JP3030001B2 - Method for manufacturing plastic film liquid crystal display element - Google Patents

Method for manufacturing plastic film liquid crystal display element

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JP3030001B2
JP3030001B2 JP9082461A JP8246197A JP3030001B2 JP 3030001 B2 JP3030001 B2 JP 3030001B2 JP 9082461 A JP9082461 A JP 9082461A JP 8246197 A JP8246197 A JP 8246197A JP 3030001 B2 JP3030001 B2 JP 3030001B2
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plastic film
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display element
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチックフィ
ルム液晶表示素子の製造方法に関し、たとえば軽量薄型
化の要求の強い電子手帳、パーソナルコンピュータ、ワ
ードプロセッサなどのディスプレイとして好適に使用さ
れるプラスチックフィルム液晶表示素子の製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a plastic film liquid crystal display device, and more particularly to a plastic film liquid crystal display device suitably used as a display for electronic notebooks, personal computers, word processors, etc., which are required to be lightweight and thin. And a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示素子では、その基板とし
てガラス基板が用いられている。液晶表示素子の製造工
程中に処理温度が300〜500℃に達する工程があ
り、その温度に耐えられる材料としてガラス基板が好適
であるからである。
2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, a glass substrate is used as its substrate. This is because there is a step in which the processing temperature reaches 300 to 500 ° C. during the manufacturing process of the liquid crystal display element, and a glass substrate is suitable as a material that can withstand the temperature.

【0003】近年、製造工程および材料の開発が進むに
つれて処理温度をある程度下げた製造工程が可能とな
り、したがってガラス基板よりも軽くて薄いプラスチッ
クフィルム基板が用いられつつある。たとえば、光学異
方性のないポリエーテルスルホン(以下、PESと略称
する)フィルム基板がある。
In recent years, as the manufacturing process and the development of materials have progressed, a manufacturing process in which the processing temperature has been lowered to some extent has become possible, and therefore, a plastic film substrate which is lighter and thinner than a glass substrate is being used. For example, there is a polyethersulfone (hereinafter abbreviated as PES) film substrate having no optical anisotropy.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】プラスチックフィルム
基板としては、光学異方性がないか配慮できること、耐
熱性、耐溶剤性、ガスバリア性、表面平坦性、寸法安定
性、透光性を備えていることなどの要求項目を満たす必
要がある。上記したPESフィルム基板はこれらの要求
項目を満たしている。
As a plastic film substrate, it is necessary to consider whether there is no optical anisotropy, and it has heat resistance, solvent resistance, gas barrier properties, surface flatness, dimensional stability, and translucency. It is necessary to satisfy required items such as things. The above PES film substrate satisfies these requirements.

【0005】しかしながらPESフィルム基板には、以
下のような欠点がある。
However, the PES film substrate has the following disadvantages.

【0006】安定供給できるフィルムの厚みが0.1m
mtであるため、フィルム自体に腰がなく、取扱いが困
難であり、液晶表示素子を組立てるときに変形を起こし
やすく、平坦性が得られにくい。したがって、高い平坦
性が要求されるスーパーツイステッドネマティック型の
液晶表示素子の基板としては用いられにくい。
The thickness of the film which can be supplied stably is 0.1 m
Since the film is mt, the film itself has no rigidity, is difficult to handle, and easily deforms when assembling the liquid crystal display element, and it is difficult to obtain flatness. Therefore, it is difficult to use as a substrate of a super twisted nematic type liquid crystal display element requiring high flatness.

【0007】仮にフィルムの厚みを0.1mmt以上に
形成したとしても基板に筋が入りフィルムの厚みにばら
つきが生じたりする。また、基板を0.1mmt以上に
形成すると基板のリターデーションが増大する。通常、
液晶表示素子のリターデーションは、予め表示品位が最
適なものとなるように予め定められる特定の範囲内に設
定されており、このリターデーションは液晶層が持つリ
ターデーションと基板が持つリターデーションとによっ
て決定される。ところが、基板のリターデーションが増
大すると液晶表示素子全体としてのリターデーションも
増大し、前述した設定範囲を超えてしまうと色付き現象
などが生じ、液晶表示装置の表示品位に悪影響を及ぼ
す。
[0007] Even if the thickness of the film is formed to be 0.1 mmt or more, the substrate may have streaks and the thickness of the film may vary. Further, when the substrate is formed to have a thickness of 0.1 mmt or more, the retardation of the substrate increases. Normal,
The retardation of the liquid crystal display element is set in advance in a predetermined range so that the display quality is optimal, and the retardation is determined by the retardation of the liquid crystal layer and the retardation of the substrate. It is determined. However, when the retardation of the substrate increases, the retardation of the entire liquid crystal display element also increases. When the retardation exceeds the above-described setting range, a coloring phenomenon occurs, which adversely affects the display quality of the liquid crystal display device.

【0008】また、耐熱性が最大150℃のために、液
晶表示素子の構成材料の低温焼成化が必要となる。した
がって、配向膜など比較的高温処理によって形成される
材料にとっては、このような温度条件は厳しい制約とな
る。
Further, since the heat resistance is 150 ° C. at the maximum, the constituent materials of the liquid crystal display element must be fired at a low temperature. Therefore, such a temperature condition is severely restricted for a material formed by a relatively high temperature treatment such as an alignment film.

【0009】さらに、温度や湿度による影響を受けやす
いため、寸法安定性に欠ける。
Further, since it is easily affected by temperature and humidity, it lacks dimensional stability.

【0010】したがって、本発明の目的は、プラスチッ
クフィルム基板の取扱いをよくするために基板の厚みを
大きくすることができ、かつ、リターデーションの増大
による表示品位の低下を防ぐことができるプラスチック
フィルム液晶表示素子の製造方法を提供することであ
る。
[0010] Accordingly, an object of the present invention is to provide a plastic film liquid crystal capable of increasing the thickness of a plastic film substrate in order to improve the handling thereof and preventing a decrease in display quality due to an increase in retardation. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a display element.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
プラスチックフィルム液晶表示素子の製造方法は、一対
のプラスチックフィルム基板間に液晶層を介在したプラ
スチックフィルム液晶表示素子の製造方法において、前
記基板を成形型によって作製することを特徴としてい
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plastic film liquid crystal display device having a liquid crystal layer interposed between a pair of plastic film substrates. It is characterized in that the substrate is produced by a mold.

【0012】請求項2記載のプラスチックフィルム液晶
表示素子の製造方法は、請求項1記載のプラスチックフ
ィルム液晶表示素子の製造方法において、前記成形型が
研磨硝子によって形成されていることを特徴としてい
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a plastic film liquid crystal display device according to the first aspect, wherein the mold is formed of polished glass.

【0013】また、本発明のプラスチックフィルム基板
としては、透光性を有する熱硬化性のアクリル系樹脂、
または透光性を有するエポキシ系樹脂を用いることが好
ましい。
Further, the plastic film substrate of the present invention includes a thermosetting acrylic resin having translucency;
Alternatively, a light-transmitting epoxy resin is preferably used.

【0014】本発明のプラスチックフィルム液晶表示素
子の製造方法によれば、プラスチックフィルム基板を成
形型によって作製することにより、成形後、改めて基板
サイズ等を調整するにあたって、カッタ等を用いる切断
工程のように、完成したプラスチックフィルム基板に負
荷をかけ、変形を生じさせるおそれのある工程を省略す
ることができるので、精度良くプラスチックフィルム基
板を作製できる。
According to the method of manufacturing a plastic film liquid crystal display device of the present invention, a plastic film substrate is produced by a molding die, and after molding, when adjusting the substrate size or the like again, a cutting step using a cutter or the like is required. In addition, since a step of applying a load to the completed plastic film substrate and possibly causing deformation can be omitted, the plastic film substrate can be manufactured with high accuracy.

【0015】さらに、成形型が研磨硝子によって形成さ
れていることにより、プラスチックフィルム基板の表面
を研磨ガラスなみの精度に仕上げることができるので、
成形後に改めて表面を研磨する工程を省略できる。
Further, since the molding die is formed of polished glass, the surface of the plastic film substrate can be finished with the same precision as polished glass.
The step of polishing the surface again after molding can be omitted.

【0016】また、プラスチックフィルム基板の材料と
して透光性を有する熱硬化性のアクリル系樹脂を用いる
ことにより、PESフィルム基板のように筋が入り、厚
みにばらつきが生じたりすることなく、0.1mmt以
上、たとえば0.2mmtの厚みで基板を製造すること
ができ、フィルム自体の腰が強くなり、取扱いが容易と
なる。また、リターデーションが微少であるため液晶層
のリターデーションに影響を及ぼすことがなく、表示品
位が向上する。さらに、耐熱性が向上されるので、配向
膜などの形成時における処理温度条件の制約が緩和さ
れ、より高温度での加工を可能とすることができる。ま
た、温度や湿度による影響を受けにくいため、寸法安定
性がよい。
Also, by using a translucent thermosetting acrylic resin as the material of the plastic film substrate, the plastic film substrate has a streak like a PES film substrate and does not vary in thickness. The substrate can be manufactured with a thickness of 1 mmt or more, for example, 0.2 mmt, and the film itself becomes strong and easy to handle. Further, since the retardation is very small, it does not affect the retardation of the liquid crystal layer, and the display quality is improved. Further, since the heat resistance is improved, the restriction on the processing temperature conditions at the time of forming the alignment film or the like is relaxed, and processing at a higher temperature can be performed. Further, since it is hardly affected by temperature and humidity, dimensional stability is good.

【0017】またプラスチックフィルム基板の材料とし
て透光性を有するエポキシ系樹脂を用いることにより、
PESフィルム基板のように筋が入ったり、厚みにばら
つきが生じたりすることなく、0.1mmt以上、たと
えば0.2mmtの厚みで基板を製造することができ、
フィルム自体の腰が強くなり、取扱いが容易となる。ま
た、リターデーションが微少であるため、液晶層のリタ
ーデーションに影響を及ぼすことがなく、表示品位が向
上する。さらに、耐熱性が向上されるので、配向膜など
の形成時における処理温度条件の制約が緩和され、より
高温度での加工を可能とすることができる。また、温度
や湿度による影響を受けにくいため、寸法安定性がよ
い。
Further, by using a translucent epoxy resin as a material of the plastic film substrate,
A substrate can be manufactured with a thickness of 0.1 mmt or more, for example, 0.2 mmt, without causing streaks or variations in thickness as in a PES film substrate,
The film itself becomes stiff and easy to handle. Further, since the retardation is minute, the retardation of the liquid crystal layer is not affected, and the display quality is improved. Further, since the heat resistance is improved, the restriction on the processing temperature conditions at the time of forming the alignment film or the like is relaxed, and processing at a higher temperature can be performed. Further, since it is hardly affected by temperature and humidity, dimensional stability is good.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施例である
プラスチックフィルム液晶表示素子1の構成を示す断面
図である。図1を参照して、液晶表示素子1は、一対の
透光性を有する透明基板2,3を有しており、透明基板
2,3の背向する表面に、それぞれたとえば傷防止のた
めに、ハードコート層4,5としてエポキシ系樹脂、ア
クリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、オル
ガノシリコン系樹脂または無機酸化物を3000〜60
00Åの膜厚でスピンナー塗布によって膜付けする。
(または、ディップ法によって、透明基板2,3の両面
に2〜3μmの膜厚で膜付けする。)この膜付け後、1
00〜150℃にて焼付け処理を行う。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a plastic film liquid crystal display device 1 according to one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a liquid crystal display element 1 includes a pair of transparent substrates 2 and 3 having a light-transmitting property. The hard coat layers 4 and 5 are made of an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an organosilicon resin or an inorganic oxide of 3000 to 60.
A film is formed by spinner coating to a thickness of 00 °.
(Alternatively, a film having a thickness of 2 to 3 μm is formed on both surfaces of the transparent substrates 2 and 3 by a dipping method.)
A baking process is performed at 00 to 150 ° C.

【0019】透明基板2,3の対向する表面には、アン
ダーコート層6,7としてSiOを150〜1000
Åの膜厚に蒸着して、さらにこの上に透明導電膜8,9
としてITO(インジウム酸化錫)を膜厚約1500Å
にスパッタ蒸着して形成する。さらにこの上にトップコ
ート層10,11およびポリイミドを約500Åになる
ようにスピンコートまたは印刷した配向膜12,13を
形成する。次に、液晶材料14を注入し、シール部材1
5で封止し、さらに外方側表面に偏光板16,17を積
層して液晶表示素子1を形成する。
[0019] The opposing surfaces of the transparent substrates 2 and 3, the SiO X as an undercoat layer 6 150-1000
The transparent conductive films 8 and 9 are further deposited on the
ITO (indium tin oxide) with a film thickness of about 1500Å
Formed by sputtering. Further thereon, top coat layers 10, 11 and alignment films 12, 13 formed by spin coating or printing polyimide to about 500 ° are formed. Next, the liquid crystal material 14 is injected, and the sealing member 1 is formed.
Then, the liquid crystal display element 1 is formed by laminating polarizing plates 16 and 17 on the outer surface.

【0020】この透明基板2,3は、熱硬化性のアクリ
ル系樹脂から成り、厚みは0.1〜1.0mmtに選ば
れる。
The transparent substrates 2 and 3 are made of a thermosetting acrylic resin and have a thickness of 0.1 to 1.0 mmt.

【0021】また、この透明基板2,3は、成形型によ
って作製するため、成形後、改めて基板サイズ等を調整
するにあたって、カッタ等を用いる切断工程のように、
完成したプラスチックフィルム基板に負荷をかけ、変形
を生じさせるおそれのある工程を省略することができる
ので、精度良く透明基板2,3を作製できる。
Further, since the transparent substrates 2 and 3 are manufactured using a molding die, when adjusting the substrate size and the like again after molding, as in a cutting step using a cutter or the like,
Since a step of applying a load to the completed plastic film substrate and possibly causing deformation can be omitted, the transparent substrates 2 and 3 can be manufactured with high accuracy.

【0022】さらに、成形型を研磨ガラスで平坦に作
り、この型を用いて成形すると透明基板2,3の表面を
研磨ガラスなみの精度に仕上げることができるので、成
形後に改めて表面を研磨する工程を省略することができ
る。
Further, if a molding die is made flat with polishing glass and molded using this mold, the surfaces of the transparent substrates 2 and 3 can be finished to the same precision as that of the polishing glass. Can be omitted.

【0023】また、前述のように、透明基板2,3を熱
硬化性のアクリル系樹脂で形成しているため、基板の厚
みをたとえば0.2mmtとしても、PESフィルム基
板のように筋が入り、厚みにばらつきが生じることがな
く、また腰があるため取扱いが容易となり、枚葉処理も
可能となる。したがって、液晶表示素子1を組立てると
きに変形を起こしたりすることがなく、十分な平坦性を
得ることができるとともに、ガラス基板を用いて液晶素
子を製造する製造ラインを利用することも可能となる。
Further, as described above, since the transparent substrates 2 and 3 are formed of a thermosetting acrylic resin, even if the thickness of the substrate is set to, for example, 0.2 mmt, a streak like a PES film substrate is formed. In addition, there is no variation in the thickness, and since there is a stiffness, handling becomes easy, and single-wafer processing can be performed. Therefore, sufficient flatness can be obtained without causing deformation when assembling the liquid crystal display element 1, and a production line for manufacturing a liquid crystal element using a glass substrate can be used. .

【0024】また、リターデーションが微少であるた
め、透明基板2,3を厚く形成しても、液晶層のリター
デーションに影響を与えることはなく、液晶表示素子1
の表示品位が劣化することがない。さらに、透明基板
2,3は耐熱性があるため、たとえば高温処理が必要な
配向膜12,13などの液晶表示素子1の構成材料の選
択幅が広がる。また、透明基板2,3は温度や湿度によ
る影響を受けにくいため、寸法安定性がよい。
Further, since the retardation is very small, even if the transparent substrates 2 and 3 are formed thick, the retardation of the liquid crystal layer is not affected and the liquid crystal display element 1 is not affected.
Display quality does not deteriorate. Furthermore, since the transparent substrates 2 and 3 have heat resistance, the range of selection of constituent materials of the liquid crystal display element 1 such as the alignment films 12 and 13 requiring high-temperature processing is widened. Further, since the transparent substrates 2 and 3 are hardly affected by temperature and humidity, dimensional stability is good.

【0025】図2は、本発明の他の実施例であるプラス
チックフィルム液晶表示素子18の構成を示す断面図で
ある。なお本実施例は、前述の図1の実施例と類似して
おり、同一の構成には同一の参照符号を付す。本実施例
の特徴は、液晶表示素子18における透明基板2,3の
背向する表面に、液晶層内へ酸素や水蒸気などのガスが
進入することを防ぐガスバリア層19,20を形成した
ことである。このガスバリア層19,20は、使用環境
に応じ、より耐通気性が要求される場合に適宜形成され
るものであり、ポリビニルアルコールなどによって形成
される。
FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a plastic film liquid crystal display element 18 according to another embodiment of the present invention. This embodiment is similar to the above-described embodiment of FIG. 1, and the same components are denoted by the same reference numerals. The feature of this embodiment is that gas barrier layers 19 and 20 for preventing gas such as oxygen and water vapor from entering the liquid crystal layer are formed on the surface of the liquid crystal display element 18 opposite to the transparent substrates 2 and 3. is there. The gas barrier layers 19 and 20 are appropriately formed when more air-permeability is required according to the use environment, and are formed of polyvinyl alcohol or the like.

【0026】さらに、他の実施例として、図1に示す液
晶表示素子1の透明基板2,3をエポキシ系樹脂で形成
する。
Further, as another embodiment, the transparent substrates 2 and 3 of the liquid crystal display element 1 shown in FIG. 1 are formed of an epoxy resin.

【0027】この透明基板2,3は、成形型によって作
製するため、成形後、改めて基板サイズ等を調整するに
あたって、カッタ等を用いる切断工程のように、完成し
たプラスチックフィルム基板に負荷をかけ、変形を生じ
させるおそれのある工程を省略することができるので、
精度良く透明基板2,3を作製できる。
Since the transparent substrates 2 and 3 are manufactured using a molding die, a load is applied to the completed plastic film substrate as in a cutting step using a cutter or the like when adjusting the substrate size or the like again after molding. Since steps that may cause deformation can be omitted,
The transparent substrates 2 and 3 can be manufactured with high accuracy.

【0028】さらに、成形型を研磨ガラスで平坦に作
り、この型を用いて成形すると透明基板2,3の表面を
研磨ガラスなみの精度に仕上げることができるので、成
形後に改めて表面を研磨する工程を省略することができ
る。
Furthermore, if a molding die is made flat with polishing glass and molded using this mold, the surfaces of the transparent substrates 2 and 3 can be finished to the same precision as that of the polishing glass. Can be omitted.

【0029】このように、透明基板2,3をエポキシ系
樹脂で形成しているため、基板の厚みをたとえば0.2
mmtとしてもPESフィルム基板のように筋が入り、
厚みにばらつきが生じることがなく、また腰があるため
取扱いが容易となり、枚葉処理も可能となる。したがっ
て液晶表示素子18を組立てるときに変形を起こしたり
することがなく、十分な平坦性を得ることができるとと
もに、ガラス基板を用いて液晶素子を製造する製造ライ
ンを利用することも可能となる。
As described above, since the transparent substrates 2 and 3 are formed of epoxy resin, the thickness of the substrates is set to, for example, 0.2.
mmt, streaks like PES film substrate,
There is no variation in thickness, and handling is easy because of the stiffness, and single-wafer processing is also possible. Therefore, sufficient flatness can be obtained without causing deformation when the liquid crystal display element 18 is assembled, and a production line for manufacturing a liquid crystal element using a glass substrate can be used.

【0030】また、リターデーションが微少であるた
め、透明基板2,3を厚く形成しても、液晶層のリター
デーションに影響を与えることはなく、液晶表示素子1
8の表示品位が劣化することがない。さらに、透明基板
2,3は耐熱性があるため、たとえば高温処理が必要な
配向膜12,13などの液晶表示素子18の構成材料の
選択幅が広がる。また、透明基板2,3は温度や湿度に
よる影響を受けにくいため、寸法安定性がよい。
Further, since the retardation is very small, even if the transparent substrates 2 and 3 are formed thick, the retardation of the liquid crystal layer is not affected, and the liquid crystal display element 1 is not affected.
The display quality of No. 8 does not deteriorate. Further, since the transparent substrates 2 and 3 have heat resistance, the range of selection of constituent materials of the liquid crystal display element 18 such as the alignment films 12 and 13 requiring high-temperature processing is widened. Further, since the transparent substrates 2 and 3 are hardly affected by temperature and humidity, dimensional stability is good.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上のように、本発明のプラスチックフ
ィルム液晶表示素子の製造方法によれば、プラスチック
フィルム基板を成形型によって作製することにより、成
形後、改めて基板サイズ等を調整するにあたって、カッ
タ等を用いる切断工程のように、完成したプラスチック
フィルム基板に負荷をかけ、変形を生じさせるおそれの
ある工程を省略することができるので、精度良くプラス
チックフィルム基板を作製できる。
As described above, according to the method of manufacturing a plastic film liquid crystal display device of the present invention, a plastic film substrate is produced by a molding die. Since a step of applying a load to the completed plastic film substrate and possibly causing deformation may be omitted, such as a cutting step using, for example, a plastic film substrate can be manufactured with high accuracy.

【0032】さらに、成形型が研磨硝子によって形成さ
れていることにより、プラスチックフィルム基板の表面
を研磨ガラスなみの精度に仕上げることができるので、
成形後に改めて表面を研磨する工程を省略できる。
Further, the surface of the plastic film substrate can be finished with the same precision as that of polished glass by forming the mold with polished glass.
The step of polishing the surface again after molding can be omitted.

【0033】また、プラスチックフィルム基板の材料と
して透光性を有する熱硬化性のアクリル系樹脂を用いる
ことにより、0.1mmt以上の基板厚が確保でき、基
板自体の腰が強くなって取扱いが容易となる。よって、
液晶表示素子を組立てるときでも変形を起こしたりせ
ず、十分な平坦性が得られるので、スーパーツイステッ
ドネマティックモードのプラスチックフィルム液晶表示
素子の提供が可能となる。
Further, by using a translucent thermosetting acrylic resin as a material of the plastic film substrate, a substrate thickness of 0.1 mmt or more can be secured, and the substrate itself becomes strong and easy to handle. Becomes Therefore,
Even when assembling the liquid crystal display element, it is possible to provide a super twisted nematic mode plastic film liquid crystal display element because sufficient flatness is obtained without deformation.

【0034】さらに、基板を厚く形成してもリターデー
ションが微少であるため、液晶表示装置の表示品位が向
上する。また、耐熱性があるため、配向膜などの形成時
における処理温度条件の制約が緩和され、より高温度で
の加工が可能となる。よって、配向膜などの液晶表示素
子の構成材料の選択幅が広がる。さらに、PESに比べ
て温度や湿度による影響を受けにくいため、寸法安定性
を確保したプラスチックフィルム液晶表示素子の提供が
可能となる。
Further, even if the substrate is formed thick, the retardation is very small, so that the display quality of the liquid crystal display device is improved. In addition, due to heat resistance, processing temperature conditions at the time of forming an alignment film or the like are reduced, and processing at a higher temperature becomes possible. Therefore, the selection range of the constituent materials of the liquid crystal display element such as the alignment film is widened. Furthermore, since it is less susceptible to temperature and humidity than PES, it is possible to provide a plastic film liquid crystal display element with dimensional stability.

【0035】またプラスチックフィルム基板の材料とし
て透光性を有するエポキシ系樹脂を用いることにより、
0.1mmt以上の基板厚が確保でき、基板自体の腰が
強くなって取扱いが容易となる。よって、液晶表示素子
を組立てるときでも変形を起こしたりせず、十分な平坦
性が得られるので、スーパーツイステッドネマティック
モードのプラスチックフィルム液晶表示素子の提供が可
能となる。
By using a translucent epoxy resin as the material of the plastic film substrate,
A substrate thickness of 0.1 mmt or more can be secured, and the substrate itself becomes stiff and easy to handle. Therefore, even when assembling the liquid crystal display element, a sufficient flatness can be obtained without causing deformation, so that it is possible to provide a plastic film liquid crystal display element of a super twisted nematic mode.

【0036】さらに、基板を厚く形成してもリターデー
ションが微少であるため、液晶表示装置の表示品位が向
上する。また、耐熱性があるため、配向膜などの形成時
における処理温度条件の制約が緩和され、より高温度で
の加工が可能となる。よって、配向膜などの液晶表示素
子の構成材料の選択幅が広がる。さらに、PESに比べ
て温度や湿度による影響を受けにくいため、寸法安定性
を確保したプラスチックフィルム液晶表示素子の提供が
可能となる。
Further, since the retardation is very small even when the substrate is formed thick, the display quality of the liquid crystal display device is improved. In addition, due to heat resistance, processing temperature conditions at the time of forming an alignment film or the like are reduced, and processing at a higher temperature becomes possible. Therefore, the selection range of the constituent materials of the liquid crystal display element such as the alignment film is widened. Furthermore, since it is less susceptible to temperature and humidity than PES, it is possible to provide a plastic film liquid crystal display element with dimensional stability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例であるプラスチックフィルム
液晶表示素子1の構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a plastic film liquid crystal display element 1 according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例であるプラスチックフィル
ム液晶表示素子18の構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a configuration of a plastic film liquid crystal display element 18 according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,18 液晶表示素子 2,3 透明基板 4,5 ハードコート層 6,7 アンダーコート層 8,9 透明導電膜 10,11 トップコート層 12,13 配向膜 14 液晶材料 15 シール部材 16,17 偏光板 19,20 ガスバリア層 Reference Signs List 1,18 Liquid crystal display element 2,3 Transparent substrate 4,5 Hard coat layer 6,7 Undercoat layer 8,9 Transparent conductive film 10,11 Top coat layer 12,13 Alignment film 14 Liquid crystal material 15 Seal member 16,17 Polarized light Plate 19,20 Gas barrier layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩本 誠 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 磯畑 恭平 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−41122(JP,A) 特開 昭62−105102(JP,A) 特開 昭63−300221(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1333 G02F 1/13 101 G09F 9/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Makoto Iwamoto 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Inside Sharp Corporation (72) Inventor Kyohei Iso 22-22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Sharp Stock In-company (56) References JP-A-61-41122 (JP, A) JP-A-62-105102 (JP, A) JP-A-63-300221 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. . 7, DB name) G02F 1/1333 G02F 1/13 101 G09F 9/30

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一対のプラスチックフィルム基板間に液
晶層を介在したプラスチックフィルム液晶表示素子の製
造方法において、 前記基板を成形型によって作製することを特徴とするプ
ラスチックフィルム液晶表示素子の製造方法。
1. A method of manufacturing a plastic film liquid crystal display device having a liquid crystal layer interposed between a pair of plastic film substrates, wherein the substrate is manufactured by using a molding die.
【請求項2】 前記成形型が研磨硝子によって形成され
ていることを特徴とする請求項1記載のプラスチックフ
ィルム液晶表示素子の製造方法。
2. The method for manufacturing a plastic film liquid crystal display device according to claim 1, wherein said mold is formed of polished glass.
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