JP3091803B2 - カラーフィルタの欠陥検査装置 - Google Patents
カラーフィルタの欠陥検査装置Info
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- JP3091803B2 JP3091803B2 JP05052408A JP5240893A JP3091803B2 JP 3091803 B2 JP3091803 B2 JP 3091803B2 JP 05052408 A JP05052408 A JP 05052408A JP 5240893 A JP5240893 A JP 5240893A JP 3091803 B2 JP3091803 B2 JP 3091803B2
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光軸に平行で光軸から
の距離が時間と共に変化するビームを出射させるビーム
偏向装置、並びにこのビーム偏向装置を利用した欠陥検
査装置に関するものである。
の距離が時間と共に変化するビームを出射させるビーム
偏向装置、並びにこのビーム偏向装置を利用した欠陥検
査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザ顕微鏡、プリンタ装置、ファクシ
ミリ装置のような光学装置においては、被走査面を光ビ
ームで走査するためビーム偏向装置が用いられている。
ビーム偏向装置として、例えば振動ミラーが既知であ
る。この振動ミラーでは、光源から放射された光ビーム
を回転するミラー面で反射させ、光軸に対してミラー面
を回転させることにより入射する光ビームのミラー面に
対する入射角を時間と共に変化させてビームの偏向を行
なっている。従って、被走査面上において光ビームの入
射位置が時間と共に変化すると共に被走査面に対する光
ビームの入射角も時間と共に変化している。別のビーム
偏向装置として、ポリゴンミラーとｆθレンズとを組み
合せたビーム偏向装置がある。この装置では、ポリゴン
ミラーを回転させて入射ビームを偏向させ、偏向した光
ビームをｆθレンズにより光軸に平行なビームに変換
し、平行ビームにより被走査面を走査するように構成さ
れている。
ミリ装置のような光学装置においては、被走査面を光ビ
ームで走査するためビーム偏向装置が用いられている。
ビーム偏向装置として、例えば振動ミラーが既知であ
る。この振動ミラーでは、光源から放射された光ビーム
を回転するミラー面で反射させ、光軸に対してミラー面
を回転させることにより入射する光ビームのミラー面に
対する入射角を時間と共に変化させてビームの偏向を行
なっている。従って、被走査面上において光ビームの入
射位置が時間と共に変化すると共に被走査面に対する光
ビームの入射角も時間と共に変化している。別のビーム
偏向装置として、ポリゴンミラーとｆθレンズとを組み
合せたビーム偏向装置がある。この装置では、ポリゴン
ミラーを回転させて入射ビームを偏向させ、偏向した光
ビームをｆθレンズにより光軸に平行なビームに変換
し、平行ビームにより被走査面を走査するように構成さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】振動ミラーを用いるビ
ーム偏向装置及びポリゴンミラーとｆθレンズを組み合
せたビーム偏向装置においては、ミラーに対する入射ビ
ームの入射角を時間と共に変化させることによりビーム
を偏向させているから、被走査面上における走査長を長
く設定しようとするとビーム偏向装置から被走査面まで
の光路長を長くしなければならず、装置が大型化する欠
点があった。
ーム偏向装置及びポリゴンミラーとｆθレンズを組み合
せたビーム偏向装置においては、ミラーに対する入射ビ
ームの入射角を時間と共に変化させることによりビーム
を偏向させているから、被走査面上における走査長を長
く設定しようとするとビーム偏向装置から被走査面まで
の光路長を長くしなければならず、装置が大型化する欠
点があった。
【０００４】また、被走査面からの反射光をビーム偏向
装置を介して光検出器等に入射させるように光路を設定
する場合も多い。このような光学装置においては、振動
ミラーを用いる場合被走査面への入射ビームが光軸と平
行でないため、被走査面からの反射光が光軸から大きく
ずれてしまい、試料からの反射光をビーム偏向装置に再
入射させることができなくなってしまう。
装置を介して光検出器等に入射させるように光路を設定
する場合も多い。このような光学装置においては、振動
ミラーを用いる場合被走査面への入射ビームが光軸と平
行でないため、被走査面からの反射光が光軸から大きく
ずれてしまい、試料からの反射光をビーム偏向装置に再
入射させることができなくなってしまう。
【０００５】さらに、ポリゴンミラーとｆθレンズとを
組み合せたビーム偏向装置では、ポリゴンミラー及びこ
れを回転させる駆動装置並びにｆθレンズが必要であ
り、従って部品点数が多くなるばかりでなく製造コスト
も高価になる欠点があった。
組み合せたビーム偏向装置では、ポリゴンミラー及びこ
れを回転させる駆動装置並びにｆθレンズが必要であ
り、従って部品点数が多くなるばかりでなく製造コスト
も高価になる欠点があった。
【０００６】従って、本発明の目的は上述した欠点を除
去し、大型化することなく、簡単な構造で平行ビームを
出射させることができるビーム偏向装置を提供すること
にある。さらに、本発明は、上記ビーム偏向装置を有効
に利用した欠陥検査装置を提供することにある。
去し、大型化することなく、簡単な構造で平行ビームを
出射させることができるビーム偏向装置を提供すること
にある。さらに、本発明は、上記ビーム偏向装置を有効
に利用した欠陥検査装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によるカラーフィ
ルタの欠陥検査装置は、互いに対向する平行な光学面を
２対以上有する回転プリズム体及びこの回転プリズム体
を光軸と直交する回転軸線のまわりで回転させる回転駆
動装置を有し、前記光源から発生した光ビームを、光軸
に平行で光軸からの距離が時間と共に変化する光ビーム
として出射させ、検査すべきカラーフィルタの表面に垂
直に投射するビーム偏向装置と、前記光源とビーム偏向
装置との間の光路中に配置したビームスプリッタと、カ
ラーフィルタの表面からの反射光を受光する光検出器
と、前記光検出器とビームスプリッタとの間の光路中に
配置され、カラーフィルタによる回折光を遮光する遮光
マスクとを具え、前記カラーフィルタの表面からの反射
光を前記ビーム偏向装置、ビームスプリッタ及び遮光マ
スクを介して前記光検出器に入射させ、光検出器からの
出力信号に基づいてカラーフィルタの表面に存在する欠
陥を検出することを特徴とするものである。
ルタの欠陥検査装置は、互いに対向する平行な光学面を
２対以上有する回転プリズム体及びこの回転プリズム体
を光軸と直交する回転軸線のまわりで回転させる回転駆
動装置を有し、前記光源から発生した光ビームを、光軸
に平行で光軸からの距離が時間と共に変化する光ビーム
として出射させ、検査すべきカラーフィルタの表面に垂
直に投射するビーム偏向装置と、前記光源とビーム偏向
装置との間の光路中に配置したビームスプリッタと、カ
ラーフィルタの表面からの反射光を受光する光検出器
と、前記光検出器とビームスプリッタとの間の光路中に
配置され、カラーフィルタによる回折光を遮光する遮光
マスクとを具え、前記カラーフィルタの表面からの反射
光を前記ビーム偏向装置、ビームスプリッタ及び遮光マ
スクを介して前記光検出器に入射させ、光検出器からの
出力信号に基づいてカラーフィルタの表面に存在する欠
陥を検出することを特徴とするものである。
【０００８】さらに、本発明によるカラーフィルタの欠
陥検査装置の好適実施例は、光源から放射され、前記回
転プリズム体の２個の隣接する光学面が互いに交差する
エッジ部で反射した光を受光する別の光検出器を設け、
この光検出器の出力信号を信号処理して同期信号を発生
させることを特徴とするものである。
陥検査装置の好適実施例は、光源から放射され、前記回
転プリズム体の２個の隣接する光学面が互いに交差する
エッジ部で反射した光を受光する別の光検出器を設け、
この光検出器の出力信号を信号処理して同期信号を発生
させることを特徴とするものである。
【０００９】
【作用】カラーフィルタ等の薄膜体の欠陥として高さ数
μm 程度の微小突起欠陥がある。このような突起欠陥の
検出方法として、検査すべき試料に向けて垂直入射ビー
ムを投射し、突起欠陥からの散乱光による回折像を検出
する方法がある。この欠陥検査方法では、光源から放射
された光ビームをビーム偏向装置によって偏向し、試料
表面を垂直入射ビームで２次元的に走査する必要があ
る。従って、この欠陥検査装置では、ビーム偏向装置と
して振動ミラーを用いることができない。一方、ポリゴ
ンミラーとｆθレンズの組み合せによるビーム偏向装置
では、大型化するばかりでなく製造コストが高価になっ
てしまう。このため、本発明では、互いに対向する平行
な光学面を２対以上有する回転プリズム体を用い、回転
プリズム体から光軸に平行で光軸からの距離が時間と共
に変化する光ビームを出射させる。
μm 程度の微小突起欠陥がある。このような突起欠陥の
検出方法として、検査すべき試料に向けて垂直入射ビー
ムを投射し、突起欠陥からの散乱光による回折像を検出
する方法がある。この欠陥検査方法では、光源から放射
された光ビームをビーム偏向装置によって偏向し、試料
表面を垂直入射ビームで２次元的に走査する必要があ
る。従って、この欠陥検査装置では、ビーム偏向装置と
して振動ミラーを用いることができない。一方、ポリゴ
ンミラーとｆθレンズの組み合せによるビーム偏向装置
では、大型化するばかりでなく製造コストが高価になっ
てしまう。このため、本発明では、互いに対向する平行
な光学面を２対以上有する回転プリズム体を用い、回転
プリズム体から光軸に平行で光軸からの距離が時間と共
に変化する光ビームを出射させる。
【００１０】互いに平行な２個の光学面の一方の光学面
に光ビームが入射すると、この光学面に対する光ビーム
の入射角に応じて光軸からの距離が変化する光軸に平行
な光ビームが他方の光学面から出射する。従って、互い
に平行な２個の光学面の光軸に対する角度を時間と共に
変化させることにより、光軸に平行で光軸からの距離が
時間と共に変化する光ビームを出射させることができ
る。このため、本発明では、互いに対向する平行な光学
面を２対以上とする回転プリズム体を用い、この回転プ
リズム体をステップモータのような回転駆動装置により
光軸と直交する回転軸まわりで回転させて光軸からの距
離が時間と共に変化する平行ビームを出射させる。出射
する平行ビームの光軸からの距離は、回転プリズム体の
大きさ、すなわち、回転プリズム体の回転軸線から光学
面までの距離によって規定される。従って、回転プリズ
ム体を大きくするだけで長い走査長を得ることができ
る。従って、光路長を長くすることなく長い走査長を得
ることができ、この結果装置が大型化することなく適切
な走査長を得ることができる。また、回転プリズム体は
互いに平行な光学面を２対（断面四角形）以上有すれば
よく、例えば３対（断面六角形）または４対（断面八角
形）或いはこれ以上に設定することができる。
に光ビームが入射すると、この光学面に対する光ビーム
の入射角に応じて光軸からの距離が変化する光軸に平行
な光ビームが他方の光学面から出射する。従って、互い
に平行な２個の光学面の光軸に対する角度を時間と共に
変化させることにより、光軸に平行で光軸からの距離が
時間と共に変化する光ビームを出射させることができ
る。このため、本発明では、互いに対向する平行な光学
面を２対以上とする回転プリズム体を用い、この回転プ
リズム体をステップモータのような回転駆動装置により
光軸と直交する回転軸まわりで回転させて光軸からの距
離が時間と共に変化する平行ビームを出射させる。出射
する平行ビームの光軸からの距離は、回転プリズム体の
大きさ、すなわち、回転プリズム体の回転軸線から光学
面までの距離によって規定される。従って、回転プリズ
ム体を大きくするだけで長い走査長を得ることができ
る。従って、光路長を長くすることなく長い走査長を得
ることができ、この結果装置が大型化することなく適切
な走査長を得ることができる。また、回転プリズム体は
互いに平行な光学面を２対（断面四角形）以上有すれば
よく、例えば３対（断面六角形）または４対（断面八角
形）或いはこれ以上に設定することができる。
【００１１】さらに、本発明では、走査すべき試料表面
からの反射ビームを再び回転プリズム体に入射させ、回
転プリズム体への入射側光路を経て光検出器に入射させ
る。このように、試料からの反射ビームを回転プリズム
体に再入射させることにより、試料からの反射ビームは
光検出器上に静止した状態に維持されるので、極めて容
易に信号処理することができる。
からの反射ビームを再び回転プリズム体に入射させ、回
転プリズム体への入射側光路を経て光検出器に入射させ
る。このように、試料からの反射ビームを回転プリズム
体に再入射させることにより、試料からの反射ビームは
光検出器上に静止した状態に維持されるので、極めて容
易に信号処理することができる。
【００１２】カラーフィルタのように微小な素子が規則
的に配列されている試料の場合、試料表面からの反射光
により光検出器上に鮮明な十字状回折パターンが形成さ
れる。一方、試料表面に突起欠陥が存在すると、十字状
の回折パターンは拡大した不鮮明なパターンに変化す
る。従って、光検出器の前面に十字状の回折パターンに
対応した遮光マスク（フィルタ）を配置すれば、光ビー
ムが突起欠陥が存在する位置を走査したとき光検出器か
ら正規の強度の出力信号よりも強い出力信号が発生し、
これにより突起欠陥の存在を検出することができる。こ
の際、光ビームの２次元走査における水平同期信号及び
垂直同期信号を利用することにより突起欠陥の存在位置
のアドレスを適切に求めることができる。
的に配列されている試料の場合、試料表面からの反射光
により光検出器上に鮮明な十字状回折パターンが形成さ
れる。一方、試料表面に突起欠陥が存在すると、十字状
の回折パターンは拡大した不鮮明なパターンに変化す
る。従って、光検出器の前面に十字状の回折パターンに
対応した遮光マスク（フィルタ）を配置すれば、光ビー
ムが突起欠陥が存在する位置を走査したとき光検出器か
ら正規の強度の出力信号よりも強い出力信号が発生し、
これにより突起欠陥の存在を検出することができる。こ
の際、光ビームの２次元走査における水平同期信号及び
垂直同期信号を利用することにより突起欠陥の存在位置
のアドレスを適切に求めることができる。
【００１３】
【実施例】図１は本発明によるビーム偏向装置を具える
欠陥検査装置の一例の構成を示す線図である。本例で
は、走査されるべき試料を液晶表示装置に用いられるカ
ラーフィルタとし、カラーフィルタの突起欠陥を検出す
る例について説明する。光源１から走査用光ビームを発
生させる。本例では、光源１としてＨｅ−Ｎｅレーザを
用いる。光源１から放出された光ビームは光軸Ｌに沿っ
て伝播し、偏向ビームスプリッタ２を通過し、さらにλ
／４板３を透過してビーム偏向装置４に入射する。図２
に示すように、ビーム偏向装置４は回転プリズム体５及
びこのプリズム体を回転させるステップモータ６を有す
る。回転プリズム体５は光学的に透明な光学材料から成
り、光軸Ｌと直交する回転軸線Ｒを有する。この回転プ
リズム体５は回転軸線Ｒに平行な２対の光学面を有し、
光学面５ａと５ｂ並びに５ｃと５ｄは互いに対向する平
行な光学面とし（図１参照）、これら光学面５ａ〜５ｄ
をステップモータ６により回転軸Ｒのまわりで順次回転
させる。
欠陥検査装置の一例の構成を示す線図である。本例で
は、走査されるべき試料を液晶表示装置に用いられるカ
ラーフィルタとし、カラーフィルタの突起欠陥を検出す
る例について説明する。光源１から走査用光ビームを発
生させる。本例では、光源１としてＨｅ−Ｎｅレーザを
用いる。光源１から放出された光ビームは光軸Ｌに沿っ
て伝播し、偏向ビームスプリッタ２を通過し、さらにλ
／４板３を透過してビーム偏向装置４に入射する。図２
に示すように、ビーム偏向装置４は回転プリズム体５及
びこのプリズム体を回転させるステップモータ６を有す
る。回転プリズム体５は光学的に透明な光学材料から成
り、光軸Ｌと直交する回転軸線Ｒを有する。この回転プ
リズム体５は回転軸線Ｒに平行な２対の光学面を有し、
光学面５ａと５ｂ並びに５ｃと５ｄは互いに対向する平
行な光学面とし（図１参照）、これら光学面５ａ〜５ｄ
をステップモータ６により回転軸Ｒのまわりで順次回転
させる。
【００１４】図３に示すように、光軸Ｌにそって伝播し
光学面５ａに入射角ｉで入射した光ビームは屈折角ｒで
屈折し回転プリズム体を伝播し、光学面５ｂに入射角ｒ
で入射し、屈折角ｉで出射する。この結果、光軸に沿っ
て回転軸Ｒに向けて入射した光ビームは光軸Ｌに平行な
光ビームとして出射する。出射する平行ビームの光軸Ｌ
からの変位量ｘは、光学面５ａに対する入射光ビームの
入射角ｉに依存し、この入射角ｉは光学面５ａの回転角
θに等しいから、回転プリズム体５を回転軸Ｒを中心に
して回転させることり光軸Ｌに沿って伝播する光ビーム
の入射角ｉが時間と共に変化し、この結果光軸Ｌからの
変位量が時間と共に変化する平行光ビームが出射する。
また、回転が進み、光学面５ｄに光ビームが入射する
と、光ビームは対向する光学面５ｃから出射し、図３の
光軸Ｌの下側において光軸Ｌからの変位量が時間と共に
変化する平行光ビームが出射する。この結果、光軸Ｌに
沿って入射する光ビームは、光軸Ｌを含み光学面５ａ〜
５ｄ及び回転軸Ｒと直交する面内で光軸Ｌを中心にして
偏向された平行光ビームとして出射する。
光学面５ａに入射角ｉで入射した光ビームは屈折角ｒで
屈折し回転プリズム体を伝播し、光学面５ｂに入射角ｒ
で入射し、屈折角ｉで出射する。この結果、光軸に沿っ
て回転軸Ｒに向けて入射した光ビームは光軸Ｌに平行な
光ビームとして出射する。出射する平行ビームの光軸Ｌ
からの変位量ｘは、光学面５ａに対する入射光ビームの
入射角ｉに依存し、この入射角ｉは光学面５ａの回転角
θに等しいから、回転プリズム体５を回転軸Ｒを中心に
して回転させることり光軸Ｌに沿って伝播する光ビーム
の入射角ｉが時間と共に変化し、この結果光軸Ｌからの
変位量が時間と共に変化する平行光ビームが出射する。
また、回転が進み、光学面５ｄに光ビームが入射する
と、光ビームは対向する光学面５ｃから出射し、図３の
光軸Ｌの下側において光軸Ｌからの変位量が時間と共に
変化する平行光ビームが出射する。この結果、光軸Ｌに
沿って入射する光ビームは、光軸Ｌを含み光学面５ａ〜
５ｄ及び回転軸Ｒと直交する面内で光軸Ｌを中心にして
偏向された平行光ビームとして出射する。
【００１５】図４は時間に対する出射する平行ビームの
光軸からの変位量を示すグラフである。光学面５ａが光
軸Ｌに直交するように位置すると、光ビームは直進し光
軸上を伝播する。次に、光学面の回転に伴って光軸から
の変位量が徐々に増大し、隣接する次の光学面５ｄとの
境界エッジ部が光軸上に位置したとき変位量が最大にな
る。次に、隣接する光学面５ｄに光ビームが入射し光軸
をはさんで反対側の最大変位位置に移行し、光学面５ｄ
の回転に伴い光軸に徐々に近き光学面５ｄが光軸と直交
する位置に到達すると変位量は零になる。
光軸からの変位量を示すグラフである。光学面５ａが光
軸Ｌに直交するように位置すると、光ビームは直進し光
軸上を伝播する。次に、光学面の回転に伴って光軸から
の変位量が徐々に増大し、隣接する次の光学面５ｄとの
境界エッジ部が光軸上に位置したとき変位量が最大にな
る。次に、隣接する光学面５ｄに光ビームが入射し光軸
をはさんで反対側の最大変位位置に移行し、光学面５ｄ
の回転に伴い光軸に徐々に近き光学面５ｄが光軸と直交
する位置に到達すると変位量は零になる。
【００１６】図４に示すように、出射する平行ビームの
時間に対する変位量はリニヤな関係から若干ずれる。す
なわち、出射する平行ビームの移動速度（走査速度）
は、光軸付近において最も低速になり光軸から離れるに
従って高速になる。この移動速度の非直線は信号処理に
おいて簡単に補正することができ、その詳細は後述す
る。
時間に対する変位量はリニヤな関係から若干ずれる。す
なわち、出射する平行ビームの移動速度（走査速度）
は、光軸付近において最も低速になり光軸から離れるに
従って高速になる。この移動速度の非直線は信号処理に
おいて簡単に補正することができ、その詳細は後述す
る。
【００１７】図１に示すように、ビーム偏向装置３から
出射した光ビームは欠陥検査すべきカラーフィルタ７に
垂直に入射する。カラーフィルタ７は試料ステージ８上
に載置され、試料ステージ８はビーム偏向装置４による
ビーム偏向方向と直交する方向、すなわち紙面と直交す
る方向に一定速度で移動する。この結果、カラーフィル
タ７は光ビームにより２次元的に走査されることにな
る。尚、光ビーム（走査ビーム）のビーム径は３００μ
m 程度であるから、走査ビームのスポット中に数個のカ
ラー素子が含まれることになる。カラーフィルタ７から
の反射ビームは再びビーム偏向装置４に入射し、光軸Ｌ
に沿って出射する。そして、入射側経路に沿ってλ／４
板３を経て偏向ビームスプリッタ２の偏向感知面２ａで
反射し、遮光マスク（フィルタ）９を経て光検出器１０
に入射する。
出射した光ビームは欠陥検査すべきカラーフィルタ７に
垂直に入射する。カラーフィルタ７は試料ステージ８上
に載置され、試料ステージ８はビーム偏向装置４による
ビーム偏向方向と直交する方向、すなわち紙面と直交す
る方向に一定速度で移動する。この結果、カラーフィル
タ７は光ビームにより２次元的に走査されることにな
る。尚、光ビーム（走査ビーム）のビーム径は３００μ
m 程度であるから、走査ビームのスポット中に数個のカ
ラー素子が含まれることになる。カラーフィルタ７から
の反射ビームは再びビーム偏向装置４に入射し、光軸Ｌ
に沿って出射する。そして、入射側経路に沿ってλ／４
板３を経て偏向ビームスプリッタ２の偏向感知面２ａで
反射し、遮光マスク（フィルタ）９を経て光検出器１０
に入射する。
【００１８】図５はカラーフィルタからの反射光による
回折像の一例を示す線図であり、図５(a) はカラーフィ
ルタに欠陥がない場合の回折パターンを示し、同図(b)
はカラーフィルタに突起欠陥がある場合の回折パターン
を示す。突起欠陥がない場合十字形状の回折パターンが
形成され、突起欠陥がある場合十字形状のパターンの周
辺に円形のパターンが付加された回折パターンが形成さ
れる。従って、遮光マスク９が図５(a) に示す遮光部を
有すれば、突起欠陥がある場合光検出器１０への入射光
量が増大し、光検出器１０の入射光量の変化から突起欠
陥を検出することができる。光検出器１０からの出力信
号は増幅器１１により増幅して信号処理回路１２に供給
する。信号処理回路１２では、光検出器１０からの増幅
された出力信号を順次メモリ（図示せず）に記憶し、水
平同期信号及び垂直同期を用いて順次読み出し信号処理
した後映像信号として出力する。メモリから読み出す
際、図４に示すビーム偏向装置４の走査速度の非直線性
を考慮して読み出すことにより、走査速度の非直線性を
補正することができる。
回折像の一例を示す線図であり、図５(a) はカラーフィ
ルタに欠陥がない場合の回折パターンを示し、同図(b)
はカラーフィルタに突起欠陥がある場合の回折パターン
を示す。突起欠陥がない場合十字形状の回折パターンが
形成され、突起欠陥がある場合十字形状のパターンの周
辺に円形のパターンが付加された回折パターンが形成さ
れる。従って、遮光マスク９が図５(a) に示す遮光部を
有すれば、突起欠陥がある場合光検出器１０への入射光
量が増大し、光検出器１０の入射光量の変化から突起欠
陥を検出することができる。光検出器１０からの出力信
号は増幅器１１により増幅して信号処理回路１２に供給
する。信号処理回路１２では、光検出器１０からの増幅
された出力信号を順次メモリ（図示せず）に記憶し、水
平同期信号及び垂直同期を用いて順次読み出し信号処理
した後映像信号として出力する。メモリから読み出す
際、図４に示すビーム偏向装置４の走査速度の非直線性
を考慮して読み出すことにより、走査速度の非直線性を
補正することができる。
【００１９】次に、水平同期信号及び垂直同期の作成プ
ロセスについて説明する。ビーム偏向装置４の回転プリ
ズム体５の隣接する２個の光学面によって形成されるエ
ッジ部が光軸Ｌ上に位置すると、エッジ部に入射した光
ビームは光軸Ｌとほぼ直交する方向に反射する。従っ
て、図１に示すように、回転プリズム体のエッジ部が光
軸Ｌ上に位置する点から光軸とほぼ直交する軸線上に光
検出器１３を配置し、この光検出器１３により回転プリ
ズム体のエッジ部からの反射光を受光する。光検出器１
３からはパルス状の出力信号が発生し、この出力信号を
増幅器１４により増幅し、水平同期信号発生回路１５に
供給し、信号処理して水平同期信号を発生させる。発生
した水平同期信号を図４に示す。そして、発生した水平
同期信号を信号処理回路１２に供給する。次に、垂直同
期の作成プロセスについて説明する。試料ステージ８は
紙面と直交する方向に移動する。この試料ステージ８の
移動の限界位置を検出するためステージ位置検出センサ
１６を設ける。この位置検出センサ１６は、例えばＬＥ
Ｄと光検出器とから成る光電センサとすることができ
る。或は、試料ステージ８を駆動するモータの回転数か
ら試料ステージ８の移動限界位置信号を発生させること
もできる。ステージ位置検出センサからの出力信号を垂
直同期信号発生回路１７に供給し、信号処理を施して垂
直同期信号を発生させる。この垂直同期信号を信号処理
回路１２に供給する。
ロセスについて説明する。ビーム偏向装置４の回転プリ
ズム体５の隣接する２個の光学面によって形成されるエ
ッジ部が光軸Ｌ上に位置すると、エッジ部に入射した光
ビームは光軸Ｌとほぼ直交する方向に反射する。従っ
て、図１に示すように、回転プリズム体のエッジ部が光
軸Ｌ上に位置する点から光軸とほぼ直交する軸線上に光
検出器１３を配置し、この光検出器１３により回転プリ
ズム体のエッジ部からの反射光を受光する。光検出器１
３からはパルス状の出力信号が発生し、この出力信号を
増幅器１４により増幅し、水平同期信号発生回路１５に
供給し、信号処理して水平同期信号を発生させる。発生
した水平同期信号を図４に示す。そして、発生した水平
同期信号を信号処理回路１２に供給する。次に、垂直同
期の作成プロセスについて説明する。試料ステージ８は
紙面と直交する方向に移動する。この試料ステージ８の
移動の限界位置を検出するためステージ位置検出センサ
１６を設ける。この位置検出センサ１６は、例えばＬＥ
Ｄと光検出器とから成る光電センサとすることができ
る。或は、試料ステージ８を駆動するモータの回転数か
ら試料ステージ８の移動限界位置信号を発生させること
もできる。ステージ位置検出センサからの出力信号を垂
直同期信号発生回路１７に供給し、信号処理を施して垂
直同期信号を発生させる。この垂直同期信号を信号処理
回路１２に供給する。
【００２０】信号処理回路１２では、メモリから読み出
された画像信号、水平同期信号及び垂直同期信号を用い
て信号処理を行ない映像信号を発生し、この映像信号を
欠陥検出回路１８に供給する。欠陥検出回路１８は、比
較器を有し、順次供給されてくる映像信号を基準値と比
較して欠陥の有無を判定する。前述したように、欠陥が
ない場合試料７からの反射光は遮光マスクによって遮光
されるので映像信号の強度は低くし、一方、突起欠陥が
ある場合遮光マスクによって遮光されない反射光が増大
するため映像信号の強度が増大する。従って、基準信号
と比較するだけで欠陥の有無を検出することができる。
された画像信号、水平同期信号及び垂直同期信号を用い
て信号処理を行ない映像信号を発生し、この映像信号を
欠陥検出回路１８に供給する。欠陥検出回路１８は、比
較器を有し、順次供給されてくる映像信号を基準値と比
較して欠陥の有無を判定する。前述したように、欠陥が
ない場合試料７からの反射光は遮光マスクによって遮光
されるので映像信号の強度は低くし、一方、突起欠陥が
ある場合遮光マスクによって遮光されない反射光が増大
するため映像信号の強度が増大する。従って、基準信号
と比較するだけで欠陥の有無を検出することができる。
【００２１】本発明は上述した実施例だけに限定されず
種々の変更や変形が可能である。例えば、上述した実施
例ではカラーフィルタの欠陥検査装置に適用した例につ
いて説明したが、勿論撮像装置に適用することも可能で
ある。撮像装置に適用する場合、ビームスプリッタとビ
ーム偏向装置との間の光路中に結像レンズを配置し試料
表面を集束した光ビームで走査することができる。ま
た、上述した実施例では、欠陥検査すべき試料としてカ
ラーフィルタを例にして説明したが、試料表面からの反
射光に基いて欠陥情報が検出される他の種々の試料につ
いても適用することができる。さらに、上述した実施例
ではビーム偏向装置の回転プリズム体として互いに平行
な光学面を２対有する回転プリズム体を用いたが、平行
な光学面を２対以上有する回転プリズム体を用いること
もできる。さらに、上述した実施例では、ビームスプリ
ッタとして偏光ビームスプリッタを用いたが、ハーフミ
ラーのような他のビームスプリッタを用いることもでき
る。
種々の変更や変形が可能である。例えば、上述した実施
例ではカラーフィルタの欠陥検査装置に適用した例につ
いて説明したが、勿論撮像装置に適用することも可能で
ある。撮像装置に適用する場合、ビームスプリッタとビ
ーム偏向装置との間の光路中に結像レンズを配置し試料
表面を集束した光ビームで走査することができる。ま
た、上述した実施例では、欠陥検査すべき試料としてカ
ラーフィルタを例にして説明したが、試料表面からの反
射光に基いて欠陥情報が検出される他の種々の試料につ
いても適用することができる。さらに、上述した実施例
ではビーム偏向装置の回転プリズム体として互いに平行
な光学面を２対有する回転プリズム体を用いたが、平行
な光学面を２対以上有する回転プリズム体を用いること
もできる。さらに、上述した実施例では、ビームスプリ
ッタとして偏光ビームスプリッタを用いたが、ハーフミ
ラーのような他のビームスプリッタを用いることもでき
る。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、互
いに平行な光学面を２対以上有する回転プリズム体を回
転させることにより光軸に平行で光軸からの距離が時間
と共に変化する光ビームを出射させているので、大型化
することなく簡単な構成で、試料表面を平行ビームで走
査することができる。また、回転プリズム体から出射す
る平行ビームによって試料表面を走査し、試料からの反
射光を回転プリズム体を経て光検出器に入射させている
ので、試料からの反射ビームは検出器上には静止したビ
ームとして入射し、この結果水平同期信号及び垂直同期
信号と光検出器からの出力信号に基いて試料の欠陥情報
及び欠陥のアドレス情報を正確に取り出すことができ
る。
いに平行な光学面を２対以上有する回転プリズム体を回
転させることにより光軸に平行で光軸からの距離が時間
と共に変化する光ビームを出射させているので、大型化
することなく簡単な構成で、試料表面を平行ビームで走
査することができる。また、回転プリズム体から出射す
る平行ビームによって試料表面を走査し、試料からの反
射光を回転プリズム体を経て光検出器に入射させている
ので、試料からの反射ビームは検出器上には静止したビ
ームとして入射し、この結果水平同期信号及び垂直同期
信号と光検出器からの出力信号に基いて試料の欠陥情報
及び欠陥のアドレス情報を正確に取り出すことができ
る。
【図１】本発明による欠陥検査装置の一例を示す線図で
ある。
ある。
【図２】本発明によるビーム偏向装置の一例を示す斜視
図である。
図である。
【図３】ビーム偏向状態を示す模式図である。
【図４】偏向ビームの光軸からの変位量及び水平同期信
号の発生状態を示す線図である。
号の発生状態を示す線図である。
【図５】試料からの反射光による回折パターンを示す線
図である。
図である。
１ 光源 ２ 偏光ビームスプリッタ ３ λ／４板 ４ ビーム偏向装置 ５ 回転プリズム体 ６ ステップモータ ７ 試料 ８ 試料ステージ ９ 遮光マスク 10，13 光検出器 12 信号処理回路 15 水平同期信号発生回路 16 ステージ位置検出センサ 17 垂直同期信号発生回路 18 欠陥検出回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10
Claims (2)
- 【請求項１】光ビームを発生する光源と、 互いに対向する平行な光学面を２対以上有する回転プリ
ズム体及びこの回転プリズム体を光軸と直交する回転軸
線のまわりで回転させる回転駆動装置を有し、前記光源
から発生した光ビームを、光軸に平行で光軸からの距離
が時間と共に変化する光ビームとして出射させ、検査す
べきカラーフィルタの表面に垂直に投射するビーム偏向
装置と、 前記光源とビーム偏向装置との間の光路中に配置したビ
ームスプリッタと、 カラーフィルタの表面からの反射光を受光する光検出器
と、 前記光検出器とビームスプリッタとの間の光路中に配置
され、カラーフィルタによる回折光を遮光する遮光マス
クとを具え、 前記カラーフィルタの表面からの反射光を前記ビーム偏
向装置、ビームスプリッタ及び遮光マスクを介して前記
光検出器に入射させ、光検出器からの出力信号に基づい
てカラーフィルタの表面に存在する欠陥を検出すること
を特徴とするカラーフィルタの欠陥検査装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のカラーフィルタの欠陥
検査装置において、前記光源から放射され、前記回転プ
リズム体の２個の隣接する光学面が互いに交差するエッ
ジ部で反射した光を受光する別の光検出器を設け、この
光検出器の出力信号を信号処理して同期信号を発生させ
ることを特徴とするカラーフィルタの欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05052408A JP3091803B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | カラーフィルタの欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05052408A JP3091803B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | カラーフィルタの欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06265811A JPH06265811A (ja) | 1994-09-22 |
| JP3091803B2 true JP3091803B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=12913968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05052408A Expired - Lifetime JP3091803B2 (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | カラーフィルタの欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3091803B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2504335A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Toppan Printing Co., Ltd. | Apparatus of wiring pattern, inspection method, detection apparatus, detection method |
| KR101436574B1 (ko) * | 2013-01-23 | 2014-09-01 | (주) 인텍플러스 | Ｌｅｄ 백라이트 유닛의 검사장치 및 방법 |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP05052408A patent/JP3091803B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06265811A (ja) | 1994-09-22 |
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