JP3066286B2 - Method for producing pyridonecarboxylic acid derivative - Google Patents

Method for producing pyridonecarboxylic acid derivative

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JP3066286B2
JP3066286B2 JP7102298A JP10229895A JP3066286B2 JP 3066286 B2 JP3066286 B2 JP 3066286B2 JP 7102298 A JP7102298 A JP 7102298A JP 10229895 A JP10229895 A JP 10229895A JP 3066286 B2 JP3066286 B2 JP 3066286B2
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ヒョン ソク イム
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は抗菌剤として有用なピリ
ドンカルボン酸誘導体の新規な製造方法に関するもので
ある。より具体的には、本発明はピリドベンズオキサジ
ン、ピリドベンゾチアジン又はピリドキノキサリンの1
0位にアミノ−置換されたシクロアルキルグループを有
する下記の一般式(I)で表示されるピリドンカルボン
酸誘導体及びこれらの塩の新規な製造方法に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel method for producing a pyridonecarboxylic acid derivative useful as an antibacterial agent. More specifically, the invention relates to pyridobenzoxazines, pyridobenzothiazines or pyridoquinoxalines.
The present invention relates to a novel method for producing pyridonecarboxylic acid derivatives represented by the following general formula (I) having an amino-substituted cycloalkyl group at the 0-position, and salts thereof.

【0002】[0002]

【化12】 [式中、R1は水素原子又はカルボキシル保護基を示
し;R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護基を有していてもよいヒドロキシル基、保護基を有し
ていてもよいアミノ基、保護基を有していてもよい低級
アルキルアミノ基、又はジ−低級アルキルアミノ基を示
し;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ−低級
アルキル基、保護基を有していてもよいヒドロキシ−低
級アルキル基又は低級アルキリデン基を示し、又はR4
は結合している炭素原子とともにシクロアルカン環を形
成し;Xはハロゲン原子を示し;Aは酸素又は硫黄原子
又はN−B(ここでBは水素原子又は低級アルキル基を
示す)の基を示し;nは1乃至4の整数を示す。]ま
た、本発明は上記製造方法において使用する中間体に関
するものである。
Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group optionally having a protecting group, an amino group optionally having a protecting group. R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, or a protective group; Represents a good hydroxy-lower alkyl or lower alkylidene group, or R 4
X forms a cycloalkane ring together with the carbon atom to which it is attached; X denotes a halogen atom; A denotes an oxygen or sulfur atom or NB (where B denotes a hydrogen atom or a lower alkyl group) N represents an integer of 1 to 4. The present invention also relates to an intermediate used in the above production method.

【0003】[0003]

【従来の技術】上記一般式(I)の化合物又はその塩は
既に大韓民国特許公報第91−5833号(1991.
8.5)、特開平2−28187号(1990.1.3
0)、米国特許第4,990,508号(1991.
2.5)等に記載されている公知化合物である。これら
の化合物はグラム陽性菌のみならず、緑膿菌を包含する
グラム陰性菌に対しても強力な抗菌活性を有するので抗
菌剤として優れており、更に経口又は非経口的に投与し
た時、高血中濃度を有する安定性のある化合物である。
2. Description of the Related Art The compound of the formula (I) or a salt thereof has already been disclosed in Korean Patent Publication No. 91-5833 (1991.
8.5), JP-A-2-28187 (1990.1.3)
0), U.S. Pat. No. 4,990,508 (1991.
Known compounds described in 2.5). Since these compounds have strong antibacterial activity not only against gram-positive bacteria but also against gram-negative bacteria including Pseudomonas aeruginosa, they are excellent as antibacterial agents. It is a stable compound with a blood concentration.

【0004】このような一般式(I)の化合物の製造方
法は上記の公知の特許文献に詳細に記述されているが、
これらの文献に記載された従来の製造方法は例えば次の
ような反応図式によって示される。
The method for producing such a compound of the general formula (I) is described in detail in the above-mentioned known patent documents,
The conventional production methods described in these documents are shown, for example, by the following reaction scheme.

【0005】[0005]

【化13】 [上記反応図式中、R1、R4、A及びXは上記において
定義した通りであり、R3は水素原子、低級アルキル
基、保護基を有していてもよいアミノ基、保護基を有し
ていてもよい低級アルキルアミノ基、ジ−低級アルキル
アミノ基、保護基を有していてもよいカルボキシル基、
保護基を有していてもよいアミノ−低級アルキル基、保
護基を有していてもよい低級アルキルアミノ−低級アル
キル基、ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキル基、又
は保護基を有していてもよいヒドロキシ−低級アルキル
基を示し、R1aはカルボキシル保護基を示し、R2aは水
素原子又はハロゲン原子を示し、R2bはアルコキシ基又
は保護基を有していてもよいヒドロキシル基を示し、R
2cは保護基を有していてもよいアミノ基、保護基を有し
ていてもよい低級アルキルアミノ基又はジ−低級アルキ
ルアミノ基を示し、R5は水素原子又はアミノ保護基を
示す。]上記反応図式で見るように、従来技術の方法に
よれば、一般式(I)の化合物は先ず一般式(II)の化
合物又はその塩をケト−エステル化させ一般式(III)
の化合物又はその塩を得て;生成された一般式(III)
の化合物又はその塩を酢酸無水物中でメチル又はエチル
オルトホルメートと反応させた後、生成物を一般式(I
V)の化合物又はその塩と反応させたり、又は一般式(I
II)の化合物又はその塩をN,N−ジメチルホルムアミ
ド−ジメチルアセタル又はジエチルアセタルのようなア
セタルと反応させ、生成物を一般式(IV)の化合物又は
その塩と反応させて一般式(V)の化合物又はその塩を
製造し、生成された一般式(V)の化合物又はその塩を
金属フルオライド又は塩基の存在又は不存在下で閉環さ
せて一般式(VI)の化合物又はその塩を得た後;一般式
(VI)の化合物又はその塩を金属フルオライド又は塩基
の存在又は不在下で閉環させて一般式(Ia)の化合物
又はその塩を得るか;又はR2aがハロゲン原子である一
般式(Ia)の化合物又はその塩を塩基の存在又は不在
下で一般式(VII)のアルコール又はその塩と反応させ
て一般式(Ib)の化合物又はその塩を得るか;又はR
2aがハロゲン原子である一般式(Ia)の化合物又はそ
の塩を塩基の存在又は不在下で一般式(VIII)のアミン
又はその塩と反応させて一般式(Ic)の化合物又はそ
の塩を得る方法によって製造される。
Embedded image [In the above reaction scheme, R 1 , R 4 , A and X are as defined above, and R 3 has a hydrogen atom, a lower alkyl group, an amino group which may have a protecting group, and a protecting group. Optionally a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, a carboxyl group optionally having a protecting group,
An amino-lower alkyl group optionally having a protecting group, a lower alkylamino-lower alkyl group optionally having a protecting group, a di-lower alkylamino-lower alkyl group, or a group having a protecting group; A hydroxy-lower alkyl group; R 1a represents a carboxyl protecting group; R 2a represents a hydrogen atom or a halogen atom; R 2b represents an alkoxy group or a hydroxyl group optionally having a protecting group; R
2c is a protective amino group which may have a group which may have a protecting group lower alkylamino group or a di - a lower alkyl amino group, R 5 represents a hydrogen atom or an amino protecting group. As shown in the above reaction scheme, according to the prior art method, the compound of the general formula (I) is first keto-esterified with a compound of the general formula (II) or a salt thereof to obtain a compound of the general formula (III)
Or a salt thereof; the resulting general formula (III)
Is reacted with methyl or ethyl orthoformate in acetic anhydride, and the product is reacted with a compound of the general formula (I
V) with a compound of the formula (I)
Reacting the compound of the formula II) or a salt thereof with an acetal such as N, N-dimethylformamide-dimethylacetal or diethylacetal, and reacting the product with the compound of the general formula (IV) or a salt thereof to obtain a compound of the general formula (IV) V) The compound of the general formula (VI) or a salt thereof is produced, and the resulting compound of the general formula (V) or a salt thereof is ring-closed in the presence or absence of a metal fluoride or a base to give a compound of the general formula (VI) or a salt thereof. After the compound is obtained; the compound of the general formula (VI) or a salt thereof is subjected to ring closure in the presence or absence of a metal fluoride or a base to obtain the compound of the general formula (Ia) or a salt thereof; or R 2a is a halogen atom Reacting a compound of general formula (Ia) or a salt thereof with an alcohol of general formula (VII) or a salt thereof in the presence or absence of a base to obtain a compound of general formula (Ib) or a salt thereof;
Reacting a compound of the formula (Ia) wherein 2a is a halogen atom or a salt thereof with an amine of the formula (VIII) or a salt thereof in the presence or absence of a base to obtain a compound of the formula (Ic) or a salt thereof Manufactured by the method.

【0006】一方、上記言及したような従来技術の方法
において一般式(I)の化合物又はその塩を製造する出
発物質として使用される一般式(II)の化合物又はその
塩は次のような方法で合成することができる。
On the other hand, the compound of the general formula (II) or a salt thereof used as a starting material for producing the compound of the general formula (I) or a salt thereof in the above-mentioned prior art method is as follows. Can be synthesized.

【0007】[0007]

【化14】 [上記反応図式中、R1、R1a、R2a及びXは上記で定
義した通りであり、R1bはカルボキシル基を示し、R3a
は水素原子又は保護基を有していてもよいアミノ基、保
護基を有していてもよい低級アルキルアミノ基、ジ−低
級アルキルアミノ基、保護基を有していてもよいアミノ
低級アルキル基、保護基を有していてもよい低級アルキ
ルアミノ−低級アルキル基、ジ−低級アルキルアミノ−
低級アルキル基、又は保護基を有していてもよいヒドロ
キシ−低級アルキル基を示し、R3bは低級アルキル基を
示し、R3cは水素原子又は低級アルキル基を示す。]
Embedded image [In the above reaction scheme, R 1 , R 1a , R 2a and X are as defined above, R 1b represents a carboxyl group, and R 3a
Is a hydrogen atom or an amino group optionally having a protecting group, a lower alkylamino group optionally having a protecting group, a di-lower alkylamino group, an amino lower alkyl group optionally having a protecting group A lower alkylamino-lower alkyl group optionally having a protecting group, a di-lower alkylamino-
It represents a lower alkyl group or a hydroxy-lower alkyl group which may have a protecting group, R 3b represents a lower alkyl group, and R 3c represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ]

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記反応図式にて見る
ように、一般式(I)の化合物を製造する先行技術の方
法は複雑な多段階の工程からなっているので時間や製造
経費が多くかかり、更に先行技術の方法において出発物
質として使用される一般式(II)の化合物も非常に複雑
な工程によって製造されるので工業的に好ましい方法と
言えず、改良の余地があった。
As can be seen from the above reaction scheme, the prior art methods for preparing compounds of general formula (I) involve complex multi-step steps which require a large amount of time and production costs. In addition, the compound of the general formula (II) used as a starting material in the prior art method is not industrially preferable since it is produced by a very complicated process, and there is room for improvement.

【0009】故に、本発明者等は先行技術の方法のよう
な複雑な工程を経なくても簡単で経済的な方法で一般式
(I)の化合物を製造することができる方法を開発すべ
く広範囲な研究を行い、その結果後述する新規で簡単な
方法によって上記の目的を達成することができることを
見い出し、本発明を完成するに至った。
Accordingly, the present inventors have developed a method which can produce the compounds of the general formula (I) in a simple and economical manner without going through complicated steps as in the prior art methods. After extensive research, they have found that the above objects can be achieved by a new and simple method described later, and have completed the present invention.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】したがって、本発明の目
的は下記一般式(XXV)の化合物又はその塩からZが
シアノである場合には酸化させた後にホフマン転位反応
を行い、Zがニトロである場合には還元させることを特
徴とする、一般式(I)のピリドンカルボン酸誘導体及
びその塩を製造する新規な方法を提供するものである。
Accordingly, an object of the present invention is to oxidize a compound of the following general formula (XXV) or a salt thereof when Z is cyano, and then to carry out a Hoffmann rearrangement reaction, wherein Z is nitro. An object of the present invention is to provide a novel method for producing a pyridonecarboxylic acid derivative of the general formula (I) and a salt thereof, which is characterized by reduction in some cases.

【0011】[0011]

【化15】 [式中、R1は水素原子又はカルボキシル保護基を示
し;R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護基を有していてもよいヒドロキシル基、保護基を有し
ていてもよいアミノ基、保護基を有していてもよい低級
アルキルアミノ基、又はジ−低級アルキルアミノ基を示
し;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ−低級
アルキル基、保護基を有していてもよいヒドロキシ−低
級アルキル基又は低級アルキリデン基を示し、又はR4
は結合している炭素原子とともにシクロアルカン環を形
成し;Xはハロゲン原子を示し;Aは酸素又は硫黄原子
又はN−B(ここでBは水素原子又は低級アルキル基を
示す)の基を示し;nは1乃至4の整数を示す。]本明
細書中で他に異なる記載がない限り、用語“ハロゲン原
子”は、フッ素原子、塩素原子、ブロム原子及びヨード
原子を含み;用語“アルキル基”とはメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、オクチル等のC1-10アルキル基を意味し;用語
“低級アルキル基”とは上述したアルキル基中でC1-5
アルキル基を意味し;用語“アルコキシ基”とはO−ア
ルキル基(ここでアルキル基はC1-10アルキル基であ
る)を意味し;用語”低級アルキルアミノ基”とはメチ
ルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ等のC1-5
ルキルアミノ基を意味し;用語“ジ−低級アルキル基”
とはジメチルアミノ等のジ−C1-5アルキルアミノ基を
意味し;用語“アミノ−低級アルキル基”とはアミノメ
チル、アミノエチル、アミノプロピル等のアミノ−C
1-5アルキル基を意味し;用語“低級アルキルアミノ−
低級アルキル基”とはメチルアミノメチル、メチルアミ
ノエチル、エチルアミノメチル、メチルアミノプロピ
ル、プロピルアミノエチル等のC1-5アルキルアミノ−
1-5アルキル基を意味し;用語“ジ−低級アルキルア
ミノ−低級アルキル基”とはジメチルアミノメチル、ジ
エチルアミノメチル、ジエチルアミノエチル、ジメチル
アミノプロピル等のジ−C1-5アルキルアミノ−C1-5
ルキル基を意味し;用語“ヒドロキシ−低級アルキル
基”とはヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロ
キシプロピル等のヒドロキシ−C1-5アルキル基を意味
し;用語“ハロゲノ−低級アルキル基”とはクロロメチ
ル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ
ル、クロロエチル、トリクロロエチル、クロロプロピル
等のハロゲノ−C1-5アルキル基を意味し;用語“低級
アルキリデン基”とはメチレン、エチレン、プロピリデ
ン、イソプロピリデン等のC1-5アルキリデンを意味
し;用語“シクロアルカン環”とはシクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等のC
3-7シクロアルカン環を意味する。
Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group optionally having a protecting group, an amino group optionally having a protecting group. R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, or a protective group; Represents a good hydroxy-lower alkyl or lower alkylidene group, or R 4
X forms a cycloalkane ring together with the carbon atom to which it is attached; X denotes a halogen atom; A denotes an oxygen or sulfur atom or NB (where B denotes a hydrogen atom or a lower alkyl group) N represents an integer of 1 to 4. Unless otherwise stated herein, the term “halogen” includes fluorine, chlorine, bromide and iodine; the term “alkyl” includes methyl, ethyl,
a C 1-10 alkyl group such as n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, octyl and the like; the term “lower alkyl group” means any of the above alkyl groups And C 1-5
The term "alkoxy group" means an O-alkyl group (where the alkyl group is a C1-10 alkyl group); the term "lower alkylamino group" means methylamino, ethylamino Means a C 1-5 alkylamino group such as, propylamino; the term “di-lower alkyl group”
Means a di-C 1-5 alkylamino group such as dimethylamino; the term “amino-lower alkyl group” means amino-C 1 such as aminomethyl, aminoethyl, aminopropyl and the like.
1-5 alkyl group; the term "lower alkylamino-
Methylaminomethyl The lower alkyl group ", methylaminoethyl, ethylaminomethyl, methylaminopropyl, C 1-5 alkylamino such as propyl aminoethyl -
Refers to C 1-5 alkyl group; the term dimethylaminomethyl the "di - - lower alkylamino-lower alkyl group", diethylaminomethyl, diethylaminoethyl, di -C 1-5 alkylamino -C 1 such as dimethylaminopropyl The term "hydroxy-lower alkyl group" means a hydroxy-C 1-5 alkyl group such as hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl; the term "halogeno-lower alkyl group" A halogeno-C 1-5 alkyl group such as chloromethyl, bromomethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, chloroethyl, trichloroethyl, chloropropyl and the like; the term “lower alkylidene group” means methylene, ethylene, propylidene, isopropylidene and the like means C 1-5 alkylidene; term "cycloalkane ring" Cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, C and cyclohexane
3-7 means a cycloalkane ring.

【0012】一般式(I)で表示される化合物又はその
塩の置換体中でR1に対する定義中、カルボキシル−保
護基は例えば触媒的還元、化学的還元又はその他温和な
条件下での処理によって除去することができるエステル
形成基;生体内で容易に除去することができるエステル
形成基;水又はアルコールで処理することにより容易に
除去することができる有機シリル−含有基、有機燐−含
有基及び酒石酸−含有基;及び特開昭59−80665
号に記載され、よく知られている各種のエステル形成基
を包含する。
In the definition for R 1 in substituted compounds of the compounds of the general formula (I) or their salts, the carboxyl-protecting group is, for example, by catalytic reduction, chemical reduction or other treatment under mild conditions. Ester-forming groups that can be removed; ester-forming groups that can be easily removed in vivo; organic silyl-containing groups, organic phosphorus-containing groups that can be easily removed by treatment with water or alcohol; Tartaric acid-containing groups; and JP-A-59-80665
And various well-known ester-forming groups.

【0013】R2の定義でアミノ基及び低級アルキルア
ミノ基に対する保護基はホルミル、アセチル、ベンジル
及び特開昭59−80665号に記述されたその他の公
知のアミノ保護基のように当該分野において通常に使用
されるものである。
In the definition of R 2 , protecting groups for amino groups and lower alkylamino groups are commonly used in the art such as formyl, acetyl, benzyl and other known amino protecting groups described in JP-A-59-80665. It is used for

【0014】R2及びR4の定義でヒドロキシル基及びヒ
ドロキシ−低級アルキル基に対する保護基は当該分野で
通常に使用されるもの、例えば、水又はアルコールで容
易に除去することができる有機シリル基、ホルミル基、
アセチル基、ベンジル基等のように特開昭59−806
65号に記述された公知のヒドロキシル−保護基を包含
する。
Protecting groups for hydroxyl and hydroxy-lower alkyl groups in the definition of R 2 and R 4 are those commonly used in the art, for example, organic silyl groups which can be easily removed with water or alcohol, Formyl group,
JP-A-59-806, such as acetyl group and benzyl group;
Includes the known hydroxyl-protecting groups described in No. 65.

【0015】一般式(I)で表示された化合物の塩はア
ミノ基等のような塩基性基部位及びヒドロキシ基、カル
ボキシル基等のような酸性基部位において形成される慣
用的な塩を包含する。塩基性基部位において形成される
塩は慣用的な酸付加塩として、例えば、塩酸、臭化水素
酸、硫酸等のような無機酸付加塩;酒石酸、ギ酸、クエ
ン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機カル
ボン酸付加塩、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、
ナフタレンスルホン酸等のスルホン酸付加塩を含む。酸
性基部位において形成される塩は慣用的な塩基付加塩、
例えば、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩;カ
ルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属塩;アン
モニウム塩;及びトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルア
ニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリ
ン、ジエチルアミン、ジサイクロヘキシルアミン、プロ
カイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−ペネチ
ルアミン、1−エペンアミン、N,N’−ジベンジルエ
チレンジアミン等のような窒素含有有機塩基付加塩を含
むことができる。
The salts of the compounds represented by the general formula (I) include conventional salts formed at basic groups such as amino groups and acidic groups such as hydroxy groups and carboxyl groups. . The salt formed at the basic group site is a conventional acid addition salt, for example, an inorganic acid addition salt such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid and the like; tartaric acid, formic acid, citric acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid Organic carboxylic acid addition salts such as, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid,
Includes sulfonic acid addition salts such as naphthalenesulfonic acid. Salts formed at acidic sites are conventional base addition salts,
For example, alkali metal salts such as sodium and potassium; alkaline earth metal salts such as calcium and magnesium; ammonium salts; and trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline, N-methylpiperidine, N-methyl Nitrogen-containing organic base addition salts such as morpholine, diethylamine, dicyclohexylamine, procaine, dibenzylamine, N-benzyl-β-pentylamine, 1-epenamine, N, N′-dibenzylethylenediamine and the like can be included. .

【0016】一般式(I)の化合物及びその塩は異性
体、例えば光学異性体、幾何異性体、互変異性体等の形
態で存在することができる。したがって、本発明によっ
て製造される目的化合物には一般式(I)の化合物及び
その塩のみならずその異性体、結晶形、溶媒和物及び水
和物の全てを包含するものであると理解されるべきであ
る。
The compounds of the general formula (I) and salts thereof can exist in the form of isomers, for example, optical isomers, geometric isomers, tautomers and the like. Therefore, it is understood that the target compound produced by the present invention includes not only the compound of the general formula (I) and a salt thereof but also all isomers, crystal forms, solvates and hydrates thereof. Should be.

【0017】より具体的には、本発明は一般式(XX)
の化合物又はその塩を一般式(XXI)の化合物の金属
塩と反応させ一般式(XXII)の化合物又はその塩を製
造し;生成した一般式(XXII)の化合物又はその塩を
加水分解及び脱カルボキシル化させることによって一般
式(XXIII)の化合物又はその塩を製造し;生成した
一般式(XXIII)の化合物又はその塩を一般式(XXI
V)の化合物又はその塩と反応させ閉環させることによ
って一般式(XXV)の化合物又はその塩を製造し;Z
がニトロである一般式(XXV)の化合物又はその塩を
還元させ一般式(I)の化合物又はその塩を製造する
か、Zがシアノである一般式(XXV)の化合物又はそ
の塩を酸化させ一般式(XXVI)の化合物又はその塩を
製造した後周知のホフマン転位反応(Hofmann
rearrangement)によって一般式(I)の
化合物又はその塩に転換させることを特徴とする一般式
(I)の化合物又はその塩を製造する方法に関するもの
である。上述した本発明の方法は次のような反応図式に
示すことができる。
More specifically, the present invention relates to a compound of the formula (XX)
Is reacted with a metal salt of the compound of the general formula (XXI) to produce a compound of the general formula (XXII) or a salt thereof; and the resulting compound of the general formula (XXII) or a salt thereof is hydrolyzed and dehydrated. A compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof is produced by carboxylation; the resulting compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof is converted to a compound of the general formula (XXI)
Reacting with a compound of formula V) or a salt thereof to effect ring closure to produce a compound of formula (XXV) or a salt thereof; Z
Reducing the compound of the general formula (XXV) or a salt thereof to produce a compound of the general formula (I) or a salt thereof, or oxidizing the compound of the general formula (XXV) or a salt thereof wherein Z is cyano After preparing the compound of the general formula (XXVI) or a salt thereof, a well-known Hoffmann rearrangement reaction (Hofmann) is performed.
The present invention relates to a method for producing a compound of the general formula (I) or a salt thereof, which comprises converting the compound to a compound of the general formula (I) or a salt thereof by rearrangement. The above-described method of the present invention can be represented by the following reaction scheme.

【0018】[0018]

【化16】 [反応図式中、R1、R2、R4、A、X及びnは上記で
定義した通りであり、Wはハロゲン又は活性メチレンの
ような金属塩(又は陰イオン)によって容易に除去可能
な基を示し;Yは水素原子、低級アルキル基又はカルボ
キシル−保護基を示し;Zはシアノ基又はニトロ基を示
す。]本発明の製造方法をより詳細に説明すれば次の通
りである。
Embedded image [In the reaction scheme, R 1 , R 2 , R 4 , A, X and n are as defined above, and W is easily removable by a metal salt (or anion) such as halogen or active methylene. Y represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a carboxyl-protecting group; Z represents a cyano group or a nitro group. The production method of the present invention will be described in more detail as follows.

【0019】本発明の製造方法で使用される出発物質で
ある一般式(XX)の化合物又はその塩は文献[J.M
ed.Chem.1987,Vo1.30,2283−
2286]に記載されている化合物であって、この文献
には更にその製造方法が詳細に記述されている。
The compound of the general formula (XX) or a salt thereof, which is a starting material used in the production method of the present invention, is described in the literature [J. M
ed. Chem. 1987, Vo1.30, 2283-.
2286], and this document further describes the production method thereof in detail.

【0020】本発明の方法の第1段階においては一般式
(XX)の化合物又はその塩を一般式(XXI)の化合
物の金属塩と反応させて一般式(XXII)の化合物又は
その塩を製造する。
In the first step of the process of the present invention, the compound of the general formula (XXII) or a salt thereof is reacted with a metal salt of the compound of the general formula (XXI) to produce a compound of the general formula (XXII) or a salt thereof. I do.

【0021】第1段階の反応は望ましくは溶媒の存在下
に行うことができ、このような目的で使用することがで
きる溶媒は反応に直接参与しない全ての溶媒を含むこと
ができる。望ましい溶媒の例としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル、メチレンクロライ
ド、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン炭化水
素溶媒、及びN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド等のアミド溶媒を挙げることがで
き、これらの溶媒中のいずれか一つを単独で又は二種以
上の溶媒を混合物として使用することができる。第1段
階の反応で使用する一般式(XXI)の化合物の金属塩
はそれ自体を使用してもよいが、遊離化合物(XXI)
を金属化合物と反応させ同一反応系内で当該金属塩を製
造して使用することもできる。この反応で一般式(XX
I)の化合物の金属塩は一般式(XX)の化合物又はそ
の塩のモル当たり少なくとも1モル、望ましくは1乃至
4モルの割合で使用する。この反応は一般に−10℃乃
至100℃の温度で30分乃至20時間行う。
The reaction of the first stage can be carried out preferably in the presence of a solvent, and the solvent that can be used for such a purpose can include all solvents that do not directly participate in the reaction. Examples of desirable solvents include benzene, toluene, aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, dioxane,
Ethers such as tetrahydrofuran, halogen hydrocarbon solvents such as methylene chloride, chloroform, dichloroethane, and N, N-dimethylformamide, N, N-
Amide solvents such as dimethylacetamide can be mentioned, and any one of these solvents can be used alone or as a mixture of two or more solvents. The metal salt of the compound of the general formula (XXI) used in the reaction of the first step may be used as such, but the free compound (XXI)
Is reacted with a metal compound to produce and use the metal salt in the same reaction system. In this reaction, the compound represented by the general formula (XX)
The metal salt of the compound (I) is used in an amount of at least 1 mole, preferably 1 to 4 moles, per mole of the compound of the formula (XX) or a salt thereof. This reaction is generally performed at a temperature of -10 ° C to 100 ° C for 30 minutes to 20 hours.

【0022】本発明に従う方法の第1段階反応から得ら
れる一般式(XXII)の化合物又はその塩は新規の化合
物であり、従ってこれらも本発明の対象になる。
The compounds of the general formula (XXII) or the salts thereof obtained from the first-stage reaction of the process according to the invention are novel compounds and are therefore also covered by the invention.

【0023】本発明に従う方法の第2段階では上記第1
段階から得られた一般式(XXII)の化合物又はその塩
に対し、加水分解及び脱炭酸反応を行うことによって一
般式(XXIII)の化合物又はその塩を製造する。
In the second stage of the method according to the invention, the first
The compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof is produced by subjecting the compound of the general formula (XXII) or the salt thereof obtained from the step to hydrolysis and decarboxylation.

【0024】このような目的の為には一般に酸加水分解
方法が利用される。酸加水分解を行う場合に利用できる
酸は慣用的な有機酸又は無機酸であり、例えば有機酸と
してはギ酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸、トリフル
オロ酢酸、メタンスルホン酸等が使用することができ、
無機酸としては硫酸又は塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素
酸等のようなハロゲン化水素酸等が使用できる。
For such purpose, an acid hydrolysis method is generally used. Acids that can be used when performing acid hydrolysis are conventional organic acids or inorganic acids.For example, as the organic acid, formic acid, acetic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or the like can be used. Can,
As the inorganic acid, sulfuric acid or hydrohalic acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid and the like can be used.

【0025】該反応で使用される酸は水と混合して一般
式(XXII)の化合物又はその塩のモル当たり、少なく
とも1モル、望ましくは1乃至10モルの比率で使用す
る。この反応は通常に室温乃至還流温度で5分乃至72
時間、望ましくは3時間乃至70時間行う。
The acid used in the reaction is mixed with water and used at a ratio of at least 1 mol, preferably 1 to 10 mol, per mol of the compound of the formula (XXII) or a salt thereof. The reaction is usually performed at room temperature to reflux temperature for 5 minutes to 72 minutes.
This is performed for a time, preferably 3 to 70 hours.

【0026】本発明に従う方法の第2段階反応から得ら
れる一般式(XXIII)の化合物又はその塩も新規の化
合物である。従って、この化合物(XXIII)も本発明
の対象に含まれる。
The compounds of the general formula (XXIII) or the salts thereof obtained from the second stage reaction of the process according to the invention are also novel compounds. Therefore, this compound (XXIII) is also included in the subject of the present invention.

【0027】本発明に従う方法の第3段階では上記で得
られた一般式(XXIII)の化合物又はその塩を閉環さ
せることによって一般式(XXV)の化合物又はその塩
を製造する。該閉環反応においては一般式(XXIII)
の化合物又はその塩をアルカリ水溶液中で相転移触媒
(PTC)を使用して一般式(XXIV)の化合物又はそ
の塩と反応させることによって一般式(XXV)の化合
物又はその塩を得る。該反応に使用することができるア
ルカリ水溶液には例えばNaOH,KOH,Ca(O
H)2,Na2CO3,NaHCO3,K2CO3等のような
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩
又は重炭酸塩等の水溶液が包含される。
In the third step of the process according to the present invention, the compound of the general formula (XXV) or a salt thereof is prepared by cyclizing the compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof obtained above. In the ring closure reaction, the compound represented by the general formula (XXIII)
Is reacted with a compound of the general formula (XXIV) or a salt thereof in an aqueous alkaline solution using a phase transfer catalyst (PTC) to obtain a compound of the general formula (XXV) or a salt thereof. The alkaline aqueous solution that can be used for the reaction includes, for example, NaOH, KOH, Ca (O
H) 2, Na 2 CO 3 , NaHCO 3, K 2 CO 3 alkali metal or alkaline earth metal hydroxides, such as, an aqueous solution such as a carbonate or bicarbonate and the like.

【0028】本反応で使用する反応物である一般式(X
XIV)の化合物は公知の化合物として市販品を容易に利
用することができる。使用できる化合物(XXIV)の例
としてはジブロモエタン、ジクロロエタン又はジヨード
エタン等のようなジハロゲノアルカン化合物又は対応す
るアルコキシアルカン又はスルホキシアルカン化合物を
挙げることができる。
The reactant used in this reaction is represented by the general formula (X)
As the compound of XIV), a commercially available product can be easily used as a known compound. Examples of compounds (XXIV) that can be used include dihalogenoalkane compounds such as dibromoethane, dichloroethane or diiodoethane or the corresponding alkoxyalkane or sulfoxyalkane compounds.

【0029】使用できる相転移触媒(PTC)の例とし
てはトリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリ
エチルベンジルアンモニウムクロライド等を挙げること
ができる。
Examples of usable phase transfer catalysts (PTC) include triethylbenzylammonium bromide, triethylbenzylammonium chloride and the like.

【0030】該閉環反応において一般式(XXIII)の
化合物又はその塩のモル当たり、一般式(XXIV)の化
合物又はその塩は一般に1乃至5モル、望ましくは1乃
至3モルの比で使用し、PTC触媒は1モル乃至5モ
ル、望ましくは1モル乃至3モルの比で使用する。
In the ring closure reaction, the compound of the general formula (XXIV) or a salt thereof is generally used in a ratio of 1 to 5 mol, preferably 1 to 3 mol, per mol of the compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof, The PTC catalyst is used in a ratio of 1 mol to 5 mol, preferably 1 mol to 3 mol.

【0031】該反応は一般に0乃至100℃、望ましく
は0乃至50℃の温度で1乃至24時間、望ましくは5
乃至12時間行う。
The reaction is generally carried out at a temperature of 0 to 100 ° C., preferably 0 to 50 ° C., for 1 to 24 hours, preferably 5 to 50 hours.
For 12 to 12 hours.

【0032】本発明に従う方法の第3段階反応から得ら
れる一般式(XXV)の化合物又はその塩も更に本発明
以前に知られていない新規な化合物であり、従って本発
明の範囲に含まれる化合物である。
The compounds of the general formula (XXV) or the salts thereof obtained from the third step reaction of the process according to the invention are further novel compounds which are not known before the present invention and are therefore included in the scope of the present invention It is.

【0033】本発明に従う方法の第4段階反応において
は一般式(XXV)の化合物又はその塩から次のような
方法によって一般式(I)の目的とする化合物を製造す
る。 i)Zがシアノ基である場合:一般式(XXV)におい
てZがシアノ基である場合には、先ず一般式(XXV)
の化合物又はその塩を濃硫酸のような無機酸を使用して
慣用的な方法によって酸化することによって一般式(X
XVI)の化合物又はその塩のようなアミド基を有する化
合物を合成した後、公知のホフマン転位反応によって一
般式(I)の化合物又はその塩に転換させることができ
る。
In the fourth step of the process according to the present invention, the desired compound of the general formula (I) is produced from the compound of the general formula (XXV) or a salt thereof by the following method. i) When Z is a cyano group: When Z is a cyano group in the general formula (XXV), firstly, when Z is a cyano group, the general formula (XXV)
By oxidation of a compound of formula (I) or a salt thereof by a conventional method using an inorganic acid such as concentrated sulfuric acid.
After synthesizing a compound having an amide group, such as the compound of the formula XVI) or a salt thereof, the compound can be converted to the compound of the general formula (I) or a salt thereof by a known Hoffman rearrangement reaction.

【0034】一般式(XXV)の化合物又はその塩の酸
化反応は望ましくは硫酸、塩酸等の無機酸を使用して0
乃至100℃、望ましくは室温乃至70℃の温度で1乃
至24時間、望ましくは1乃至12時間行う。この反応
において酸は一般に一般式(XXV)の化合物に対し1
乃至5モル、望ましくは1乃至3モルの比で使用する。
The oxidation reaction of the compound of the formula (XXV) or a salt thereof is preferably carried out using an inorganic acid such as sulfuric acid or hydrochloric acid.
C. to 100.degree. C., preferably room temperature to 70.degree. C., for 1 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours. In this reaction, the acid is generally 1 to the compound of the general formula (XXV).
To 5 mol, preferably 1 to 3 mol.

【0035】酸化反応によって生成した一般式(XXV
I)の化合物又はその塩はホフマン転位反応によって目
的とする一般式(I)のピリドンカルボン酸誘導体又は
その塩を得る。ホフマン転位反応はアルカリ水溶液中で
フッ素又は塩素を使用するか次亜塩素酸ナトリウム又は
次亜臭素酸ナトリウム水溶液又はナトリウムメトキシド
−フッ素を使用して行うことができる。このようにして
3がアミノ基(−NH2)を示す一般式(I)の目的化
合物及びその塩を得ることができる。このようなホフマ
ン転位反応は一般に0乃至100℃の温度、望ましくは
室温乃至70℃の温度で24時間、望ましくは1乃至1
2時間行う。
The general formula (XXV) formed by the oxidation reaction
The compound of the formula (I) or a salt thereof is subjected to a Hoffman rearrangement reaction to obtain the desired pyridonecarboxylic acid derivative of the general formula (I) or a salt thereof. The Hoffman rearrangement reaction can be carried out using fluorine or chlorine in an aqueous alkali solution, or using an aqueous sodium hypochlorite or sodium hypobromite solution or sodium methoxide-fluorine. Thus, the target compound of the general formula (I) wherein R 3 represents an amino group (—NH 2 ) and a salt thereof can be obtained. Such Hoffmann rearrangement reaction is generally performed at a temperature of 0 to 100 ° C, preferably room temperature to 70 ° C for 24 hours, preferably 1 to 1 hour.
Perform for 2 hours.

【0036】ii)Zがニトロ基である場合:C−10位
置のシクロアルキル環で置換されたニトロ基は化学的還
元剤を使用する直接還元方法又は触媒の存在下で水素に
よって還元させる間接還元方法又は電気的還元方法中の
うちのいずれかを使用して容易に還元させることができ
る。
Ii) When Z is a nitro group: The nitro group substituted by a cycloalkyl ring at the C-10 position is a direct reduction method using a chemical reducing agent or indirect reduction by reducing with hydrogen in the presence of a catalyst. It can be easily reduced using any of the methods or in the electrical reduction method.

【0037】直接還元方法に使用することができる還元
剤としてはアルミニウムアマルガム、鉄、塩化第一クロ
ム、硫酸ナトリウム、三塩化チタン、水素化硼素ナトリ
ウム、水素化アルミニウムリチウム、Zn、SnC
2、Cu、Na2S等が挙げることができ、溶媒はメタ
ノール、エタノール、n−プロピルアルコール又はイソ
プロピルアルコール等のようなアルコール性溶媒、ジメ
チルホルムアミド、ジエチルアセトアミド等の溶媒を単
独で用いても、又は二種以上の溶媒の混合物を用いても
よい。
Examples of the reducing agent that can be used in the direct reduction method include aluminum amalgam, iron, chromic chloride, sodium sulfate, titanium trichloride, sodium borohydride, lithium aluminum hydride, Zn, and SnC.
l 2 , Cu, Na 2 S and the like, and the solvent may be an alcoholic solvent such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol or isopropyl alcohol, or a solvent such as dimethylformamide or diethylacetamide alone. Alternatively, a mixture of two or more solvents may be used.

【0038】間接還元方法は直接還元時に使用されたも
のと同一の溶媒の存在下で触媒として、Pd、Pt
2、PtO2ReS7、CuCr24、ラネーニッケル
等を使用して行う。反応圧力は常圧乃至2000psi
(13790kPa)、望ましくは常圧乃至1000p
si(6895kPa)である。反応温度は室温乃至2
00℃、望ましくは室温乃至100℃である。
The indirect reduction method uses Pd, Pt as a catalyst in the presence of the same solvent as used in the direct reduction.
This is performed using O 2 , PtO 2 ReS 7 , CuCr 2 O 4 , Raney nickel or the like. Reaction pressure is from normal pressure to 2000 psi
(13790 kPa), desirably from normal pressure to 1000p
si (6895 kPa). Reaction temperature is from room temperature to 2
The temperature is 00 ° C, preferably room temperature to 100 ° C.

【0039】触媒の使用量は一般式(XXV)の化合物
又はその塩に対し、触媒量乃至2モル当量、望ましくは
触媒量乃至1モル当量である。
The amount of the catalyst to be used is a catalytic amount to 2 molar equivalents, preferably a catalytic amount to 1 molar equivalent, relative to the compound of the general formula (XXV) or a salt thereof.

【0040】上記の本発明による方法によって製造され
た一般式(I)の化合物及びその塩は必要により慣用的
な精製方法、例えば再結晶化、分別結晶化、クロマトグ
ラフィー等の方法を利用して更に精製することもでき
る。
The compound of the general formula (I) and the salt thereof produced by the above-mentioned method according to the present invention may be used, if necessary, by a conventional purification method such as recrystallization, fractional crystallization, chromatography and the like. It can be further purified.

【0041】本発明の方法によれば目的とする一般式
(I)の化合物又はその塩を先行技術の複雑な多段階方
法に比して遥に簡単で便利な方法によって得られるの
で、本発明の方法は経済的な面においても明白な利点を
有する新規で有用な方法である。
According to the process of the present invention, the desired compound of general formula (I) or a salt thereof can be obtained by a method which is much simpler and more convenient than the complicated multi-stage process of the prior art. Is a new and useful method that has obvious advantages in terms of economy.

【0042】[0042]

【実施例】本発明を以下の実施例によって更に説明する
が、本発明はこれらによって何ら制限されるものではな
い。
The present invention will be further described by the following examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.

【0043】実施例1 (S)−10−(シアノエトキシカルボニルメチル)−
9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒ
ドロ−7H−ピリド[1,2,3−d,e][1,4]
ベンゾオキサジン−6−カルボン酸エチルエステルの製
ジメチルホルムアミド125mlに60%NaH6.4
gを加えて氷浴中で0℃で冷却した。これに93%エチ
ルシアノアセテート32mlを加えて同一温度で30分
間撹拌した。反応混合物に(S)−9,10−ジフルオ
ロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H
−ピリド[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾオキ
サジン−6−カルボン酸エチルエステル12.4gを加
えて徐々に加熱した。50℃で一夜撹拌した後室温で冷
却した。冷水500mlを加えて酢酸でpHを4に調整
した。エチルアセテート300mlを加えて抽出し有機
層を水と飽和食塩水で洗滌した。MgSO4で有機層を
乾燥させ濾過した。減圧下で蒸溜して溶媒を除去し、残
留物にジエチルエーテル300mlを加えて結晶化させ
た。濾過し得られた結晶を乾燥して標題化合物13.7
g(85%)を得た。
Example 1 (S) -10- (cyanoethoxycarbonylmethyl)-
9-fluoro-3-methyl-7-oxo-2,3-dihi
Dro-7H-pyrido [1,2,3-d, e] [1,4]
Preparation of benzoxazine-6-carboxylic acid ethyl ester
60% granulated dimethylformamide 125 ml NaH6.4
g and cooled at 0 ° C. in an ice bath. 32 ml of 93% ethyl cyanoacetate was added thereto, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. (S) -9,10-Difluoro-3-methyl-7-oxo-2,3-dihydro-7H was added to the reaction mixture.
12.4 g of -pyrido [1,2,3-d, e] [1,4] benzoxazine-6-carboxylic acid ethyl ester was added, and the mixture was gradually heated. After stirring at 50 ° C. overnight, the mixture was cooled at room temperature. 500 ml of cold water was added, and the pH was adjusted to 4 with acetic acid. Ethyl acetate (300 ml) was added for extraction, and the organic layer was washed with water and saturated saline. Dry the organic layer over MgSO 4 and filter. The solvent was removed by distillation under reduced pressure, and the residue was crystallized by adding 300 ml of diethyl ether. The crystals obtained by filtration were dried to give the title compound 13.7.
g (85%).

【0044】融点:119−121℃1 H−NMR(CDCl3):δ1.37(d,3H),
1.42(t,3H),1.61(t,3H),4.2
8(q,2H),4.36(q,2H),4.40
(d,1H),4.49(d,1H),5.29(s,
1H),7.82(d,1H),8.41(s,1H) IR(KBr)cm-1:υC≡N 2230 MS m/e :403(M+実施例2 (S)−10−シアノメチル−9−フルオロ−3−メチ
ル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾオキサジン−
6−カルボン酸の製造 ジオキサン110ml及び水20mlに(S)−10−
(シアノエトキシカルボニルメチル)−9−フルオロ−
3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピ
リド[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾオキサジ
ン−6−カルボン酸エチルエステル13.6gを加えて
室温で30分間撹拌した。反応混合物にp−トルエンス
ルホン酸7.3gを加えて加温下で還流させながら70
時間撹拌した後、室温で冷却させ結晶を析出させた。生
成した結晶を濾過して水及びジエチルエーテルで徹底的
に洗滌した後乾燥させ標題化合物8.8g(86.3
%)を得た。
Melting point: 119-121 ° C.1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.37 (d, 3H),
1.42 (t, 3H), 1.61 (t, 3H), 4.2
8 (q, 2H), 4.36 (q, 2H), 4.40
(D, 1H), 4.49 (d, 1H), 5.29 (s,
1H), 7.82 (d, 1H), 8.41 (s, 1H) IR (KBr) cm-1: ΥC≡N 2230 MS m / e: 403 (M+)Example 2 (S) -10-cyanomethyl-9-fluoro-3-methyl
Ru-7-oxo-2,3-dihydro-7H-pyrido
[1,2,3-d, e] [1,4] benzoxazine-
Production of 6-carboxylic acid (S) -10- in 110 ml of dioxane and 20 ml of water
(Cyanoethoxycarbonylmethyl) -9-fluoro-
3-methyl-7-oxo-2,3-dihydro-7H-pi
Lido [1,2,3-d, e] [1,4] benzoxazi
And 13.6 g of ethyl 6-carboxylate
Stirred at room temperature for 30 minutes. Add p-toluene to the reaction mixture
7.3 g of sulfonic acid was added, and 70
After stirring for an hour, the mixture was cooled at room temperature to precipitate crystals. Raw
Filter the formed crystals and thoroughly with water and diethyl ether
8.8 g (86.3) of the title compound.
%).

【0045】融点:231−232℃1 H−NMR(アセトン−d6):δ1.72(d,3
H),4.12(s,2H),4.82(d,1H),
4.76(d,1H),5.15(m,1H),7.8
7(d,1H),8.94(s,1H) IR(KBr)cm-1:υC≡N 2230 MS m/e :302(M+実施例3 (S)−10−(1−シアノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7H−ピリド[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸 水30mlに水酸化ナトリウム13.2gを加えて撹拌
して溶解させた後0℃で冷却した。得られたアルカリ水
溶液にトリエチルベンジルアンモニウムブロマイド4.
4gを加えて室温で温度を上昇させ30分間撹拌した。
これに(S)−10−シアノメチル−9−フルオロ−3
−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリ
ド[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾオキサジン
−6−カルボン酸4.9gを徐々に加えて室温で30分
間撹拌した後、ジブロモエタン8.2gを加えた。反応
混合物を徐々に加温して45℃で2乃至5時間撹拌した
後室温で再度冷却させこの温度で一夜撹拌した。反応混
合物に水130mlを加えて酢酸でpHを5に調整し
た。生成した結晶を濾過してクロロホルム、水、エーテ
ルの順序で良く洗滌した後、乾燥させ標題化合物4.6
g(86%)を得た。 融点:277−279℃1 H−NMR(CDCl3):δ1.42(m,1H),
1.55(s,2H),1.73(d,3H),1.8
5(m,1H),4.45−4.56(m,2H),
4.61(m,1H),7.80(d,1H),8.7
4(s,1H),14.45(bs,1H) IR(KBr)cm-1:υC≡N 2230 MS m/e :328(M+実施例4 (S)−10−(1−アミノカルボニルシクロプロピ
ル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3
−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−d,e]
[1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸の製造 濃硫酸15mlを0℃に冷却して(S)−10−(1−
シアノシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メチル−
7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,
2,3−d,e][1,4]ベンゾオキサジン−6−カ
ルボン酸3.4gを徐々に滴下した。室温で一夜撹拌し
た後0℃で冷却させて反応混合物に水100mlを徐々
に滴下した。生成した結晶を濾過して水及びエーテルで
徹底的に洗滌し乾燥させ標題化合物3.4g(93%)
を得た。
Melting point: 231-232 ° C.1 H-NMR (acetone-d6): Δ 1.72 (d, 3
H), 4.12 (s, 2H), 4.82 (d, 1H),
4.76 (d, 1H), 5.15 (m, 1H), 7.8
7 (d, 1H), 8.94 (s, 1H) IR (KBr) cm-1: {C} N 2230 MS m / e: 302 (M+)Example 3 (S) -10- (1-cyanocyclopropyl) -9-fu
Fluoro-3-methyl-7-oxo-2,3-dihydro-
7H-pyrido [1,2,3-d, e] [1,4] benzo
Oxazine-6-carboxylic acid 13.2 g of sodium hydroxide is added to 30 ml of water and stirred.
Then, the mixture was cooled at 0 ° C. The resulting alkaline water
3. Add triethylbenzylammonium bromide to the solution.
4 g was added, the temperature was raised at room temperature, and the mixture was stirred for 30 minutes.
This is followed by (S) -10-cyanomethyl-9-fluoro-3
-Methyl-7-oxo-2,3-dihydro-7H-pyri
De [1,2,3-d, e] [1,4] benzoxazine
4.9 g of 6-carboxylic acid is gradually added, and the mixture is added at room temperature for 30 minutes.
After stirring, 8.2 g of dibromoethane was added. reaction
The mixture was gradually warmed and stirred at 45 ° C. for 2-5 hours
Thereafter, the mixture was cooled again at room temperature and stirred at this temperature overnight. Reaction mixture
130 ml of water was added to the mixture, and the pH was adjusted to 5 with acetic acid.
Was. The formed crystals are filtered and chloroform, water, ether
After washing thoroughly in the same order as above, drying and drying of the title compound 4.6.
g (86%). Melting point: 277-279 ° C1 H-NMR (CDClThree): Δ 1.42 (m, 1H),
1.55 (s, 2H), 1.73 (d, 3H), 1.8
5 (m, 1H), 4.45-4.56 (m, 2H),
4.61 (m, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.7
4 (s, 1H), 14.45 (bs, 1H) IR (KBr) cm-1: ΥC≡N 2230 MS m / e: 328 (M+)Example 4 (S) -10- (1-aminocarbonylcyclopropyl
L) -9-Fluoro-3-methyl-7-oxo-2,3
-Dihydro-7H-pyrido [1,2,3-d, e]
Production of [1,4] benzoxazine-6-carboxylic acid 15 ml of concentrated sulfuric acid was cooled to 0 ° C, and (S) -10- (1-
Cyanocyclopropyl) -9-fluoro-3-methyl-
7-oxo-2,3-dihydro-7H-pyrido [1,
2,3-d, e] [1,4] benzoxazine-6-ca
3.4 g of rubonic acid was gradually added dropwise. Stir at room temperature overnight
After cooling at 0 ° C., 100 ml of water was gradually added to the reaction mixture.
Was dropped. Filter the resulting crystals with water and ether.
Thoroughly wash and dry 3.4 g (93%) of the title compound
I got

【0046】融点:277℃(分解)1 H−NMR(DMSO−d6):δ1.06(m,2
H),1.47(d,3H),1.58(m,2H),
4.40(d,1H),4.61(d,1H),4.9
7(m,1H),6.85(bs,1H),6.91
(bs,1H),7.60(d,1H),9.08
(s,1H) IR(KBr)cm-1:υC=O 1600,166
0,1720 MS m/e :346(M+実施例5 (S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7H−ピリド[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸塩酸塩の製造 水34mlに水酸化ナトリウム5gを加えて溶解させた
後0℃に冷却して12%亜塩素酸ナトリウム溶液19m
lを加えた。生成した溶液に(S)−10−(1−アミ
ノカルボニルシクロプロピル)−9−フルオロ−3−メ
チル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド
[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾオキサジン−
6−カルボン酸3.3gを加えて徐々に加温して室温で
一夜撹拌した。反応混合物を再度徐々に加温して70℃
で5分間撹拌した後、室温で冷却した。反応混合物に氷
水29mlを加えて激しく撹拌しながら濃塩酸でpHを
6に調整した。生成した結晶を濾過し水で洗滌した。得
られた残留物を10%塩酸100mlに加えて減圧下に
濃縮させ標題化合物2.0g(67%)を得た。生成物
を酢酸エチル−エタノール−ヘキサンの混合溶媒で再結
晶化させた。
Melting point: 277 ° C. (decomposition) 1 H-NMR (DMSO-d 6 ): δ1.06 (m, 2
H), 1.47 (d, 3H), 1.58 (m, 2H),
4.40 (d, 1H), 4.61 (d, 1H), 4.9
7 (m, 1H), 6.85 (bs, 1H), 6.91
(Bs, 1H), 7.60 (d, 1H), 9.08
(S, 1H) IR (KBr) cm -1 : ΔC = O 1600, 166
0.1720 MS m / e: 346 (M + ) Example 5 (S) -10- (1-aminocyclopropyl) -9-f
Fluoro-3-methyl-7-oxo-2,3-dihydro-
7H-pyrido [1,2,3-d, e] [1,4] benzo
Preparation of oxazine-6-carboxylate hydrochloride 5 g of sodium hydroxide was added to and dissolved in 34 ml of water, and then cooled to 0 ° C. to obtain a 12% sodium chlorite solution 19 m
1 was added. (S) -10- (1-Aminocarbonylcyclopropyl) -9-fluoro-3-methyl-7-oxo-2,3-dihydro-7H-pyrido [1,2,3-d, e ] [1,4] benzoxazine-
3.3 g of 6-carboxylic acid was added, and the mixture was gradually heated and stirred at room temperature overnight. The reaction mixture was gradually warmed again to 70 ° C.
And then cooled at room temperature. 29 ml of ice water was added to the reaction mixture, and the pH was adjusted to 6 with concentrated hydrochloric acid while stirring vigorously. The formed crystals were filtered and washed with water. The obtained residue was added to 100 ml of 10% hydrochloric acid and concentrated under reduced pressure to obtain 2.0 g (67%) of the title compound. The product was recrystallized with a mixed solvent of ethyl acetate-ethanol-hexane.

【0047】融点:268℃1 H−NMR(DMSO−d6):δ1.06(m,2
H),1.47(d,3H),1.58(m,2H),
4.40(d,1H),4.61(d,1H),4.9
7(m,1H),7.60(d,1H),9.08
(s,1H) IR(KBr)cm-1:υC=O 1600,1720 MS m/e :319(M+実施例6 (S)−10−(1−アミノシクロプロピル)−9−フ
ルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,3−ジヒドロ−
7H−ピリド[1,2,3−d,e][1,4]ベンゾ
オキサジン−6−カルボン酸塩酸塩の製造 無水エタノール−ジメチルホルムアミド(4:1)混合
溶液15mlに(S)−10−(1−ニトロシクロプロ
ピル)−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−2,
3−ジヒドロ−7H−ピリド[1,2,3−d,e]
[1,4]ベンゾオキサジン−6−カルボン酸0.74
gを加えて溶解させた。生成した溶液に10%Pd−C
触媒0.15gを加えて加圧反応器を利用して水素圧を
50psi(345kPa)で維持しながら室温で一夜
撹拌しながら反応させた。反応が完結した後に混合物を
濾過し濾液を減圧下で濃縮して溶媒を除去した。残留物
を10%塩酸20mlに溶解させた後、減圧下で蒸発さ
せ残留物をエタノール−酢酸エチル−ヘキサンの混合溶
媒で再結晶化させ標題化合物0.67g(85%)を得
た。生成物の物理化学的特性は実施例5に記載した通り
である。
Melting point: 268 ° C. 1 H-NMR (DMSO-d 6 ): δ 1.06 (m, 2
H), 1.47 (d, 3H), 1.58 (m, 2H),
4.40 (d, 1H), 4.61 (d, 1H), 4.9
7 (m, 1H), 7.60 (d, 1H), 9.08
(S, 1H) IR (KBr) cm -1 : υC = O 1600, 1720 MS m / e: 319 (M + ) Example 6 (S) -10- (1-aminocyclopropyl) -9-f
Fluoro-3-methyl-7-oxo-2,3-dihydro-
7H-pyrido [1,2,3-d, e] [1,4] benzo
Preparation of oxazine-6-carboxylate hydrochloride (S) -10- (1-nitrocyclopropyl) -9-fluoro-3-methyl-7-oxo- was added to 15 ml of a mixed solution of anhydrous ethanol-dimethylformamide (4: 1). 2,
3-dihydro-7H-pyrido [1,2,3-d, e]
[1,4] benzoxazine-6-carboxylic acid 0.74
g was added and dissolved. 10% Pd-C in the resulting solution
0.15 g of the catalyst was added, and the mixture was reacted with stirring at room temperature overnight while maintaining the hydrogen pressure at 50 psi (345 kPa) using a pressure reactor. After the reaction was completed, the mixture was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure to remove the solvent. The residue was dissolved in 20 ml of 10% hydrochloric acid, evaporated under reduced pressure, and the residue was recrystallized with a mixed solvent of ethanol-ethyl acetate-hexane to obtain 0.67 g (85%) of the title compound. The physicochemical properties of the product are as described in Example 5.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明方法によれば、一般式(I)で示
されるピリドンカルボン酸誘導体を従来方法よりもはる
かに少ない工程で簡便に製造することができるので、本
発明方法は工業的に極めて優れた方法である。
According to the method of the present invention, the pyridone carboxylic acid derivative represented by the general formula (I) can be easily produced by far fewer steps than in the conventional method. This is an excellent method.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI A61K 31/542 A61K 31/542 A61P 31/04 A61P 31/04 (72)発明者 ジョ ジェ チョン 大韓民国 キョンギド スウォンシ ク ォンソンク クウンドン 462 (72)発明者 ベ ヒョン ソブ 大韓民国 ソウル特別市 ソンブックク サムソンドン 4ガ 374ボンジ 21 /1 (72)発明者 パク ヤン ギ 大韓民国 ソウル特別市 ソンパク チ ャムシル1ドン19 ジュゴンアパート 107−105 (72)発明者 テ ヒョン ソブ 大韓民国 キョンギド スウォンシ ク ォンソンク セリュウ2ドン 1139−3 (72)発明者 イム ヒョン ソク 大韓民国 キョンギド スウォンシ パ ルタルク メタン2ドン サムソン1チ ャアパート 3−1305 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 498/06 C07D 471/06 C07D 513/06 A61K 31/4985 A61K 31/5365 A61K 31/542 A61K 31/04 CAPLUS(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI A61K 31/542 A61K 31/542 A61P 31/04 A61P 31/04 (72) Inventor Jo Jae Chong South Korea Gyeonggied Suwonsi Kwonsongkwondong 462 ( 72) Inventor Bae Hyun Sob Seoul, Republic of Korea, Songbuk, Samseong-dong, 4ga, 374 Bondi 21/1 (72) Inventor Park Yang-gi, Seoul, Republic of Korea, Songpak, Jamsil 1-dong 19 Dugong Apartment 107-105 (72) Inventor Te Hyun Seob South Korea Gyeonggied Suwonsi Gwangseong Gwangseong Seryu 2dong 1139-3 (72) Inventor Im Hyun Seok South Korea Gyeonggied Suwonsi Paltaluk Methane 2 Dong Samson 1 Chaa Apartment 3-1305 (5 8) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C07D 498/06 C07D 471/06 C07D 513/06 A61K 31/4985 A61K 31/5365 A61K 31/542 A61K 31/04 CAPLUS (STN) REGISTRY (STN )

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 1)Zがシアノを示す下記一般式(XX
V)の化合物又はその塩を酸化させ下記一般式(XXV
I)の化合物又はその塩を生成させた後、ホフマン転位
反応を行って下記一般式(I)の化合物又はその塩に転
換させるか、又は 2)Zがニトロを示す下記一般式(XXV)の化合物又
はその塩を還元させ下記一般式(I)の化合物又はその
塩を生成させることを特徴とする、下記一般式(I)の
ピリドンカルボン酸誘導体又はその塩を製造する方法。 【化1】 【化2】 【化3】 [式中、R1は水素原子又はカルボキシル保護基を示
し;R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護基を有していてもよいヒドロキシル基、保護基を有し
ていてもよいアミノ基、保護基を有していてもよい低級
アルキルアミノ基、又はジ−低級アルキルアミノ基を
示し;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ−低
級アルキル基、保護基を有してい てもよいヒドロキシ
−低級アルキル基又は低級アルキリデン基を示すか、又
は R4は結合している炭素原子とともにシクロアルカ
ン環を形成し;Xはハロゲン原子を示し;Aは酸素又は
硫黄原子又はN−B(ここでBは水素原子又は低級アル
キル基を示す)の基を示し;nは1乃至4の整数を示
し;Zはシアノ基又はニトロ基を示す。]
1) The following general formula (XX) wherein Z represents cyano
V) or a salt thereof is oxidized to give the following general formula (XXV)
After forming the compound of the formula (I) or a salt thereof, the compound is converted into a compound of the following general formula (I) or a salt thereof by a Huffman rearrangement reaction, or 2) a compound of the following general formula (XXV) wherein Z represents nitro A method for producing a pyridonecarboxylic acid derivative of the following general formula (I) or a salt thereof, comprising reducing a compound or a salt thereof to produce a compound of the following general formula (I) or a salt thereof. Embedded image Embedded image Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group optionally having a protecting group, an amino group optionally having a protecting group. And R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, or a protective group. Represents a good hydroxy-lower alkyl or lower alkylidene group, or R 4 forms a cycloalkane ring with the carbon atom to which it is attached; X represents a halogen atom; A is an oxygen or sulfur atom or NB ( Here, B represents a hydrogen atom or a lower alkyl group); n represents an integer of 1 to 4; and Z represents a cyano group or a nitro group. ]
【請求項2】 方法1)で酸化反応を無機酸を使用して
行うことを特徴とする請求項1記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the oxidation reaction in the method 1) is carried out using an inorganic acid.
【請求項3】 無機酸が硫酸又は塩酸である請求項2記
載の方法。
3. The method according to claim 2, wherein the inorganic acid is sulfuric acid or hydrochloric acid.
【請求項4】 方法1)でホフマン転位反応を次亜塩素
酸ナトリウム又は次亜臭素酸ナトリウムの存在下で行う
ことを特徴とする請求項1記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein the Hoffmann rearrangement reaction in the method 1) is carried out in the presence of sodium hypochlorite or sodium hypobromite.
【請求項5】 一般式(XXV)の化合物又はその塩を
下記一般式(XXIII)の化合物又はその塩を相転移触
媒の存在下で下記一般式(XXIV)の化合物又はその塩
と反応させ閉環させることによって製造することを特徴
とする請求項1記載の方法。 【化4】 【化5】 [式中、R1、R2、R4、A、X、Z及びnは第1項で
定義した通りであり、Wはハロゲン又は活性メチレンの
金属塩(又は陰イオン)によって容易に除去することが
できる基を示す。]
5. A compound of the formula (XXV) or a salt thereof is reacted with a compound of the following formula (XXIV) or a salt thereof in the presence of a phase transfer catalyst to react the compound of the formula (XXIII) or a salt thereof. 2. The method of claim 1, wherein the method comprises: Embedded image Embedded image Wherein R 1 , R 2 , R 4 , A, X, Z and n are as defined in the first item, and W is easily removed by halogen or a metal salt (or anion) of active methylene. Indicate groups that can be ]
【請求項6】 一般式(XXIII)の化合物又はその塩
を下記一般式(XXII)の化合物又はその塩を加水分解
及び脱カルボキシル化させることにより製造することを
特徴とする請求項5記載の方法。 【化6】 [式中、R1、R2、R4、A、X及びZは第1項で定義
した通りであり、Yは水素原子、低級アルキル基又はカ
ルボキシル−保護基を示す。]
6. The method according to claim 5, wherein the compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof is produced by hydrolyzing and decarboxylating the compound of the following general formula (XXII) or a salt thereof. . Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 4 , A, X and Z are as defined in the first item, and Y represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a carboxyl-protecting group. ]
【請求項7】 一般式(XXII)の化合物又はその塩を
下記一般式(XX)の化合物又はその塩を下記一般式
(XXI)の化合物の金属塩と反応させることにより製
造することを特徴とする請求項6記載の方法。 【化7】 【化8】 [式中R1、R2、R4、A、X及びZは第1項で定義し
た通りであり、Yは第6項で定義した通りである。]
7. A method for producing a compound of the general formula (XXII) or a salt thereof by reacting a compound of the following general formula (XX) or a salt thereof with a metal salt of a compound of the following general formula (XXI): 7. The method of claim 6, wherein Embedded image Embedded image [Wherein R 1 , R 2 , R 4 , A, X and Z are as defined in the first item, and Y is as defined in the sixth item. ]
【請求項8】 一般式(XXV)の化合物又はその塩。 【化9】 [式中、R1は水素原子又はカルボキシル保護基を示
し;R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護基を有していてもよいヒドロキシル基、保護基を有し
ていてもよいアミノ基、保護基を有していてもよい低
級アルキルアミノ基、又はジ−低級アルキルアミノ基を
示し;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ−低
級アルキル基、保護基を有していてもよいヒドロキシ−
低級アルキル基又は低級アルキリデン基を示すか、又は
4は結合している炭素原子とともにシクロアルカン環
を形成し;Xはハロゲン原子を示し;Aは酸素又は硫黄
原子又はN−B(ここでBは水素原子又は低級アルキル
基を示す)の基を示し;nは1乃至4の整数を示し;Z
はシアノ基又はニトロ基を示す。]
8. A compound of the general formula (XXV) or a salt thereof. Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group optionally having a protecting group, an amino group optionally having a protecting group. Group, which may have a protecting group
A lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group; R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, or an optionally substituted hydroxy-
Represents a lower alkyl group or a lower alkylidene group, or R 4 forms a cycloalkane ring with the carbon atom to which it is attached; X represents a halogen atom; A represents an oxygen or sulfur atom or NB (where B Represents a hydrogen atom or a lower alkyl group); n represents an integer of 1 to 4;
Represents a cyano group or a nitro group. ]
【請求項9】 一般式(XXIII)の化合物又はその
塩。 【化10】 [式中、R1は水素原子又はカルボキシル保護基を示
し;R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護基を有していてもよいヒドロキシル基、保護基を有し
ていてもよいアミノ基、保護基を有していてもよい低級
アルキルアミノ基、又はジ−低級アルキルアミノ基を示
し;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ−低級
アルキル基、保護基を有していてもよいヒドロキシ−低
級アルキル基又は低級アルキリデン基を示すか、又はR
4は結合している炭素原子とともにシクロアルカン環を
形成し;Xはハロゲン原子を示し;Aは酸素又は硫黄原
子又はN−B(ここでBは水素原子又は低級アルキル基
を示す)の基を示し;Zはシアノ基又はニトロ基を示
す。]
9. A compound of the general formula (XXIII) or a salt thereof. Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group optionally having a protecting group, an amino group optionally having a protecting group. R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, or a protective group; Represents a good hydroxy-lower alkyl or lower alkylidene group;
4 represents a cycloalkane ring together with the carbon atom to which it is bonded; X represents a halogen atom; A represents an oxygen or sulfur atom or NB (where B represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). Z represents a cyano group or a nitro group. ]
【請求項10】 一般式(XXII)の化合物又はその
塩。 【化11】 [式中、R1は水素原子又はカルボキシル保護基を示
し;R2は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護基を有していてもよいヒドロキシル基、保護基を有し
ていてもよいアミノ基、保護基を有していてもよい低級
アルキルアミノ基、又はジ−低級アルキルアミノ基を示
し;R4は水素原子、低級アルキル基、ハロゲノ−低級
アルキル基、保護基を有していてもよいヒドロキシ−低
級アルキル基又は低級アルキリデン基を示すか、又はR
4は結合している炭素原子とともにシクロアルカン環を
形成し;Xはハロゲン原子を示し;Aは酸素又は硫黄原
子又はN−B(ここでBは水素原子又は低級アルキル基
を示す)の基を示し;Yは水素原子、低級アルキル基又
はカルボキシル−保護基を示す。Zはシアノ基又はニト
ロ基を示す。]
10. A compound of the general formula (XXII) or a salt thereof. Embedded image [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group; R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a hydroxyl group optionally having a protecting group, an amino group optionally having a protecting group. R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno-lower alkyl group, or a protective group; Represents a good hydroxy-lower alkyl or lower alkylidene group;
4 represents a cycloalkane ring together with the carbon atom to which it is bonded; X represents a halogen atom; A represents an oxygen or sulfur atom or NB (where B represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). Y represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a carboxyl-protecting group. Z represents a cyano group or a nitro group. ]
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