JP3099124B2 - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JP3099124B2
JP3099124B2 JP02178322A JP17832290A JP3099124B2 JP 3099124 B2 JP3099124 B2 JP 3099124B2 JP 02178322 A JP02178322 A JP 02178322A JP 17832290 A JP17832290 A JP 17832290A JP 3099124 B2 JP3099124 B2 JP 3099124B2
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龍美 川村
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Description

【発明の詳細な説明】 イ.産業上の利用分野 本発明は半導体集積回路装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device.

ロ.従来技術 従来、例えばオペアンプ等の半導体集積回路装置にお
いてその出力部には、一般に、出力端子の電源ラインへ
の短絡時における過電流による出力トランジスタ等の素
子の破壊等を防止するための保護回路が組み込まれてい
る。
B. 2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor integrated circuit device such as an operational amplifier, for example, a protection circuit for preventing destruction of an element such as an output transistor due to an overcurrent when an output terminal is short-circuited to a power supply line is generally provided at an output portion thereof. It has been incorporated.

第9図は上述した例えばオペアンプにおける出力部の
一例を示すものであって、入力回路部10からの信号(V
CCとGND間の任意のレベル)を受けて出力端子Yに所定
の出力信号が出力されるように構成されている。なお、
この例において出力端子Yには、次段の回路として、そ
の出力電圧の精度が要求される例えばサンプル・ホール
ド、更に続いてA/Dコンバーター等の回路が接続されて
いる。
FIG. 9 shows an example of the output section of the above-mentioned operational amplifier, for example, and the signal (V
A predetermined output signal is output to an output terminal Y in response to an arbitrary level between CC and GND). In addition,
In this example, the output terminal Y is connected to a circuit such as a sample-and-hold, which requires the accuracy of the output voltage, and a circuit such as an A / D converter as the next stage circuit.

即ち、第9図に示すオペアンプの出力部における主な
回路素子の接続関係について説明すると、図に示すよう
に、エミッタ(後述するNPNトランジスタQ1のエミッ
タ)から出力を取り出すいわゆるエミッタフォロア回路
(emitter follower circuit)を構成している。
That is, the connection relation of the main circuit elements in the output section of the operational amplifier shown in FIG. 9 will be described. As shown in FIG. circuit).

NPNトランジスタQ1は、ベースが入力回路部10及びNPN
トランジスタQ4のコレクタに夫々接続され、そのコレク
タが電源VCC、そのエミッタがトランジスタQ4のベース
及び抵抗R2を介して出力端子Yに夫々接続されている。
トランジスタQ4のエミッタは出力端子Yに接続されてい
る。また、NPNトランジスタQS1は、コレクタが抵抗R2を
介して出力端子Yに接続されていて、そのベースがNPN
トランジスタQR1のベース及びコレクタ、そのエミッタ
がGNDに夫々接続されている。トランジスタQR1のエミッ
タはGNDに接続されている。接合形電界効果トランジス
タPJF1は、ゲート及びソースが電源VCCに接続されてい
て、そのドレインがトランジスタQR1のコレクタ及びベ
ースに接続されている。
The base of the NPN transistor Q1 is the input circuit section 10 and the NPN
The collector is connected to the collector of the transistor Q4, the collector is connected to the power supply V CC , and the emitter is connected to the output terminal Y via the base of the transistor Q4 and the resistor R2.
The emitter of the transistor Q4 is connected to the output terminal Y. The NPN transistor QS1 has a collector connected to the output terminal Y via a resistor R2, and a base connected to the NPN transistor QS1.
The base and collector of the transistor QR1, and the emitter thereof are connected to GND, respectively. The emitter of the transistor QR1 is connected to GND. The junction field-effect transistor PJF1 has a gate and a source connected to the power supply V CC , and a drain connected to the collector and the base of the transistor QR1.

なお、上記したトランジスタQ4及び抵抗R2によって保
護回路1が構成されている。ここで、第9図における各
回路素子の働きについて説明すると、トランジスタQ1は
ベースにおける信号を1対1の振幅で出力に伝えるため
のもの、トランジスタQ4は出力で過電流となった時にQ1
のベース電流を制御するためのものである。また、抵抗
R2は、出力で過電流となった時、(抵抗R2における)電
圧降下が増大し、Q4のベース、エミッタ間電圧により大
きくなることにより、Q4をオンにさせ、Q1のベース電流
を制御出来る状態にするためのもの、トランジスタQR1
はQS1のベース電位を決めるためのもの、トランジスタQ
S1は出力を接地側へプルダウンするためのもの、接合型
トランジスタPJF1は定電流源を構成するためのものであ
る。
The protection circuit 1 is configured by the transistor Q4 and the resistor R2. Here, the function of each circuit element in FIG. 9 will be described. The transistor Q1 is for transmitting the signal at the base to the output with a one-to-one amplitude, and the transistor Q4 is for transmitting the signal Q1 when an overcurrent occurs at the output.
Is used to control the base current of the device. Also the resistance
When overcurrent occurs at the output, the voltage drop (at the resistor R2) increases and becomes larger due to the voltage between the base and emitter of Q4, turning on Q4 and controlling the base current of Q1. To make the transistor QR1
Is for determining the base potential of QS1, transistor Q
S1 is for pulling down the output to the ground side, and junction type transistor PJF1 is for configuring a constant current source.

以上に説明した半導体集積回路装置においては、その
出力部において、出力端子YのGNDラインへの短絡時
(即ち、トランジスタQ1がオンのとき)に大きな電流が
流れ、そのため、長時間の上記短絡はトランジスタQ1等
の回路素子の破壊へとつながる。そこで、上述したよう
に、トランジスタQ4及び抵抗R2からなる短絡保護回路1
が構成されているが、次段に例えばサンプル・ホール
ド、及びA/Dコンバータ等と言った、その出力電圧の精
度が要求される回路が接続されていて、サンプル・ホー
ルドの出力段にも、オペアンプと同様の保護素子を組込
みたい場合、どうしても抵抗R2による電圧降下を無視で
きないため、サンプル・ホールドの端子Yにおいて、入
力の電位と1対1に精度よく増幅された所定の電圧を得
ることは非常に困難である。
In the semiconductor integrated circuit device described above, a large current flows at the output portion when the output terminal Y is short-circuited to the GND line (that is, when the transistor Q1 is on). This leads to destruction of circuit elements such as the transistor Q1. Therefore, as described above, the short-circuit protection circuit 1 including the transistor Q4 and the resistor R2.
The next stage is connected to a circuit that requires the accuracy of its output voltage, such as a sample and hold, an A / D converter, etc., at the next stage. If it is desired to incorporate a protection element similar to an operational amplifier, the voltage drop due to the resistor R2 cannot be neglected. Therefore, it is impossible to obtain a predetermined voltage accurately amplified one-to-one with the input potential at the terminal Y of the sample and hold. Very difficult.

ハ.発明の目的 本発明の目的は、出力トランジスタに過電流が流れる
のを防止でき、かつ、出力信号に悪影響を与える事のな
い信頼性の高い半導体集積回路装置を提供することにあ
る。
C. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor integrated circuit device which can prevent an overcurrent from flowing to an output transistor and does not adversely affect an output signal.

ニ.発明の構成 即ち、本発明は、制御端子に入力される入力信号に応
じて導通し、電源電圧端子からの電圧を出力端子側に出
力する出力トランジスタと、前記出力トランジスタの制
御端子と接地端子との間に接続された電流制御用トラン
ジスタと、ショットキーバリアを形成するバリア金属お
よび第1導電型の第1の半導体領域よりそれぞれ与えら
れるアノード電極およびカソード電極と、前記第1の半
導体領域内に形成された第2導電型の第2の半導体領域
より与えられるドレイン電極とを有し、前記アノード電
極を前記電源電圧端子側に前記カソード電極を前記出力
トランジスタ側にして前記電源電圧端子と前記出力トラ
ンジスタとの間に接続され、前記ドレイン電極から前記
電流制御用トランジスタの制御端子に対して制御電流を
供給するショットキーバリアダイオードとを有する半導
体集積回路装置に係わるものである。
D. Configuration of the invention That is, the present invention provides an output transistor that conducts according to an input signal input to a control terminal and outputs a voltage from a power supply voltage terminal to an output terminal side, and a control terminal and a ground terminal of the output transistor. A current controlling transistor connected between the first semiconductor region, a barrier metal forming a Schottky barrier, and an anode electrode and a cathode electrode respectively provided from a first semiconductor region of a first conductivity type; A drain electrode provided from a second semiconductor region of the second conductivity type formed, wherein the anode electrode is on the power supply voltage terminal side and the cathode electrode is on the output transistor side, and the power supply voltage terminal and the output are A control current supplied from the drain electrode to a control terminal of the current control transistor; The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having a Schottky barrier diode.

ホ.実施例 以下、本発明の実施例を説明する。E. Examples Hereinafter, examples of the present invention will be described.

第1図〜第5図は本発明の第1の実施例を示すもので
ある。
1 to 5 show a first embodiment of the present invention.

上述した例と同様の部分については、説明の都合上同
一符号を付して説明を省略するが、著しく異なる回路構
成は、第1図に示すように、主に出力トランジスタQ1の
ベースとGNDとの間にNPNトランジスタQ2が接続され、そ
のトランジスタQ2のベースに、電源VCCと出力トランジ
スタQ1のコレクタとの間に接続され3つの電極(アノー
ド、カソードの他に第3の電極を有する)を有するショ
ットキーバリアダイオード(以下、トライオードと呼
ぶ。)TSの第3の電極(以下、ドレイン電極と呼ぶ。)
が接続されていることである。
The same parts as those in the above-described example are denoted by the same reference numerals for convenience of description, and description thereof is omitted. However, as shown in FIG. 1, a significantly different circuit configuration mainly includes the base of the output transistor Q1 and GND. An NPN transistor Q2 is connected between the power supply Vcc and the collector of the output transistor Q1. The base of the transistor Q2 has three electrodes (having an anode, a cathode and a third electrode) connected between the power supply VCC and the collector of the output transistor Q1. Having a third electrode (hereinafter, referred to as a drain electrode) of a Schottky barrier diode (hereinafter, referred to as a triode) TS
Is connected.

即ち、図に示すように、NPNトランジスタQ2は、ベー
スがトライオードTSのドレインに接続されると共に抵抗
R1を介してGNDに接続されていて、そのコレクタが出力
トランジスタQ1のベース及び入力回路部10、そのエミッ
タがGNDに夫々接続されている。トライオードTSのアノ
ードは電源VCCに接続され、そのカソードは出力トラン
ジスタQ1のコレクタに接続されている。なお、上述した
トライオードTS、トランジスタQ2、抵抗R1によって保護
回路2が構成されている。
That is, as shown in the figure, the NPN transistor Q2 has its base connected to the drain of the triode TS and
The collector is connected to GND via R1, the collector is connected to the base of the output transistor Q1, the input circuit unit 10, and the emitter is connected to GND. The anode of the triode TS is connected to the power supply V CC , and the cathode is connected to the collector of the output transistor Q1. The protection circuit 2 is constituted by the triode TS, the transistor Q2, and the resistor R1 described above.

第2図は第1図の等価回路の実際のレイアウトパター
ンを示す平面図であって、図中の符号11はP型アイソレ
ーション領域、12はN-型エピタキシャル層、13aはトラ
イオードTSのドレイン領域(P+型拡散領域)、13bは各
トランジスタQ1、Q2、QS1、QR1のベース電極取り出し領
域(P+型領域領域)、13c及び13dは夫々トランジスタPJ
F1のソース領域(P+型拡散領域)及びドレイン領域(P+
型拡散領域)、13eはP+型拡散領域、14aはN+型拡散領域
(カソード)、14bは各トランジスタQ1、Q2、QS1、QR1
のコレクタ電極取り出し領域(N+型拡散領域)、14cは
各トランジスタQ1、Q2、QS1、QR1のエミッタ電極取り出
し領域(N+型拡散領域)、14dはN+型拡散領域、15はコ
ンタクトホール、18はトライオードTSのアノード電極
(電源Vccに接続される配線であり、トライオードTSに
おけるショットキーバリアのバリア金属を構成してい
る)、19はトライオードTSのドレイン電極、20はカソー
ド電極である。
FIG. 2 is a plan view showing an actual layout pattern of the equivalent circuit of FIG. 1, where reference numeral 11 denotes a P-type isolation region, 12 denotes an N -type epitaxial layer, and 13a denotes a triode TS drain region. (P + type diffusion region), 13b is a base electrode extraction region (P + type region region) of each transistor Q1, Q2, QS1, and QR1, and 13c and 13d are transistors PJ, respectively.
The source region (P + type diffusion region) and the drain region (P +
Diffusion region), 13e is a P + type diffusion region, 14a is an N + type diffusion region (cathode), 14b is each transistor Q1, Q2, QS1, QR1
Removal area of the collector electrode (N + -type diffusion region), 14c each transistor Q1, Q2, QS1, emitter electrode deriving region of QR1 (N + -type diffusion region), 14d are N + -type diffusion region 15 is a contact hole, Reference numeral 18 denotes an anode electrode of the triode TS (a wiring connected to the power supply Vcc, which constitutes a barrier metal of a Schottky barrier in the triode TS), 19 denotes a drain electrode of the triode TS, and 20 denotes a cathode electrode.

第3図は第2図のIII−III線に沿うトライオードTSの
拡大断面図であって、そのデバイス構造を説明すると、
P型シリコン基板9の一主面に、N+型埋め込み層16を介
してN-型エピタキシャル層12が形成され、このN-型エピ
タキシャル層12内に形成されたP+型拡散領域13a、N+
拡散領域14aを夫々ドレイン電極取り出し領域、カソー
ド電極取り出し領域として上述したトライオードTSが構
成されている。なお、図中の符号17は絶縁膜、21はコン
タクトである。
FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the triode TS taken along the line III-III of FIG.
On one principal surface of the P-type silicon substrate 9, N through N + -type buried layer 16 - -type epitaxial layer 12 is formed, the N - P formed -type epitaxial layer 12 + -type diffusion region 13a, N The above-described triode TS is configured with the + type diffusion region 14a as a drain electrode extraction region and a cathode electrode extraction region, respectively. In the figure, reference numeral 17 denotes an insulating film, and reference numeral 21 denotes a contact.

ここで、上述した半導体集積回路装置の第1図に示す
出力部における主な動作について説明すると、トライオ
ードTSにおいて、第4図に示すように、アノード−カソ
ード間の順方向電流(カソード電流)が1mA(1000μ
A)以下の領域では、トライオードTSのドレインへの少
数キャリア(ホール)の注入量(即ち、ドレイン電流の
大きさ)は無視できる程小さいが、図に示すように、そ
のカソード電流が1mA以上の大きな値になると、ドレイ
ン電流の値も増加する。そして、トライオードTSにおい
て、順方向に大きな電流が流れた場合(即ち、入力回路
部10の、Vccに近い高電位の信号によってトランジスタQ
1がオンして、更に出力端子YがGND側へ短絡した場
合)、第1図に示すように、トライオードTSのドレイン
から保護回路2におけるトランジスタQ2のベースに上記
ドレイン電流が流れてトランジスタQ2はオンする。従っ
て、トランジスタQ2によって出力トランジスタQ1のベー
ス電流をGND側に吸収できることになる。なお、第1図
における保護回路2の抵抗R1は、この回路における電流
検出レベルの調整(即ち、R1の大小により、Q2へのベー
ス電流を調整し、Q1のベース電流の吸収の度合を加減す
ること)を行うものである。また、第5図はトライオー
ドTSのベータ−カソード電流特性を示すものである。
Here, the main operation in the output unit shown in FIG. 1 of the above-described semiconductor integrated circuit device will be described. In the triode TS, as shown in FIG. 4, the forward current (cathode current) between the anode and the cathode is increased. 1mA (1000μ
A) In the following regions, the injection amount of minority carriers (holes) into the drain of the triode TS (that is, the magnitude of the drain current) is negligibly small, but as shown in the figure, the cathode current is 1 mA or more. As the value increases, the value of the drain current also increases. Then, in the triode TS, when a large current flows in the forward direction (that is, when a high potential signal close to Vcc of the input circuit unit 10 causes the transistor Q
1 is turned on and the output terminal Y is further short-circuited to the GND side), as shown in FIG. 1, the drain current flows from the drain of the triode TS to the base of the transistor Q2 in the protection circuit 2, and the transistor Q2 is turned on. Turn on. Therefore, the base current of the output transistor Q1 can be absorbed by the transistor Q2 on the GND side. The resistor R1 of the protection circuit 2 in FIG. 1 adjusts the current detection level in this circuit (that is, adjusts the base current to Q2 according to the magnitude of R1 and adjusts the degree of absorption of the base current of Q1). That). FIG. 5 shows the beta-cathode current characteristics of the triode TS.

以上に説明したように、本例によれば、出力トランジ
スタQ1のベース電極に電流制御用トランジスタQ2を接続
しているので、上述したように、出力端子YのGNDへの
短絡時等において出力トランジスタQ1に過大な電流が流
れるのを防止できる。更に、電流制御用トランジスタQ2
の制御電流を供給するトライオードTSを電源VCCと出力
トランジスタQ1との間に接続しているので、出力トラン
ジスタQ1によって出力される出力信号に悪影響を与える
ことなく、所定の出力信号を得ることができる(ここで
は、出力信号のレベルの精度は出力トランジスタQ1のベ
ース・エミッタ間電圧VBEによってのみ決まり、トライ
オードTSは上記出力信号のレベルの精度に影響を与えな
い。)。
As described above, according to the present embodiment, the current control transistor Q2 is connected to the base electrode of the output transistor Q1, and therefore, as described above, when the output terminal Y is short-circuited to GND, etc. Excessive current can be prevented from flowing through Q1. Furthermore, the current control transistor Q2
Is connected between the power supply V CC and the output transistor Q1, so that a predetermined output signal can be obtained without adversely affecting the output signal output by the output transistor Q1. (Here, the accuracy of the level of the output signal is determined only by the base-emitter voltage V BE of the output transistor Q1, and the triode TS does not affect the accuracy of the level of the output signal.)

第6図及び第7図は本発明の他の例を示すものであっ
て、基本的な回路構成は上述した第1図の例とほぼ同様
であるので、説明の都合上同一符号を付して説明を省略
する場合がある。なお、第7図は第6図の平面図であ
る。
6 and 7 show another example of the present invention. Since the basic circuit configuration is almost the same as that of the example of FIG. 1, the same reference numerals are used for the sake of explanation. May be omitted. FIG. 7 is a plan view of FIG.

第6図に示すように、上述した第1図の例と異なる回
路構成について主に説明すると、出力トランジスタQ1の
ベースにはNPNトランジスタQ1′及びQ1″のベースが接
続されていて、そのエミッタにはトランジスタQ1′及び
Q1″のエミッタが夫々接続されている。トランジスタQ
1′、Q1″のコレクタは夫々電源VCCに接続されている。
As shown in FIG. 6, the circuit configuration different from the example of FIG. 1 will be mainly described. The base of the output transistor Q1 is connected to the bases of NPN transistors Q1 'and Q1 ", and the emitter is connected to the emitter. Is the transistor Q1 'and
The emitters of Q1 ″ are connected to each other.
The collectors of 1 'and Q1 "are respectively connected to the power supply V CC .

次に、第6図における主にトランジスタQ1′、Q1″の
働きについて説明する。
Next, the operation of the transistors Q1 'and Q1 "in FIG. 6 will be mainly described.

第6図の回路機能は第1図と同じであり、異なるの
は、出力駆動電流が第6図の回路では第1図の回路の3
倍となっている点である。出力電流が大きくなっている
ので、第6図における出力トランジスタQ1、Q′1、Q
1″のエミッタ面積の合計も大きくなり、第1図のよう
に出力トランジスタを1つの素子として構成すると、TS
もそれに応じて大きな面積のものとなる。そこで、第6
図のように出力トランジスタを分割し、Q1のみにTSを接
続することにより、小さい面積のTSを使用することが出
来る。Q1、Q1′、Q1″は、ここでは、同一エミッタサイ
ズであり、Q1のコレクタ電流は出力Yの節点における電
流の1/3となる。よって、TSのカソードを流れる電流も
出力Yの電流の1/3となり、結果として、TSの面積も小
さく出来る。この場合の検出電流は、(Q1)と(Q1+Q
1′+Q″)との比を考慮して決定すればよい。
The circuit function of FIG. 6 is the same as that of FIG. 1 except that the output drive current is 3% in the circuit of FIG.
That is, it is doubled. Since the output current is large, the output transistors Q1, Q'1, Q2 in FIG.
The total emitter area of 1 ″ also increases, and if the output transistor is configured as one element as shown in FIG.
Also have a correspondingly large area. Therefore, the sixth
By dividing the output transistor as shown in the figure and connecting the TS to only Q1, a TS having a small area can be used. Here, Q1, Q1 ', and Q1 "have the same emitter size, and the collector current of Q1 is 1/3 of the current at the node of output Y. Therefore, the current flowing through the cathode of TS is also the current of output Y. As a result, the area of TS can be reduced, and the detection currents in this case are (Q1) and (Q1 + Q
1 ′ + Q ″).

この例は、出力トランジスタが大きくなった時に、小
さいサイズのTSで出力電流を制御するには、どのような
回路構成にすればよいかの一例を示したものである。
This example shows an example of what kind of circuit configuration should be used to control the output current with a small TS when the output transistor becomes large.

以上に説明したように本例においても上述した各利点
を有していると共に本例の場合、出力トランジスタの駆
動電流の増大に伴うTSにおける電圧降下の増加を、TSの
面積の拡大という方法でなくて出力トランジスタの分割
により、小さいTSのままで出力電流の検出を行うことに
よって、最小にすることが出来る。結果として、出力電
圧振幅を減少させることなく、かつ、レイアウト・パタ
ーンにおいて、不要な面積の増加を防ぐ効果も得ること
が出来る。
As described above, the present embodiment also has the above-described advantages, and in the case of the present embodiment, the increase in the voltage drop in the TS due to the increase in the drive current of the output transistor is determined by the method of increasing the area of the TS. However, by dividing the output transistor, the output current can be detected with a small TS, thereby minimizing the output current. As a result, it is possible to obtain an effect of preventing an unnecessary increase in the area without reducing the output voltage amplitude and in the layout pattern.

第8図は本発明の更に他の例を示すものであって、基
本的な回路構成は上述した実施例とほぼ同様であるの
で、説明の都合上同一符号を付して説明を省略するが、
異なる回路構成は、トライオードTSと出力Yとの間にNP
NトランジスタQ1を接続して、このトランジスタQ1
のコレクタ電流によってトライオードTSを動作させるよ
うに構成したことである。なお、第8図においては主要
な回路構成のみ図示してある。
FIG. 8 shows still another example of the present invention. The basic circuit configuration is almost the same as that of the above-described embodiment. ,
A different circuit configuration consists of an NP between the triode TS and the output Y.
Connect N transistor Q1 and connect this transistor Q1
Is configured to operate the triode TS by the collector current. FIG. 8 shows only the main circuit configuration.

即ち、図に示すように、トランジスタQ1は、ベース
がトランジスタQ2のコレクタ及びトランジスタQ1のベー
スに接続されていて、そのコレクタがトライオードTSの
カソードに接続され、そのエミッタがトランジスタQ1の
エミッタ及び出力Yに夫々接続されている。
That is, as shown in the figure, the transistor Q1 has its base connected to the collector of the transistor Q2 and the base of the transistor Q1, its collector connected to the cathode of the triode TS, its emitter connected to the emitter of the transistor Q1 and the output Y. Connected to each other.

そして、ここでは、通常動作における出力電流が数mA
〜数十mAとなるか、又は電流検出レベルを高く設定する
場合で、第1図におけるR1の調整のみでは所定の検出値
に設定出来ない時、つまり、検出したい出力電流におけ
るTSのドレイン電流が大きいために、R1を小さくする
時、レイアウト上の制限により所望の値のR1に出来ない
ような場合は、本例のように、トランジスタQ1とベー
ス、エミッタ共通結線でエミッタ面積がトランジスタQ1
の1/nであるトランジスタQ1を追加し、トライオードT
SはトランジスタQ1のコレクタ側に入れ、 であるQ1のコレクタ電流により、TSを動作させれば、
R1は、適当なレイアウト上都合のよい範囲の値にするこ
とができる。
And here, the output current in normal operation is several mA
When the current detection level is set to a high value, or when the current detection level is set to a high value, and it is not possible to set the predetermined detection value only by adjusting R1 in FIG. 1, that is, when the drain current of the TS at the output current to be detected is When R1 is reduced because of its large size, if the desired value of R1 cannot be achieved due to layout restrictions, as shown in this example, the transistor Q1 is connected to the base and the emitter with the emitter area of the transistor Q1.
1 / n of transistor Q1 is added, and triode T
S is put on the collector side of transistor Q1, By operating TS with the collector current of Q1,
R1 can be set to a value in a convenient range for an appropriate layout.

以上に説明したように、本例においても上述し例にお
ける各利点を有していると共に、本例の場合、トランジ
スタQ1に対するトランジスタQ1のエミッタサイズの比
の調整によって、電流検出レベルの帯域を抵抗R1のレイ
アウト上の制限を越えて調整することが可能であるた
め、保護回路2の動作にとって非常に好都合である。
As described above, the present example also has the advantages of the above-described example, and in the present example, by adjusting the ratio of the emitter size of the transistor Q1 to the transistor Q1, the band of the current detection level can be reduced. This is very convenient for the operation of the protection circuit 2 because it can be adjusted beyond the limitation on the layout of R1.

以上、本発明を例示したが、上述の例は本発明の技術
的思想に基いて更に変形可能である。
Although the present invention has been described above, the above-described example can be further modified based on the technical idea of the present invention.

例えば上述したトランジスタ等は上述以外に適宜のも
のを用いることができ、また、上述した例では、電流制
御用トランジスタQ2の制御電流を供給する電流供給素子
としてトライオードTSを用いたが、その他、例えば、TS
の第4図や第5図のような特性と同等の性能の得られる
三端子増幅素子等種々のものを用いることが可能であ
る。
For example, any of the above-described transistors and the like can be used as appropriate in addition to the above.In the above-described example, the triode TS is used as a current supply element that supplies a control current of the current control transistor Q2. , TS
It is possible to use various devices such as a three-terminal amplifying element that can obtain the same performance as the characteristics shown in FIGS.

なお、本発明は上述したサンプル・ホールド回路に限
らず例えば、D/Aコンバーター回路等の出力部において
も適用可能であり、その適用範囲は広い。
Note that the present invention is not limited to the sample and hold circuit described above, but can be applied to, for example, an output unit of a D / A converter circuit or the like, and its application range is wide.

ヘ.発明の作用効果 以上説明したように、本発明は、出力トランジスタの
制御端子と接地端子との間に電流制御用トランジスタを
接続するとともに、出力電圧を与える電源電圧端子と該
出力トランジスタとの間にドレイン電極(第3の電極)
を有するショットキーバリアダイオードを接続し、該ド
レイン電極から該電流制御用トランジスタの制御端子に
対して制御電流を供給するようにしたので、出力信号に
悪影響を与えることなく、所定の出力信号を得ることが
できる信頼性の高い半導体集積回路装置を提供できる。
F. As described above, according to the present invention, a current control transistor is connected between a control terminal of an output transistor and a ground terminal, and a power supply voltage terminal for providing an output voltage and the output transistor are connected. Drain electrode (third electrode)
And a control current is supplied from the drain electrode to the control terminal of the current control transistor, so that a predetermined output signal is obtained without adversely affecting the output signal. And a highly reliable semiconductor integrated circuit device that can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図〜第8図は本発明の実施例を示すものであって、 第1図は本発明の第1の実施例を示す要部等価回路図、 第2図は第1図のレイアウトパターンを示す平面図、 第3図は第2図のIII−III線要部拡大断面図、 第4図は第1図及び第2図におけるトライオードTSのド
レイン電流−カソード電流特性を示すグラフ、 第5図は第1図及び第2図におけるトライオードTSのベ
ータ−カソード電流特性を示すグラフ、 第6図は本発明の他の例を示す要部等価回路図、 第7図は第6図のレイアウトパターンを示す平面図、 第8図は本発明の更に他の例を示す要部等価回路図 である。 第9図は従来例を示す要部等価回路図である。 なお、図面に示す符号において、 Q1、Q1′、Q1″、Q1、Q2、Q4、QR1、QS1……NPNトラ
ンジスタ R1、R2……抵抗 TS……トライオード(電流供給素子) VCC……電源側 GND……接続側 である。
1 to 8 show an embodiment of the present invention. FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of a main part showing a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a layout pattern of FIG. FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along line III-III of FIG. 2, FIG. 4 is a graph showing the drain current-cathode current characteristics of the triode TS in FIGS. 1 and 2, and FIG. 6 is a graph showing the beta-cathode current characteristics of the triode TS in FIGS. 1 and 2. FIG. 6 is a main part equivalent circuit diagram showing another example of the present invention. FIG. 7 is a layout pattern of FIG. FIG. 8 is a main part equivalent circuit diagram showing still another example of the present invention. FIG. 9 is a main part equivalent circuit diagram showing a conventional example. In the reference numbers shown in the drawings, Q1, Q1 ', Q1 ", Q1, Q2, Q4, QR1, QS1 ... NPN transistors R1, R2 ... Resistance TS ... Triode (current supply element) V CC ... Power supply side GND …… Connection side.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03F 1/52 H01L 27/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H03F 1/52 H01L 27/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】制御端子に入力される入力信号に応じて導
通し、電源電圧端子からの電圧を出力端子側へ出力する
出力トランジスタと、 前記出力トランジスタの制御端子と接地端子との間に接
続された電流制御用トランジスタと、 ショットキーバリアを形成するバリア金属および第1導
電型の第1の半導体領域よりそれぞれ与えられるアノー
ド電極およびカソード電極と、前記第1の半導体領域内
に形成された第2導電型の第2の半導体領域より与えら
れるドレイン電極とを有し、前記アノード電極を前記電
源電圧端子側に前記カソード電極を前記出力トランジス
タ側にして前記電源電圧端子と前記出力トランジスタと
の間に接続され、前記ドレイン電極から前記電流制御用
トランジスタの制御端子に対して制御電流を供給するシ
ョットキーバリアダイオードと を有する半導体集積回路装置。
1. An output transistor which conducts in response to an input signal input to a control terminal and outputs a voltage from a power supply voltage terminal to an output terminal side, and is connected between a control terminal of the output transistor and a ground terminal. Current control transistor, an anode electrode and a cathode electrode respectively provided from a barrier metal forming a Schottky barrier and a first semiconductor region of a first conductivity type, and a second electrode formed in the first semiconductor region. A drain electrode provided from a second semiconductor region of two conductivity type, wherein the anode electrode is on the power supply voltage terminal side and the cathode electrode is on the output transistor side, between the power supply voltage terminal and the output transistor. And a schottky that supplies a control current from the drain electrode to a control terminal of the current control transistor. The semiconductor integrated circuit device having a rear diode.
【請求項2】前記電流制御用トランジスタの制御端子と
接地端子との間に接続された抵抗素子を有し、前記出力
トランジスタおよび前記電流制御用トランジスタがNPN
型のバイポーラトランジスタである請求項1に記載の半
導体集積回路装置。
And a resistor connected between a control terminal of the current control transistor and a ground terminal, wherein the output transistor and the current control transistor are NPN transistors.
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the semiconductor integrated circuit device is a bipolar transistor.
【請求項3】前記第1の半導体領域が第2導電型の半導
体基板の主面に形成され、前記第1の半導体領域に所定
の開口部を介して接続された配線が前記バリア金属を構
成して前記アノード電極を与え、前記第1の半導体領域
の主面に形成された前記第1の半導体領域よりも不純物
濃度の高い第1導電型の第3の半導体領域から前記カソ
ード電極が取り出され、前記第2の半導体領域が前記第
3の半導体領域から独立して前記第1の半導体領域の主
面に形成される請求項1または2に記載の半導体集積回
路装置。
3. The first semiconductor region is formed on a main surface of a semiconductor substrate of a second conductivity type, and a wiring connected to the first semiconductor region via a predetermined opening forms the barrier metal. And providing the anode electrode, and extracting the cathode electrode from the third semiconductor region of the first conductivity type having a higher impurity concentration than the first semiconductor region formed on the main surface of the first semiconductor region. 3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said second semiconductor region is formed on a main surface of said first semiconductor region independently of said third semiconductor region.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102345566B1 (en) * 2020-04-28 2021-12-29 이재호 Powder storage container

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