JP3028702B2 - Method of making lost wax mold - Google Patents

Method of making lost wax mold

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JP3028702B2 JP5103481A JP10348193A JP3028702B2 JP 3028702 B2 JP3028702 B2 JP 3028702B2 JP 5103481 A JP5103481 A JP 5103481A JP 10348193 A JP10348193 A JP 10348193A JP 3028702 B2 JP3028702 B2 JP 3028702B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、スラリーを劣化させ
ることなく欠陥のないロストワックス鋳型を作製する方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a defect-free lost wax mold without deteriorating a slurry.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ロストワックス鋳型を作製する
には、通常のワックスパターンを石膏やリン酸塩のスラ
リー中に浸漬したのち引き上げ、乾燥させることにより
ワックスパターンの周囲に石膏やりん酸塩のコーティン
グ層を形成し、このコーティング層を乾燥して固化し、
さらにワックスパターンを加熱溶融し排出することによ
り製造することは良く知られているところである。
2. Description of the Related Art Generally, in order to prepare a lost wax mold, a normal wax pattern is immersed in a gypsum or phosphate slurry, pulled up, and dried to form a gypsum or phosphate around the wax pattern. Forming a coating layer, drying and solidifying this coating layer,
Further, it is well known that a wax pattern is produced by melting and discharging the same.

【0003】上記ワックスパターンを石膏やリン酸塩の
スラリー中に浸漬する際にワックスパターンが気泡を巻
き込んで気泡がパターン表面に付着し、またはスラリー
中に存在する気泡がパターン表面に付着したりなどして
鋳型に欠陥を生じせしめることがある。
When the above wax pattern is immersed in a slurry of gypsum or phosphate, the wax pattern entrains bubbles, and the bubbles adhere to the pattern surface, or bubbles existing in the slurry adhere to the pattern surface. This may cause defects in the mold.

【0004】これを防止するために、ワックスパターン
を減圧または真空雰囲気下においてスラリーに浸漬する
方法が提案されている(特開昭62−214849号公
報参照)。
In order to prevent this, a method has been proposed in which a wax pattern is immersed in a slurry under reduced pressure or in a vacuum atmosphere (see Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-214849).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、スラリーを減
圧または真空雰囲気中に置くと、スラリー中の水分が蒸
発して最適組成のバランスがくずれ、スラリー自身が一
部ゲル化してスラリーが劣化するという問題点があっ
た。この問題点を解決するために、スラリーに水を補給
することも考えられるが、補給する水量を正確に把握す
ることは難しく、かえって最適組成のバランスがくずれ
やすい。
However, when the slurry is placed in a reduced pressure or vacuum atmosphere, the water in the slurry evaporates and the optimal composition balance is lost, and the slurry itself is partially gelled to deteriorate the slurry. There was a problem. To solve this problem, it is conceivable to replenish the slurry with water. However, it is difficult to accurately grasp the amount of water to be replenished, and the balance of the optimum composition tends to be lost.

【0006】また、補給した水がスラリー中によく混合
されるまでに時間がかかり、さらに一旦水分量が低下す
るとゲル化してしまうので極めて短い周期で水を補給し
なければならず、作業性が極めて悪くなる。
Further, it takes a long time for the replenished water to be well mixed in the slurry. Further, once the water content is reduced, the slurry gels. Therefore, the water must be replenished in a very short cycle. Extremely bad.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
減圧または真空雰囲気中でワックスパターンをスラリー
に浸漬する操作を行ってもスラリーの劣化を防止し、作
業性に悪影響を与えることのない方法を開発すべく研究
を行った結果、(1) 減圧または真空雰囲気中の水蒸
気分圧は温度に依存することを利用して別系統より水分
を蒸気で補給するとよい、(2) このための具体的手
段として、減圧または真空雰囲気内に補水タンクを設置
し、この補水タンクにスラリー温度より0.5〜20℃
高い温度の水を充填し放置しておくと、減圧または真空
雰囲気中の水蒸気分圧を一定に保つことができ、スラリ
ーの水分の蒸発を防止してスラリーが劣化することがな
い、(3) この場合、補水タンクに充填されている水
温とスラリーの温度差が0℃ではスラリーの水分の蒸発
は防止することができず、一方、補水タンクの水温がス
ラリー温度よりも20℃を越えて高くなると、減圧また
は真空雰囲気中の水蒸気圧とスラリーの水蒸気圧の差が
44Torrを越え、スラリーの水分が増加して最適組成の
バランスがくずれ、さらに減圧または真空によるスラリ
ー内の脱泡効果も低下して好ましくない、などの知見を
得たのである。
Means for Solving the Problems Accordingly, the present inventors have
As a result of researching to develop a method of preventing the slurry from deteriorating even if the wax pattern is immersed in the slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere and having no adverse effect on workability, (1) reduced pressure or The partial pressure of water vapor in a vacuum atmosphere depends on the temperature, so that water may be supplied from another system using steam. (2) As a specific means for this, a water refill tank is installed in a reduced pressure or vacuum atmosphere. The temperature of the slurry is 0.5 to 20 ° C
If filled with high-temperature water and left as it is, a reduced pressure or a partial pressure of water vapor in a vacuum atmosphere can be kept constant, and evaporation of the water in the slurry is prevented, so that the slurry does not deteriorate. (3) In this case, when the temperature difference between the temperature of the water filled in the water refill tank and the temperature of the slurry is 0 ° C., the evaporation of the water content of the slurry cannot be prevented, while the water temperature of the water refill tank exceeds 20 ° C. higher than the slurry temperature. Then, the difference between the water vapor pressure in the vacuum or vacuum atmosphere and the water vapor pressure of the slurry exceeds 44 Torr, the water content of the slurry increases, the optimum composition is lost, and the defoaming effect in the slurry by the pressure reduction or vacuum also decreases. They found that it was not desirable.

【0008】この発明は、かかる知見にもとづいてなさ
れたものであって、減圧または真空雰囲気中でワックス
パターンをスラリー内に浸漬し、引き上げてワックスパ
ターンの周囲にスラリーのコーティング層を形成し、こ
のコーティング層を乾燥固化したのちワックスパターン
を加熱溶融排出させることによりロストワックス鋳型を
作製する方法において、上記減圧または真空雰囲気の水
蒸気圧をスラリーの水蒸気圧よりも1〜44Torr高くな
るように保持するか、またはスラリー温度よりも0.5
〜20℃高い温度に保持された水を補水タンクに入れて
上記減圧または真空雰囲気中に設置するロストワックス
鋳型の作製方法に特徴を有するものである。
The present invention has been made based on this finding, and a wax pattern is immersed in a slurry in a reduced-pressure or vacuum atmosphere and pulled up to form a slurry coating layer around the wax pattern. In the method of manufacturing a lost wax mold by heating and melting and discharging a wax pattern after drying and solidifying a coating layer, the method may be such that the above-mentioned reduced pressure or the steam pressure in a vacuum atmosphere is maintained so as to be higher by 1 to 44 Torr than the steam pressure of the slurry. Or 0.5 above the slurry temperature
The method is characterized by a method for producing a lost wax mold in which water maintained at a temperature higher by about 20 ° C. is put into a water refill tank and placed in the above-described reduced pressure or vacuum atmosphere.

【0009】このロストワックス鋳型の作製方法を図面
にもとづいてさらに詳細に説明する。
The method for producing the lost wax mold will be described in more detail with reference to the drawings.

【0010】図1は、ロストワックス鋳型の作製工程の
説明図であり、1は脱泡コーティング装置、2はスラリ
ー、3はロストワックスパターン、4は吊り棒、5は補
水タンク、6はコーティング層、7は気泡である。
FIG. 1 is an explanatory view of a process for producing a lost wax mold. 1 is a defoaming coating device, 2 is a slurry, 3 is a lost wax pattern, 4 is a hanging rod, 5 is a water refill tank, and 6 is a coating layer. , 7 are air bubbles.

【0011】図1(a)に示されるように、スラリー2
を脱泡コーティング装置1に入れ、ワックスパターン3
を吊り棒4にセットする。ついで図1(b)に示される
ように、脱泡コーティング装置1に水8の入った補水タ
ンク5を取付け、脱泡コーティング装置内を真空ポンプ
(図示せず)により減圧するとスラリー2中の気泡7は
消える。補水タンク5は、図2に示されるように、高抵
抗加熱線9により水8を所定の温度に保持することがで
きるようになっている。
[0011] As shown in FIG.
Into the defoaming coating device 1 and the wax pattern 3
Is set on the hanging bar 4. Then, as shown in FIG. 1 (b), a rehydration tank 5 containing water 8 was attached to the defoaming coating device 1, and the pressure in the defoaming coating device was reduced by a vacuum pump (not shown). 7 disappears. As shown in FIG. 2, the rehydration tank 5 can maintain the water 8 at a predetermined temperature by a high-resistance heating wire 9.

【0012】脱泡コーティング装置1内を減圧に保持し
たのち、図1(c)に示されるように、ワックスパター
ン3をスラリー2の中に浸漬し、次いで、図1(d)に
示されるように、ワックスパターン3をスラリー2から
引き上げると、ワックスパターン3の周囲にスラリー2
のコーティング層6が形成され、このコーティング層を
乾燥固化したのちワックスパターン3を加熱溶融除去し
てロストワックス鋳型を作製する。
After keeping the inside of the defoaming coating apparatus 1 at a reduced pressure, the wax pattern 3 is immersed in the slurry 2 as shown in FIG. 1C, and then as shown in FIG. Then, when the wax pattern 3 is pulled up from the slurry 2, the slurry 2
After the coating layer 6 is dried and solidified, the wax pattern 3 is removed by heating and melting to prepare a lost wax mold.

【0013】[0013]

【実施例】この発明を実施例に基づいてさらに具体的に
説明する。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically based on examples.

【0014】200メッシュのジルコンフラワーを70
重量%、SiO2 :30%含有のコロイダルシリカを3
0重量%となるよう配合し、24時間撹拌してスラリー
を作製した。このスラリーを室温(23℃)に保ち、粘
度を測定したところ、ザーンカップ#5で約30秒であ
った。
[0014] Zircon flower of 200 mesh is 70
3% by weight of colloidal silica containing 30% by weight of SiO 2
0% by weight and stirred for 24 hours to prepare a slurry. This slurry was kept at room temperature (23 ° C.) and the viscosity was measured. The result was about 30 seconds with Zahn Cup # 5.

【0015】このスラリーを脱泡コーティング装置に充
填し、補水タンク内の水を表1に示される温度に保持し
たのち、脱泡コーティング装置内の雰囲気を22〜65
mmHgの範囲内の所定の圧力に減圧し、この減圧下でワ
ックスパターンを上記スラリー中に浸漬し、次いでワッ
クスパターンをスラリーから引き上げるコーティング試
験を連続100回繰返し行ない、100回目のコーティ
ング試験後のスラリーの粘性をザーンカップ#4にて測
定し、さらに遠心分離器を用いて液体と固体に分離する
ことによってスラリー中のシリカ濃度を測定し、さら
に、100回目のコーティング試験により作製したロス
トワックス鋳型の鋳型内面の欠陥の有無を観察すると共
にスラリーの外観も観察し、それらの結果を表1に示し
た。
This slurry was filled in a defoaming coating apparatus, and the water in the water refill tank was maintained at the temperature shown in Table 1. Then, the atmosphere in the defoaming coating apparatus was changed to 22 to 65.
The coating pressure was reduced to a predetermined pressure in the range of mmHg, the wax pattern was immersed in the slurry under the reduced pressure, and the coating test in which the wax pattern was pulled out of the slurry was continuously and repeatedly performed 100 times. Was measured using a Zahn Cup # 4, and the silica concentration in the slurry was measured by separating the mixture into a liquid and a solid using a centrifugal separator. The presence or absence of defects on the inner surface of the mold and the appearance of the slurry were also observed. The results are shown in Table 1.

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】表1に示される結果から、補水タンクの水
温とスラリーの温度差が0.5〜20℃、すなわち減圧
雰囲気の水蒸気圧とスラリーの水蒸気圧の差が1〜44
Torrの範囲内にある本発明法1〜7は、100回コーテ
ィング試験を行ってもスラリーのゲル化は見られない
が、減圧雰囲気中に補水タンクを置かない従来法ではス
ラリーのゲル化が激しく、100回のコーティング試験
でスラリーが使用不能になることがわかる。
From the results shown in Table 1, the difference between the water temperature of the rehydration tank and the temperature of the slurry is 0.5 to 20 ° C., that is, the difference between the steam pressure of the reduced pressure atmosphere and the steam pressure of the slurry is 1 to 44 ° C.
In the methods 1 to 7 of the present invention within the range of Torr, gelation of the slurry was not observed even after the coating test was performed 100 times, but gelation of the slurry was severe in the conventional method in which the water refilling tank was not placed in a reduced pressure atmosphere. It can be seen that the slurry becomes unusable after 100 coating tests.

【0018】しかし、比較例1に見られるように、減圧
雰囲気中に補水タンクを置いても、補水タンクの水温が
スラリーの温度よりも高くないとスラリーはゲル化し、
一方、比較例2に見られるように補水タンクの水温がス
ラリー温度よりも20℃を越えて高いと(すなわち、水
蒸気圧の差が44Torrを越えて高いと)、スラリーのゲ
ル化は防止されるがロストワックス鋳型内面に欠陥が生
じるので好ましくないことがわかる。
However, as seen in Comparative Example 1, even if the water refill tank is placed in a reduced pressure atmosphere, the slurry gels unless the water temperature of the water refill tank is higher than the temperature of the slurry.
On the other hand, as shown in Comparative Example 2, when the water temperature of the water refill tank is higher than the slurry temperature by more than 20 ° C. (that is, when the difference in water vapor pressure is higher than 44 Torr), gelation of the slurry is prevented. However, it can be seen that this is not preferable because defects occur on the inner surface of the lost wax mold.

【0019】[0019]

【発明の効果】上述のように、この発明によると、長期
間使用してもスラリーの劣化を防止することができ、従
来よりも作業性、コストの面で大幅に改善されるなど優
れた効果を奏するものである。
As described above, according to the present invention, the slurry can be prevented from deteriorating even if it is used for a long time, and excellent effects such as greatly improved workability and cost can be obtained as compared with the prior art. Is played.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明のロストワックス鋳型の作製方法の説
明図である。
FIG. 1 is an illustration of a method for producing a lost wax mold according to the present invention.

【図2】補水タンクの断面説明図である。FIG. 2 is an explanatory sectional view of a water refill tank.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 脱泡コーティング装置 2 スラリー 3 ロストワックスパターン 4 吊り棒 5 補水タンク 6 コーティング層 7 気泡 8 水 9 高抵抗加熱線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Defoaming coating device 2 Slurry 3 Lost wax pattern 4 Hanging rod 5 Rehydration tank 6 Coating layer 7 Bubbles 8 Water 9 High resistance heating wire

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 減圧または真空雰囲気中でワックスパタ
ーンをスラリー内に浸漬し、引き上げてワックスパター
ンの周囲にスラリーのコーティング層を形成し、このコ
ーティング層を乾燥固化したのちワックスパターンを加
熱溶融排出させることによりロストワックス鋳型を作製
する方法において、 上記減圧または真空雰囲気中の水蒸気圧をスラリーの水
蒸気圧よりも高くなるように保持することを特徴とする
ロストワックス鋳型の作製方法。
1. A wax pattern is immersed in a slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere, pulled up to form a coating layer of the slurry around the wax pattern, and after drying and solidifying the coating layer, the wax pattern is heated and melted and discharged. A method for producing a lost wax mold, wherein the steam pressure in the reduced pressure or vacuum atmosphere is maintained higher than the steam pressure of the slurry.
【請求項2】 上記減圧または真空雰囲気中の水上気圧
とスラリーの水蒸気圧の差は1〜44Torrの範囲内にあ
ることを特徴とする請求項1記載のロストワックス鋳型
の作製方法。
2. The method for producing a lost wax mold according to claim 1, wherein the difference between the water pressure in the reduced pressure or vacuum atmosphere and the water vapor pressure of the slurry is in the range of 1 to 44 Torr.
【請求項3】 減圧または真空雰囲気中でワックスパタ
ーンをスラリー内に浸漬し、引き上げてワックスパター
ンの周囲にスラリーのコーティング層を形成し、このコ
ーティング層を乾燥固化したのちワックスパターンを加
熱溶融排出させることによりロストワックス鋳型を作製
する方法において、 上記減圧または真空雰囲気中に、補水タンクに水を入れ
て設置し、上記補水タンク内の水温をスラリー温度より
0.5〜20℃高く保持することを特徴とするロストワ
ックス鋳型の作製方法。
3. A wax pattern is immersed in the slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere, pulled up to form a coating layer of the slurry around the wax pattern, and after drying and solidifying the coating layer, the wax pattern is heated and melted and discharged. In the method for producing a lost wax mold, by placing water in the water refill tank in the reduced pressure or vacuum atmosphere, and maintaining the water temperature in the water refill tank 0.5 to 20 ° C. higher than the slurry temperature. A method for producing a lost wax mold.
【請求項4】上記補水タンクは、水温の温度調整ができ
るようになっていることを特徴とする請求項3記載のロ
ストワックス鋳型の作製方法。
4. The method for producing a lost wax mold according to claim 3, wherein the water refilling tank is adapted to adjust a water temperature.
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