JP3063330B2 - Method for manufacturing multi-wire wiring board - Google Patents

Method for manufacturing multi-wire wiring board

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JP3063330B2
JP3063330B2 JP32883091A JP32883091A JP3063330B2 JP 3063330 B2 JP3063330 B2 JP 3063330B2 JP 32883091 A JP32883091 A JP 32883091A JP 32883091 A JP32883091 A JP 32883091A JP 3063330 B2 JP3063330 B2 JP 3063330B2
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wiring board
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裕一 中里
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、絶縁被覆金属ワイヤを
導体回路に用いたマルチワイヤ配線板並びにその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-wire wiring board using an insulated metal wire for a conductor circuit and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】基材上などに接着層を設け、導体回路形
成のための絶縁被覆ワイヤを布線、固定し、スルーホー
ルによって層間を接続するマルチワイヤ配線板は、特性
インピ−ダンスの整合やクロストークの低減に有利なプ
リント配線板として知られている。
2. Description of the Related Art A multi-wire wiring board in which an adhesive layer is provided on a substrate or the like, wiring and fixing of an insulated coating wire for forming a conductive circuit, and connection between layers by through holes, is used to match characteristic impedance. And a printed wiring board that is advantageous for reducing crosstalk.

【0003】近年、マルチワイヤを含むプリント配線板
は高密度実装に対応するため、高多層、微細化が進んで
いる。この高多層、微細化をマルチワイヤ配線板で行う
場合、ワイヤの位置精度が極めて重要である。すなわ
ち、ワイヤが布線あるいは布線後の工程で動かないよう
にすることが必要であり、特公平1−33958号に記
載されているように、ワイヤを布線するために、従来の
熱硬化型に対し光硬化型の接着層を設け、該接着層にワ
イヤを押し込んで布線しながら布線中のワイヤの布線済
み部分の付近に局部的に光照射を行って、布線済みの部
分を硬化させる方法が提案されている。また、特開昭6
2−20579号には、前記光硬化型の接着層材料組成
物が記載されている。
[0003] In recent years, printed wiring boards including multi-wires have been increasingly multi-layered and miniaturized in order to cope with high-density mounting. In the case where the multi-layer wiring and the miniaturization are performed using a multi-wire wiring board, the positional accuracy of the wires is extremely important. That is, it is necessary to prevent the wire from moving during the wiring or a process after the wiring, and as described in Japanese Patent Publication No. 33958, the conventional heat-curing method is used to wire the wire. A light-curing adhesive layer is provided on the mold, and while laying the wire by pushing the wire into the adhesive layer, locally irradiating light near the wired portion of the wire in the wiring, the wired A method of curing the part has been proposed. In addition, Japanese Unexamined Patent Publication
JP-A-2-20579 describes the photocurable adhesive layer material composition.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】絶縁被覆ワイヤを布線
し正確に固定する方法として、前記した公知例があるが
光硬化型の接着層にワイヤを押し込んで布線しながら布
線部分に光照射を行って接着層を硬化させただけでは、
ワイヤの交差部においてボイドが残ってしまうという問
題が生じる場合がある。
As a method of laying and accurately fixing an insulated wire, there is the above-mentioned known example. However, the wire is pushed into a photo-curing adhesive layer and laid on the wire while the wire is laid. By simply irradiating and curing the adhesive layer,
There may be a problem that voids remain at the intersections of the wires.

【0005】通常マルチワイヤ配線板は、接着層に絶縁
被覆ワイヤを固定した後、ガラス布エポキシ樹脂やガラ
ス布ポリイミド樹脂等のプリプレグ等をラミネートして
基板中に絶縁被覆ワイヤを固定することにより、ドリル
等による穴あけ時に絶縁被覆ワイヤが剥がれてしまうの
を防止したり、その後の工程において、絶縁被覆ワイヤ
の被覆層が損傷を受けて信頼性が低下することを防止し
ている。
Usually, a multi-wire wiring board is formed by fixing an insulating coating wire on an adhesive layer and then laminating a prepreg such as a glass cloth epoxy resin or a glass cloth polyimide resin and fixing the insulating coating wire in the substrate. This prevents the insulation-coated wire from being peeled off when drilling with a drill or the like, and prevents the coating layer of the insulation-coated wire from being damaged in a subsequent step, thereby reducing reliability.

【0006】一方、高密度に布線された基板表面は、絶
縁被覆ワイヤによる凹凸が大きく、また絶縁被覆ワイヤ
の交差部においては、接着層のない空間が多く存在す
る。このため、布線により絶縁被覆ワイヤを接着層に埋
め込み、光照射により接着層を硬化させて絶縁被覆ワイ
ヤを固定しただけでは上記で述べたようにプリプレグ等
をラミネートし、加熱硬化した場合、プリプレグ等の樹
脂成分が前記空間に十分に流れ込まずにボイドとして残
ってしまう。
[0006] On the other hand, the surface of the substrate wired at high density has large irregularities due to the insulated wire, and at the intersection of the insulated wire, there are many spaces without an adhesive layer. For this reason, the prepreg or the like is laminated as described above by simply embedding the insulated wire in the adhesive layer with a wiring, curing the adhesive layer by light irradiation and fixing the insulated wire, and heating and curing the prepreg. Resins such as the resin do not sufficiently flow into the space and remain as voids.

【0007】このようなボイドがあると、スルーホール
でショートを引き起こしたり、耐電食性を低下させる原
因となる。特に微細回路を形成する場合には大きな問題
となる。このように従来技術では、ワイヤを正確に固定
することとボイドをなくすことの両立を図ることが難し
いという課題があった。
[0007] Such a void causes a short circuit in a through hole and lowers the corrosion resistance. In particular, this is a serious problem when forming a fine circuit. As described above, in the related art, there is a problem that it is difficult to achieve both fixing the wire accurately and eliminating voids.

【0008】また、前記の公知例では、光硬化型の接着
層にワイヤを押し込んで布線しながら布線中のワイヤの
布線済み部分の付近に局部的に光照射を行って、布線済
み部分を硬化させ、布線完了後に前記接着層の全面に光
照射を行って、前記接着層の全領域を硬化させる方法を
取っている。しかしながら、この方法を達成のためには
布線中のワイヤの布線済み部分の付近に局部的に光照射
を行うための装置を製造し、NC布線機に取り付けなけ
ればならず、すなわち、現有のNC布線機をそのまま使
用することができない。NC布線機の改良に費用を要す
ると共に装置が複雑化するため、装置のメンテナンスコ
ストが上昇する等の課題があった。
Further, in the above-mentioned known example, while laying the wire by pushing the wire into the photo-curing type adhesive layer, light is locally irradiated to the vicinity of the already-wired portion of the wire in the wiring, thereby forming the wiring. After the wiring is completed, the entire surface of the adhesive layer is irradiated with light to cure the entire area of the adhesive layer. However, in order to achieve this method, an apparatus for locally irradiating light near the wired portion of the wire in the wiring must be manufactured and attached to the NC wiring machine, that is, The existing NC wiring machine cannot be used as it is. There is a problem that the cost is required for improving the NC wiring machine and the apparatus is complicated, so that the maintenance cost of the apparatus is increased.

【0009】本発明は、絶縁被覆ワイヤを正確に布線
し、且つ絶縁被覆ワイヤの交差部にボイドが発生せず、
しかも既存の製造装置で製造可能なマルチワイヤ配線板
及びその製造方法を提供するものである。
According to the present invention, an insulated wire is accurately wired, and no void is generated at the intersection of the insulated wire.
Moreover, the present invention provides a multi-wire wiring board that can be manufactured by an existing manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明のマルチワイヤ配
線板の製造方法は、予め導体回路を形成した基板もしく
は絶縁基板上に接着層を設け、次いで絶縁被覆ワイヤを
該接着層上に布線、固定した後、さらに必要箇所に穴を
あけてスルーホールおよび必要に応じて表面にめっきを
行って導体回路を形成するマルチワイヤ配線板の製造方
法において、少なくとも該接着層に光硬化型接着材料を
用い、且つ絶縁被覆ワイヤとして、該絶縁被覆層の外側
に未硬化状態の熱硬化性樹脂層を有する絶縁被覆ワイヤ
を用い、該絶縁被覆ワイヤを布線した後、先記接着層全
面に光を照射して完全に硬化させ、さらに、該基板を加
熱プレスして絶縁被覆ワイヤ外層の熱硬化性樹脂層を硬
化させることを特徴とする。
According to a method of manufacturing a multi-wire wiring board of the present invention, an adhesive layer is provided on a substrate or an insulating substrate on which a conductor circuit has been previously formed, and then an insulating-coated wire is wired on the adhesive layer. In the method for manufacturing a multi-wire wiring board in which a conductor circuit is formed by fixing a hole, then drilling a hole in a necessary portion and plating the surface as necessary and a surface as required, at least the photocurable adhesive material is formed on the adhesive layer. And using an insulated wire having an uncured thermosetting resin layer outside the insulated coating layer as the insulated wire, and laying the insulated wire. To completely cure the resin, and further, the substrate is heated and pressed to cure the thermosetting resin layer of the outer layer of the insulated wire.

【0011】本発明を図1を用いて説明する。まず図1
Aは、絶縁基板1の表面に、電源、グランドなどの導体
回路層を予め設けた状態を示す。この回路は、ガラス
布エポキシ樹脂銅張積層板やガラス布ポリイミド樹脂銅
張積層板等を公知のエッチング法等により形成できる。
また必要に応じて、この内層回路は多層もしくは全くな
くすこともできる。
The present invention will be described with reference to FIG. First, Figure 1
A shows a state in which a conductor circuit layer 2 such as a power supply and a ground is provided on the surface of the insulating substrate 1 in advance. This circuit can be formed from a glass cloth epoxy resin copper-clad laminate, a glass cloth polyimide resin copper-clad laminate, or the like by a known etching method or the like.
If necessary, this inner layer circuit can be multilayered or eliminated entirely.

【0012】図1Bは、アンダーレイ層として絶縁層
を形成した図である。これは、耐電食性を向上させた
り、特性インピ−ダンスを調整したりするために設けら
れるが、必ずしも必要としない場合がある。このアンダ
ーレイ層には、通常のガラス布エポキシ樹脂やガラス
布ポリイミド樹脂のBステージのプリプレグあるいはガ
ラスクロスを含まないBステージの樹脂シート等が使用
できる。これら樹脂層は基板にラミネートした後、必要
に応じて硬化あるいはプレスによる硬化などを行う。
FIG. 1B is a diagram in which an insulating layer is formed as the underlay layer 3 . This is provided to improve the corrosion resistance and adjust the characteristic impedance, but it may not always be necessary. As the underlay layer 3 , a B-stage prepreg of ordinary glass cloth epoxy resin or glass cloth polyimide resin, a B-stage resin sheet containing no glass cloth, or the like can be used. After laminating these resin layers on a substrate, curing or pressing is performed as necessary.

【0013】次に、図1Cに示すように、絶縁被覆ワイ
ヤを布線、固定するための接着層を形成する。接着層
を設ける方法としては、接着材料をスプレーコーティ
ング、ロールコーティング、スクリーン印刷法等で直接
絶縁基板に塗布し乾燥する方法、あるいはポリプロピレ
ン又はポリエチレンテレフタレート等に一旦ロールコー
トして塗工乾燥した後、所望の大きさに切断し、絶縁基
板にホットロールラミネート又はプレスによりラミネー
トする方法がある。この接着層には光硬化性材料が適用
できる。例えば光硬化性材料としては、アクリレートあ
るいはメタクリルレートなどとベンゾフェノンなどの開
始剤、あるいはエポキシとエポキシをカチオン重合させ
るための光重合開始剤がある。さらに、布線性や取扱い
性を良くするために、ポリビニルブチラールなどの可撓
化剤、粘度調整のためのフィラー類などを含むことがで
きる。
Next, as shown in FIG. 1C, an adhesive layer 4 for wiring and fixing the insulated wire is formed. Adhesive layer
As a method of providing 4 , an adhesive material is directly applied to an insulating substrate by spray coating, roll coating, screen printing, or the like, and then dried, or roll-coated once on polypropylene or polyethylene terephthalate or the like, and then coated and dried. And hot-lamination or press-lamination on an insulating substrate. A photocurable material can be applied to this adhesive layer. For example, the photocurable material includes an initiator such as benzophenone and acrylate or methacrylate, or a photopolymerization initiator for cationically polymerizing epoxy and epoxy. Furthermore, in order to improve the wiring property and the handling property, a flexible agent such as polyvinyl butyral, a filler for adjusting the viscosity, and the like can be included.

【0014】次に、図1Dであるが、絶縁被覆ワイヤ
を布線する。この絶縁被覆ワイヤには該絶縁被覆層の
外側に未硬化状態の熱硬化性樹脂層を有する絶縁被覆
ワイヤが適用できる。この布線は、一般にNC布線機
を用いて超音波振動などを加えながら加熱して行う。こ
れにより接着層が軟化して絶縁被覆ワイヤが接着層
中に埋め込まれる。しかし、接着層の粘度が低すぎ
ると布線後に絶縁被覆ワイヤの残留応力のために絶縁
被覆ワイヤが動いてしまい、十分な精度が得られない
場合がある。これを防止するには、上述した接着層形成
時の乾燥条件及びフィラー類の量を適正な粘度が得られ
るように調整する方法がある。しかしながら、より簡便
な方法として、布線前に予め接着層に光を照射して布線
に適した粘度、硬さまでに反応を進めることができる。
ここでは光硬化反応を途中で停止させることが必要であ
る。このため、光の照射量をコントロールすることが必
要となる。このようなコントロールは、熱硬化によって
行うよりは光によって行う方がはるかにコントロールし
やすい。これは時間的にも光の方が短い時間で出来、有
利である。光硬化のための光源としては、紫外線ランプ
が利用できる。
[0014] Next, a FIG. 1D, the insulating coated wire 5
Wire. The insulated wire 5 having an uncured thermosetting resin layer 6 outside the insulated layer can be applied to the insulated wire 5 . This wiring is generally performed by heating using an NC wiring machine while applying ultrasonic vibration or the like. As a result, the adhesive layer 4 is softened, and the insulated wire 5 is
4 embedded. However, insulating the viscosity of the adhesive layer 4 is too low after the wiring for the residual stress of the insulating coated wire 5
In some cases, the covered wire 5 moves, and sufficient accuracy cannot be obtained. In order to prevent this, there is a method of adjusting the drying conditions and the amount of the fillers at the time of forming the adhesive layer so as to obtain an appropriate viscosity. However, as a simpler method, it is possible to irradiate the adhesive layer in advance with light before wiring, and to proceed the reaction to a viscosity and hardness suitable for the wiring.
Here, it is necessary to stop the photocuring reaction halfway. For this reason, it is necessary to control the light irradiation amount. Such control is much easier to control by light than by thermosetting. This is advantageous in that light can be produced in a shorter time in terms of time. As a light source for photocuring, an ultraviolet lamp can be used.

【0015】布線を終了した後、絶縁被覆ワイヤの移
動、動きをなくすために、接着層全面に接着層を完全
に硬化させるに十分な量の光照射を行い、接着層を完全
に硬化させる。光照射には紫外線照射炉が使用でき、紫
外線照射時基板が発熱すると接着層が軟化しワイヤの移
動、動きが生じることがあるため、発熱を伴う波長の光
を除去する機構を備えた紫外線照射炉が現在では一般化
されており、これを使用することができる。
After completion of the wiring, in order to eliminate the movement and movement of the insulated wire 5 , a sufficient amount of light irradiation is performed on the entire surface of the adhesive layer to completely cure the adhesive layer 4 , and the adhesive layer is completely removed. Let it cure. An ultraviolet irradiation furnace can be used for light irradiation, and when the substrate is heated during the irradiation of the ultraviolet light, the adhesive layer is softened, and the wire may move or move. Furnaces are now generalized and can be used.

【0016】次に、図1Eであるが、光照射後加熱プレ
スを行い、絶縁被覆ワイヤ最外層の未硬化状態の熱硬
化性樹脂層を溶融させ、次いで硬化させてる。ここ
で、第1図Dで示されているワイヤ交差部付近に生じる
空間に、絶縁被覆ワイヤ最外層の未硬化状態の熱硬
化性樹脂層の溶融物を充填し、次いで硬化させ、前記
空間を除去することができる。
Next, as shown in FIG. 1E, a heat press is performed after light irradiation to melt the uncured thermosetting resin layer 6 as the outermost layer of the insulated wire 5 and then cure it. Here, a space 7 generated near the wire intersection shown in FIG. 1D is filled with a melt of the thermosetting resin layer 6 in the uncured state of the outermost layer of the insulated wire 5 and then cured. The space can be eliminated.

【0017】次に、図1Fに示すように、布線した絶縁
被覆ワイヤを保護するためオーバーレイ層が設けら
れる。このオーバーレイ層には通常の熱硬化、光硬化
の樹脂あるいはガラスクロスを含む樹脂などが適用さ
れ、最終的に硬化する。工程短縮のため、前記の加熱プ
レスをオーバーレイ層9の形成と同時に行うこともでき
る。
Next, as illustrated in FIG. 1F, insulation and wired
An overlay layer 9 is provided to protect the coated wire 5 . For the overlay layer 9 , a normal thermosetting or light-curing resin or a resin containing glass cloth is applied, and finally cured. In order to shorten the process, the above-mentioned heating press can be performed simultaneously with the formation of the overlay layer 9 .

【0018】次に図1Gに示すように、穴あけを行った
後、スルーホールめっき10を行い、マルチワイヤ配線
板を完成させる。ここで、穴あけ前にオーバーレイ形成
後、プリプレグを介して表面に銅箔などを貼り付け、表
面回路付きのマルチワイヤ配線板を製造することもでき
る。また、本発明のバリエーションとして従来から知ら
れているマルチワイヤ配線板、例えばブラインドホール
付きのマルチワイヤ配線板等を製造することができる。
Next, as shown in FIG. 1G, after drilling, through-hole plating 10 is performed to complete a multi-wire wiring board. Here, it is also possible to manufacture a multi-wire wiring board with a surface circuit by attaching a copper foil or the like to the surface via a prepreg after forming an overlay before drilling. Further, a multi-wire wiring board conventionally known as a variation of the present invention, for example, a multi-wire wiring board with a blind hole or the like can be manufactured.

【0019】[0019]

【作用】通常のマルチワイヤ配線板製造工程では、熱硬
化型接着層を用い絶縁被覆ワイヤを布線した後、加熱に
より硬化させるが、この時接着層の粘度は、一時低下す
るため布線されたワイヤ自体に蓄積された内部応力によ
りワイヤが浮き上がったり移動したりするほか、加圧し
ながら加熱した場合にも接着層の流動によりワイヤが移
動してしまう。これに対し光硬化型の接着層は加熱しな
いためワイヤを固定したまま硬化できる。また前述した
公知例では、紫外線照射炉は高熱を発するとしている
が、発熱を伴う波長の光を除去する機構を備えた紫外線
照射炉が現在では一般化されているため、これを使用す
れば加熱することなく光硬化型の接着層を硬化させるこ
とができる。また、接着層の粘度が低すぎた場合など、
布線前に予め接着層に光を照射して布線に適した粘度、
硬さまでに反応を進めておくことにより、布線後にワイ
ヤの残留応力によりワイヤが動いてしまうことを防止で
きる。すなわち、前記した公知例のごとく、布線中のワ
イヤの布線済み部分の付近に局部的に光照射を行って、
布線済み部分を硬化させることにより、布線後のワイヤ
の動きを防止するという方法をとらなくともよい。ま
た、未硬化状態の熱硬化性樹脂層を最外層に有する絶縁
被覆ワイヤを用いることにより、布線後絶縁被覆ワイヤ
の交差部に空間が発生しても、加熱プレスすることによ
り、前記熱硬化性樹脂層を溶融して前記絶縁被覆ワイヤ
の交差部に充填し、次いで硬化させることにより、オー
バーレイ層を設けた後でもボイドとなるのを防止でき
る。この時、布線後予め光硬化型の接着層全面に光を照
射し、接着層のみを完全に硬化してあるため、加熱プレ
スを行ってもワイヤの移動、動きは発生しない。これに
よりボイドのない信頼性の高いマルチワイヤ配線板を製
造することが可能となる。
In the ordinary manufacturing process of a multi-wire wiring board, an insulating coating wire is laid using a thermosetting adhesive layer, and then cured by heating. At this time, the viscosity of the adhesive layer temporarily decreases, so the wiring is performed. The wire rises and moves due to the internal stress accumulated in the wire itself, and the wire moves due to the flow of the adhesive layer even when heated while being pressed. On the other hand, the photocurable adhesive layer is not heated and can be cured with the wire fixed. In the above-mentioned known example, the ultraviolet irradiation furnace generates high heat.However, since an ultraviolet irradiation furnace having a mechanism for removing light having a wavelength that generates heat is now common, if this is used, heating can be performed. The photo-curable adhesive layer can be cured without performing. Also, if the viscosity of the adhesive layer is too low,
The viscosity suitable for the wiring by irradiating the adhesive layer with light before wiring,
By proceeding the reaction by the hardness, it is possible to prevent the wire from moving due to the residual stress of the wire after wiring. That is, as in the known example described above, locally irradiating light near the wired portion of the wire in the wiring,
It is not necessary to take a method of preventing the movement of the wire after the wiring by hardening the wired portion. In addition, by using an insulated wire having an uncured thermosetting resin layer as the outermost layer, even if a space is formed at the intersection of the insulated wire after wiring, the thermosetting resin can be heated and pressed. By melting the conductive resin layer, filling the intersections of the insulating coated wires, and then curing, the voids can be prevented even after the overlay layer is provided. At this time, after the wiring, the entire surface of the photo-curable adhesive layer is irradiated with light in advance, and only the adhesive layer is completely cured. This makes it possible to manufacture a highly reliable multi-wire wiring board without voids.

【0020】[0020]

【実施例】実施例1 工程1)両面銅張積層板(日立化成工業株式会社製、M
CL−E−168)に通常のエッチング法により回路を
形成した。次いで、ガラス布エポキシ樹脂プリプレグ
(日立化成工業株式会社製、GEA−168)を該基板
の両面にプレス、硬化してアンダーレイ層を形成した。 工程2)次いで、光硬化タイプの接着層(日立化成工業
株式会社製、フォテックSR−1300G、75μm)
を両面にラミネートして形成した。続いて、膜厚15μ
mの未硬化状態の熱硬化性樹脂層を最外層に有するポリ
イミド被覆ワイヤ(日立電線株式会社製、ワイヤHA
W、銅線径0.1mm)を、片面ずつNC布線機により超
音波加熱を加えながら布線した。 工程3)布線に続いて、紫外線照射装置(株式会社オー
ク製作所製、型式QRM−2082−A−R2)を用い
て、両面に3J/cm2 の光照射を行って接着層を硬化さ
せた。次いで、該基板をシリコンゴムをクッション材と
して、170℃、60分、2MPaの条件で加熱プレス
した。 工程4)次に、ガラスクロス布エポキシ樹脂プリプレグ
(日立化成工業株式会社製、GEA−168)を両面に
適用し、シリコンゴムをクッション材として170℃、
60分、3MPaの条件でプレス、硬化させてオーバー
レイ層を形成した。続いて、オーバーレイ層表面にポリ
エチレンフィルムをラミネートして、必要箇所に穴をあ
けた。穴をあけた後、ホールクリーニングなどの前処理
を行い、さらに無電解銅めっき液に浸漬した。30μm
スルーホールにめっきを行った後、前記ポリエチレンフ
ィルムを剥離してマルチワイヤ配線板を製造した。
EXAMPLES Example 1 Step 1) Double-sided copper-clad laminate (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., M
CL-E-168) to form a circuit by an ordinary etching method. Next, an underlay layer was formed by pressing and curing a glass cloth epoxy resin prepreg (GEA-168, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) on both sides of the substrate. Step 2) Next, a photo-curing type adhesive layer (Fotech SR-1300G, 75 μm, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Was laminated on both sides. Subsequently, the thickness of 15 μm
m coated polyimide wire having an uncured thermosetting resin layer as the outermost layer (Hitachi Cable Co., Ltd., Wire HA
W, copper wire diameter: 0.1 mm) were wired one by one using an NC wiring machine while applying ultrasonic heating. Step 3) Following the wiring, both sides were irradiated with light of 3 J / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (Model QRM-2082-A-R2 manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) to cure the adhesive layer. . Next, the substrate was heated and pressed at 170 ° C. for 60 minutes at 2 MPa using silicone rubber as a cushion material. Step 4) Next, a glass cloth cloth epoxy resin prepreg (GEA-168, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied to both surfaces, and silicon rubber is used as a cushion material at 170 ° C.
Pressing and curing were performed at 3 MPa for 60 minutes to form an overlay layer. Subsequently, a polyethylene film was laminated on the surface of the overlay layer, and holes were made in necessary places. After drilling holes, pretreatments such as hole cleaning were performed, and further immersed in an electroless copper plating solution. 30 μm
After plating the through holes, the polyethylene film was peeled off to produce a multi-wire wiring board.

【0021】実施例2 実施例1の工程2を次の工程2′のように行った以外は
実施例1と全く同様の工程でマルチワイヤ配線板を製造
した。 工程2′)次いで、光硬化タイプの接着層(日立化成工
業株式会社製、フォテックSR−1300G、75μ
m)を両面にラミネートして形成した。次に紫外線照射
装置(株式会社オーク製作所製、型式QRM−2082
−A−R2)を用いて、両面に500mJ/cm2 の光を
照射して一部分光硬化を進めた。続いて、膜厚15μm
の未硬化状態の熱硬化性樹脂層を最外層に有するポリイ
ミド被覆ワイヤ(日立電線工業株式会社製、ワイヤHA
W、銅線径0.1mm)を、片面ずつNC布線機により超
音波加熱を加えながら布線した。
Example 2 A multi-wire wiring board was manufactured in exactly the same steps as in Example 1 except that Step 2 of Example 1 was performed as in the following step 2 '. Step 2 ') Then, a photo-curing type adhesive layer (Fotech SR-1300G, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., 75 μm)
m) was formed by lamination on both sides. Next, an ultraviolet irradiation device (Model QRM-2082 manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.)
-A-R2), both surfaces were irradiated with light of 500 mJ / cm 2 to partially promote photocuring. Subsequently, a film thickness of 15 μm
Coated wire having an uncured thermosetting resin layer as the outermost layer (Hitachi Cable Industries, Ltd., Wire HA
W, copper wire diameter: 0.1 mm) were wired one by one using an NC wiring machine while applying ultrasonic heating.

【0022】実施例3 実施例1の工程3で、4J/cm2 の光照射に続くシリコ
ンゴムをクッション材として、170℃、60分、2M
Paの条件で加熱プレスを行わなかった以外は実施例1
と全く同様の工程でマルチワイヤ配線板を製造した。
Example 3 In step 3 of Example 1, a silicone rubber was used as a cushion material following irradiation with light of 4 J / cm 2 at 170 ° C. for 60 minutes, 2M
Example 1 except that the heating press was not performed under the condition of Pa
A multi-wire wiring board was manufactured in exactly the same steps as in the above.

【0023】比較例1 実施例1の工程2で、光硬化タイプの接着層の代わりに
熱硬化タイプの接着層(日立化成工業株式会社製、接着
シートAS−102)を用い、且つ布線後に光照射を行
わなかった以外は、実施例1と同様の工程でマルチワイ
ヤ配線板を製造した。
Comparative Example 1 In step 2 of Example 1, a thermosetting adhesive layer (Adhesive sheet AS-102, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used instead of the photocurable adhesive layer, and after wiring. A multi-wire wiring board was manufactured in the same process as in Example 1 except that light irradiation was not performed.

【0024】比較例2 実施例3の工程2で、膜厚15μmの未硬化状態の熱硬
化性樹脂層を最外層に有するポリイミド被覆ワイヤ(日
立電線株式会社製、ワイヤHAW、銅線径0.1mm)
を、予め170℃、60分間加熱して前記熱硬化性樹脂
層を硬化させておき、これをNC布線機により超音波加
熱を加えながら布線した以外は、実施例3と同様の工程
でマルチワイヤ配線板を製造した。
Comparative Example 2 In step 2 of Example 3, a polyimide-coated wire having an uncured thermosetting resin layer having a thickness of 15 μm as the outermost layer (Hitachi Cable Co., Ltd., wire HAW, copper wire diameter: 0.3 mm) was used. 1mm)
Was previously heated at 170 ° C. for 60 minutes to cure the thermosetting resin layer, and was wired in the same manner as in Example 3 except that the wiring was performed while applying ultrasonic heating using an NC wiring machine. A multi-wire wiring board was manufactured.

【0025】比較例3 実施例1の工程2で、膜厚15μmの未硬化状態の熱硬
化性樹脂層を最外層に有するポリイミド被覆ワイヤ(日
立電線株式会社製、ワイヤHAW、銅線径0.1mm)の
代わりに、銅線径0.1mm、ポリイミド膜厚10μmの
ポリイミド被覆ワイヤの外側に、下記組成による未硬化
状態の光硬化性樹脂層を15μm厚に設けたポリイミド
被覆ワイヤを使用した以外は、実施例1と同様の工程で
マルチワイヤ配線板を製造した。 エポキシアクリレート(LS−51P) 40重量部 フェノキシ樹脂(Y−50) 10重量部 エポキシ樹脂(EP−828) 30重量部 エポキシ樹脂(ESB−400T) 20重量部 ポリビニルブチラール(#5000A) 5重量部 シリカ粉末 10重量部 カチオン性光重合開始剤(UVI−6970) 5重量部 光開始剤(I−651) 6重量部 塩化パラジウム 0.01重量部
Comparative Example 3 In step 2 of Example 1, a polyimide-coated wire having a 15 μm-thick uncured thermosetting resin layer as the outermost layer (Hitachi Cable Co., Ltd., wire HAW, copper wire diameter: 0.3 mm) was used. 1 mm), except that a polyimide-coated wire having a 15 μm-thick uncured photocurable resin layer having the following composition outside the polyimide-coated wire having a copper wire diameter of 0.1 mm and a polyimide film thickness of 10 μm was used. Manufactured a multi-wire wiring board in the same process as in Example 1. Epoxy acrylate (LS-51P) 40 parts by weight Phenoxy resin (Y-50) 10 parts by weight Epoxy resin (EP-828) 30 parts by weight Epoxy resin (ESB-400T) 20 parts by weight Polyvinyl butyral (# 5000A) 5 parts by weight Silica Powder 10 parts by weight Cationic photopolymerization initiator (UVI-6970) 5 parts by weight Photoinitiator (I-651) 6 parts by weight Palladium chloride 0.01 part by weight

【0026】比較例4 実施例3の工程2で、膜厚15μmの未硬化状態の熱硬
化性樹脂層を最外層に有するポリイミド被覆ワイヤ(日
立電線株式会社製、ワイヤHAW、銅線径0.1mm)の
代わりに、銅線径0.1mm、ポリイミド膜厚10μmの
ポリイミド被覆ワイヤの外側に、下記組成による未硬化
状態の光硬化性樹脂層を15μm厚に設けたポリイミド
被覆ワイヤを使用した以外は、実施例3と同様の工程で
マルチワイヤ配線板を製造した。 エポキシアクリレート(LS−51P) 40重量部 フェノキシ樹脂(Y−50) 10重量部 エポキシ樹脂(EP−828) 30重量部 エポキシ樹脂(ESB−400T) 20重量部 ポリビニルブチラール(#5000A) 5重量部 シリカ粉末 10重量部 カチオン性光重合開始剤(UVI−6970) 5重量部 光開始剤(I−651) 6重量部 塩化パラジウム 0.01重量部
Comparative Example 4 In step 2 of Example 3, a polyimide-coated wire having an uncured thermosetting resin layer having a thickness of 15 μm as the outermost layer (manufactured by Hitachi Cable, Ltd., wire HAW; 1 mm), except that a polyimide-coated wire having a 15 μm-thick uncured photocurable resin layer having the following composition outside the polyimide-coated wire having a copper wire diameter of 0.1 mm and a polyimide film thickness of 10 μm was used. Manufactured a multi-wire wiring board in the same process as in Example 3. Epoxy acrylate (LS-51P) 40 parts by weight Phenoxy resin (Y-50) 10 parts by weight Epoxy resin (EP-828) 30 parts by weight Epoxy resin (ESB-400T) 20 parts by weight Polyvinyl butyral (# 5000A) 5 parts by weight Silica Powder 10 parts by weight Cationic photopolymerization initiator (UVI-6970) 5 parts by weight Photoinitiator (I-651) 6 parts by weight Palladium chloride 0.01 part by weight

【0027】以上実施例1〜3、比較例1〜4で製造し
たマルチワイヤ配線板の布線したワイヤの位置、ならび
に切断した断面をそれぞれ調べた。その結果、実施例1
〜4ならびに比較例2〜4は、布線したワイヤの位置が
50μm以下のずれであった。特に実施例2では30μ
m以下のずれであった。これに対して比較例1のワイヤ
のずれは200μmを越えている部分があった。また、
断面観察の結果、実施例1〜3ならびに比較例1では、
ワイヤ交差部にボイドは認められなかった。これに対し
て比較例2〜4ではワイヤ交差部にボイドが認められ
た。
The positions of the wired wires and the cross sections of the multi-wire wiring boards manufactured in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 were examined. As a result, Example 1
In Comparative Examples 2 to 4 and Comparative Examples 2 to 4, the positions of the wired wires were shifted by 50 μm or less. Particularly, in the second embodiment, 30 μm
m or less. In contrast, the displacement of the wire of Comparative Example 1 exceeded 200 μm in some parts. Also,
As a result of the cross-sectional observation, in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1,
No void was found at the wire intersection. In contrast, in Comparative Examples 2 to 4, voids were observed at the wire intersections.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によりワイヤの交差部にボイドを
含まず、且つワイヤの動きの少ないマルチワイヤ配線板
を既存の製造装置を用いて製造することができる。すな
わち、本発明により高密度で信頼性に優れたマルチワイ
ヤ配線板を既存の製造装置を用いて製造することができ
る。
According to the present invention, it is possible to manufacture a multi-wire wiring board which does not include voids at the intersections of the wires and has little movement of the wires by using an existing manufacturing apparatus. That is, according to the present invention, a multi-wire wiring board having high density and excellent reliability can be manufactured using an existing manufacturing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すマルチワイヤ配線板製
造工程の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multi-wire wiring board manufacturing process showing one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例を示す製造工程のフローチャ
ートである。
FIG. 2 is a flowchart of a manufacturing process showing one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁板 2 内層回路銅 3 アンダーレイ層 4 接着層 5 絶縁被覆ワイヤ 6 未硬化の熱硬化性樹
脂層 7 ワイヤ交差部の空間 8 ワイヤ交差部に充填
された熱硬化性樹脂 9 オーバーレイ層 10 スルーホールめっき
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating board 2 Inner layer circuit copper 3 Underlay layer 4 Adhesive layer 5 Insulation coating wire 6 Uncured thermosetting resin layer 7 Space at wire intersection 8 Thermosetting resin filled at wire intersection 9 Overlay layer 10 Through Hole plating

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−6596(JP,A) 特開 昭59−121992(JP,A) 特開 昭59−6591(JP,A) 特開 平2−125498(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46 H05K 3/10 ────────────────────────────────────────────────── (5) References JP-A-59-6596 (JP, A) JP-A-59-121992 (JP, A) JP-A-59-6591 (JP, A) JP-A-2- 125498 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/46 H05K 3/10

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】予め導体回路を形成した基板もしくは絶縁
基板上に接着層を設け、次いで絶縁被覆ワイヤを該接着
層上に布線、固定した後、さらに必要箇所に穴をあけて
スルーホールおよび必要に応じて表面にめっきを行って
導体回路を形成するマルチワイヤ配線板の製造方法にお
いて、少なくとも該接着層に光硬化型接着材料を用い、
且つ絶縁被覆ワイヤとして、該絶縁被覆層の外側に未硬
化状態の熱硬化性樹脂層を有する絶縁被覆ワイヤを用
い、該絶縁被覆ワイヤを布線した後、先記接着層全面に
光を照射して完全に硬化させ、さらに、該基板を加熱プ
レスして絶縁被覆ワイヤ外層の熱硬化性樹脂層を硬化さ
せることを特徴とするマルチワイヤ配線板の製造方法。
1. An adhesive layer is provided on a substrate or an insulating substrate on which a conductor circuit has been formed in advance, and an insulation-covered wire is laid and fixed on the adhesive layer. In a method for manufacturing a multi-wire wiring board in which a conductor circuit is formed by plating a surface as necessary, at least using a photocurable adhesive material for the adhesive layer,
And, as the insulating coating wire, using an insulating coating wire having an uncured thermosetting resin layer outside the insulating coating layer, after laying the insulating coating wire, irradiating the entire surface of the adhesive layer with light. Wherein the substrate is heated and pressed to harden the thermosetting resin layer of the outer layer of the insulated wire.
【請求項2】 前記工程中、絶縁被覆ワイヤを布線する
に先立ち、接着層に完全に硬化するには不十分な量の光
を照射して、一部分硬化を進めることを特徴とする請求
項1に記載のマルチワイヤ配線板の製造方法。
2. The method according to claim 1, further comprising: irradiating an insufficient amount of light to completely cure the adhesive layer to partially cure the adhesive layer prior to laying the insulated wire. 2. The method for manufacturing a multi-wire wiring board according to 1.
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