JP3023227B2 - Device for perpendicular magnetization and method of manufacturing the same - Google Patents

Device for perpendicular magnetization and method of manufacturing the same

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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高密度の磁気記録,光
磁気記録等に適した垂直磁化用デバイス及びその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for perpendicular magnetization suitable for high-density magnetic recording, magneto-optical recording and the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】垂直磁化膜は、従来の水平磁化膜に比較
し格段に記録容量が大きいことから、高密度記録媒体と
して注目を浴びている。垂直磁化膜としては、たとえば
Coの大きな一軸結晶磁気異方性を利用し、Cr,M
o,W,Ru等の添加によりMs点を下げ、自己減磁界
に比較して結晶磁気異方性定数を大きくしたものが知ら
れている。また、フェライトやBaフェライト等を基板
にスパッタリングによって基板表面に形成したフェライ
トやBaフェライト等の薄膜を垂直磁化膜として使用す
ることも知られている。
2. Description of the Related Art A perpendicular magnetic film has attracted attention as a high-density recording medium because it has a much larger recording capacity than a conventional horizontal magnetic film. As the perpendicular magnetization film, for example, utilizing the large uniaxial crystal magnetic anisotropy of Co,
It is known that the M s point is lowered by adding o, W, Ru or the like, and the crystal magnetic anisotropy constant is increased as compared with the self-demagnetizing field. It is also known to use a thin film of ferrite, Ba ferrite, or the like formed on a substrate surface by sputtering ferrite, Ba ferrite, or the like on the substrate as the perpendicular magnetization film.

【0003】更には、Al基板の表面に形成した陽極酸
化皮膜を、垂直磁化膜形成用に使用することもある(平
成2年3月1日 共立出版株式会社発行 松本光功他著
「磁気記録工学」第116〜117頁参照)。陽極酸化
皮膜は、表面に微細な孔が開口した構造をもっており、
この微細孔に電着法によって強磁性体を析出させること
によって垂直磁化膜となる。
Further, an anodic oxide film formed on the surface of an Al substrate may be used for forming a perpendicular magnetization film (Mitsuo Matsumoto, published by Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. on March 1, 1990, "Magnetic Recording" Engineering, pp. 116-117). The anodic oxide film has a structure with fine holes opened on the surface,
A perpendicular magnetization film is formed by depositing a ferromagnetic material in the fine holes by an electrodeposition method.

【0004】しかし、Al基板の表面は、鋳造,圧延等
の履歴による影響が大きく現れている箇所である。その
ため、陽極酸化処理によって形成される皮膜も、その影
響を受けて多数の欠陥をもつものとなり易い。この種の
欠陥発生を抑制するため、最近では、基板表面にAl層
を蒸着で形成し、この蒸着Al層に垂直磁化膜を形成し
ている。
[0004] However, the surface of the Al substrate is a place where the influence of the history of casting, rolling and the like is greatly exhibited. Therefore, the film formed by the anodic oxidation treatment also tends to have many defects under the influence. In order to suppress the occurrence of this type of defect, recently, an Al layer is formed on the substrate surface by vapor deposition, and a perpendicular magnetization film is formed on the deposited Al layer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】蒸着法で形成したアル
ミニウム層は、微粒子の集合体が基体表面に堆積した状
態を呈し、結晶的には無方向性といえる。また、多数の
ポアを内在させた被覆層である。そのため、基体表面に
対して垂直方向に延びた孔部をエッチング等でアルミニ
ウム層に形成する場合、均一な口径をもった孔部が得ら
れ難い。また、不純物等が含まれている部分では、エッ
チングが優先的に進行し或いは遅延し、孔部断面形状が
不規則になる。しかも、ポアの存在によって、基体表面
と平行な方向にエッチングが進行し、枝分かれした孔部
が形成され易い。このような形状特性の劣化は、孔部に
充填される強磁性体の不規則分布を招き、情報記録の信
頼性を低下させる。
The aluminum layer formed by the vapor deposition method exhibits a state in which aggregates of fine particles are deposited on the surface of the substrate, and can be said to be crystallographically non-directional. Further, it is a coating layer having many pores therein. Therefore, when a hole extending in a direction perpendicular to the substrate surface is formed in the aluminum layer by etching or the like, it is difficult to obtain a hole having a uniform diameter. Further, in a portion containing impurities and the like, etching proceeds or delays preferentially, and the cross-sectional shape of the hole becomes irregular. Moreover, due to the presence of the pores, the etching proceeds in a direction parallel to the surface of the base, and a branched hole is easily formed. Such deterioration of the shape characteristics causes an irregular distribution of the ferromagnetic material filled in the hole, and lowers the reliability of information recording.

【0006】また、蒸着法によるとき、形成されるアル
ミニウム層の膜厚を一定にすることが困難である。その
ため、基体表面から垂直方向に延びる孔部の長さ、ひい
ては孔部に充填される強磁性体の量が局部的に異なり、
高密度記録を行う際にノイズ発生の原因となる。
In addition, it is difficult to make the thickness of the formed aluminum layer constant by the vapor deposition method. Therefore, the length of the hole extending in the vertical direction from the substrate surface, and eventually the amount of the ferromagnetic material filled in the hole is locally different,
This causes noise when performing high-density recording.

【0007】本発明は、このような問題を解消すべく案
出されたものであり、電気めっき法を採用することによ
って、結晶成長の方向性及び膜厚の均一性に優れたアル
ミニウム層を形成し、高密度記録に適した信頼性が高い
垂直磁化用デバイスを提供することを目的とする。
The present invention has been devised to solve such a problem, and an electroplating method is used to form an aluminum layer having excellent crystal growth directionality and film thickness uniformity. It is another object of the present invention to provide a highly reliable perpendicular magnetization device suitable for high-density recording.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の垂直磁化用デバ
イスは、その目的を達成するため、非磁性材料製の基体
と、該基体の表面に対して垂直な方向に結晶成長した電
気アルミニウムめっき層と、該アルミニウムめっき層に
穿孔され、前記基体の表面に対して垂直な方向に延びる
垂直孔部と、該垂直孔部に充填された強磁性体とを備え
ていることを特徴とする。
In order to achieve the object, a device for perpendicular magnetization of the present invention comprises a substrate made of a non-magnetic material, and an electro-aluminum plating crystal grown in a direction perpendicular to the surface of the substrate. A vertical hole formed in the aluminum plating layer and extending in a direction perpendicular to the surface of the substrate; and a ferromagnetic material filled in the vertical hole.

【0009】この垂直磁化用デバイスは、非磁性材料製
の基体上に基体表面に対して垂直な方向に結晶成長した
アルミニウムめっき層を電気めっきによって設け、前記
基体の表面に対して垂直な方向に延びる複数の垂直孔部
を前記アルミニウムめっき層に形成し、前記垂直孔部に
強磁性体を充填することによって製造される。
In this device for perpendicular magnetization, an aluminum plating layer formed by crystal growth on a substrate made of a nonmagnetic material in a direction perpendicular to the surface of the substrate is provided by electroplating, and the aluminum plating layer is formed in a direction perpendicular to the surface of the substrate. It is manufactured by forming a plurality of extending vertical holes in the aluminum plating layer and filling the vertical holes with a ferromagnetic material.

【0010】基体材料としては、アルミニウム,アルミ
ニウム合金,チタン,チタン合金,オーステナイト系ス
テンレス鋼等の非磁性材料が使用される。また、セラミ
ックス,プラスチックス,ガラス等の非金属製シート或
いはフィルムを基体材料として使用することも可能であ
る。この場合には、無電解めっき等で基体表面をメタラ
イズした後、電気アルミニウムめっきが施される。
As the base material, non-magnetic materials such as aluminum, aluminum alloy, titanium, titanium alloy and austenitic stainless steel are used. It is also possible to use a non-metallic sheet or film of ceramics, plastics, glass or the like as the base material. In this case, after the surface of the base is metallized by electroless plating or the like, electric aluminum plating is performed.

【0011】基体材料の表面に形成されたアルミニウム
めっき層を穿孔する手段としては、フォトエッチング,
レーザービーム照射等が採用される。孔部の深さが5μ
m以下と小さく、またアルミニウムめっき層自体が基体
表面と直角な方向に加工容易であるため、何れの方法に
よってもめっき層表面から基体表面に向かって一定した
断面形状の孔部が形成される。
Means for perforating the aluminum plating layer formed on the surface of the base material include photoetching,
Laser beam irradiation or the like is employed. 5μ hole depth
m or less, and since the aluminum plating layer itself is easy to process in a direction perpendicular to the surface of the substrate, a hole having a constant cross-sectional shape is formed from the surface of the plating layer to the surface of the substrate by any of the methods.

【0012】孔部に対する強磁性体の充填は、電気めっ
き,無電解めっき等によってFe,Co,Ni等の金属
を孔部に析出させることによって行われる。また、Ms
点を下げるCr,Os等をめっき浴に添加し、これら元
素をFe,Co,Ni等の強磁性体を共析させることも
できる。或いは、フェライト,Baフェライト等の強磁
性体超微粉を分散させた懸濁液にアルミニウムめっきし
た基体を浸漬し、超音波を照射して孔部に超微粉を浸透
させた後、乾燥することによっても強磁性体の充填が行
われる。
The filling of the ferromagnetic material into the hole is performed by depositing a metal such as Fe, Co, or Ni in the hole by electroplating, electroless plating, or the like. Also, M s
It is also possible to add Cr, Os, or the like, which lowers the point, to the plating bath to cause these elements to eutect a ferromagnetic material such as Fe, Co, or Ni. Alternatively, an aluminum-plated substrate is immersed in a suspension in which ferromagnetic ultrafine powder such as ferrite or Ba ferrite is dispersed, irradiated with ultrasonic waves to penetrate the ultrafine powder, and then dried. The ferromagnetic material is also filled.

【0013】[0013]

【作 用】電気めっきによるとき、基体表面に対して垂
直な方向に均一な厚さのめっき層が形成される。このめ
っき層は、合金元素や不純物元素の偏析,凝固組織或い
は圧延組織等に起因した表面層の不均一性を解消し、表
面を均質に調整する。
[Operation] In electroplating, a plating layer having a uniform thickness is formed in a direction perpendicular to the substrate surface. This plating layer eliminates non-uniformity of the surface layer caused by segregation of alloying elements and impurity elements, solidification structure or rolled structure, and uniformly adjusts the surface.

【0014】また、めっき条件の選択により結晶成長が
制御され、垂直方向の穿孔が容易なめっき層が形成され
る。たとえば、トルエンを添加しためっき浴において高
電流密度でめっきを行うとき、結晶面を(111)面に
揃えることができる。そのため、陽極酸化やエッチング
等の際に、均一な孔径及び深さをもった孔を開けること
ができる。
Further, the crystal growth is controlled by selecting the plating conditions, and a plated layer in which drilling in the vertical direction is easy is formed. For example, when plating is performed at a high current density in a plating bath to which toluene is added, the crystal plane can be aligned with the (111) plane. Therefore, a hole having a uniform hole diameter and depth can be formed at the time of anodic oxidation, etching, or the like.

【0015】しかも、基体表面に均質な厚みのめっき層
が形成されるため、めっき層に形成される孔部は、口
径,深さ等が均一化され、枝分かれ等の欠陥がないもの
となる。そのため、この孔部に強磁性体を充填すると、
性能,信頼性等に優れた垂直磁化膜が得られる。
In addition, since the plating layer having a uniform thickness is formed on the surface of the substrate, the holes formed in the plating layer have a uniform diameter, depth, and the like, and have no defects such as branching. Therefore, when this hole is filled with a ferromagnetic material,
A perpendicular magnetization film having excellent performance and reliability can be obtained.

【0016】[0016]

【実施例】基体として、幅50mm,厚み1mmのアル
ミニウム箔を使用した。このアルミニウム箔に、次の条
件下で非水系めっき浴を使用した電気アルミニウムめっ
きを施した。
EXAMPLE An aluminum foil having a width of 50 mm and a thickness of 1 mm was used as a substrate. This aluminum foil was subjected to electric aluminum plating using a non-aqueous plating bath under the following conditions.

【0017】[0017]

【表1】 [Table 1]

【0018】得られためっき層は、平均厚さが3μmを
中心として2.8〜3.2μmの間に膜厚変動が抑えら
れ、厚み偏差が±5%の実質的に均一な厚みをもってい
た。また、アルミニウム箔の表面から垂直な方向に結晶
が成長していた。
The obtained plated layer had a substantially uniform thickness with an average thickness of 3 μm and a variation in thickness of 2.8 to 3.2 μm centered at 3 μm, and a thickness deviation of ± 5%. . Also, crystals grew in a direction perpendicular to the surface of the aluminum foil.

【0019】アルミニウムめっきを施したアルミニウム
箔に、3重量%濃度の蓚酸溶液中で陽極酸化を行い、平
均膜厚が2μmの陽極酸化皮膜をアルミニウムめっき層
に形成した。この陽極酸化皮膜は、ポア径500オング
ストローム,セル径1000オングストロームの垂直孔
部をもっていた。陽極酸化処理後の試験片表面層を観察
したところ、形成された垂直孔部は、アルミニウム箔の
表面から垂直な方向に延びたものであり、枝分かれして
水平方向に延びる孔部は検出されなかった。なお、陽極
酸化は、表2に示す条件下で行った。
Anodized aluminum foil was subjected to anodic oxidation in a 3% by weight oxalic acid solution to form an anodic oxide film having an average thickness of 2 μm on the aluminum plated layer. This anodic oxide film had a vertical hole having a pore diameter of 500 angstroms and a cell diameter of 1000 angstroms. Observation of the test piece surface layer after the anodizing treatment revealed that the formed vertical holes extended in the vertical direction from the surface of the aluminum foil, and no branched horizontal holes were detected. Was. The anodic oxidation was performed under the conditions shown in Table 2.

【0020】[0020]

【表2】 [Table 2]

【0021】次いで、めっき層が穿孔されたアルミニウ
ム箔をFe析出浴に浸漬し、次の条件下でめっき層中の
孔部にFeを析出させた。
Then, the aluminum foil having the perforated plating layer was immersed in an Fe precipitation bath, and Fe was precipitated in the holes in the plating layer under the following conditions.

【0022】[0022]

【表3】 [Table 3]

【0023】この析出処理によって、めっき層中に形成
されている孔部は、析出したFeで実質的に完全に充填
された。その結果、アルミニウム箔の表面に対し垂直方
向に延びた強磁性体充填部が形成された。強磁性体充填
部は、めっき層中に形成されている孔部を倣ったもので
あるため、垂直方向長さ及び水平方向断面積共に均一性
に優れたものであった。
By this precipitation treatment, the hole formed in the plating layer was substantially completely filled with the precipitated Fe. As a result, a ferromagnetic material filling portion extending in a direction perpendicular to the surface of the aluminum foil was formed. Since the ferromagnetic material-filled portion imitated the hole formed in the plating layer, the length in the vertical direction and the cross-sectional area in the horizontal direction were excellent in uniformity.

【0024】得られた垂直磁化用デバイスの特性を次に
示す。なお、比較例は、蒸着で形成したアルミニウム層
に同様に強磁性体を埋め込んだものを垂直磁化用デバイ
スとして使用した場合である。蒸着で得られたアルミニ
ウム層は、平均厚み3μm,最大厚み4μm,最小厚み
2μmで、厚み偏差が±30%と、膜厚変動を無視でき
ないものであった。
The characteristics of the obtained device for perpendicular magnetization are as follows. The comparative example is a case in which a ferromagnetic material similarly embedded in an aluminum layer formed by vapor deposition is used as a device for perpendicular magnetization. The aluminum layer obtained by vapor deposition had an average thickness of 3 μm, a maximum thickness of 4 μm, and a minimum thickness of 2 μm, and had a thickness deviation of ± 30%, which was not negligible.

【0025】なお、試験にあたっては、Alめっき−陽
極酸化したアルミニウム箔及び蒸着−陽極酸化したアル
ミニウム箔を外径86mm,内径25mmの3.5イン
チ−ディスクに打ち抜いたものを試験片とした。また、
測定に使用したヘッドは、市販の5インチ−フロッピー
ディスク用ボタン型ヘッドであり、ギャップ長2.2μ
m,トラック幅165μm,コイル巻き数2×130タ
ーンに設定した。そして、ディスクを3.5インチ−フ
ロッピーディスク用のジャケットに挿入し、相対速度1
m/秒及び100kHz(50kBPI)で記録再生を
行い、このとき同一トラックの記録再生特性を調べた。
調査結果を、表4に示す。
In the test, a test piece was prepared by punching a 3.5-inch disk having an outer diameter of 86 mm and an inner diameter of 25 mm from an aluminum plating-anodized aluminum foil and a vapor-deposited-anodized aluminum foil. Also,
The head used for the measurement was a commercially available button type head for a 5-inch floppy disk, and the gap length was 2.2 μm.
m, the track width was 165 μm, and the number of coil turns was 2 × 130 turns. Then, the disk is inserted into the jacket for the 3.5-inch floppy disk, and the relative speed is 1
Recording and reproduction were performed at m / sec and 100 kHz (50 kBPI). At this time, recording and reproduction characteristics of the same track were examined.
Table 4 shows the results of the survey.

【0026】[0026]

【表4】 [Table 4]

【0027】この比較から明らかなように、アルミニウ
ム層を電気めっきによって形成した本発明実施例にあっ
ては、アルミニウム層の均質性及び結晶の方向性が活か
され、垂直磁化に好適な状態で強磁性体をアルミニウム
層中の孔部に充填できることが判る。これに対し、蒸着
で形成したアルミニウム層に強磁性体を埋め込んだもの
にあっては、アルミニウム層がもつ不均一性が影響して
磁気記録特性に悪影響が現れている。
As is apparent from this comparison, in the embodiment of the present invention in which the aluminum layer was formed by electroplating, the homogeneity of the aluminum layer and the directionality of the crystal were utilized, and the aluminum layer was strengthened in a state suitable for perpendicular magnetization. It can be seen that the magnetic material can be filled in the holes in the aluminum layer. On the other hand, in the case where a ferromagnetic material is embedded in an aluminum layer formed by vapor deposition, the non-uniformity of the aluminum layer affects the magnetic recording characteristics.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、非磁性の基体表面に電気めっきによって形成したア
ルミニウム層に強磁性体材料を埋め込んでいる。この電
気アルミニウムめっき層は、基体表面から垂直方向に結
晶成長しており、エッチングやレーザービーム照射によ
って精度良く垂直方向に穿孔することができる。そのた
め、アルミニウムめっき層に形成された孔部に高精度で
強磁性体を充填することが可能となる。また、蒸着法に
比較して、電気めっき法で形成されたアルミニウム層
は、厚み及び平坦性に優れたものである。このようなこ
とから、高密度の磁気記録或いは光磁気記録に好適な垂
直磁化用デバイスが得られる。
As described above, in the present invention, a ferromagnetic material is embedded in an aluminum layer formed by electroplating on the surface of a nonmagnetic substrate. The electroaluminum plating layer is vertically crystal-grown from the substrate surface, and can be accurately drilled in the vertical direction by etching or laser beam irradiation. Therefore, it becomes possible to fill the hole formed in the aluminum plating layer with the ferromagnetic material with high accuracy. Further, as compared with the vapor deposition method, the aluminum layer formed by the electroplating method has excellent thickness and flatness. Therefore, a device for perpendicular magnetization suitable for high-density magnetic recording or magneto-optical recording can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/858 C25D 11/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/858 C25D 11/04

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 非磁性材料製の基体と、該基体の表面に
対して垂直な方向に結晶成長した電気アルミニウムめっ
き層と、該アルミニウムめっき層に穿孔され、前記基体
の表面に対して垂直な方向に延びる垂直孔部と、該垂直
孔部に充填された強磁性体とを備えていることを特徴と
する垂直磁化用デバイス。
1. A substrate made of a non-magnetic material and a surface of the substrate
Electric aluminum plating grown in a direction perpendicular to
And the aluminum plating layer, wherein the substrate
Device for perpendicular magnetization, characterized in that it comprises a vertical hole extending in a direction perpendicular, and a ferromagnetic material filled in the vertical hole portion relative to the surface.
【請求項2】 非磁性材料製の基体上に基体表面に対し
て垂直な方向に結晶成長したアルミニウムめっき層を電
気めっきによって設け、前記基体の表面に対して垂直な
方向に延びる複数の垂直孔部を前記アルミニウムめっき
層に形成し、前記垂直孔部に強磁性体を充填することを
特徴とする垂直磁化用デバイスの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the surface of the substrate made of a non-magnetic material is
The aluminum plating layer grown vertically in the vertical direction.
A plurality of vertical holes formed in the aluminum plating layer and provided in the aluminum plating layer and extending in a direction perpendicular to the surface of the substrate, and filling the vertical holes with a ferromagnetic material. Device manufacturing method.
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