JP3026648B2 - 1x projection lens - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、マスクに描かれたT
ABパターン、プリント基板パターン等を感光体が塗布
されたワークに等倍で投影して露光させる等倍投影レン
ズに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to an equal-magnification projection lens that projects an AB pattern, a printed circuit board pattern, and the like onto a workpiece coated with a photoconductor at an equal magnification and exposes the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の露光装置は、一般に高圧水銀灯を
光源として利用し、h線近傍の波長の光のみによりパタ
ーンをワークに投影している。これに対し、光エネルギ
ーを上昇させて感光時間を短縮し、スループットを向上
させたいという要請がある。2. Description of the Related Art A conventional exposure apparatus generally uses a high-pressure mercury lamp as a light source, and projects a pattern on a work only with light having a wavelength near an h-line. On the other hand, there is a demand to increase the light energy to shorten the exposure time and improve the throughput.
【0003】一般にワークに塗布される感光体の感度
は、360nmをピークとして440nm付近まで達し
ているため、光源のエネルギーを有効に利用して光のエ
ネルギーを上昇させるためには、h線のみでなく、より
短い波長も含めて広い範囲の波長の光を利用することが
望ましい。[0003] Generally, the sensitivity of a photoreceptor applied to a work reaches a peak near 360 nm to about 440 nm. Therefore, in order to effectively use the energy of a light source to increase the energy of light, only the h-line is used. Instead, it is desirable to use light of a wide range of wavelengths, including shorter wavelengths.
【0004】なお、硝材は屈折率が高くなるほど短波長
の光に対する透過率が低くなるため、上記のように短い
波長も含めて利用する場合には、レンズを低屈折率の硝
材のみで構成しなければならない。[0004] Since the transmittance of a glass material having a shorter wavelength becomes lower as the refractive index becomes higher, when the glass material is used including a short wavelength as described above, the lens is made of only a glass material having a low refractive index. There must be.
【0005】一方、等倍投影レンズとしては、正、正、
負、負、正、正の6枚構成の対象型レンズが従来から用
いられている。等倍投影の場合、対象型レンズはコマ材
収差、倍率色収差、歪曲収差を発生させないため、他の
型のレンズより有利である。On the other hand, as a 1: 1 projection lens, positive, positive,
Conventionally, a target lens having six negative, negative, positive, and positive lenses has been used. In the case of 1 × projection, the objective lens does not generate coma aberration, chromatic aberration of magnification, and distortion, and thus is advantageous over other types of lenses.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、低屈折
率の硝材のみでレンズを構成する場合には、従来の6枚
構成では球面収差、非点収差の補正が困難である。However, when a lens is composed of only a glass material having a low refractive index, it is difficult to correct spherical aberration and astigmatism using the conventional six-lens structure.
【0007】[0007]
【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、h線より短い波長の光をも
含めて広い波長範囲で収差が良好に補正された等倍投影
レンズを提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and is a unit-magnification projection lens in which aberration has been well corrected in a wide wavelength range including light having a wavelength shorter than the h-line. The purpose is to provide.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明にかかる等倍レ
ンズは、上記の目的を達成させるため、両凸の正の第1
レンズと、正メニスカスの第2レンズと、正メニスカス
の第3レンズと、負メニスカスの第4レンズと、負メニ
スカスの第5レンズと、正メニスカスの第6レンズと、
正メニスカスの第7レンズと、両凸の正の第8レンズと
から対称に構成され、前記各正レンズの屈折率をnp、前
記各負レンズの分散値をνm、前記第1レンズの焦点距
離をf1、前記第4レンズの焦点距離をf4、全系の焦点距
離をfとして、各正レンズの屈折率npがそれぞれ、 np < 1.70 …(1)の条件を満たし、各負レンズの分散値νmがそれぞれ、 νm < 35 …(2)の条件を満たし、かつ、 0.5< f1/f <0.85 …(3) 0.1<|f4/f|<0.25 …(4) ただし、 νm = (nh - 1)/(ni - ng) nh : h線に対する屈折率 ni : i線に対する屈折率 ng : g線に対する屈折率 の条件を満たしている。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, a unity magnification lens according to the present invention has a biconvex positive first lens.
A lens, a positive meniscus second lens, a positive meniscus third lens, a negative meniscus fourth lens, a negative meniscus fifth lens, a positive meniscus sixth lens,
The seventh lens having a positive meniscus and the eighth lens having a biconvex positive shape are symmetrically arranged. The refractive index of each of the positive lenses is np, the dispersion value of each of the negative lenses is νm, and the focal length of the first lens is Where f1, the focal length of the fourth lens is f4, and the focal length of the entire system is f, the refractive index np of each positive lens satisfies the condition of np <1.70 (1) , and the dispersion value of each negative lens where νm satisfies the condition νm <35 ... (2) , and 0.5 <f1 / f <0.85 ... (3) 0.1 <| f4 / f | <0.25 ... (4) where νm = (nh-1 ) / (ni-ng) nh: Refractive index for h-line ni: Refractive index for i-line ng: Refractive index for g-line
【0009】[0009]
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【0010】実施例の投影レンズは、図1に示すよう
に、両凸の正の第1、第8レンズと、正メニスカスの第
2、第7レンズと、正メニスカスの第3、第6レンズ
と、負メニスカスの第4、第5レンズとから対象に構成
されている。8枚構成とすることにより、低屈折率の硝
材のみを利用しても球面収差、非点収差を良好に補正す
ることができる。As shown in FIG. 1, the projection lens of the embodiment has a biconvex positive first and eighth lens, a positive and negative meniscus second and seventh lenses, and a positive meniscus third and sixth lens. And the fourth and fifth lenses of the negative meniscus. With the eight-sheet configuration, spherical aberration and astigmatism can be satisfactorily corrected even if only a low refractive index glass material is used.
【0011】また、実施例のレンズは、正レンズの屈折
率をnp、負レンズの分散値をνm、第1レンズの焦点
距離をf1、第4レンズの焦点距離をf4、全系の焦点
距離をfとして、(1)〜(4)の条件を満たしてい
る。In the lens of the embodiment, the refractive index of the positive lens is np, the dispersion value of the negative lens is νm, the focal length of the first lens is f1, the focal length of the fourth lens is f4, and the focal length of the whole system is Is f, and the conditions of (1) to (4) are satisfied.
【0012】np<1.70 …(1) νm<35 …(2) 0.5<f1/f<0.85 …(3) 01<│f4/f│<025 …(4) ただし、 νm=(nh−1)/(ni−ng) nh:h線に対する屈折率 ni:i線に対する屈折率 ng:g線に対する屈折率Np <1.70 (1) νm <35 (2) 0.5 <f1 / f <0.85 (3) 01 <│f4 / f│ <025 (4) where νm = (Nh-1) / (ni-ng) nh: refractive index for h line ni: refractive index for i line ng: refractive index for g line
【0013】(1)式は、正レンズの屈折率を規定する
ものである。屈折率が1.70以上となると、i線に対
する透過率が低下し、露光エネルギーが低下する。Equation (1) defines the refractive index of the positive lens. When the refractive index is 1.70 or more, the transmittance for i-line decreases, and the exposure energy decreases.
【0014】(2)式は、負レンズの分散を規定したも
のである。第3、第4レンズのみが負レンズであるた
め、他の6枚の正レンズで発生した軸上色収差を補正す
る作用を持たせなければならない。(2)式を満たさな
い場合には、軸上色収差を補正するためには各レンズの
曲率が過大となって球面収差が補正できず、軸上色収差
の補正と他の収差の補正との両立が困難となる。Equation (2) defines the dispersion of the negative lens. Since only the third and fourth lenses are negative lenses, they must have the function of correcting axial chromatic aberration generated by the other six positive lenses. If the expression (2) is not satisfied, the curvature of each lens becomes excessively large to correct the axial chromatic aberration, so that the spherical aberration cannot be corrected. Therefore, the correction of the axial chromatic aberration and the correction of other aberrations are compatible. Becomes difficult.
【0015】(3)式は、第1レンズ、第8レンズの焦
点距離を規定したものであり、テレセントリック性と長
いバックフォーカスとを確保するために必要な条件であ
る。Equation (3) defines the focal lengths of the first lens and the eighth lens, and is a necessary condition for ensuring telecentricity and long back focus.
【0016】この種の投影光学系では、描画面に凹凸等
があった場合にも描画されたパターンにズレや歪が生じ
ないようテレセントリック性が要求されると共に、ピン
ト確認用の治具を挿入するためにワーキングディスタン
ス、すなわちバックフォーカスが長い方が望ましい。In this type of projection optical system, telecentricity is required so that a drawn pattern is not displaced or distorted even when the drawing surface has irregularities or the like, and a jig for confirming focus is inserted. For this purpose, it is desirable that the working distance, that is, the back focus is long.
【0017】f1/fが0.5以下となると、像面湾曲
が過大となって結像性能が劣化すると共に、テレセント
リック性が失われる。0.85以上となると、焦点距離
に対するバックフォーカスの割合が小さくなり、必要な
バックフォーカスを確保すると物像間距離が長くなって
装置が大型になる。When f1 / f is 0.5 or less, the curvature of field becomes excessively large, deteriorating the imaging performance and losing telecentricity. When the ratio is 0.85 or more, the ratio of the back focus to the focal length becomes small, and when the required back focus is secured, the distance between the object and the image becomes long and the device becomes large.
【0018】(4)式は、第4レンズ、第5レンズの焦
点距離を規定したものであり、球面収差、像面湾曲、非
点収差を良好に補正するための条件である。│f4/f
│が0.1以下となると、第4、第5レンズの負のパワ
ーが過大となって球面収差がオーバーとなり、かつ、非
点収差の補正が困難となる。0.25以上となると、負
のパワーが過小となるためにペッツバール和が正に大き
くなり、像面湾曲が大きくアンダーとなって良好な結像
性能が得られなくなる。Equation (4) defines the focal length of the fourth lens and the fifth lens, and is a condition for favorably correcting spherical aberration, curvature of field, and astigmatism. │f4 / f
Is less than 0.1, the negative power of the fourth and fifth lenses becomes excessive, the spherical aberration becomes excessive, and it becomes difficult to correct astigmatism. If the value is 0.25 or more, the negative power becomes excessively small, so that the Petzval sum becomes large positively, and the field curvature becomes large and under becomes, so that good imaging performance cannot be obtained.
【0019】次に、具体的な数値実施例を示す。Next, specific numerical examples will be shown.
【0020】[0020]
【実施例1】図1は、この発明の実施例1を示したもの
である。具体的な数値構成は表1に示されている。図2
は、この構成による諸収差を示している。表中、fは焦
点距離、FNo.はFナンバー、rは曲率半径、dは面
間隔、nhはh線に対する屈折率、νはi線に対する屈
折率をni、g線に対する屈折率をngとして、 ν=(nh−1)/(ni−ng) で表される分散値である。First Embodiment FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. The specific numerical configuration is shown in Table 1. FIG.
Shows various aberrations due to this configuration. In the table, f is the focal length, FNo. Is the F number, r is the radius of curvature, d is the surface spacing, nh is the refractive index for the h line, ν is the refractive index for the i line, ni, and ng is the refractive index for the g line, and ν = (nh−1) / ( ni-ng).
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】[0022]
【実施例2】図3は、この発明の実施例2を示したもの
である。具体的な数値構成は表2に示されている。図4
は、この構成による諸収差を示している。Embodiment 2 FIG. 3 shows Embodiment 2 of the present invention. The specific numerical configuration is shown in Table 2. FIG.
Shows various aberrations due to this configuration.
【0023】[0023]
【表2】 [Table 2]
【0024】[0024]
【実施例3】図5は、この発明の実施例3を示したもの
である。具体的な数値構成は表3に示されている。図6
は、この構成による諸収差を示している。Third Embodiment FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. Table 3 shows a specific numerical configuration. FIG.
Shows various aberrations due to this configuration.
【0025】[0025]
【表3】 [Table 3]
【0026】[0026]
【効果】以上説明したように、この発明によれば、h線
より短い 波長も含む広い範囲の波長の光に対して良好
に収差補正されたレンズを提供することができ、このレ
ンズを用いることにより、光源のエネルギーを有効に利
用して感光時間を短縮し、スループットを向上させるこ
とができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a lens whose aberration has been well corrected for light of a wide range of wavelengths including a wavelength shorter than the h-line. Accordingly, the exposure time can be shortened by effectively utilizing the energy of the light source, and the throughput can be improved.
【図1】 実施例1のレンズ断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a lens according to a first embodiment.
【図2】 実施例1の諸収差図である。FIG. 2 is a diagram illustrating various aberrations of the first embodiment.
【図3】 実施例2のレンズ断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a lens according to a second embodiment.
【図4】 実施例2の諸収差図である。FIG. 4 is a diagram illustrating various aberrations of the second embodiment.
【図5】 実施例3のレンズ断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a lens according to a third embodiment.
【図6】 実施例3の諸収差図である。FIG. 6 is a diagram illustrating various aberrations of the third embodiment.
Claims (1)
第2レンズと、正メニスカスの第3レンズと、負メニス
カスの第4レンズと、負メニスカスの第5レンズと、正
メニスカスの第6レンズと、正メニスカスの第7レンズ
と、両凸の正の第8レンズとから対称に構成され、前記
各正レンズの屈折率をnp、前記各負レンズの分散値をν
m、前記第1レンズの焦点距離をf1、前記第4レンズの焦
点距離をf4、全系の焦点距離をfとして、各正レンズの
屈折率npがそれぞれ、 np < 1.70 …(1)の条件を満たし、各負レンズの分散値νmがそれぞれ、 νm < 35 …(2)の条件を満たし、かつ、 0.5< f1/f <0.85 …(3) 0.1<|f4/f|<0.25 …(4) ただし、 νm = (nh - 1)/(ni - ng) nh : h線に対する屈折率 ni : i線に対する屈折率 ng : g線に対する屈折率 の条件を満たすことを特徴とする等倍投影レンズ。1. A biconvex positive first lens, a positive meniscus second lens, a positive meniscus third lens, a negative meniscus fourth lens, a negative meniscus fifth lens, and a positive meniscus. The sixth lens, a positive meniscus seventh lens, and a biconvex positive eighth lens are symmetrically configured.
The refractive index of each positive lens is np, and the dispersion value of each negative lens is ν
m, the focal length of the first lens is f1, the focal length of the fourth lens is f4, and the focal length of the entire system is f .
The refractive index np satisfies the condition of np <1.70 (1) , the dispersion value νm of each negative lens satisfies the condition of νm <35 (2) , and 0.5 <f1 / f <0.85. (3) 0.1 <| f4 / f | <0.25… (4) where νm = (nh-1) / (ni-ng) nh: refractive index for h line ni: refractive index for i line ng: for g line A 1: 1 projection lens characterized by satisfying the condition of refractive index.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3201542A JP3026648B2 (en) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 1x projection lens |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3201542A JP3026648B2 (en) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 1x projection lens |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04333814A JPH04333814A (en) | 1992-11-20 |
JP3026648B2 true JP3026648B2 (en) | 2000-03-27 |
Family
ID=16442777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3201542A Expired - Fee Related JP3026648B2 (en) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 1x projection lens |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3026648B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6816236B2 (en) | 2001-03-28 | 2004-11-09 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Projection optical system and projection and light exposure apparatus using it |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5424017B2 (en) * | 2008-12-12 | 2014-02-26 | 株式会社目白プレシジョン | Projection optical system |
JP4835767B2 (en) * | 2010-04-19 | 2011-12-14 | 株式会社日立製作所 | Projection display device |
JP6379649B2 (en) * | 2014-05-09 | 2018-08-29 | コニカミノルタ株式会社 | Bilateral telecentric optical system |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP3201542A patent/JP3026648B2/en not_active Expired - Fee Related
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US6816236B2 (en) | 2001-03-28 | 2004-11-09 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Projection optical system and projection and light exposure apparatus using it |
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Publication number | Publication date |
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JPH04333814A (en) | 1992-11-20 |
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