-2 から350kgf・cm-2)の範囲で
あり、薄膜フィルムの寿命を延ばすために高引張強度の
フィルムが嘱望されている。さらに、前記先行技術の薄
膜フィルムにおける不都合な光散乱の割合は、一般に3
65nm(ナノメータ−)において0.3%の範囲であ
った。現在、低光散乱率のフィルムが嘱望されている。
又、先行技術の薄膜フィルムにおいて、パーセントエタ
ロニング、即ち、最大及び最小透過間における相違、は
約18%に過ぎず、薄膜の平均透過率を増加させるため
には、できる限りそのようなエタロニングを減少させる
ことが大変有利となる。[0004] In addition, In addition, the thin membrane film of the prior art,
Have been found to have efficacy in the near UV range and mid UV regions, their performance is not necessarily satisfactory. Among the many factors that result in a diminished effect in these UV regions , their light transmission is not substantially 100% at the projection wavelength, generally 99%.
% Or less. In addition, the argument of the thin membrane film
Tensile strength is typically between 3000 and 5000 psi (210
ranges from kgf · cm-2 350kgf · cm -2), are <br/> film high tensile strength is great hopes to extend the life of the thin membrane film. Further, the rate of adverse light scattering in the prior art thin film films is generally less than 3%.
The range was 0.3% at 65 nm (nanometer). At present, a film having a low light scattering rate is demanded.
Further, the thin membrane film of the prior art, the percent d Taro training, i.e., difference between the maximum and minimum transmission, has only about 18%, in order to increase the average transmittance of the thin film, such as possible It is very advantageous to reduce significant etaloning.
【0005】従って、遠UV域において有効で、中ある
いは近UV域における場合と同様あるいはより良い性能
及び(又は)特性を有する薄膜フィルムが大いに嘱望さ
れている。さらに。全てのUV域において有効であり、
中あるいは近UV域においての先行技術の薄膜フィルム
に使用される材料の性能及び(又は)特性と比較して、
全体的、あるいは部分的に改良された薄膜フィルムが嘱
望されている。Accordingly, effective in the far UV region, <br/> physician there within is expectation thin membrane film is greatly having similar or better performance and (or) characteristic as that in the near UV region. further. Effective in all UV ranges ,
During or as compared to performance and (or) the characteristics of the materials used in the thin membrane film of the prior art in the near UV range,
Overall, or partially improved thin membrane film is expectation.
【0006】全てのポリビニルブチラール樹脂フィルム
が映写焼付け用の薄膜として必要な光学的特性を有して
いるのではないことは周知である。ポリビニルブチラー
ル薄膜が光の透過を妨げる不純物を含有しないことが望
まれる。ポリビニルブチラール薄膜に共通の問題は、前
記物質材料に見られるビニルアセテートから得られると
考えられているカルボニル基の存在にある。さらに、薄
膜を形成するため、以前からポリビニルブチラール樹脂
と共に使用されている溶剤系は、不純物を最小限度に抑
える最も効果的な溶剤系となってはいなかった。驚くべ
きことに、本出願人は、カルボニル基を含有するジエチ
ルホルムアミドが効果的な溶剤であることを発見した。[0006] All of the polyvinyl butyral resin film can not than a has optical properties necessary as a thin film for projection baking is well known. The polyvinyl Buchira <br/> Le thin film does not contain impurities which interfere with the transmission of light is desired. A common problem in a polyvinyl butyral thin film, before
Serial in the presence of a carbonyl group that is considered to be obtained from vinyl acetate et al are observed in substance material. Furthermore, in order to form a thin <br/> film, the solvent system used in conjunction with polyvinyl butyral resin previously, it was not become the most effective solvent system to minimize the degree of impurities. Surprisingly, Applicants have found that diethylformamide containing a carbonyl group is an effective solvent.
【0007】薄膜は、キャスティング、フロート・キャ
スティングあるいは回転スピニング法のどの通常手段に
よっても製造可能てある。通常、ポリマーと溶剤の混合
物は、重量比約5%から30%のポリマーからなる。シ
リコーン流体等の均展剤を加えることも可能である。[0007] The thin film, casting, float calibration
The usual means of sting or spinning
Therefore, it can be manufactured. Typically, the mixture of polymer and solvent will comprise from about 5% to 30% by weight of the polymer. It is also possible to add leveling agents such as shea <br/> Ricoh down fluid.
【0008】本発明のポリビニルブチラールの注型適性
溶液は、薄膜製造方法に依存して製造される。通常、固
体分重量比10%から15%の注型溶液は、2000か
ら3000rpmにおける回転スピニング法により成形
される厚さ約1.2〜2.0 ミクロンのフィルムを製造
する。[0008] pourability <br/> solution of polyvinyl butyral of the present invention, Ru is produced depending on the thin film manufacturing method. Usually fixed
Body matter weight of 15% of the casting from a 10% ratio solution, to produce a film having a thickness of about 1.2 to 2.0 microns, which is molded by a rotary spinning process in 3000rpm 2000.
【0009】イアル イー ワード(Irl E.Wa
rd)に付与された米国特許第4,482,591号
は、それぞれ13%未満、2%未満、88%、以上の特
定のヒドロキシ、アセテート及びブチラールを含有した
特定のポリビニルブチラール樹脂から成形されるポリビ
ニルブチラール薄膜に係わるものである。該特許は、特
に2−エトキシエタノール及びテトラヒドロフルフリル
アルコールあるいはメチルエチルケトンからなる溶剤系
から得られるポリビニルブチラールの利用法について開
示している。[0009] Ill E. Wa
U.S. Patent No. 4,482,591, issued to rd) are each less than 13%, less than 2%, is formed from 88%, or more specific hydroxy, particular polyvinyl butyral resin containing acetate and butyral that polybibenzimidazole
Those related to sulfonyl butyral thin film. The patent discloses in particular 2-ethoxyethanol and tetrahydrofurfuryl alcohol or usage of the polyvinyl butyral obtained from a solvent system consisting of methyl ethyl ketone.
【0010】そこで、本発明の目的は、遠UV域におい
て有効で、中あるいは近UV域における場合と同様ある
いはより良い性能及び(又は)特性を有する薄膜フィル
ムを提供することにある。さらに、本発明の目的は、全
てのUV域において有効であり、中あるいは近UV域に
おいての先行技術の薄膜フィルムに使用される材料の性
能及び(又は)特性と比較して、全体的あるいは部分的
に優る薄膜フィルムを提供することにある。An object of the present invention is effective Te far UV region smell <br/>, to provide a thin membrane film having the same or better performance and (or) characteristics as in the middle or near UV region It is in. Furthermore, comparison object of the present invention is effective in all the UV range, the performance of the medium or material used for the thin membrane film of the prior art <br/> Oite in the near UV region and (or) properties to, to provide a thin membrane film Ru whole or partially Yu.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】薄膜フィルムとして使用
するのに適していないと考えられていた特定のポリビニ
ルブチラールポリマーフィルムは、特定の溶剤系におい
て、前記米国特許第4,482,591号で開示されて
いるような従来のポリビニルブチラール薄膜より優れた
特性を示すことがわかった。これらの薄膜は近、中及び
遠UV域において映写焼付けに使用可能であり、これま
で入手できた従来のポリビニルに匹敵、又は優る高い光
透過率、性能及び(又は)物理的性質を有する。さらに
は、ジメチルホルムアミドあるいはジエチレングリコー
ルジメチルエーテル(ジグリム:diglyme)にお
ける特定のポリビニルブチラール樹脂の注型適性溶液か
ら成型された薄膜フィルムは、遠UV域においてさらに
優れた光透過率を示すフィルムとなる。Means for Solving the Problems The specific polyvinylidine that were considered not suitable for use as a thin membrane film
Le butyral polymer film, certain Te solvent system odor <br/>, found to exhibit excellent properties than conventional polyvinyl butyral thin film such as the disclosed in U.S. Patent No. 4,482,591 Was . These thin films are near, middle and
May be used for projection baking in the far UV region, comparable to conventional polyvinyl where available heretofore, or over high light transmission, with the performance and (or) physical properties. Furthermore, dimethylformamide or diethylene glycol dimethyl ether: Thin film films molded from pourability solution of a specific polyvinyl butyral resin in (diglyme diglyme) is a film exhibiting a more excellent light transmittance in the far UV region .
【0012】具体的には、本発明により、一般式Specifically, according to the present invention, the general formula
【化3】 (式中のxは0.18又はそれ以上、yは2.5以下及
びzは0.80又はそれ以下の値である)で表されるポ
リビニルブチラール樹脂から成形されるフィルムから成
ることを特徴とする映写焼付けに使用される薄膜フィル
ムが提供される。Embedded image (Where x is 0.18 or more, y is 2.5 or less and z is 0.80 or less) and is molded from a polyvinyl butyral resin represented by the following formula: A thin film for use in projection printing characterized by comprising a film is provided.
【0013】請求項4に記載の本発明は、「前記ポリビ
ニルブチラール樹脂は、少なくとも1.100の比重を
有することを特徴とする請求項1記載の皮膜フィルム」
である。さらに本発明により、一般式The invention according to claim 4, "the polybibenzimidazole
2. The film according to claim 1, wherein the nilbutyral resin has a specific gravity of at least 1.100.
It is. Further, according to the present invention, the general formula
【化4】 (式中のxは0.18又はそれ以上、yは2.5以下及
びzは0.80又はそれ以下の値である)で表されるポ
リビニルブチラール樹脂と、ジメチルホルムアミド又は
ジグリムから成る溶媒から成ることを特徴とする注型適
性溶液が提供される。Embedded image (X is 0.18 or more in the formula, y is 2.5 or less, and z is 0.80 or less value) and port <br/> polyvinyl butyral resin represented by dimethyl formamide or <br/> castable solution characterized in that it consists solvent consisting of diglyme is provided.
【0014】[0014]
【作用】上記構成により、これらの薄膜はあらゆる形態
のUV域において映写焼付けに使用可能であり、これま
で入手できた従来のポリビニルに匹敵、あるいは優る高
い光透過率、性能及び(又は)特性を有する。さらに
は、ジメチルホルムアミドあるいはジエチレングリコー
ルジメチルエーテル(ジグリム:diglyme)にお
ける特定のポリビニルブチラール樹脂の注型適性溶液か
ら成型された薄膜フィルムは、遠UV域においてさらに
優れた光透過率を示すフィルムとなる。[Action] With this configuration, these thin films may be used for projection baked in the UV range of all forms, hitherto comparable to conventional polyvinyl where available, or over high light transmission, performance and (or) Has characteristics. Furthermore, dimethylformamide or diethylene glycol dimethyl ether: Thin film films molded from pourability solution of a specific polyvinyl butyral resin in (diglyme diglyme) is a film exhibiting a more excellent light transmittance in the far UV region .
【0015】[0015]
【実施例】本発明による薄膜は、以下の一般式を持つポ
リビニルブチラール樹脂とジメチルホルムアミドあるい
はジクリムの溶剤系においてさらに優れた性能特性を有
するように成形される。EXAMPLES The present invention by thin-film is formed to have a better performance characteristics in port <br/> solvent system of polyvinyl butyral resin and dimethyl formamide or Axis rim having the following general formula.
【0016】[0016]
【化5】 上記一般式において、xは0.18以上、yは0.0か
ら2.5、zは0.80以下である。前記ポリビニルブ
チラールにおいて、パーセントポリビニルアルコールと
して表わされるポリマーのヒドロキシル含量は、18%
以上であり、通常は18%から22%の範囲にあり、パ
ーセントポリビニルブチラールとして表わされるアセテ
ートの含量は少なくとも80%である。即ち、上記の
x、y、zは、上記の通りであるが好ましくはxが0.
18から0.22、yが0.00から2.5、zが0.
80以下である。xが約0.19、yが約0.3から
1.0、zが約0.80のポリマーが好適であることが
発見されている。前記の基準を満たす適当なポリビニル
ブチラールは、ニューヨーク州オンタリオ市のサイエン
チフィックポリマープロダクツ社発行「技術会報」19
87年版8月号のカタログ第381番ポリビニルブチラ
ール樹脂である。本発明の好適なポリビニルブチラール
は、少なくとも1.100の比重及び50,000から
150,000の重量平均分子量を有する。Embedded image In the above general formula, x is 0.18 or more, y is 0.0 to 2.5, and z is 0.80 or less. In the polyvinyl Bed <br/> butyral, hydroxyl-containing weight of the polymer expressed as percent polyvinyl alcohol, 18%
Or more, usually in the range from 18% 22%, including the amount of acetate expressed as percent polyvinyl butyral it is at least 80%. That is, x, y, and z are as described above, but preferably, x is equal to or less than 0.
18 to 0.22, y is 0.00 to 2.5, z is 0.
80 or less. It has been discovered that polymers having x of about 0.19, y of about 0.3 to 1.0, and z of about 0.80 are suitable. Suitable polyvinyl <br/> butyral satisfying the criteria, Scientific Polymer Products issued NY Ontario City "Technical Bulletin" 19
87 2011 Edition August catalog is # 381 th polyvinyl butyral <br/> Lumpur resin. Suitable polyvinyl butyral of the present invention has a weight average molecular weight of specific gravity and 50,000 of at least 1.100 150,000.
【0017】有利なことに、本発明に利用されるポリビ
ニルブチラール樹脂は、実質的にカルボニル基を含有す
る不純物を含まない。利用されるポリビニルブチラール
樹脂が確実に不純物を含まないようにするには、適当な
非溶剤で樹脂を洗浄するとよい。[0017] Advantageously, the poly-bi, which is used in the present invention
Sulfonyl butyral resin, free of impurities containing substantially carbonyl group. Polyvinyl butyral resin utilized is a free of reliably impurities, they are preferable to wash the resin with a suitable equivalent non solvent.
【0018】本発明においては、注型用溶液を成形する
ためにジメチルホルムアミトかジグリムを利用すること
がさらに重要である。該ジメチルホルムアミドかジグリ
ムは、ミズリ−州セントルイス市のモンサント株式会社
の製品カタログ(技術会報)第6070Dのポリビニル
ブチラール樹脂であるBUTVAR B−90及びB−
98を利用する際に、優れたスペクトル特性、均一な厚
さ及び表面均一性を有する薄膜を提供するが、それらは
本発明の前には薄膜を製造することができないと考えら
れてきたものである。好適な溶剤はジメチルアミドであ
る。In the present invention, it is more important to utilize dimethylformamidine DOO or diglyme to shape the casting solution. The dimethylformamide or jig Li
Arm is hydraulic - Product Catalog (Technical Bulletin) State St. Louis Monsanto Co. BUTVAR B-90 and polyvinyl <br/> butyral resin of the 6070D B-
While utilizing 98 provides thin films with excellent spectral properties, uniform thickness and surface uniformity,
Prior to the present invention has been considered to be unable to produce a thin film. A preferred solvent is dimethylamide.
【0019】以下記載の例は本発明の実施例を示す。し
かしながら、これらの例は本発明を説明するためにのみ
列挙するものであって、本発明の条件及び範囲を限定す
るものではない。特に記載がない場合には、全ての数値
は重量パーセントで表示されている。The following examples illustrate embodiments of the present invention. However, these examples are provided only for illustrating the present invention and do not limit the conditions and scope of the present invention. Unless otherwise stated, all figures are given in weight percent.
【0020】実施例1 A.注型用溶液は、100mlのジメチルホルムアミト
内で精製したポリビニルブチラール樹脂12.25gを
溶解することで作成された。 B.薄膜の作成 米国特許第4,449,231号記載の方法に従い、上
記Aにおける注型用溶液を例として5インチ(13c
m)の清浄乾燥シリコンウエーハのごとき研磨された平
坦基板上に注ぎ、回転開始前に該基板を約10から40
mlの溶液で満たす。均一なフィルムとするため、前記
基板を毎分2000から3000回転で1分間ヘットウ
エ−EC101シリーズのスピナーにて回転させる。溶
剤を揮発させるために該基板を温室にて一晩そのまま放
置する。ポリマーのyは0.01であった。硬化したフ
ィルムを剥離する。 Example 1 A. Casting solution was prepared by dissolving polyvinyl butyral resin 12.25g purified in dimethylformamidine bets 100 ml. B. According to the method described creation U.S. Patent No. 4,449,231 thin film, 5 inches (13c as an example a casting solution in the A
m) onto a polished flat substrate, such as a clean and dry silicon wafer, and remove the substrate from about 10 to 40
Fill with ml of solution. The substrate is spun at 2000-3000 rpm for 1 minute with a Hetwe-EC101 series spinner to form a uniform film. Release the substrate in a greenhouse overnight to evaporate the solvent.
Place . The y of the polymer was 0.01. Release the cured film.
【0021】C.ジグリムでも同様な結果が得られよ
う。スピナーにより回転速度毎分2800回転にて5回
処理した。その結果、以下のような厚さ(ミクロン)を
有するフィルムが得られた。 1. 1.800 2. 1.790 3. 1.806 4. 1.804 5. 1.796C. Similar results, even jig rim will be obtained. The treatment was performed 5 times at a spinning speed of 2800 rpm using a spinner. As a result, a film having the following thickness (micron) was obtained. 1. 1.800 2. 1.790 3. 1.806 4. 1.804 5. 1.796
【0022】実施例2 実施例1の手順にて、(A)セロソルブ(cellos
olve)、(B)60%のセロソルブと40%のジメ
チルホルムアミド(DMF)及び(C)100%のジメ
チルホルムアミド内における11.25%の精製ポリビ
ニルブチラール樹脂での10.75%の精製ポリビニル
ブチラール樹脂でフィルムが製造された。 Example 2 According to the procedure of Example 1, (A) cellosolve (cellos) was used.
olve), (B) 60% of cellosolve and 40% dimethylformamide (DMF) and (C) 11.25% of the purified polybibenzimidazole in 100% dimethyl formamide
Film was produced in 10.75% of the purified polyvinyl <br/> butyral resin at nil butyral resin.
【0023】利用される全ポリビニルブチラール樹脂
は、サイエンティフィックポリマープロダクツ社のカタ
ログ番号381の製品であった。UV/VIS P.
E.ラムダ(Lambda) 6 スペクトロメータの
光透過試験の結果は、以下の通りであった。 λ(ラムダ)試料 300 270 250 240 230 210 (A)100% %/t 99.0 98.1 97.5 − 96.1 94.0 セロソルブ (1.96ミクロン) (B)60/40 %/t 99.3 98.5 98.3 97.4 96.4 93.9 (C)100% DMF %/t (1.36ミクロン) 99.4 99.0 98.5 98.2 97.3 95.2The total polyvinyl butyral resins utilized was the product of Scientific Polymer Products catalog number 381. UV / VIS P.I.
E. FIG. The results of the light transmission test of the Lambda 6 spectrometer were as follows. λ (lambda) sample 300 270 250 240 230 210 (A) 100%% / t 99.0 98.1 97.5-96.1 94.0 Cellosolve (1.96 micron) (B) 60/40% / t 99.3 98.5 98.3 97.4 96.4 93.9 (C) 100% DMF% / t (1.36 microns) 99.4 99.0 98.5 98.2 97.3 95 .2
【0024】実施例3 (A)実施例1の薄膜と(B)実施例2の米国特許第
4,482,591号のBUTVAR B−79から製
造された薄膜との間でボシュ アンド ロム(Baus
ch & Lomb)スペクトロニック2000を使用
して比較研究が実施された。溶剤としてアルドリッチ
(Aldrich)社からのスペクトラルグレードのセ
ロソルブが使用され、SiO2 1cmのキュベット
(cuvettes)が各ポリマーの5%w/w溶液保
持に使用された。基線(baseline)は約265
nmに設定された。実験により以下の結果が得られた。試 料 Abs.(λ=265) λ−cut−off A 0.18 au なし(ピーク−221) (Abs.−0.58) B 0.38 auまで 236(Abs.約1.0の ラムダ で) 注) au=吸収単位The Bausch and Lomb between Example 3 (A) and thin film in Example 1 (B) thin film produced from BUTVAR B-79 of U.S. Pat. No. 4,482,591 Example 2 (Baus
ch & Lomb) Comparative studies were performed using Spectronic 2000. Cellosolves spectral grade from the solvent as Aldrich (Aldrich) Corporation is used, SiO2 1 cm cuvettes (cuvettes) was used in 5% w / w solution holding of each polymer. Baseline is about 265
nm. The following results were obtained by the experiment. Sample Abs. (Λ = 265) λ-cut-off A 0.18 au None (peak-221) (Abs.-0.58) B up to 0.38 au 236 (Abs. At about 1.0 lambda) Note) au = Absorption unit
【0025】[0025]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明において
は、遠UV域において有効で、中あるいは近UV域にお
ける場合と同様あるいはより高い光透過率、良い性能及
び(又は)特性を有する薄膜フィルムを提供することが
できる。さらに、全てのUV域において有効であり、中
あるいは近UV域においての先行技術の薄膜フィルムに
使用される材料の性能及び(又は)特性と比較して、全
体的あるいは部分的に優る薄膜フィルムを提供すること
ができるという優れた効果を奏する。As described above, in the present invention, the present invention is effective in the far UV range , and has the same or higher light transmittance, good performance and good performance as those in the middle or near UV range. or) characteristics can be provided a thin membrane film having. Moreover, be effective in all the UV range, medium <br/> or compared to the performance and (or) the characteristics of the prior art materials used in thin film film in the near UV range, the whole or partial an excellent effect that it is possible to provide a thin membrane film Ru Yu on.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI // C08L 29:14 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI // C08L 29:14
Claims (9)
びzは0.80又はそれ以下の値である)で表されるポ
リビニルブチラール樹脂から成形されるフィルムから成
ることを特徴とする映写焼付けに使用される薄膜フィル
ム。(1) a compound represented by the general formula : (Where x is 0.18 or more and y is 2.5 or less)
And z are 0.80 or less).
It consists of a film molded from vinyl butyral resin.
Film used for projection printing
M
01〜2.5,及びzが0.80であることを特徴とす
る請求項1記載の薄膜フィルム。2. The method according to claim 1, wherein x is 0.18 to 0.22 and y is 0.
The thin film according to claim 1, wherein 01 to 2.5 and z are 0.80.
0,及びzが0.80であることを特徴とする請求項1
記載の薄膜フィルム。3. The method according to claim 1, wherein x is 0.19 and y is 0.3-1.
2. The method of claim 1, wherein 0 and z are 0.80.
The thin film according to the above.
とも1.100の比重を有することを特徴とする請求項
1記載の薄膜フィルム。4. The thin film according to claim 1, wherein the polyvinyl butyral resin has a specific gravity of at least 1.100.
びzは0.80又はそれ以下の値である)で表されるポ
リビニルブチラール樹脂と、ジメチルホルムアミド又は
ジグリムから成る溶媒から成ることを特徴とする注型適
性溶液。5. A compound represented by the following general formula : (Where x is 0.18 or more and y is 2.5 or less)
And z are 0.80 or less).
Livinyl butyral resin and dimethylformamide or
Casting characterized by comprising a solvent consisting of diglyme
Solution .
ルブチラールから成ることを特徴とする請求項5記載の
注型適性溶液。Wherein said solution is according to claim 5, characterized in that it comprises 5 to 30 wt% of polyvinyl butyral
Castability solution .
ニルブチラールから成ることを特徴とする請求項5記載
の注型適性溶液。Wherein said solution, pourability solution of claim 5, wherein the consist 10-15 wt% of polyvinyl butyral.
ることを特徴とする請求項5記載の注型適性溶液。8. The casting solution according to claim 5, wherein the solvent is dimethylformamide.
とする請求項5記載の注型適性溶液。9. The castable solution according to claim 5, wherein the solvent is diglyme .
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---|---|---|---|
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JPH0559191A JPH0559191A (en) | 1993-03-09 |
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