JP3020968B2 - Glass with transparent protective film and method for producing the same - Google Patents

Glass with transparent protective film and method for producing the same

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JP3020968B2
JP3020968B2 JP1288262A JP28826289A JP3020968B2 JP 3020968 B2 JP3020968 B2 JP 3020968B2 JP 1288262 A JP1288262 A JP 1288262A JP 28826289 A JP28826289 A JP 28826289A JP 3020968 B2 JP3020968 B2 JP 3020968B2
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広泰 西田
登 千住
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、透明保護膜付ガラスおよびその製造方法に
関し、さらに詳しくは、紅彩を呈することがなく、しか
も耐アルカリ性に優れた透明保護膜付ガラスおよびその
製造方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass with a transparent protective film and a method for producing the same, and more particularly, to a glass with a transparent protective film which does not show iris and is excellent in alkali resistance. It relates to the manufacturing method.

発明の技術的背景 いわゆるクリスタルガラスは、透明性に優れ、しかも
反射率が高いため、装飾品あるいは高級食器類などに用
いられるが、その表面の汚れあるいは傷が目に付き易
く、このため美観が損われることがあった。
Technical Background of the Invention So-called crystal glass has excellent transparency and high reflectivity, so it is used for decorative items or high-quality tableware, but dirt or scratches on its surface are easily noticeable, and as a result, it has an aesthetic appearance. It was sometimes damaged.

また上記のようなガラスの表面に発生する汚れとして
は、ほこり等の付着によるもの以外にガラス表面に付着
した微量の水分に起因するものがある。すなわち、ガラ
スの表面に付着した水分がアルカリ性化し、それによっ
て、ガラス表面が侵食されて荒れてくる。その荒れた表
面による光の散乱のためガラス表面が白くくもって見え
るようになり、“白ヤケ”と称される現象が発生してし
まう。
In addition to the dirt generated on the glass surface as described above, there is a dirt caused by a minute amount of water adhering to the glass surface in addition to the dirt adhering. That is, the moisture adhering to the surface of the glass becomes alkaline, whereby the glass surface is eroded and roughened. Due to the scattering of light by the rough surface, the glass surface appears to be white and a phenomenon called “white burn” occurs.

さらに、ほこり、食べかす等の汚れを除去するため
に、通常は上記のガラスを中性洗剤で洗浄するが、洗浄
スピードをあげるためにアルカリ洗剤が用いられる場合
があり、この場合にも白ヤケが発生してしまう。
Furthermore, in order to remove dirt such as dust and food debris, the above glass is usually washed with a neutral detergent, but an alkali detergent may be used to increase the washing speed. Will occur.

このような汚れ、傷からガラスの表面を保護する手段
の1つとして、耐アルカリ性、耐擦傷性等の機能を有す
る透明保護膜形成用塗布液をガラス表面に塗布し、ガラ
ス表面を薄い透明保護膜で被覆する方法が考えられる。
As one of means for protecting the glass surface from such dirt and scratches, a coating liquid for forming a transparent protective film having functions such as alkali resistance and scratch resistance is applied to the glass surface to protect the glass surface with a thin transparent protective film. A method of coating with a film is conceivable.

上記のような機能を有する塗布液は、種々提案されて
いるが、従来の塗布液を屈折率が1.50〜1.70であり、全
光線透過率が80%以上であるような高屈折率、高透明な
ガラス表面に塗布し、透明保護膜を形成した場合には、
次のような問題が生ずる。
Various coating liquids having the above functions have been proposed. However, conventional coating liquids have a high refractive index and a high transparency such that the refractive index is 1.50 to 1.70 and the total light transmittance is 80% or more. When applied to a transparent glass surface to form a transparent protective film,
The following problems arise.

すなわち、ガラスの屈折率とガラス表面上に形成され
た透明保護膜の屈折率の差が大きいと、それぞれから反
射された光が干渉し合い、干渉色が表面に現われる。こ
のようなガラス表面がいわゆる紅彩を呈すると、ガラス
本来の美観が損われてしまうという問題点があった。
That is, if the difference between the refractive index of the glass and the refractive index of the transparent protective film formed on the glass surface is large, the lights reflected from each other interfere with each other, and an interference color appears on the surface. When such a glass surface exhibits a so-called red color, there is a problem that the original aesthetic appearance of the glass is impaired.

発明の目的 本発明は、上記のような屈折率が1.50〜1.70であり、
全光線透過率が80%以上であるガラスに伴う問題点を解
決しようとするものであって、ガラス表面がいわゆる紅
彩を呈することがなく、しかも耐アルカリ性等の機能を
有する透明保護膜が形成された、透明保護膜付ガラスお
よびその製造方法を提供することを目的としている。
Object of the present invention, the refractive index as described above is 1.50 to 1.70,
The purpose is to solve the problems associated with glass having a total light transmittance of 80% or more, and a transparent protective film having functions such as alkali resistance without forming a so-called red color on the glass surface is formed. It is an object of the present invention to provide a glass with a transparent protective film and a method for producing the same.

発明の概要 本発明に係る透明保護膜付ガラスは、屈折率が1.50〜
1.70であり、全光線透過率が80%以上であるガラスの表
面に、 (i)該ガラスの屈折率をncとしたときに、(nc−0.0
5)〜(nc+0.05)の範囲の屈折率を有し、 (ii)下記式(I)で示される有機ケイ素化合物の部分
加水分解物と下記式(II)で示されるアセチルアセトナ
ートキレート化合物と が有機溶媒に分散または溶解されてなる塗布液をガラス
上に塗布することによって形成された透明保護膜を有し
ていること特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The glass with a transparent protective film according to the present invention has a refractive index of 1.50 to
1.70, the surface of the glass the total light transmittance of 80% or more, when a n c the refractive index of (i) the glass, (n c -0.0
5) has a refractive index in the range of ~ (n c +0.05), ( ii) acetylacetonate represented by the partial hydrolyzate of the organic silicon compound represented by the following formula (I) and formula (II) It is characterized by having a transparent protective film formed by applying a coating liquid, in which a chelate compound and an organic solvent are dispersed or dissolved in an organic solvent, onto glass.

Ra−Si(OR′)4-a …(I) (ただし、式中RはCnH2n+1−(n=1〜4)、水素原
子またはハロゲン原子であり、R′はCnH2n+1−(n=
1〜4)、水素原子またはCnH2n+1OC2H4−(n=1〜
4)である。またaは0〜3の整数である。) (ただし、式中a+b=2〜4,a=0〜3、b=1〜
4、RはCnH2n+1(n=3,4)であり、XはCH3、CH3O、C
2H5、またはC2H5Oであり、M1は金属元素である。)。
R a -Si (OR ') 4-a (I) (where R is C n H 2n + 1- (n = 1 to 4), a hydrogen atom or a halogen atom, and R' is C n H 2n + 1 − (n =
1-4), a hydrogen atom or C n H 2n + 1 OC 2 H 4 - (n = 1~
4). A is an integer of 0 to 3. ) (Where a + b = 2-4, a = 0-3, b = 1
4, R is C n H 2n + 1 (n = 3,4), and X is CH 3 , CH 3 O, C
2 H 5 or C 2 H 5 O, and M 1 is a metal element. ).

また本発明に係る第1の透明保護膜付ガラスの製造方
法は、有機ケイ素化合物とアセチルアセトナートキレー
ト化合物とが有機溶媒に分散または溶解されてなる塗布
液を、屈折率が1.50〜1.70であり、全光線透過率が80%
以上であるガラス表面に塗布、乾燥またはその後焼成し
て、該ガラス表面に透明保護膜を形成して透明保護膜付
ガラスを製造するに際して、塗布液の塗布工程、塗
膜の乾燥工程、塗膜の焼成工程のうち、いずれかの工
程中または工程後に可視光線より短い波長の電磁波をガ
ラス表面に形成された塗膜に照射することを特徴として
いる。
Further, the first method for producing a glass with a transparent protective film according to the present invention, the coating liquid obtained by dispersing or dissolving an organosilicon compound and an acetylacetonate chelate compound in an organic solvent has a refractive index of 1.50 to 1.70. , The total light transmittance is 80%
Coating, drying or baking on the glass surface as described above to form a transparent protective film on the glass surface to produce a glass with a transparent protective film, a coating liquid application step, a coating drying step, a coating film During or after any one of the firing steps, the coating film formed on the glass surface is irradiated with an electromagnetic wave having a wavelength shorter than visible light.

また本発明に係る第2の透明保護膜付ガラスの製造方
法は、有機ケイ素化合物とアセチルアセトナートキレー
ト化合物とが有機溶媒に分散または溶解されてなる塗布
液を、屈折率が1.50〜1.70であり、全光線透過率が80%
以上であるガラス表面に塗布し、乾燥またはその後焼成
して、該ガラス表面に透明保護膜を形成して透明保護膜
付ガラスを製造するに際して、塗布液を該ガラス表面に
塗布して乾燥した後、アルカリ処理することを特徴とし
ている。
Further, the method for producing a glass with a transparent protective film according to the second aspect of the present invention, the coating liquid obtained by dispersing or dissolving the organosilicon compound and the acetylacetonate chelate compound in an organic solvent has a refractive index of 1.50 to 1.70. , The total light transmittance is 80%
The above is applied to the glass surface, and dried or baked to form a transparent protective film on the glass surface to produce a glass with a transparent protective film. It is characterized by alkali treatment.

発明の具体的な説明 以下本発明に係る透明保護膜付ガラスおよびその製造
方法について、具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, the glass with a transparent protective film according to the present invention and a method for producing the glass will be specifically described.

本発明で透明保護膜が形成されるガラスは、屈折率が
1.50〜1.70好ましくは1.52〜1.65であり、全光線透過率
が80%以上好ましくは85%以上であるガラスであって、
なかでもクリスタルガラスと呼ばれるガラスが特に好ま
しく用いられる。
The glass on which the transparent protective film is formed in the present invention has a refractive index.
1.50 to 1.70, preferably 1.52 to 1.65, glass having a total light transmittance of 80% or more, preferably 85% or more,
Among them, glass called crystal glass is particularly preferably used.

本発明に係る透明保護膜付ガラスでは、このようなガ
ラスの表面に透明保護膜が設けられているが、本発明で
は、透明保護膜の屈折率とガラスの屈折率をほぼ同じに
するか、その差を出来るだけ小さくすることによって、
反射光の干渉による紅彩の発現を抑えることが可能にな
った。すなわち透明保護膜の屈折率をnとし、該ガラス
の屈折率をncとした場合、nc−0.05≦n≦nc+0.05好ま
しくはnc−0.03≦n≦nc+0.03の範囲であれば、ガラス
表面に光の干渉に基づく紅彩が生ずることがなく、しか
も透明性に優れたガラスを得ることができる。
In the glass with a transparent protective film according to the present invention, a transparent protective film is provided on the surface of such a glass, but in the present invention, the refractive index of the transparent protective film and the refractive index of the glass are almost the same, By making the difference as small as possible,
It has become possible to suppress the appearance of iris due to interference of reflected light. That is the refractive index of the transparent protective film is n, if the refractive index of the glass was n c, preferably nc-0.05 ≦ n ≦ nc + 0.05 is be in the range of nc-0.03 ≦ n ≦ nc + 0.03, glass It is possible to obtain a glass having no red color due to light interference on the surface and having excellent transparency.

このような透明保護膜は、その膜厚が0.01〜3.0μm
好ましくは0.1〜1.0μmであることが望ましい。透明保
護膜の膜厚が0.01μm未満であると、耐擦傷性などが充
分ではなくなる傾向が生じ、一方3.0μmを超えると該
保護膜を均一に形成することが困難となる傾向が生ず
る。
Such a transparent protective film has a thickness of 0.01 to 3.0 μm.
Preferably, it is 0.1 to 1.0 μm. If the thickness of the transparent protective film is less than 0.01 μm, the scratch resistance tends to be insufficient, whereas if it exceeds 3.0 μm, it tends to be difficult to form the protective film uniformly.

さらに、本発明に係る透明保護膜付ガラスの全光線透
過率は85%以上、好ましくは90%以上であることが望ま
しい。
Further, it is desirable that the total light transmittance of the glass with a transparent protective film according to the present invention is 85% or more, preferably 90% or more.

このような透明保護膜は、ガラス上に蒸着法などの気
相法あるいは塗布液を用いた塗布法によって形成される
が、このうち塗布液を用いた塗布法が特に好ましい。
Such a transparent protective film is formed on a glass by a vapor phase method such as a vapor deposition method or a coating method using a coating solution. Of these, a coating method using a coating solution is particularly preferable.

本発明において、ガラス上に透明保護膜を形成するた
めの塗布液としては、この塗布液を用いて形成される透
明保護膜が上記のような屈折率を有し、かつ耐アルカリ
性に優れているならば、どのような塗布液をも用いるこ
とができるが、特に有機ケイ素化合物と金属化合物とが
有機溶媒に溶解または分散されてなる塗布液が好ましく
用いられる。
In the present invention, as a coating solution for forming a transparent protective film on glass, a transparent protective film formed using this coating solution has the above refractive index, and is excellent in alkali resistance. Then, any coating liquid can be used, but a coating liquid in which an organosilicon compound and a metal compound are dissolved or dispersed in an organic solvent is particularly preferably used.

有機ケイ素化合物としては、次式(I)で表わされる
化合物から選ばれる1種または2種以上が組み合わせて
用いられる。
As the organosilicon compound, one or more compounds selected from the compounds represented by the following formula (I) are used in combination.

Ra−Si(OR′)4-a …(I) (ただし、式中RはCnH2n+1−(n=1〜4)、水素原
子またはハロゲン原子であり、R′はCnH2n+1−(n=
1〜4)、水素原子またはCnH2n+1OC2H4−(n=1〜
4)である。またaは0〜3の整数である。) このような有機ケイ素化合物としては、具体的には、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、モノメ
チルトリメトキシシラン、モノエチルトリエトキシシラ
ン、モノエチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラヒドロキ
シシランなどが用いられる。
R a -Si (OR ') 4-a (I) (where R is C n H 2n + 1- (n = 1 to 4), a hydrogen atom or a halogen atom, and R' is C n H 2n + 1 − (n =
1-4), a hydrogen atom or C n H 2n + 1 OC 2 H 4 - (n = 1~
4). A is an integer of 0 to 3. ) As such an organosilicon compound, specifically,
Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, monomethyltrimethoxysilane, monoethyltriethoxysilane, monoethyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetrahydroxysilane, and the like are used.

このような有機ケイ素化合物のみが有機溶媒に分散ま
たは溶解されてなる塗布液は従来から知られている。し
かしながら、このような塗布液を屈折率が1.50〜1.70で
あり、全光線透過率が80%以上であるガラス上に塗布し
て透明保護を形成すると、得られる透明保護膜はSiO2
らなり、その屈折率は約1.46である。このため屈折率が
1.50〜1.70であり、全光線透過率が80%以上であるガラ
スと屈折率に大きな差が生じ、ガラス表面に光の干渉色
が現われて紅彩を呈し、美観が損われる。
A coating solution in which only such an organosilicon compound is dispersed or dissolved in an organic solvent has been conventionally known. However, when such a coating solution is coated on glass having a refractive index of 1.50 to 1.70 and a total light transmittance of 80% or more to form a transparent protection, the resulting transparent protective film is made of SiO 2 , Its refractive index is about 1.46. Therefore, the refractive index
The refractive index is significantly different from that of glass having a total light transmittance of 1.50 to 1.70 and a total light transmittance of 80% or more, and an interference color of light appears on the glass surface to give a reddish color, which impairs aesthetic appearance.

そのため本発明では、有機ケイ素化合物と、金属化合
物とが有機溶媒に分散または溶解されてなる塗布液が用
いられる。この金属化合物は、酸化物となった場合にそ
の屈折率が該ガラスの屈折率とほぼ同じかあるいはそれ
よりも大きいことが好ましい。このような塗布液を該ガ
ラスに塗布して形成された透明保護膜は、SiO2とMOx
(Mは金属元素)からなっており、SiO2とMOxの割合を
調整することによって、透明保護膜の屈折率をnc−0.05
とnc+0.05との間にコントロールすることができる。
Therefore, in the present invention, a coating liquid in which an organosilicon compound and a metal compound are dispersed or dissolved in an organic solvent is used. It is preferable that the refractive index of this metal compound when it becomes an oxide is substantially equal to or higher than the refractive index of the glass. The transparent protective film formed by applying such a coating solution to the glass is made of SiO 2 and MOx
(M is a metal element), and the refractive index of the transparent protective film is adjusted to n c −0.05 by adjusting the ratio of SiO 2 and MOx.
And n c +0.05.

金属化合物の金属種としては、この金属化合物から得
られる酸化物が上記のような値を有していることが好ま
しく、具体的には、周期律表III B族であるAl,In,IV A
族であるTi,Zr,Hf,IV B族のSnあるいは希土類金属であ
るLa,Ceなどが用いられる。これらの金属は、単独で用
いられてもよく、また混合して用いられてもよい。
As the metal species of the metal compound, it is preferable that the oxide obtained from the metal compound has the above values, and specifically, Al, In, IV A which is a group IIIB of the periodic table.
Group Ti, Zr, Hf, IVB group Sn or rare earth metals such as La and Ce are used. These metals may be used alone or as a mixture.

本発明ではこのような金属化合物として、アセチルア
セトナートキレート化合物が使用される。
In the present invention, an acetylacetonate chelate compound is used as such a metal compound.

アセチルアセトナトキレート化合物は、アセチルアセ
トンを配位子とするキレート化合物であって、次式(I
I)で示される。
The acetylacetonato chelate compound is a chelate compound having acetylacetone as a ligand and has the following formula (I
Indicated by I).

(ただし、式中a,b,R,X,M1は以下の通りである。 (Wherein in a, b, R, X, M 1 is as follows.

RはCnH2n+1−(n=3,4)であり、XはCH3−、C2H5
−、CH3O−またはC2H5O−であり、M1は金属元素であ
る。) このようなアセチルアセトナトキレート化合物として
は、具立的には、たとえばジブトキシ−ビスアセチルア
セトナトジルコニウム、トリブトキシ・モノアセチルア
セトナトジルコニウム、ジイソプロポキシ−ビスアセチ
ルアセトナトチタン、アセチルアセトナトアルミニウ
ム、ジブトキシ−ビスアセチルアセトナトハフニウム、
モノアセチルアセトナト−トリブトキシハフニウムなど
が好ましく用いられる。
R is C n H 2n + 1 - a (n = 3,4), X is CH 3 -, C 2 H 5
—, CH 3 O— or C 2 H 5 O—, and M 1 is a metal element. Examples of such acetylacetonatochelate compounds include, specifically, dibutoxy-bisacetylacetonatozirconium, tributoxy monoacetylacetonatozirconium, diisopropoxy-bisacetylacetonatotitanium, aluminum acetylacetonato, Dibutoxy-bisacetylacetonatohafnium,
Monoacetylacetonato-tributoxyhafnium and the like are preferably used.

本発明では、金属化合物として、上記のようなアセチ
ルアセトナトキレート化合物のみ、あるいはこれと無機
塩、有機塩、オキシ塩または金属アルコキシドなど他の
金属化合物とを組み合せて用いることもできる。
In the present invention, as the metal compound, only the acetylacetonato chelate compound as described above, or a combination thereof with another metal compound such as an inorganic salt, an organic salt, an oxy salt or a metal alkoxide can be used.

有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フリフリ
ルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコ
ールなどのアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エ
チルエステルなどのエステル類、ジエチルエーテル、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエ
ーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類が単独または組み合わせて用いられる。
Organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl. Ethers such as ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone are used alone or in combination.

このような透明保護膜形成用塗布液は、有機ケイ素化
合物と金属化合物とを、水を含有する有機溶媒に溶解ま
たは分散させることによって調製される。このとき、有
機ケイ素化合物および金属化合物としてのアセチルアセ
トナトキレート化合物は、そのまま用いてもよく、また
予め部分加水分解した後に用いてもよい。
Such a coating liquid for forming a transparent protective film is prepared by dissolving or dispersing an organosilicon compound and a metal compound in an organic solvent containing water. At this time, the organosilicon compound and the acetylacetonatochelate compound as the metal compound may be used as they are, or may be used after partial hydrolysis in advance.

本発明では、有機ケイ素化合物は部分加水分解された
ものが使用される。
In the present invention, a partially hydrolyzed organosilicon compound is used.

有機ケイ素化合物を部分加水分解するには、たとえば
メタノールまたはエタノールに有機ケイ素化合物を混合
し、水と酸を加えて部分加水分解するような条件を採用
できるが、以下のような条件が特に好ましい。酸とし
て、塩酸、硝酸、燐酸などの無機酸、または酢酸、無水
酢酸などの有機酸を用い、酸と有機ケイ素化合物との混
合割合は、0.01≦酸/SiO2≦0.5(有機ケイ素化合物をSi
O2に換算した時の重量比)であることが好ましい。この
値が0.01未満であると、未反応の有機ケイ素化合物が多
量に存在し、一方、この値が0.5を超えると、部分加水
分解速度が速くなりすぎて、連続生産性および塗布液の
保存性が低下する傾向が生ずる。また水と有機ケイ素化
合物との混合割合は、水/有機ケイ素化合物≧2(モル
比)であることが好ましい。またこの値が2未満では、
被膜中に未反応の有機ケイ素化合物が残存するため、被
膜と基材との密着性、耐擦傷性、耐久性が低下する。部
分加水分解温度は、30〜80℃の範囲であることが好まし
い。
In order to partially hydrolyze the organosilicon compound, for example, a condition in which the organosilicon compound is mixed with methanol or ethanol and water and an acid are added to partially hydrolyze can be employed, but the following conditions are particularly preferable. As the acid, an inorganic acid such as hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, or an organic acid such as acetic acid or acetic anhydride is used. The mixing ratio of the acid and the organosilicon compound is 0.01 ≦ acid / SiO 2 ≦ 0.5 (the organosilicon compound is
(Weight ratio when converted to O 2 ). If this value is less than 0.01, a large amount of unreacted organosilicon compound is present, while if this value exceeds 0.5, the partial hydrolysis rate becomes too fast, resulting in continuous productivity and storage stability of the coating solution. Tends to decrease. The mixing ratio of water and the organosilicon compound is preferably water / organosilicon compound ≧ 2 (molar ratio). If this value is less than 2,
Since the unreacted organosilicon compound remains in the coating, the adhesion between the coating and the substrate, the scratch resistance, and the durability are reduced. The partial hydrolysis temperature is preferably in the range from 30 to 80C.

上記のようにして調製される透明保護膜形成用塗布液
中の金属化合物と有機ケイ素化合物との混合割合は、形
成される透明保護膜の屈折率nが、前記ガラスの屈折率
をncとした場合に、nc−0.05≦n≦nc+0.05の範囲にな
るように調節することが好ましく、この割合は金属化合
物中の金属種に応じて異なり、また透明保護膜の形成条
件(例えば焼成温度)によっても多少異なり、その範囲
を一律に決めることはできない。
The mixing ratio of the metal compound and the organosilicon compound in the transparent protective film forming coating solution prepared as described above is such that the refractive index n of the formed transparent protective film is n c and the refractive index of the glass. when, it is preferable to adjust to be in the range of n c -0.05 ≦ n ≦ n c +0.05, this proportion varies depending on the metal species in the metal compound, a transparent protective film formation conditions ( (For example, the firing temperature), and the range cannot be determined uniformly.

例えば、金属化合物から形成される金属酸化物がZrO2
(n=2.1)またはTiO2(n=2.2)である場合は、これ
らはSiO2との屈折率の差が大きいため、ZrO2/SiO2=約
0.1〜1.5、TiO2/SiO2=約0.05〜1.0(いずれも重量比)
の範囲で、有機ケイ素化合物と金属化合物とを用いるこ
とが好ましい。またZrO2、TiO2より屈折率の小さい例え
ばAl2O3が金属化合物から形成されるような場合は、こ
の割合が上記範囲よりも大きくなる。
For example, a metal oxide formed from a metal compound is ZrO 2
In the case of (n = 2.1) or TiO 2 (n = 2.2), these have a large difference in refractive index from SiO 2 , so that ZrO 2 / SiO 2 = about
0.1~1.5, TiO 2 / SiO 2 = about 0.05 to 1.0 (both by weight)
It is preferable to use an organosilicon compound and a metal compound in the range described above. In the case where, for example, Al 2 O 3 having a lower refractive index than ZrO 2 and TiO 2 is formed from a metal compound, this ratio is larger than the above range.

本発明では、金属化合物として、アセチルアセトナト
キレート化合物が特に好ましく用いられるが、アセチル
アセトナトキレート化合物を含有した塗布液を用いて形
成された透明保護膜は、耐アルカリ性をはじめとする耐
薬品性に優れている。
In the present invention, an acetylacetonatochelate compound is particularly preferably used as the metal compound, but the transparent protective film formed using the coating solution containing the acetylacetonatochelate compound has a chemical resistance such as alkali resistance. Is excellent.

このようなアセチルアセトナトキレート化合物を含む
塗布液では、アセチルアセトナトキレート化合物と有機
ケイ素化合物との混合割合は、M1Ox/SiO2またはM1Ox/
(SiO2+M2Ox)(M1Ox:アセチルアセトナトキレート化
合物から導かれる酸化物、M2Ox:その他の金属化合物か
ら導かれる酸化物)として0.05以上であることがが好ま
しい。
In the coating solution containing such an acetylacetonatochelate compound, the mixing ratio between the acetylacetonatochelate compound and the organosilicon compound is M 1 O x / SiO 2 or M 1 O x /
(SiO 2 + M 2 O x ) (M 1 O x : oxide derived from acetylacetonato chelate compound, M 2 O x : oxide derived from other metal compounds) is preferably 0.05 or more.

本発明では、上記のように、透明保護膜形成用塗布液
は、有機ケイ素化合物および金属化合物を加水分解する
ために、水を含有している。
In the present invention, as described above, the coating liquid for forming a transparent protective film contains water in order to hydrolyze the organosilicon compound and the metal compound.

この塗布液中における水濃度は0.1〜50重量%である
ことが好ましい。水濃度が0.1%未満であると、加水分
解が不充分となり、一方50%を超えると塗布の際ガラス
とのはじきが起こる傾向が生ずる。
The water concentration in this coating solution is preferably 0.1 to 50% by weight. If the water concentration is less than 0.1%, the hydrolysis becomes insufficient, while if it exceeds 50%, the glass tends to repel during coating.

本発明では、ガラス表面に、前記のような塗布液を、
ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、ロールコ
ーター法、フレキソ印刷法などの塗布法で塗布して均一
な被膜を形成した後、乾燥および焼成することにより、
該ガラス上に透明保護膜を形成することができる。塗
布、乾燥後、120℃以上で、かつガラス転移点以下の温
度で焼成すれば、屈折率が上記のような範囲にあり、し
かも耐アルカリ性、耐擦傷性、透明性に優れた透明保護
膜をガラス上に形成できる。この際、ガラス転移点以下
の温度であれば何回でも焼成してよい。
In the present invention, the coating solution as described above on the glass surface,
By applying a coating method such as a dipping method, a spinner method, a spray method, a roll coater method, and a flexographic printing method to form a uniform film, and then drying and firing,
A transparent protective film can be formed on the glass. After coating and drying, if baked at a temperature of 120 ° C. or higher, and a glass transition point or lower, a transparent protective film having a refractive index in the above range, and also having excellent alkali resistance, scratch resistance, and transparency. Can be formed on glass. At this time, firing may be performed any number of times as long as the temperature is equal to or lower than the glass transition point.

さらに、本発明では、下記のような方法を採用すれ
ば、さらに優れた特性を有する透明保護膜付ガラスが得
られる。
Further, in the present invention, if the following method is adopted, a glass with a transparent protective film having more excellent properties can be obtained.

すなわち本発明では、上記のような製造工程におい
て、塗布液のガラス基材への塗布工程、塗膜の乾燥
工程、塗膜の焼成工程のいずれか一つ以上の工程後お
よび/または工程中に、可視光線より波長が短い電磁波
を、ガラス表面に形成された塗膜に照射することが好ま
しい。電磁波を塗膜に照射することにより、塗膜の焼成
温度を低くすることができ、たとえば、電磁波を照射し
ておけば、塗膜の焼成温度を300℃としても、電磁波を
照射せずに400℃で焼成したものと同様な特性を有する
被膜が得られる。
That is, in the present invention, in the above manufacturing process, after and / or during any one or more of the steps of applying the coating liquid to the glass substrate, drying the coating film, and firing the coating film. It is preferable to irradiate a coating film formed on the glass surface with an electromagnetic wave having a shorter wavelength than visible light. By irradiating the coating with electromagnetic waves, the baking temperature of the coating can be lowered.For example, if the coating is irradiated with electromagnetic waves, even if the baking temperature of the coating is set at 300 ° C., the baking temperature may be reduced to 400 without irradiation with electromagnetic waves. A coating having the same properties as those baked at ℃ is obtained.

可視光線より波長が短い電磁波として、具体的には、
紫外線、電子線、X線、γ線等が挙げられるが、このう
ち紫外線が好ましく用いられる。紫外線源としては、約
250nmおよび360nm付近に発光極大を持ち、照射強度10mW
/cm2以上、好ましくは100mW/cm2の高圧水銀ランプを使
用することが望ましい。このような紫外線源を用いて10
0mJ/cm2以上、好ましくは1000mJ/cm2以上の照射エネル
ギーを塗膜に照射すれば低温で高耐久性の被膜が得られ
る。
As an electromagnetic wave having a shorter wavelength than visible light, specifically,
Examples include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and γ-rays. Of these, ultraviolet rays are preferably used. As an ultraviolet source,
Emission maximum at around 250nm and 360nm, irradiation intensity 10mW
It is desirable to use a high-pressure mercury lamp of at least / cm 2 , preferably 100 mW / cm 2 . 10
0 mJ / cm 2 or more, preferably highly durable coating is obtained at low temperatures by irradiating a 1000 mJ / cm 2 or more irradiation energy on the coating film.

また本発明では、上記のような乾燥工程の後、ガラス
上に形成された塗膜にアルカリ処理し、その後焼成する
ことが好ましい。
In the present invention, it is preferable that after the above-described drying step, the coating film formed on the glass is subjected to an alkali treatment and then fired.

アルカリ処理の方法としては、アルカリ水溶液中に
一定時間浸し、水洗後、乾燥、焼成する方法あるいは
アンモニアガス雰囲気に一定時間さらしたのち乾燥、焼
成する方法がある。
As a method of alkali treatment, there is a method of dipping in an aqueous alkali solution for a certain time, washing with water, and drying and firing, or a method of exposing to an ammonia gas atmosphere for a certain time and then drying and firing.

上記のような電磁波処理またはアルカリ処理を塗膜に
施すことによって、より緻密で耐久性に優れた透明の保
護膜を得ることができる。
By applying the above-described electromagnetic wave treatment or alkali treatment to the coating film, a transparent protective film having higher density and excellent durability can be obtained.

以下本発明を実施例によって説明するが、本発明はこ
れら実施例に限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

塗布液の調製 それぞれ下記のような有機ケイ素化合物、金属化合物
を用いて表1に示す塗布液1〜12を調製した。
Preparation of Coating Solutions Coating solutions 1 to 12 shown in Table 1 were prepared using the following organosilicon compounds and metal compounds, respectively.

(有機ケイ素化合物) E−40:エチルシリケート(SiO240重量%多摩化学工
業製 エチルシリケート40) E−28:同 上 (SiO228重量%,多摩化学工業
製 エチルシリケート28) M−51:メチルシリケート(SiO251重量%多摩化学工
業製 メチルシリケート51) (金属化合物) ZAB−1:トリブトキシアセチルアセトナトジルコニウ
ム(ZrO214.9重量%,日本ソーダ製 ZR−181) ZAB−2:ジブトキシビスアセチルアセトナトジルコニ
ウム(ZrO219.9重量%,松本交商製 ZC−550) TB :ブチルチタネートダイマー,(C4H9O)・Ti
O・Ti(C4H9O)、(TiO229.1重量%,松本交商製TA−
22) TAP :ジイソプロポキシビスアセチルアセトナトチ
タン(TiO216.5重量%,松本交商製 TC−100) ZB :テトラブトキシジルコニウム(ZrO227.3重量
%,日本ソーダ製 TBZr) AA :アルミニウム・モノアセチルアセトナト・ビ
スエチルアセトアセテート(Al2O310重量%,川研ファ
インケミカル製) ZN :ZrO2として10重量%の硝酸ジルコニウムエタ
ノール溶液 上記のような有機ケイ素化合物の所定量と溶媒とを混
合した。得られた混合溶液を撹拌しながら純水120gに徐
々に添加し、さらに濃硝酸1.1gを添加した。その後、50
℃に加温し、この温度を60分間維持して、A液を調製し
た。
(Organic silicon compound) E-40: Ethyl silicate (SiO 2 40% by weight, ethyl silicate 40, manufactured by Tama Chemical Industry) E-28: Same as above (28% by weight of SiO 2 , Ethyl silicate 28, manufactured by Tama Chemical Industry) M-51: Methyl silicate (51% by weight of SiO 2 , methyl silicate 51 manufactured by Tama Chemical Industry) (metal compound) ZAB-1: Tributoxyacetylacetonato zirconium (14.9% by weight of ZrO 2 , ZR-181 manufactured by Nippon Soda) ZAB-2: Dibutoxy bis acetylacetonato zirconium (ZrO 2 19.9 wt%, Matsumoto交商manufactured ZC-550) TB: butyl titanate dimer, (C 4 H 9 O) 3 · Ti
O ・ Ti (C 4 H 9 O) 3 , (TiO 2 29.1% by weight, TA-
22) TAP: Diisopropoxybisacetylacetonato titanium (TiO 2 16.5% by weight, TC-100 manufactured by Matsumoto Kosho) ZB: Tetrabutoxy zirconium (ZrO 2 27.3% by weight, Nippon Soda TBZr) AA: Aluminum monoacetyl Acetonato / bisethylacetoacetate (Al 2 O 3 10% by weight, manufactured by Kawaken Fine Chemicals) ZN: 10% by weight of zirconium nitrate ethanol solution as ZrO 2 A predetermined amount of the above organosilicon compound and a solvent were mixed. . The obtained mixed solution was gradually added to 120 g of pure water while stirring, and 1.1 g of concentrated nitric acid was further added. Then 50
° C and maintained at this temperature for 60 minutes to prepare solution A.

次に、上記のような金属化合物の所定量と溶媒とを混
合し、B液を調製した。
Next, a predetermined amount of the above metal compound and a solvent were mixed to prepare a solution B.

こうして得られたA液とB液とを所定割合で混合し、
表1に示すような塗布液を得た。
The solution A and the solution B thus obtained are mixed at a predetermined ratio,
A coating solution as shown in Table 1 was obtained.

実施例1 上記のようにして調製した塗布液1〜12を、屈折率が
1.56であり、全光線透過率が92%であるガラス(40mm×
60mm×厚さ2mm)に、表2に示すような条件で塗布し、
膜厚0.2μmの透明保護膜付ガラスを得た。
Example 1 The coating liquids 1 to 12 prepared as described above were treated with a refractive index of
1.56 glass with a total light transmittance of 92% (40 mm x
60mm x 2mm) under the conditions shown in Table 2.
A glass with a transparent protective film having a thickness of 0.2 μm was obtained.

なお、紫外線処理は、2kwの高圧水銀灯を用いて乾燥
後の保護膜付ガラスを3分間紫外線を照射することによ
って行った。また、アルカリ処理は、乾燥後の保護膜付
ガラスを25℃の1%NaOH水溶液に5秒間浸漬することに
よって行った。
The ultraviolet treatment was performed by irradiating the dried glass with a protective film with ultraviolet light for 3 minutes using a 2 kw high-pressure mercury lamp. The alkali treatment was performed by immersing the dried glass with a protective film in a 1% aqueous NaOH solution at 25 ° C. for 5 seconds.

次いで、上記のようにして得られた透明保護膜付ガラ
スについて、下記に示すような評価を行った。
Next, the glass having a transparent protective film obtained as described above was evaluated as shown below.

結果を表2に示す。 Table 2 shows the results.

(1)全光線透過率:ヘーズコンピューター(スガ試験
器社製)で測定した。
(1) Total light transmittance: Measured with a haze computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).

(2)紅彩 :目視で判定した。(2) Red: Determined visually.

(3)屈折率:エリプソメーター(アルバック製ESM−
2型)で測定した。
(3) Refractive index: ellipsometer (ULSM ESM-
(Type 2).

(4)耐アルカリ性:80℃の1%NaOH水溶液に3時間浸
漬した後の表面の白ヤケの有無を目視で判定した。
(4) Alkali resistance: After immersion in a 1% NaOH aqueous solution at 80 ° C. for 3 hours, the presence or absence of white burn on the surface was visually judged.

(5)密着性:市販のセロテープ(12mm幅)の一部を保
護膜に貼りつけ、残りを保護膜に直角に保ち、瞬間的に
引きはがし、そのときの保護膜の剥離の有無を目視で判
定した。
(5) Adhesion: A part of commercially available cellophane tape (12mm width) is stuck on the protective film, the rest is kept at right angles to the protective film, peeled off instantaneously, and the presence or absence of peeling of the protective film at that time is visually observed. Judged.

(6)膜強度:2kgの荷重をかけて、スチールウール(#
0000)を30回膜面上を往復させたのちの膜表面の傷の有
無を目視で判定した。
(6) Membrane strength: A steel wool (#
0000) was reciprocated on the film surface 30 times, and the presence or absence of a scratch on the film surface was visually determined.

比較例 表1のような有機ケイ素化合物のみまたは金属化合物
のみを用いて上記と同様にして塗布液を調製した。
Comparative Example A coating solution was prepared in the same manner as described above using only the organosilicon compound or only the metal compound as shown in Table 1.

この塗布液を用いて、実施例1と同様にして透明保護
膜付ガラスを得、同様の評価を行った。
Using this coating solution, a glass with a transparent protective film was obtained in the same manner as in Example 1, and the same evaluation was performed.

結果を表2に示す。 Table 2 shows the results.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−155801(JP,A) 特開 昭62−191448(JP,A) 特表 昭61−502121(JP,A)Continuation of the front page (56) References JP-A-59-155801 (JP, A) JP-A-62-191448 (JP, A) JP-A-61-502121 (JP, A)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】屈折率が1.50〜1.70であり、全光線透過率
が80%以上であるガラスの表面に、 (i)該ガラスの屈折率をncとしたときに、(nc−0.0
5)〜(nc+0.05)の範囲の屈折率を有し、 (ii)下記式(I)で示される有機ケイ素化合物の部分
加水分解物と、下記式(II)で示されるアセチルアセト
ナートキレート化合物とが有機溶媒に分散または溶解さ
れてなる塗布液を ガラス上に塗布することによって形成された 透明保護膜を有していること特徴とする透明保護膜付ガ
ラス。 Ra−Si(OR′)4-a …(I) (ただし、式中RはCnH2n+1−(n=1〜4)、水素原
子またはハロゲン原子であり、R′はCnH2n+1−(n=
1〜4)、水素原子またはCnH2n+1OC2H4−(n=1〜
4)である。またaは0〜3の整数である。) (ただし、式中a+b=2〜4,a=0〜3、b=1〜
4、RはCnH2n+1(n=3,4)であり、XはCH3、CH3O、C
2H5、またはC2H5Oであり、M1は金属元素である。)
1. A refractive index of 1.50 to 1.70, the surface of the glass the total light transmittance of 80% or more, when a n c the refractive index of (i) the glass, (n c -0.0
5) having - a refractive index in the range of (n c +0.05), (ii ) a partial hydrolyzate of an organic silicon compound represented by the following formula (I), acetyl acetonate represented by the following formula (II) A glass with a transparent protective film, characterized by having a transparent protective film formed by applying a coating solution in which a natto chelate compound is dispersed or dissolved in an organic solvent onto glass. R a -Si (OR ') 4-a (I) (where R is C n H 2n + 1- (n = 1 to 4), a hydrogen atom or a halogen atom, and R' is C n H 2n + 1 − (n =
1-4), a hydrogen atom or C n H 2n + 1 OC 2 H 4 - (n = 1~
4). A is an integer of 0 to 3. ) (Where a + b = 2-4, a = 0-3, b = 1
4, R is C n H 2n + 1 (n = 3,4), and X is CH 3 , CH 3 O, C
2 H 5 or C 2 H 5 O, and M 1 is a metal element. )
【請求項2】下記式(I)で示される有機ケイ素化合物
の部分加水分解物と、 下記式(II)で示されるアセチルアセトナートキレート
化合物とが有機溶媒に分散または溶解されてなる塗布液
を、 屈折率が1.50〜1.70であり、全光線透過率が80%以上で
あるガラス表面に塗布し、乾燥またはその後焼成して、
該ガラス表面に透明保護膜を形成して透明保護膜付ガラ
スを製造するに際して、 塗布液の塗布工程、塗膜の乾燥工程、塗膜の焼成
工程のうち、いずれかの工程中または工程後に可視光線
より短い波長の電磁波をガラス表面に形成された塗膜に
照射することを特徴とする透明保護膜付ガラスの製造方
法。 Ra−Si(OR′)4-a …(I) (ただし、式中RはCnH2n+1−(n=1〜4)、水素原
子またはハロゲン原子であり、R′はCnH2n+1−(n=
1〜4)、水素原子またはCnH2n+1OC2H4−(n=1〜
4)である。またaは0〜3の整数である。) (ただし、式中a+b=2〜4,a=0〜3、b=1〜
4、RはCnH2n+1(n=3,4)であり、XはCH3、CH3O、C
2H5、またはC2H5Oであり、M1は金属元素である。)
2. A coating solution comprising a partial hydrolyzate of an organosilicon compound represented by the following formula (I) and an acetylacetonate chelate compound represented by the following formula (II) dispersed or dissolved in an organic solvent: , Applied to a glass surface having a refractive index of 1.50 to 1.70 and a total light transmittance of 80% or more, dried or fired,
When producing a glass with a transparent protective film by forming a transparent protective film on the surface of the glass, it is visible during or after any one of a coating liquid application step, a coating film drying step, and a coating film baking step. A method for producing a glass with a transparent protective film, comprising irradiating a coating film formed on a glass surface with an electromagnetic wave having a shorter wavelength than a light beam. R a -Si (OR ') 4-a (I) (where R is C n H 2n + 1- (n = 1 to 4), a hydrogen atom or a halogen atom, and R' is C n H 2n + 1 − (n =
1-4), a hydrogen atom or C n H 2n + 1 OC 2 H 4 - (n = 1~
4). A is an integer of 0 to 3. ) (Where a + b = 2-4, a = 0-3, b = 1
4, R is C n H 2n + 1 (n = 3,4), and X is CH 3 , CH 3 O, C
2 H 5 or C 2 H 5 O, and M 1 is a metal element. )
【請求項3】下記式(I)で示される有機ケイ素化合物
の部分加水分解と、 下記式(II)で示されるアセチルアセトナートキレート
化合物とが有機溶媒に分散または溶解されてなる塗布液
を、屈折率が1.50〜1.70であり、全光線透過率が80%以
上であるガラス表面に塗布し、乾燥またはその後焼成し
て、該ガラス表面に透明保護膜を形成して透明保護膜付
ガラスを製造するに際して、 塗布液を該ガラス表面に塗布して乾燥した後、ガラス上
に形成された塗膜にアルカリ処理することを特徴とする
透明保護膜付ガラスの製造方法。 Ra−Si(OR′)4-a …(I) (ただし、式中RはCnH2n+1−(n=1〜4)、水素原
子またはハロゲン原子であり、R′はCnH2n+1−(n=
1〜4)、水素原子またはCnH2n+1OC2H4−(n=1〜
4)である。またaは0〜3の整数である。) (ただし、式中a+b=2〜4,a=0〜3、b=1〜
4、RはCnH2n+1(n=3,4)であり、XはCH3、CH3O、C
2H5、またはC2H5Oであり、M1は金属元素である。)
3. A coating solution in which a partial hydrolysis of an organosilicon compound represented by the following formula (I) and an acetylacetonato chelate compound represented by the following formula (II) are dispersed or dissolved in an organic solvent: Coating on a glass surface with a refractive index of 1.50 to 1.70 and total light transmittance of 80% or more, drying or subsequent baking to form a transparent protective film on the glass surface to produce a glass with a transparent protective film A method for producing a glass with a transparent protective film, comprising applying a coating solution to the surface of the glass, drying the coating solution, and subjecting the coating film formed on the glass to an alkali treatment. R a -Si (OR ') 4-a (I) (where R is C n H 2n + 1- (n = 1 to 4), a hydrogen atom or a halogen atom, and R' is C n H 2n + 1 − (n =
1-4), a hydrogen atom or C n H 2n + 1 OC 2 H 4 - (n = 1~
4). A is an integer of 0 to 3. ) (Where a + b = 2-4, a = 0-3, b = 1
4, R is C n H 2n + 1 (n = 3,4), and X is CH 3 , CH 3 O, C
2 H 5 or C 2 H 5 O, and M 1 is a metal element. )
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