JP3093062B2 - Film adhesive and method for producing the same - Google Patents

Film adhesive and method for producing the same

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JP3093062B2
JP3093062B2 JP04325017A JP32501792A JP3093062B2 JP 3093062 B2 JP3093062 B2 JP 3093062B2 JP 04325017 A JP04325017 A JP 04325017A JP 32501792 A JP32501792 A JP 32501792A JP 3093062 B2 JP3093062 B2 JP 3093062B2
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film adhesive
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良隆 奥川
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、低吸水性と耐熱性に優
れたエレクトロニクス用途、特に半導体実装材料として
適したシリコン基板や金属に対する接着力が優れ、低温
短時間で接着可能なフィルム接着剤とその製造方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film adhesive capable of bonding in a short time at a low temperature with excellent adhesiveness to a silicon substrate or a metal which is suitable for a semiconductor mounting material, particularly an electronic application excellent in low water absorption and heat resistance. And its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体チップが高機能大容量化に
よって大型化する一方、パッケージの大きさはプリント
回路設計上の制約、電子機器小型化の要求などから従来
と変わらない、あるいはむしろ小さな外形を要求されて
いる。この傾向に対応して半導体チップの高密度化と高
密度実装に対応した新しい実装方式が幾つか提案されて
いる。一つはメモリー素子に提案されているダイ・パッ
ドのないリードフレームの上にチップを載せるCOL
(チップ・オン・リード)構造とその発展形であるチッ
プの上にリードを載せるLOC(リード・オン・チッ
プ)構造である。一方論理素子には電源、グランドを別
フレームにし、さらに放熱のための金属プレートを多層
化した多層リードフレーム構造がある。これらによると
チップ内配線やワイヤー・ボンディングの合理化、配線
短縮による信号高速化、消費電力の増大に伴って発生す
る熱の放散等と素子サイズの小型化を図ることができ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, while semiconductor chips have been increased in size due to higher functions and larger capacities, the size of packages has not changed from the prior art due to restrictions on the design of printed circuits and demands for miniaturization of electronic equipment, or has a rather small outer shape. Is required. In response to this trend, several new mounting methods have been proposed for high-density semiconductor chips and high-density mounting. One is a COL that mounts a chip on a lead frame without a die pad proposed for memory devices.
There is a (chip-on-lead) structure and an LOC (lead-on-chip) structure in which leads are mounted on a chip, which is a development of the structure. On the other hand, a logic element has a multilayer lead frame structure in which a power supply and a ground are provided in separate frames, and a metal plate for heat dissipation is multilayered. According to these, it is possible to rationalize the wiring in the chip and wire bonding, to increase the signal speed by shortening the wiring, to dissipate the heat generated due to the increase in power consumption, and to reduce the element size.

【0003】この新しい実装形態では、半導体チップと
リードフレーム、リードフレームとプレート、リードフ
レーム同士など同種異種材質の接着界面が存在し、その
接着信頼性が素子の信頼性に非常に大きな影響を与え
る。素子組立作業時の工程温度に耐える信頼性は勿論の
こと、吸湿時、湿熱時などの接着信頼性である。さらに
接着作業性も重要な項目である。
In this new mounting mode, there are bonded interfaces of the same kind and different materials such as a semiconductor chip and a lead frame, a lead frame and a plate, and lead frames, and the bonding reliability has a great influence on the reliability of the element. . This is not only the reliability that can withstand the process temperature during the element assembling work, but also the bonding reliability when absorbing moisture, when heating and the like. Further, the bonding workability is also an important item.

【0004】従来、これらの接着にはペースト状の接着
剤や耐熱性基材に接着剤を塗布したものが使用されてい
た。エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、ゴム−フェノー
ル樹脂系の熱硬化性樹脂が接着剤として使用されている
が、イオン性不純物が多い、加熱硬化に高温長時間を必
要とし生産性が悪い、加熱硬化時に多量の揮発分が発生
しリードを汚染する、吸湿性が高い、など高信頼性接着
剤としての要求を満たしているとは言い難く、満足でき
る材料が見当らない。新しい実装形態に適した接着剤の
開発が求められている。
Heretofore, a paste-like adhesive or a heat-resistant base material coated with an adhesive has been used for such bonding. Epoxy resin, acrylic resin, and rubber-phenol resin thermosetting resins are used as adhesives, but they contain many ionic impurities, require high temperature and long time for heat curing, and have poor productivity. At times, a large amount of volatile components are generated to contaminate the lead, and high hygroscopicity is not satisfied with the demand for a highly reliable adhesive, and no satisfactory material is found. There is a need to develop an adhesive suitable for a new mounting form.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、低温短時間
で接着可能な低吸水性と耐熱性に優れたフィルム接着剤
を得るべく鋭意研究を重ねた結果、特定構造のポリイミ
ド樹脂が上記課題を解決することを見出し、本発明に到
達したものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made as a result of intensive studies to obtain a film adhesive excellent in low water absorption and heat resistance which can be bonded at a low temperature in a short time. Has been found, and the present invention has been achieved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、特定構造のポ
リイミド樹脂を接着剤の主成分とするフィルム接着剤、
およびその製造法に関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a film adhesive containing a polyimide resin having a specific structure as a main component of an adhesive,
And its manufacturing method.

【0007】本発明のポリイミド樹脂は、4,4'-オキシ
ジフタル酸二無水物aモルと、3,3',4,4'-ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物と3,3',4,4'-ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物の群から選ばれた1種類または
2種類のテトラカルボン酸二無水物bモルを酸成分と
し、2,2-ビス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)プロパ
ンcモルと、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼンと
ジメチルフェニレンジアミンの群から選ばれた1種類ま
たは2種類のジアミンdモルと、α,ω-ビス(3-アミノ
プロピル)ポリジメチルシロキサンeモルとからなる3
ないし4成分をアミン成分とし、a、b、c、d、eの
モル比が a/(a+b)≧ 0.6、b/(a+b)≦ 0.
4、かつ 0.05 ≦ e/(c+d+e)≦ 0.5 の割合で
両成分を反応させてイミド閉環せしめた有機溶剤に可溶
なポリイミド樹脂であり、および該ポリイミド樹脂の分
子末端を一般式(1)で表される酸無水物fモルまたは
式(2)で表される芳香族アミンgモルでエンドキャッ
プし、a、b、c、d、e、f、gのモル比が a/
(a+b+0.5f)≧ 0.6、b/(a+b+0.5f)≦
0.4、0.01 ≦ f/(a+b+0.5f)≦ 0.05、0.01 ≦
g/(c+d+e+0.5g)≦ 0.05、0.05 ≦ e/
(c+d+e+0.5g)≦ 0.5 かつfまたはgのどちら
か一方は0である割合で両成分を反応させてイミド閉環
せしめた有機溶剤に可溶なポリイミド樹脂である。
The polyimide resin of the present invention comprises a mole of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 3,3', 4,4 One or two kinds of tetracarboxylic dianhydrides (bmol) selected from the group of '-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are used as an acid component, and 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) C, moles of propane, and d moles of one or two kinds of diamines selected from the group of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and dimethylphenylenediamine, and α, ω-bis (3-aminopropyl) poly 3 moles of dimethylsiloxane
And the four components are amine components, and the molar ratios of a, b, c, d, and e are a / (a + b) ≧ 0.6 and b / (a + b) ≦ 0.
4, a polyimide resin soluble in an organic solvent in which both components are reacted at a ratio of 0.05 ≦ e / (c + d + e) ≦ 0.5 to form an imide ring closure, and the molecular terminal of the polyimide resin is represented by the general formula (1). End-capped with f mol of the acid anhydride represented or g mol of the aromatic amine represented by the formula (2), and the molar ratio of a, b, c, d, e, f, g is a /
(A + b + 0.5f) ≧ 0.6, b / (a + b + 0.5f) ≦
0.4, 0.01 ≤ f / (a + b + 0.5f) ≤ 0.05, 0.01 ≤
g / (c + d + e + 0.5g) ≦ 0.05, 0.05 ≦ e /
(C + d + e + 0.5g) ≦ 0.5, and either f or g is a polyimide resin that is soluble in an organic solvent in which imide is closed by reacting both components at a ratio of 0.

【化1】 (式中、XはEmbedded image (Where X is

【化2】 のうちから選ばれた少なくとも1種類の基)Embedded image At least one group selected from

【化3】 (式中、Yは水素原子、あるいはメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、もしくはフェノキシ基のうちから選ば
れた少なくとも1種類の基)
Embedded image (Wherein, Y is a hydrogen atom or at least one group selected from methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, or phenoxy groups)

【0008】本発明のポリイミド樹脂を得るのに用いる
α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン
は式(3)で表わされるものである。
The α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane used to obtain the polyimide resin of the present invention is represented by the formula (3).

【化4】 Embedded image

【0009】酸成分の主要な構成成分である4,4'-オキ
シジフタル酸二無水物の量比は、得られるポリイミド樹
脂の溶解性に極めて重要で、上記の範囲内にないと低沸
点溶剤に溶解するという本発明の特徴が失われる。
The amount ratio of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, which is a main component of the acid component, is extremely important for the solubility of the obtained polyimide resin. The feature of the invention of dissolving is lost.

【0010】式(3)で表されるα,ω-ビス(3-アミノ
プロピル)ポリジメチルシロキサンはn=0〜10 が好ま
しく、特にnの値が 4〜10 の範囲が、ガラス転移温
度、接着性、耐熱性の点から好ましい。またn=0 と上
記n=4〜10 のものをブレンドして用いることは特に接
着性を重視する用途では好ましい。
The α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane represented by the formula (3) is preferably such that n = 0 to 10, and particularly when the value of n is in the range of 4 to 10, the glass transition temperature, It is preferable from the viewpoint of adhesiveness and heat resistance. It is preferable to use a blend of n = 0 and the above n = 4 to 10 particularly in applications where importance is attached to adhesiveness.

【0011】またその他ポリイミドの製造に用いられる
酸無水物やジアミン、例えば、4,4'-オキシジフタル酸
二無水物、無水ピロメリット酸、3,3',4,4'-ジフェニル
スルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン(B
APPF)、2,2-ビス(4-アミノフェノキシ)ヘキサフル
オロプロパン(BAPF)、ビス-4-(4-アミノフェノキ
シ)フェニルスルフォン(BAPS)、ビス-4-(3-アミ
ノフェノキシ)フェニルスルフォン(BAPSM)など
を特性を損わない範囲で少量添加することは可能であ
る。
Other acid anhydrides and diamines used in the production of polyimides, for example, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, pyromellitic anhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane (B
APPF), 2,2-bis (4-aminophenoxy) hexafluoropropane (BAPF), bis-4- (4-aminophenoxy) phenylsulfone (BAPS), bis-4- (3-aminophenoxy) phenylsulfone ( BAPSM) or the like can be added in a small amount as long as the properties are not impaired.

【0012】各成分の量比は上記範囲内にあることが重
要で、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロ
キサンが全アミン成分の5モル%より少ないと低吸湿性
の特徴が現れず、50モル%を越えるとガラス転移温度が
著しく低下し耐熱性に問題が生じる。2,2-ビス(4-(4-ア
ミノフェノキシ)フェニル)プロパンのモル比に関して
は、全アミン成分の10モル%から90モル%の範囲である
ことが好ましく、上記の範囲を越えると溶解性や耐熱性
に問題が生じる。
It is important that the ratio of each component is within the above range. If α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane is less than 5 mol% of the total amine components, low moisture absorption characteristics are obtained. When it does not appear and exceeds 50 mol%, the glass transition temperature is remarkably lowered, and there is a problem in heat resistance. The molar ratio of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane is preferably in the range of 10 mol% to 90 mol% of the total amine component, And heat resistance.

【0013】ジメチルフェニレンジアミンを添加するこ
とにより、低沸点溶剤への溶解性を低下させずに耐熱性
を向上させることができる。ジメチルフェニレンジアミ
ンとしては、2,5-ジメチル-p-フェニレンジアミン、2,4
-ジメチル-m-フェニレンジアミンが好ましい。また接着
剤用途として低温接着が要求される時は、1,3-ビス(3-
アミノフェノキシ)ベンゼンを加えることができる。
By adding dimethylphenylenediamine, the heat resistance can be improved without lowering the solubility in low-boiling solvents. As dimethylphenylenediamine, 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine, 2,4
-Dimethyl-m-phenylenediamine is preferred. When low-temperature bonding is required for adhesives, 1,3-bis (3-
Aminophenoxy) benzene can be added.

【0014】ポリイミド樹脂の分子末端をエンドキャッ
プし分子量をコントロールすることにより、被着材との
接着に適した溶融粘度を得ることができ、濡れ性を向上
させ接着力を高めることができる。エンドキャップ剤で
ある酸無水物、あるいは芳香族アミンの量比については
上記範囲内にあることが重要で、1モル%未満では分子
量が高くなりすぎて、低沸点溶剤に溶けなくなる場合が
あり、また接着性を重視する用途では溶融粘度の増加に
より濡れ性が悪くなり好ましくない。また5モル%を越
えると分子量が著しく低下し耐熱性に問題が生じる。
By controlling the molecular weight by end-capping the molecular terminals of the polyimide resin, it is possible to obtain a melt viscosity suitable for adhesion to an adherend, to improve wettability and to increase adhesive strength. It is important that the amount ratio of the acid anhydride or the aromatic amine as the endcapping agent is within the above range, and if it is less than 1 mol%, the molecular weight becomes too high and may not be dissolved in the low boiling point solvent, In applications where adhesion is important, wettability deteriorates due to an increase in melt viscosity, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 5 mol%, the molecular weight is remarkably reduced, and there is a problem in heat resistance.

【0015】エンドキャップ剤としては、一般式(1)
で表される酸無水物及び一般式(2)で表される芳香族
アミンが挙げられる。酸無水物としては、無水フタル
酸、無水マレイン酸、無水ナジック酸など、芳香族アミ
ンとしては、p-メチルアニリン、p-メトキシアニリン、
p-フェノキシアニリンなどが用いられる。
The end capping agent is represented by the general formula (1)
And an aromatic amine represented by the general formula (2). Examples of acid anhydrides include phthalic anhydride, maleic anhydride, and nadic anhydride; and aromatic amines include p-methylaniline, p-methoxyaniline,
p-phenoxyaniline and the like are used.

【0016】重縮合反応における酸成分とアミン成分の
当量比は、得られるポリアミック酸の分子量を決定する
重要な因子である。ポリマの分子量と物性、特に数平均
分子量と機械的性質の間に相関があることは良く知られ
ている。数平均分子量が大きいほど機械的性質が優れて
いる。従って、実用的に優れた強度を得るためには、あ
る程度高分子量であることが必要である。本発明では、
酸成分とアミン成分の当量比rが 0.900 ≦ r ≦ 1.06 より好ましくは、 0.975 ≦
r ≦ 1.06 の範囲にあることが好ましい。ただし、r=[全酸成分
の当量数]/[全アミン成分の当量数]である。rが0.
900未満では、分子量が低くて脆くなるため接着力が弱
くなる。また1.06を越えると、未反応のカルボン酸が加
熱時に脱炭酸してガス発生、発泡の原因となり好ましく
ないことがある。
The equivalent ratio between the acid component and the amine component in the polycondensation reaction is an important factor that determines the molecular weight of the resulting polyamic acid. It is well known that there is a correlation between the molecular weight and physical properties of a polymer, especially the number average molecular weight and mechanical properties. The higher the number average molecular weight, the better the mechanical properties. Therefore, in order to obtain practically excellent strength, it is necessary to have a high molecular weight to some extent. In the present invention,
When the equivalent ratio r between the acid component and the amine component is 0.900 ≦ r ≦ 1.06, more preferably 0.975 ≦
It is preferable that r ≦ 1.06. Here, r = [equivalent number of all acid components] / [equivalent number of all amine components]. r is 0.
If the molecular weight is less than 900, the molecular weight is low and brittle, so that the adhesive strength is weak. If it exceeds 1.06, unreacted carboxylic acid may be decarbonated during heating to cause gas generation and foaming, which may be undesirable.

【0017】テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの
反応は、非プロトン性極性溶媒中で公知の方法で行われ
る。非プロトン性極性溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミ
ド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMA
C)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、テトラヒド
ロフラン(THF)、ジグライム、シクロヘキサノン、
1,4-ジオキサンなどである。非プロトン性極性溶媒は、
一種類のみ用いてもよいし、二種類以上を混合して用い
てもよい。この時、上記非プロトン性極性溶媒と相溶性
がある非極性溶媒を混合して使用しても良い。トルエ
ン、キシレン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水素
が良く使用される。混合溶媒における非極性溶媒の割合
は、30重量%以下であることが好ましい。これは非極性
溶媒が30重量%以上では溶媒の溶解力が低下しポリアミ
ック酸が析出する恐れがあるためである。テトラカルボ
ン酸二無水物とジアミンとの反応は、良く乾燥したジア
ミン成分を脱水精製した前述反応溶媒に溶解し、これに
閉環率98%、より好ましくは99%以上の良く乾燥したテ
トラカルボン酸二無水物を添加して反応を進める。
The reaction between the tetracarboxylic dianhydride and the diamine is carried out in a polar aprotic solvent by a known method. The aprotic polar solvent is N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMA
C), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), tetrahydrofuran (THF), diglyme, cyclohexanone,
And 1,4-dioxane. The aprotic polar solvent is
Only one type may be used, or two or more types may be mixed and used. At this time, a non-polar solvent compatible with the aprotic polar solvent may be mixed and used. Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and solvent naphtha are often used. The proportion of the nonpolar solvent in the mixed solvent is preferably 30% by weight or less. This is because if the amount of the nonpolar solvent is 30% by weight or more, the dissolving power of the solvent may be reduced and polyamic acid may be precipitated. The reaction between the tetracarboxylic dianhydride and the diamine is carried out by dissolving the well-dried diamine component in the above-mentioned reaction solvent that has been dehydrated and purified, and adding thereto the ring-closing rate of 98%, more preferably 99% or more. The reaction is allowed to proceed by adding the anhydride.

【0018】このようにして得たポリアミック酸溶液
を、続いて有機溶剤中で加熱脱水環化してイミド化しポ
リイミドにする。イミド化反応によって生じた水は閉環
反応を妨害するため、水と相溶しない有機溶剤を系中に
加えて共沸させてディーン・スターク(Dean-Stark)管
などの装置を使用して系外に排出する。水と相溶しない
有機溶剤としてはジクロルベンゼンが知られているが、
エレクトロニクス用としては塩素成分が混入する恐れが
あるので、好ましくは前記芳香族炭化水素を使用する。
また、イミド化反応の触媒として無水酢酸、β-ピコリ
ン、ピリジンなどの化合物を使用することは妨げない。
The polyamic acid solution thus obtained is subsequently heat-dehydrated and cyclized in an organic solvent to give imidized polyimide. Since the water generated by the imidization reaction interferes with the ring closure reaction, an organic solvent incompatible with water is added to the system and azeotroped, and the system is removed from the system using a device such as a Dean-Stark tube. To be discharged. Dichlorobenzene is known as an organic solvent incompatible with water,
For the purpose of electronics, the above-mentioned aromatic hydrocarbon is preferably used because there is a possibility that a chlorine component may be mixed.
Further, it does not prevent the use of compounds such as acetic anhydride, β-picoline, and pyridine as a catalyst for the imidization reaction.

【0019】本発明において、イミド閉環は程度が高い
ほど良く、イミド化率が低いと使用時の熱でイミド化が
起こり水が発生して好ましくないため、95%以上、より
好ましくは98%以上のイミド化率が達成されていること
が望ましい。
In the present invention, the higher the degree of imide ring closure, the better the degree of imidization. If the rate of imidization is low, imidation occurs due to heat during use and water is not generated, which is not preferable. Therefore, 95% or more, more preferably 98% or more. Is preferably achieved.

【0020】本発明では得られたポリイミド溶液は塗布
用ワニスとしてそのまま使用することができる。また、
該ポリイミド溶液を貧溶媒中に投入してポリイミド樹脂
を再沈析出させて未反応モノマを取り除いて精製し、乾
燥して固形のポリイミド樹脂として使用することもでき
る。高温工程を嫌う用途や特に不純物や異物が問題にな
る用途では、再び有機溶剤に溶解して濾過精製ワニスと
することが好ましい。この時使用する溶剤は加工作業性
を考え、沸点の低い溶剤を選択することが可能である。
In the present invention, the obtained polyimide solution can be used as it is as a coating varnish. Also,
The polyimide solution can be put into a poor solvent to reprecipitate and precipitate the polyimide resin, remove unreacted monomers, purify, and dry to use as a solid polyimide resin. In applications that dislike the high-temperature process, or particularly in applications where impurities or foreign matter becomes a problem, it is preferable to dissolve again in an organic solvent to obtain a filtration and purification varnish. The solvent used at this time can be selected from solvents having a low boiling point in consideration of workability.

【0021】本発明のポリイミド樹脂では、ケトン系溶
剤として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン
を、エーテル系溶剤として、1,4-ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジグライムを沸点200℃以下の低沸点溶剤
として使用することができる。これらの溶剤は単独で使
用しても良いし、2種以上を混合して用いることもでき
る。イミド化率が低いと接着時の熱でイミド化が起こり
水が発生して好ましくないため、95%以上、より好まし
くは98%以上のイミド化率が達成できる条件であること
が必要である。
In the polyimide resin of the present invention, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone are used as ketone solvents, and 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, and diglyme are used as ether solvents. It can be used as a low boiling point solvent. These solvents may be used alone or in combination of two or more. If the imidation ratio is low, imidization occurs due to heat at the time of bonding and water is generated, which is not preferable. Therefore, it is necessary that the imidation ratio be 95% or more, more preferably 98% or more.

【0022】本発明では得られたポリイミド溶液はその
まま支持体に塗布しても良いが、該ポリイミド溶液を貧
溶媒中に投入してポリイミド樹脂を再沈析出させて未反
応モノマを取り除いて精製することが好ましい。精製、
濾過、乾燥したポリイミド樹脂は再び有機溶剤に溶解し
てワニスとする。この時使用する溶剤は反応溶媒と同じ
でも良いが、塗布乾燥工程の作業性を考え沸点の低い、
好ましくは沸点が180℃以下の溶剤を選択することが好
ましい。180℃以下の溶剤として、本発明ではケトン系
溶剤としてアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン
を、エーテル系溶剤として1,4-ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジグライムを挙げることができる。これらの
溶剤は単独で使用しても良いし、2種以上を混合して用
いることもできる。アミド系溶剤のN,N-ジメチルホルム
アミド、N,N-ジメチルアセトアミドは沸点180℃以下で
本発明のポリイミド樹脂を良く溶解するが、ポリイミド
との相互作用が強く乾燥には250℃以上の高温を必要と
すること、また吸湿性が高いためワニス塗布時にフィル
ムが白化することでその使用は好ましくない。
In the present invention, the obtained polyimide solution may be applied to a support as it is, but the polyimide solution is poured into a poor solvent to reprecipitate the polyimide resin to remove unreacted monomers and purify. Is preferred. Purification,
The filtered and dried polyimide resin is again dissolved in an organic solvent to form a varnish. The solvent used at this time may be the same as the reaction solvent, but considering the workability of the coating and drying step, the boiling point is low,
It is preferable to select a solvent having a boiling point of 180 ° C. or less. Examples of the solvent at 180 ° C. or lower include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone as ketone solvents and 1,4-dioxane, tetrahydrofuran and diglyme as ether solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Amide-based solvents N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide dissolve the polyimide resin of the present invention well at a boiling point of 180 ° C. or less, but strong interaction with polyimide requires a high temperature of 250 ° C. or more for drying. It is not preferable to use the varnish because it needs to be used and the film is whitened at the time of varnish application because of high hygroscopicity.

【0023】ポリイミド樹脂ワニスには表面平滑性を出
すための平滑剤、レベリング剤、脱泡剤などの各種添加
剤を必要に応じて添加することができる。また、溶剤の
蒸発速度を調節するために均一に溶解する範囲で芳香族
炭化水素系溶剤を使用することもできる。フィルム接着
剤とするには、ポリイミド樹脂ワニスを流延成形してフ
ィルム状にし、フィルム単体あるいはフィルム支持体と
一体にして使用する。
Various additives such as a smoothing agent, a leveling agent, and a defoaming agent for improving surface smoothness can be added to the polyimide resin varnish as needed. In addition, an aromatic hydrocarbon-based solvent can be used within a range in which the solvent is uniformly dissolved in order to adjust the evaporation rate of the solvent. In order to form a film adhesive, a polyimide resin varnish is cast and formed into a film, which is used alone or integrally with a film support.

【0024】ポリイミド樹脂ワニスの流延成形は、フロ
ーコーター、ロールコーターなどの塗布設備と熱風乾燥
炉を組み合わせた装置などを用いることができる。ポリ
イミド樹脂ワニスを支持体に塗工後、熱風乾燥炉に導き
ワニスの溶剤を揮散させるに十分な温度と風量でもって
乾燥する。フィルム単体として使用する場合は、支持体
より剥離し、支持体を一体で使用する場合は、支持体の
片面又は両面に付けたまま使用する。本発明のフィルム
接着剤の使用方法は特に限定されるものではないが、所
定の形状に切断して加熱したヒートブロックで熱圧着し
て接着するなど、接着テープとして使用することができ
る。
For the casting of the polyimide resin varnish, an apparatus in which a coating apparatus such as a flow coater or a roll coater is combined with a hot air drying oven can be used. After the polyimide resin varnish is applied to the support, it is guided to a hot air drying oven and dried at a temperature and air volume sufficient to evaporate the solvent of the varnish. When used as a single film, the film is peeled off from the support. When the support is used integrally, the film is used while being attached to one or both surfaces of the support. The method of using the film adhesive of the present invention is not particularly limited, but it can be used as an adhesive tape, for example, by cutting into a predetermined shape and bonding by thermocompression bonding with a heated heat block.

【0025】[0025]

【作用】本発明のフィルム接着剤は、低沸点の有機溶剤
に可溶である特定構造の完全にイミド化されたポリイミ
ド樹脂を主たる構成成分とすることを特徴とする。接着
剤のポリイミド樹脂は再沈精製することによって極めて
低いイオン性不純物レベルを達成できると共に、低沸点
の溶剤を使用しイミド化されていることを合わせて加熱
時の発生ガスをほぼ完全に無くすことができる。
The film adhesive of the present invention is characterized by using a completely imidized polyimide resin having a specific structure which is soluble in a low boiling point organic solvent as a main component. The polyimide resin of the adhesive can achieve an extremely low ionic impurity level by reprecipitation purification, and almost completely eliminate the gas generated during heating by combining it with imidization using a solvent with a low boiling point. Can be.

【0026】また、低吸水性と耐熱性に優れ、化学反応
を伴う熱硬化性接着剤に比べると極めて短時間に接着可
能である。テープ状に加工することにより、接着作業
性、接着部の寸法精度を優れたものにすることができ
る。以下実施例で本発明を詳細に説明するが、これらの
実施例に限定されるものではない。
Further, it is excellent in low water absorption and heat resistance, and can be bonded in a very short time as compared with a thermosetting adhesive accompanied by a chemical reaction. By processing into a tape shape, bonding workability and dimensional accuracy of the bonded portion can be improved. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0027】[0027]

【実施例】【Example】

(実施例1)乾燥窒素ガス導入管、冷却器、温度計、撹
拌機を備えた四口フラスコに、脱水精製したNMP755
gを入れ、窒素ガスを流しながら10分間激しくかき混ぜ
る。次に2,2-ビス(4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)プ
ロパン(BAPP)77.9978g(0.190モル)、2,5-ジメチ
ル-p-フェニレンジアミン(DPX)10.8957g(0.080
モル)、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシ
ロキサン(APPS)100.4400g(平均分子量837、0.1
20モル)を投入し、系を60℃に加熱し、均一になるまで
かき混ぜる。均一に溶解後、系を氷水浴で5℃に冷却
し、4,4'-オキシジフタル酸二無水物 74.4533g(0.240
モル)、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物 47.0752g(0.160モル)を粉末状のまま15分間かけ
て添加し、その後3時間撹拌を続けた。この間フラスコ
は5℃に保った。その後p-フェノキシアニリン(PP
A)3.7046g(0.020モル)を加え、さらに1時間撹拌
を続けた。
(Example 1) Dehydrated and purified NMP755 was placed in a four-necked flask equipped with a dry nitrogen gas inlet tube, a cooler, a thermometer, and a stirrer.
g and stir vigorously for 10 minutes while flowing nitrogen gas. Next, 77.9978 g (0.190 mol) of 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (BAPP) and 10.8957 g (0.080 mol) of 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine (DPX)
Mol), 100.4400 g of α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane (APPS) (average molecular weight 837, 0.1
20 mol), heat the system to 60 ° C, and stir until uniform. After dissolving uniformly, the system was cooled to 5 ° C. in an ice water bath, and 74.4533 g of 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (0.240
Mol) and 47.0752 g (0.160 mol) of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride were added in the form of a powder over 15 minutes, and then stirring was continued for 3 hours. During this time, the flask was kept at 5 ° C. Then, p-phenoxyaniline (PP
A) 3.7046 g (0.020 mol) was added and stirring was continued for an additional hour.

【0028】その後、窒素ガス導入管と冷却器を外し、
キシレンを満たしたディーン・スターク管をフラスコに
装着し、系にトルエン188gを添加した。油浴に代えて
系を175℃に加熱し発生する水を系外に除いた。4時間
加熱したところ、系からの水の発生は認められなくなっ
た。冷却後この反応溶液を大量のメタノール中に投入
し、ポリイミド樹脂を析出させた。固形分を濾過後、80
℃で12時間減圧乾燥し溶剤を除き、284.99g(収率90.6
%)の固形樹脂を得た。KBr錠剤法で赤外吸収スペク
トルを測定したところ、環状イミド結合に由来する5.6
μmの吸収を認めたが、アミド結合に由来する6.06μm
の吸収を認めることはできず、この樹脂はほぼ100%イ
ミド化していることが確かめられた。この時の酸、アミ
ンのモル比は、それぞれa/(a+b)= 0.6、b/
(a+b)= 0.4、e/(c+d+e+0.5g)= 0.3
である。
After that, remove the nitrogen gas inlet pipe and the cooler,
A Dean-Stark tube filled with xylene was attached to the flask, and 188 g of toluene was added to the system. The system was heated to 175 ° C. instead of an oil bath, and the generated water was removed from the system. After heating for 4 hours, no water was generated from the system. After cooling, the reaction solution was poured into a large amount of methanol to precipitate a polyimide resin. After filtering the solids, 80
After drying under reduced pressure at 12 ° C. for 12 hours to remove the solvent, 284.99 g (yield 90.6
%) Of a solid resin was obtained. The infrared absorption spectrum was measured by the KBr tablet method.
μm absorption, but 6.06 μm
No absorption could be recognized, confirming that this resin was almost 100% imidized. At this time, the molar ratios of the acid and the amine were a / (a + b) = 0.6 and b /
(A + b) = 0.4, e / (c + d + e + 0.5 g) = 0.3
It is.

【0029】このようにして得たポリイミド樹脂をシク
ロヘキサノン/トルエン(90/10w/w%)に溶解し、
固形分25%のポリイミド樹脂ワニスを調製した。このワ
ニスをリバースロールコーターでポリイミドフィルム
(商品名ユーピレックスSGA、厚み50μm、宇部興産
(株)製)の片面に塗布し、接着剤層の厚みが30μmの接
着テープを得た。乾燥温度は最高185℃で乾燥時間6分
であった。この接着テープを35μm銅箔に熱プレスして
試験片を作製した。銅箔の処理面に250℃2秒間熱圧着
し、圧を開放後250℃で30秒間アニールした。接着面に
かかる圧力は、ゲージ圧力と接着面積から計算の結果4k
gf/cm2であった。この試験片の180度ピール強度は2.75
kgf/cmであり、優れた接着力を示した。破断面は接着
樹脂層が凝集破壊し、発泡は全く認められなかった。
The polyimide resin thus obtained is dissolved in cyclohexanone / toluene (90/10 w / w%),
A polyimide resin varnish having a solid content of 25% was prepared. This varnish is applied to a polyimide film (trade name: Upilex SGA, thickness 50 μm, Ube Industries, Ltd.) using a reverse roll coater.
Co., Ltd.) to obtain an adhesive tape having an adhesive layer thickness of 30 μm. The drying temperature was a maximum of 185 ° C. and the drying time was 6 minutes. This adhesive tape was hot pressed on a 35 μm copper foil to produce a test piece. The copper foil was thermocompression-bonded to the treated surface at 250 ° C. for 2 seconds, annealed at 250 ° C. for 30 seconds after releasing the pressure. The pressure on the bonding surface is calculated from the gauge pressure and the bonding area.
gf / cm 2 . The 180 degree peel strength of this specimen is 2.75
kgf / cm, showing excellent adhesive strength. In the fractured surface, the adhesive resin layer was cohesively broken and no foaming was observed.

【0030】(実施例2)実施例1のワニスを二軸延伸
ポリエステルフィルム(商品名ダイヤホイル、厚さ50μ
m、三菱レーヨン(株)製)に塗布し、乾燥温度は最高18
5℃で乾燥時間6分であった。乾燥後ポリエステルフィ
ルムから剥離し、30μm厚みの支持体なしの単層フィル
ムを得た。剥離は容易で特に支障はなかった。実施例1
と同様に銅箔光沢面に接着した結果を表1に示す。
Example 2 A varnish of Example 1 was applied to a biaxially stretched polyester film (trade name: Diafoil, thickness: 50 μm).
m, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), drying temperature is up to 18
The drying time was 6 minutes at 5 ° C. After drying, the film was peeled off from the polyester film to obtain a 30 μm thick single-layer film without a support. Peeling was easy and there was no particular problem. Example 1
Table 1 shows the results of adhesion to the glossy surface of the copper foil in the same manner as described above.

【0031】(実施例3〜5)実施例1と同様にして反
応して可溶性ポリイミド樹脂を得た。これらのポリイミ
ド樹脂について得られた評価結果を第1表に示す。いず
れも接着テープとして優れた性能を持つことが分かる。
Examples 3 to 5 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a soluble polyimide resin. Table 1 shows the evaluation results obtained for these polyimide resins. It can be seen that all have excellent performance as an adhesive tape.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】なお、第1表で、ODPAは4,4'-オキシ
ジフタル酸二無水物を、BPDAは3,3',4,4'-ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物を、BTDAは4,4'-ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を、PAは無水フ
タル酸を、BAPPは2,2-ビス(4-(4-アミノフェノキ
シ)フェニル)プロパンを、APBは1,3-ビス(3-アミノ
フェノキシ)ベンゼンを、DPXは2,5-ジメチル-p-フェ
ニレンジアミンを、APPSはα,ω-ビス(3-アミノプ
ロピル)ポリジメチルシロキサンを、PPAはp-フェノ
キシアニリンをそれぞれ略記したものである。
In Table 1, ODPA is 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, BPDA is 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and BTDA is 4,4 '-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, PA is phthalic anhydride, BAPP is 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, APB is 1,3-bis (3-amino (Phenoxy) benzene, DPX is 2,5-dimethyl-p-phenylenediamine, APPS is α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane, and PPA is p-phenoxyaniline. .

【0034】また、配合の数値はそれぞれの成分中の配
合当量比であり、吸水率は85℃85%RHの環境下で168
時間放置(HH-168処理)後の飽和吸水率を、発生ガス、
発生水分は250℃で15分間加熱した時に発生するガスを
GC-MS法で、水分はカール・フィッシャー法でそれ
ぞれ定量した値を示す。溶解性の欄のSは該当する溶媒
に溶解することを示す。
The numerical values of the blending are the blending equivalent ratio of each component, and the water absorption is 168% under the environment of 85 ° C. and 85% RH.
The saturated water absorption after standing for a period of time (HH-168 treatment)
The generated moisture is a value obtained by quantifying the gas generated when heated at 250 ° C. for 15 minutes by the GC-MS method, and the water content is determined by the Karl Fischer method. S in the column of solubility indicates that the compound is dissolved in the corresponding solvent.

【0035】(比較例1)第2表の配合に従って、実施
例1と同条件で反応し、ポリイミド樹脂を得た。この樹
脂をシクロヘキサノンに溶解しようとしたが、膨潤ゲル
状態となり、完全に溶解することができなかった。ま
た、DMF、DMACに対しても同様の状態となり、樹
脂ワニスを調製することができなかった。そこでNMP
に溶解してワニスを調製し、ポリイミド樹脂に塗工しテ
ープとした。乾燥温度180℃では30分加熱しても熱重量
分析で200〜250℃で約5.8%の重量減少が認められた。
これは残存溶媒のNMPが蒸発することによる。250℃3
0分の乾燥で熱重量減少が認められなくなったが、樹脂
のガラス転移温度を大きく越えるため、両面塗工テープ
を作ることは不可能であった。
(Comparative Example 1) According to the composition shown in Table 2, the reaction was carried out under the same conditions as in Example 1 to obtain a polyimide resin. An attempt was made to dissolve this resin in cyclohexanone, but the resin was in a swollen gel state and could not be completely dissolved. In addition, the same condition was applied to DMF and DMAC, and a resin varnish could not be prepared. So NMP
To prepare a varnish, and applied to a polyimide resin to obtain a tape. At a drying temperature of 180 ° C., even after heating for 30 minutes, a weight loss of about 5.8% was observed at 200 to 250 ° C. by thermogravimetric analysis.
This is due to evaporation of the residual solvent NMP. 250 ℃ 3
Although the thermogravimetric loss was not observed after drying for 0 minutes, it was impossible to produce a double-sided coated tape because the temperature greatly exceeded the glass transition temperature of the resin.

【0036】(比較例2)比較例1のワニスを実施例2
と同様にポリエステルフィルムに塗工して支持体なしの
フィルムを作成しようとしたが、200℃を越える温度で
は支持体のポリエステルフィルムが収縮して不可能であ
り、200℃以下での乾燥温度では溶媒のNMPをとばす
ことができず、これもフィルムを作ることができなかっ
た。
Comparative Example 2 The varnish of Comparative Example 1 was used in Example 2.
It was attempted to prepare a film without a support by coating on a polyester film in the same manner as above, but at a temperature exceeding 200 ° C, the polyester film of the support shrunk and was impossible, and at a drying temperature of 200 ° C or less, The solvent NMP could not be skipped, and again a film could not be made.

【0037】(比較例3〜4)実施例1と同様に反応
し、得られたポリイミド樹脂について評価した結果を第
2表に示す。
(Comparative Examples 3 and 4) Table 2 shows the results of evaluation of the polyimide resin obtained by reacting in the same manner as in Example 1.

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】なお、第2表においてPMDAは無水ピロ
メリット酸を、PPDAはp-フェニレンジアミンを略記
したものを示す。
In Table 2, PMDA stands for pyromellitic anhydride, and PPDA for p-phenylenediamine.

【0040】以上の実施例から本発明により、有機溶剤
に可溶で耐熱性と低吸湿性に優れたポリイミド樹脂が得
られることが示される。
The above examples show that the present invention can provide a polyimide resin which is soluble in an organic solvent and is excellent in heat resistance and low moisture absorption.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明によれば、低吸水性と耐熱性と接
着作業性を両立させた信頼性の高いフィルム接着剤を提
供することが可能である。特に、不純物レベルが低く、
加熱時に発生するガス成分が極めて低いため、マイクロ
エレクトロニクス材料、半導体実装材料として工業的に
極めて利用価値が高い。
According to the present invention, it is possible to provide a highly reliable film adhesive which has both low water absorption, heat resistance and bonding workability. In particular, the impurity level is low,
Since the gas component generated at the time of heating is extremely low, it is extremely useful industrially as a microelectronic material and a semiconductor packaging material.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 73/00 - 73/26 C09J 179/00 - 179/08 C08L 79/00 - 79/08 CA(STN)Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 73/00-73/26 C09J 179/00-179/08 C08L 79/00-79/08 CA (STN)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 4,4'-オキシジフタル酸二無水物aモル
と、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と
3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物の
群から選ばれた1種類または2種類のテトラカルボン酸
二無水物bモルを酸成分とし、2,2-ビス(4-(4-アミノフ
ェノキシ)フェニル)プロパンcモルと、1,3-ビス(3-ア
ミノフェノキシ)ベンゼンとジメチルフェニレンジアミ
ンの群から選ばれた1種類または2種類のジアミンdモ
ルと、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロ
キサンeモルとからなる3ないし4成分をアミン成分と
し、a、b、c、d、eのモル比が a/(a+b)≧
0.6、b/(a+b)≦ 0.4、かつ 0.05 ≦ e/(c+
d+e)≦ 0.5 の割合で両成分を反応させてイミド閉
環せしめた有機溶剤に可溶なポリイミド樹脂を主たる構
成成分とするフィルム接着剤。
1. An amol of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride
One or two kinds of tetracarboxylic dianhydrides (bmol) selected from the group of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are used as an acid component, and 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (c mol), 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and one or two kinds of diamines selected from the group consisting of dimethylphenylenediamine, and α, ω- 3 to 4 components consisting of bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane e mol as an amine component, and the molar ratio of a, b, c, d and e is a / (a + b) ≧
0.6, b / (a + b) ≦ 0.4, and 0.05 ≦ e / (c +
d + e) A film adhesive mainly composed of a polyimide resin which is soluble in an organic solvent in which imides are closed by reacting both components at a ratio of 0.5 or less.
【請求項2】4,4'-オキシジフタル酸二無水物aモル
と、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と
3,3',4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物の
群から選ばれた1種類または2種類のテトラカルボン酸
二無水物bモルを酸成分とし、2,2-ビス(4-(4-アミノフ
ェノキシ)フェニル)プロパンcモルと、1,3-ビス(3-ア
ミノフェノキシ)ベンゼンとジメチルフェニレンジアミ
ンの群から選ばれた1種類または2種類のジアミンdモ
ルと、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロ
キサンeモルとからなる3ないし4成分をアミン成分と
するポリイミド樹脂の分子末端を、一般式(1)で表さ
れる酸無水物fモルまたは一般式(2)で表される芳香
族アミンgモルでエンドキャップし、a、b、c、d、
e、f、gのモル比が a/(a+b+0.5f)≧ 0.6、
b/(a+b+0.5f)≦ 0.4、0.01 ≦f/(a+b+
0.5f)≦ 0.05、0.01 ≦ g/(c+d+e+0.5g)
≦ 0.05、0.05 ≦ e/(c+d+e+0.5g)≦ 0.5
かつfまたはgのどちらか一方は0である割合で両成分
を反応させてイミド閉環せしめた有機溶剤に可溶なポリ
イミド樹脂を主たる構成成分とするフィルム接着剤。 【化1】 (式中、Xは 【化2】 のうちから選ばれた少なくとも1種類の基) 【化3】 (式中、Yは水素原子、あるいはメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、ブトキシ、もしくはフェノキシ基のうちから選ば
れた少なくとも1種類の基)
2. An amol of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride
One or two kinds of tetracarboxylic dianhydrides (bmol) selected from the group of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are used as an acid component, and 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane (c mol), 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and one or two kinds of diamines selected from the group of dimethylphenylenediamine, and α, ω- The molecular terminal of a polyimide resin having 3 to 4 components consisting of e mol of bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane as an amine component is reacted with f mol of an acid anhydride represented by the general formula (1) or (2) A), b, c, d,
The molar ratio of e, f, and g is a / (a + b + 0.5f) ≧ 0.6,
b / (a + b + 0.5f) ≦ 0.4, 0.01 ≦ f / (a + b +
0.5f) ≦ 0.05, 0.01 ≦ g / (c + d + e + 0.5g)
≤ 0.05, 0.05 ≤ e / (c + d + e + 0.5g) ≤0.5
And a film adhesive mainly composed of a polyimide resin soluble in an organic solvent in which imide is closed by reacting both components at a ratio where either f or g is 0. Embedded image (Wherein X is At least one group selected from the group consisting of: (Wherein, Y is a hydrogen atom or at least one group selected from methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, or phenoxy groups)
【請求項3】 ポリアミック酸を有機溶剤中で加熱脱水
してイミド閉環反応を完結させたポリイミド樹脂の有機
溶剤溶液を支持体の片面又は両面に流延成形する請求項
1または請求項2記載のフィルム接着剤の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein an organic solvent solution of a polyimide resin in which the imide ring-closing reaction is completed by heating and dehydrating the polyamic acid in an organic solvent is cast on one or both surfaces of the support. Manufacturing method of film adhesive.
【請求項4】 沸点が180℃以下である有機溶剤を使用
して支持体の上に流延成形、乾燥後、支持体から剥離し
て得る請求項1または請求項2記載のフィルム接着剤の
製造方法。
4. The film adhesive according to claim 1, wherein the film adhesive is cast on a support using an organic solvent having a boiling point of 180 ° C. or lower, dried, and then peeled from the support. Production method.
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